JP2010159370A - Composition containing inorganic particle, method for forming inorganic layer using the same, and plasma display panel - Google Patents

Composition containing inorganic particle, method for forming inorganic layer using the same, and plasma display panel Download PDF

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直毅 山田
Hiroyuki Tanaka
裕之 田仲
Yuji Kobayashi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition containing inorganic particles which is capable of forming a desired inorganic material or inorganic layer at an energy lower than the conventional one as well as which is capable of decreasing the adverse effect resulting from an organic compound and does not greatly change the viscosity of the composition due to an added solvent amount and thus is profitable for workability and cost; a method for forming an inorganic layer using the same; and a plasma display panel. <P>SOLUTION: This composition containing inorganic particles includes (A) an organic compound expressed by general formula (1) (wherein R is a 1-10C alkylene group; (n+m) is an integer of 1-3; and when two or more Rs are present in the same molecule, Rs are each the same or different), (B) an organic solvent and (C) inorganic particles. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、無機粒子含有組成物、それを用いた無機物層の形成方法及びプラズマディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to an inorganic particle-containing composition, a method for forming an inorganic layer using the composition, and a plasma display panel.

平板ディスプレイの1つとして、プラズマ放電により発光する蛍光体の層を設けることによって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネル(以下PDPと記す)が知られている。PDPは、ガラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリアリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造になっている。このような空間には、表示のための電極、誘電体層、蛍光体層等が付設され、放電によって封入ガスから発生する紫外線によって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認できるようになっている。
ところで、上述の電極、誘電体層、蛍光体層の作製は従来、以下のように行われている。まず、電極、誘電体又は蛍光体の材料として、金属若しくは金属酸化物の粒子、誘電体用ガラスフリット等のガラス粒子又は蛍光体粒子を有機高分子バインダと溶剤との混合物に分散させたスラリー液又はペーストをそれぞれ用意し、これをスクリーン印刷、ダイコーティング等の塗布方法によってガラス基板上に塗布し、その後塗膜を焼成することにより樹脂成分などの有機物を除去して電極、誘電体層又は蛍光体層が形成される(例えば、特許文献1を参照)。
また、塗布するための適度な粘性を有し、かつ比較的低い温度で有機物を消失できる、プラズマディスプレイパネルの電極、誘電体層または蛍光体層の製造に適したバインダー組成物の検討が行われている(例えば、特許文献2を参照)。
As one of flat panel displays, there is known a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) that enables multicolor display by providing a phosphor layer that emits light by plasma discharge. In a PDP, a flat plate-like front plate and a back plate made of glass are arranged in parallel and opposite to each other, and both are held at a constant interval by a barrier rib provided between the front plate, the back plate, It is structured to discharge in a space surrounded by barrier ribs. In such a space, electrodes for display, a dielectric layer, a phosphor layer, and the like are attached, and the phosphor is caused to emit light by ultraviolet rays generated from the sealed gas by discharge, so that the observer can visually recognize this light. It has become.
By the way, the above-mentioned electrodes, dielectric layers, and phosphor layers are conventionally produced as follows. First, as a material for electrodes, dielectrics or phosphors, a slurry liquid in which metal or metal oxide particles, glass particles such as glass frit for dielectrics or phosphor particles are dispersed in a mixture of an organic polymer binder and a solvent. Alternatively, each paste is prepared and applied onto a glass substrate by an application method such as screen printing or die coating, and then the organic material such as a resin component is removed by firing the coating film to remove the electrode, dielectric layer or fluorescent material. A body layer is formed (see, for example, Patent Document 1).
In addition, binder compositions suitable for the production of electrodes, dielectric layers or phosphor layers of plasma display panels, which have an appropriate viscosity for application and can disappear organic substances at a relatively low temperature, have been studied. (For example, refer to Patent Document 2).

特開平11−349349号公報JP 11-349349 A 特開2007−217603号公報JP 2007-217603 A

しかしながら、特許文献1の方法で用いられる有機高分子バインダは、良好な塗膜形成のためには有効であるが、以下の問題点を有している。すなわち、有機高分子バインダを分解させるためには、電気炉等で高温にする必要があり、多大なエネルギーを要する。また、有機高分子バインダを使用すると、分解生成物が電気炉内の壁に堆積する問題がある。更に、有機高分子バインダが分解中に炭化するなどして残存すると、気泡や膨れが発生したり、放電中に徐々に気化して放電特性に悪影響を及ぼしたりするなどの問題が生じることがある。
また、上記特許文献2記載の無機微粒子含有組成物は、所望の粘度を得るために、無機微粒子含有組成物作製時において、有機化合物及び有機溶剤の割合を厳密に調節する必要がある。組成物作製時に原料の割合を厳密に調節する必要がある原因は、上記特許文献1において選択される、300℃における加熱残分が0〜1%であり、所望の粘度を達成しうる有機化合物が、希釈溶媒の添加比率に対して敏感であり、溶媒添加量の相違が、最終的に得られる組成物の粘度を大きく左右してしまうためと推測される。このように、希釈溶媒の添加比率を厳密に制御することは、組成物の作製における計量等の操作が煩雑となりやすく、作製のコスト増大につながる可能性が高い。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、所望の無機体或いは無機物層を従来よりも低エネルギーで形成できるとともに有機化合物に起因する悪影響を低減することが可能で、溶媒添加量により組成物の粘度を大きく変化させず作業性、コストに有利な無機粒子含有組成物を提供することを目的とする。本発明は、また、かかる無機粒子含有組成物を用いる無機物層の形成方法、及び、かかる無機物層の形成方法によって形成された無機物層を備えるプラズマディスプレイを提供することも目的とする。
However, the organic polymer binder used in the method of Patent Document 1 is effective for forming a good coating film, but has the following problems. That is, in order to decompose the organic polymer binder, it is necessary to increase the temperature in an electric furnace or the like, and a great deal of energy is required. In addition, when an organic polymer binder is used, there is a problem that decomposition products accumulate on the walls in the electric furnace. Furthermore, if the organic polymer binder remains as it carbonizes during decomposition, bubbles and blisters may occur, or it may gradually evaporate during discharge and adversely affect discharge characteristics. .
In addition, in the inorganic fine particle-containing composition described in Patent Document 2, it is necessary to strictly adjust the ratio of the organic compound and the organic solvent when preparing the inorganic fine particle-containing composition in order to obtain a desired viscosity. The reason why it is necessary to strictly adjust the ratio of the raw materials at the time of preparing the composition is the organic compound selected in the above-mentioned Patent Document 1, wherein the heating residue at 300 ° C. is 0 to 1% and can achieve the desired viscosity However, it is presumed that it is sensitive to the addition ratio of the diluting solvent, and the difference in the solvent addition amount greatly affects the viscosity of the finally obtained composition. Thus, strictly controlling the addition ratio of the diluent solvent tends to complicate operations such as weighing in the production of the composition, and is likely to lead to an increase in production cost.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to form a desired inorganic body or inorganic layer with lower energy than before, and to reduce adverse effects caused by organic compounds. An object of the present invention is to provide an inorganic particle-containing composition that is advantageous in workability and cost without greatly changing the viscosity of the composition. Another object of the present invention is to provide a method for forming an inorganic layer using such an inorganic particle-containing composition, and a plasma display including the inorganic layer formed by the method for forming an inorganic layer.

上記課題を解決する本発明の第1の無機粒子含有組成物は、[1](A)下記一般式(1)で表わされる有機化合物と、(B)有機溶剤と、(C)無機粒子と、を含む無機粒子含有組成物であることを特徴とする。   The first inorganic particle-containing composition of the present invention that solves the above problems includes: [1] (A) an organic compound represented by the following general formula (1), (B) an organic solvent, (C) inorganic particles, And an inorganic particle-containing composition.

Figure 2010159370

(一般式(1)中、Rは炭素数1〜10アルキレン基を示し、n+mは1〜3の整数を示し、同一分子中にRが2以上存在する場合、それぞれのRは同一でも異なっていても良い。)
本発明の無機粒子含有組成物によれば、上記構成を有することにより、良好な塗膜を形成できるとともに、トリシクロデカン骨格を有する上記有機化合物(A)が比較的低温で除去可能であることから、塗膜を焼成するに際して有機化合物の含有量を従来よりも小さくすることができる。よって、本発明の無機粒子含有組成物によれば、従来よりも低エネルギーで所望の無機体或いは無機物層を形成でき、且つ、有機化合物に起因する悪影響を低減することが可能となる。また、電気炉内の壁に堆積する分解生成物の量を低減することも可能となる。
また、本発明は、[2]前記一般式(1)で表わされる有機化合物の含有量が、前記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して50〜95質量%であることを特徴とする。
本発明の無機粒子含有組成物は、プラズマディスプレイパネルの電極、誘電体層又は蛍光体層を形成するために用いられることが好ましい。
また、本発明は、[3]基板上に上記[1]又は[2]に記載の無機粒子含有組成物を塗工して無機粒子含有組成物層を設ける工程と、前記無機粒子含有組成物層を加熱する工程と、を備える無機物層の形成方法を提供する。
本発明の無機物層の形成方法によれば、無機粒子含有組成物を用いることにより、基板上に所望の無機物層を低エネルギーで形成することができる。また、本発明の無機物層の形成方法によれば、有機化合物に起因する悪影響が十分低減された無機物層を形成することが可能となる。
また、本発明は、[4]本発明の無機物層の形成方法においては、上記[3]に記載の基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、上記無機粒子がガラス粒子であり、上記無機物層としてプラズマディスプレイ用誘電体層を形成することができる。
また、本発明は、[5]本発明の無機物層の形成方法においては、上記[3]に記載の基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、上記無機粒子が蛍光体粒子であり、上記無機物層としてプラズマディスプレイ用蛍光体層を形成することができる。
本発明は、また、[6]上記[4]に記載の本発明の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用誘電体層、又は、上記[5]に記載の本発明の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用蛍光体層を備えるプラズマディスプレイを提供する。
また、本発明は、基板上に、無機粒子としてガラス粒子を含有する無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、無機粒子含有組成物層を焼成する工程とを備える無機層の形成方法により形成された誘電体層を提供できる。
また、本発明は、基板上に、無機粒子として金属粒子又は金属酸化物粒子を含有する無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、無機粒子含有組成物層を焼成する工程とを備える無機層の形成方法により形成された電極を提供できる。
また、本発明は、プラズマディスプレイパネル用背面基板上に、無機粒子として蛍光体粒子を含有する無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、無機粒子含有組成物層を焼成する工程とを備える無機層の形成方法により形成された蛍光体層を提供できる。
また、本発明は、本発明を用いた電極、誘電体層又は蛍光体層を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
Figure 2010159370

(In the general formula (1), R represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, n + m represents an integer of 1 to 3, and when two or more R exist in the same molecule, each R is the same or different. May be.)
According to the inorganic particle-containing composition of the present invention, by having the above-described configuration, a good coating film can be formed, and the organic compound (A) having a tricyclodecane skeleton can be removed at a relatively low temperature. Therefore, the content of the organic compound can be made smaller than before when the coating film is baked. Therefore, according to the inorganic particle-containing composition of the present invention, a desired inorganic body or inorganic layer can be formed with lower energy than before, and adverse effects caused by organic compounds can be reduced. It is also possible to reduce the amount of decomposition products deposited on the walls in the electric furnace.
Moreover, this invention is [2] Content of the organic compound represented by the said General formula (1) is 50-95 mass% with respect to the organic compound whole quantity contained in the said inorganic particle containing composition. Features.
The inorganic particle-containing composition of the present invention is preferably used for forming an electrode, a dielectric layer or a phosphor layer of a plasma display panel.
The present invention also provides [3] a step of coating the inorganic particle-containing composition according to [1] or [2] on a substrate to provide an inorganic particle-containing composition layer, and the inorganic particle-containing composition. And a step of heating the layer.
According to the method for forming an inorganic layer of the present invention, a desired inorganic layer can be formed on a substrate with low energy by using an inorganic particle-containing composition. In addition, according to the method for forming an inorganic layer of the present invention, it is possible to form an inorganic layer in which adverse effects caused by organic compounds are sufficiently reduced.
Moreover, this invention is [4] In the formation method of the inorganic substance layer of this invention, the board | substrate of said [3] is a board | substrate for plasma displays, The said inorganic particle is glass particle, As said inorganic substance layer A dielectric layer for a plasma display can be formed.
The present invention also provides [5] In the method for forming an inorganic layer according to the present invention, the substrate according to the above [3] is a substrate for plasma display, the inorganic particles are phosphor particles, and the inorganic layer. A phosphor layer for plasma display can be formed.
The present invention also provides [6] the dielectric layer for plasma display formed by the method for forming an inorganic layer of the present invention described in [4], or the inorganic layer of the present invention described in [5]. Provided is a plasma display including a phosphor layer for plasma display formed by the forming method.
The present invention also includes a step of providing an inorganic particle-containing composition layer formed from an inorganic particle-containing composition containing glass particles as inorganic particles on a substrate, and a step of firing the inorganic particle-containing composition layer. The dielectric layer formed by the formation method of the inorganic layer provided can be provided.
The present invention also includes a step of providing an inorganic particle-containing composition layer formed from an inorganic particle-containing composition containing metal particles or metal oxide particles as inorganic particles on a substrate, and an inorganic particle-containing composition layer. The electrode formed by the formation method of an inorganic layer provided with the process to bake can be provided.
The present invention also provides a step of providing an inorganic particle-containing composition layer formed from an inorganic particle-containing composition containing phosphor particles as inorganic particles on a back substrate for a plasma display panel, and an inorganic particle-containing composition layer The phosphor layer formed by the formation method of an inorganic layer provided with the process of baking can be provided.
The present invention also provides a plasma display panel comprising an electrode, dielectric layer or phosphor layer using the present invention.

本発明によれば、所望の無機体或いは無機物層を従来よりも低エネルギーで形成できるとともに有機化合物に起因する悪影響を低減することが可能な無機粒子含有組成物を提供することができる。また、本発明によれば、本発明の無機粒子含有組成物を用いる無機物層の形成方法、及び、本発明の無機物層の形成方法によって形成された無機物層を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。また、本発明によれば、本発明の無機粒子含有組成物を用いることで、従来よりも低エネルギーで形成可能な電極、誘電体層及び蛍光体、並びに、これらの電極、誘電体層又は蛍光体を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the inorganic particle containing composition which can reduce the bad influence resulting from an organic compound while being able to form a desired inorganic body or an inorganic substance layer with lower energy than before can be provided. Moreover, according to this invention, the plasma display provided with the formation method of the inorganic substance layer using the inorganic particle containing composition of this invention, and the inorganic substance layer formed by the formation method of the inorganic substance layer of this invention can be provided. . In addition, according to the present invention, by using the inorganic particle-containing composition of the present invention, electrodes, dielectric layers and phosphors that can be formed with lower energy than before, and these electrodes, dielectric layers or phosphors can be formed. A plasma display comprising a body can be provided.

本発明に係る誘電体層の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for explaining one embodiment of a method for forming a dielectric layer according to the present invention. 本発明に係る蛍光体層の形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。It is a schematic cross section for explaining one embodiment of a method for forming a phosphor layer according to the present invention. 本発明のプラズマディスプレイパネルを示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the plasma display panel of this invention. ビスヒドロキシメチルトリシクロデカン(以下DCPDと略す)と有機溶剤(B)とを混合した混合物の粘度と、有機溶剤(B)の添加量との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the viscosity of the mixture which mixed bishydroxymethyl tricyclodecane (it abbreviated as DCPD below) and the organic solvent (B), and the addition amount of the organic solvent (B).

以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as necessary. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

<無機粒子含有組成物>
本発明の実施形態に係る無機粒子含有組成物は、(A)下記一般式(1)で表わされる有機化合物と、(B)有機溶剤と、(C)無機粒子と、を含む。
<Inorganic particle-containing composition>
The inorganic particle-containing composition according to the embodiment of the present invention includes (A) an organic compound represented by the following general formula (1), (B) an organic solvent, and (C) inorganic particles.

Figure 2010159370
(一般式(1)中、Rは炭素数1〜10アルキレン基を示し、n+mは1〜3の整数を示し、同一分子中にRが2以上存在する場合、それぞれのRは同一でも異なっていても良い。)
上記一般式(1)で表わされる化合物としては、m=1、及びn=1のものがアルドリッチ社から商業的に入手可能である。
また、上記一般式(1)で表わされる有機化合物(A)は、300℃で10分間加熱したときの加熱残分が1質量%以下であるものが好ましい。なお、加熱環境は、大気中である。このような有機化合物(A)を用いた場合、焼成して得られる無機体において、有機化合物に起因する悪影響を更に低減することができる。
本実施形態の無機粒子含有組成物における有機化合物(A)の含有量は、無機粒子含有組成物全量を基準として20〜95質量%が好ましく、30〜90質量%がより好ましく、40〜90質量%が更により好ましく、40〜60質量%が最も好ましい。有機化合物(A)の含有量を上記範囲内とすることにより、範囲外の場合に比べて均一な塗膜を形成しやすくなるという効果が得られやすくなる。
また、本実施形態の無機粒子含有組成物における有機化合物(A)の含有量は、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量を基準として50〜95質量であるが、55〜95質量%が好ましく、60〜90質量%がより好ましく、70〜90質量%が特に好ましい。有機化合物(A)の含有量を上記範囲内とすることにより、範囲外の場合に比べて均一な塗膜を形成しやすくなるという効果が得られやすくなる。
Figure 2010159370
(In the general formula (1), R represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, n + m represents an integer of 1 to 3, and when two or more R exist in the same molecule, each R is the same or different. May be.)
As the compound represented by the general formula (1), those having m = 1 and n = 1 are commercially available from Aldrich.
The organic compound (A) represented by the general formula (1) preferably has a heating residue of 1% by mass or less when heated at 300 ° C. for 10 minutes. The heating environment is in the atmosphere. When such an organic compound (A) is used, an adverse effect caused by the organic compound can be further reduced in the inorganic body obtained by firing.
The content of the organic compound (A) in the inorganic particle-containing composition of the present embodiment is preferably 20 to 95 mass%, more preferably 30 to 90 mass%, and more preferably 40 to 90 mass% based on the total amount of the inorganic particle-containing composition. % Is even more preferred, with 40-60% by weight being most preferred. By making content of an organic compound (A) into the said range, it becomes easy to acquire the effect that it becomes easy to form a uniform coating film compared with the case outside a range.
In addition, the content of the organic compound (A) in the inorganic particle-containing composition of the present embodiment is 50 to 95 mass% based on the total amount of the organic compound contained in the inorganic particle-containing composition, but is 55 to 95 mass%. Is preferable, 60 to 90 mass% is more preferable, and 70 to 90 mass% is particularly preferable. By making content of an organic compound (A) into the said range, it becomes easy to acquire the effect that it becomes easy to form a uniform coating film compared with the case outside a range.

無機粒子としては、形成する無機体或いは無機物層の用途に応じて適宜選択すればよく、例えば、金属粒子、金属酸化物粒子、ガラス粒子、蛍光体粒子などが挙げられる。金属粒子としては、金粉、銀粉などが挙げられる。また、これら粒子に結着材として後述するガラス粒子を添加してもよい。金属酸化物粒子としては、酸化ルテニウム、酸化銅、酸化錫、ITOなどが挙げられる、また、これら粒子に結着材として後述するガラス粒子を添加してもよい。
金属粒子及び金属酸化物粒子の平均粒径は、0.01〜20μmが好ましく、0.1〜10μmがより好ましい。
The inorganic particles may be appropriately selected according to the use of the inorganic body or inorganic layer to be formed, and examples thereof include metal particles, metal oxide particles, glass particles, and phosphor particles. Examples of the metal particles include gold powder and silver powder. Moreover, you may add the glass particle mentioned later as a binder to these particle | grains. Examples of the metal oxide particles include ruthenium oxide, copper oxide, tin oxide, ITO, and the like, and glass particles described later as a binder may be added to these particles.
0.01-20 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter of a metal particle and a metal oxide particle, 0.1-10 micrometers is more preferable.

ガラス粒子は、低融点であることが好ましく、その軟化点が300〜600℃の範囲内にあることが好ましい。ガラス粒子の軟化点が300℃未満であると、有機化合物(A)が完全に除去されない段階でガラス粒子が溶融し、これにより有機物が残留して着色などの問題が生じやすくなる傾向がある。一方、この軟化点が600℃を超えるとガラス基板に歪みなどが発生しやすくなる傾向がある。   The glass particles preferably have a low melting point, and preferably have a softening point in the range of 300 to 600 ° C. When the softening point of the glass particles is less than 300 ° C., the glass particles are melted at a stage where the organic compound (A) is not completely removed, and the organic matter remains, thereby causing problems such as coloring. On the other hand, when the softening point exceeds 600 ° C., the glass substrate tends to be distorted.

ガラス粒子としては、例えば、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(PbO−B−SiO系)、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(PbO−B−SiO−Al系)、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(ZnO−B−SiO系)、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(ZnO−B−SiO−Al系)、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(PbO−ZnO−B−SiO系)、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(PbO−ZnO−B−SiO−Al系)、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(Bi−B−SiO系)、酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(Bi−B−SiO−Al系)、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系(Bi−ZnO−B−SiO系)、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系(Bi−ZnO−B−SiO−Al系)等のガラス粒子が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
ガラス粒子の平均粒径は、0.01〜20μmが好ましく、0.1〜10μmがより好ましい。
As the glass particles, for example, lead oxide, boron oxide, silicon oxide (PbO-B 2 O 3 -SiO 2 system), lead oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide-based (PbO-B 2 O 3 -SiO 2- Al 2 O 3 system), zinc oxide, boron oxide, silicon oxide system (ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 system), zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide system (ZnO—B 2 O 3) -SiO 2 -Al 2 O 3 system), lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 system), lead oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, based on aluminum oxide (PbO-ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 system), bismuth oxide, boron oxide, silicon oxide (Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 system), acid Bismuth, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide-based (Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -Al 2 O 3 system), bismuth oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (Bi 2 O 3 - ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 system), bismuth oxide, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide system (Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 —Al 2 O 3 system), etc. Glass particles. These may be used alone or in combination of two or more.
The average particle size of the glass particles is preferably from 0.01 to 20 μm, more preferably from 0.1 to 10 μm.

蛍光体粒子としては、金属酸化物を主体とする蛍光体が挙げられ、赤色発色の蛍光体としては、例えば、YS:Eu、Zn(PO:Mn、Y:Eu、YVO:Eu、(Y,Gd)BO:Eu等が挙げられる。青色発色の蛍光体としては、例えば、ZnS:Ag、ZnS:Ag,Al、ZnS:Ag,Ga,Al、ZnS:Ag,Cu,Ga,Cl、ZnS:AgIn、CaCl:Eu2+、(Sr,Ca,Ba,Mg)10(POCl:Eu2+、Sr10(POCl:Eu2+、BaMgAl1423:Eu2+、BaMgAl1626:Eu2+等が挙げられる。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ZnS:Cu、ZnSiO:Mn、ZnS:CuZnSiO:Mn、GdS:Tb、YAl12:Ce、ZnS:Cu,Al、YS:Tb、ZnO:Zn、ZnS:Cu,AlIn、LaPO:Ce,Tb、BaO・6Al:Mn等が挙げられる。 Examples of the phosphor particles include phosphors mainly composed of metal oxides. Examples of red-colored phosphors include Y 2 O 2 S: Eu, Zn 3 (PO 4 ) 2 : Mn, Y 2 O. 3 : Eu, YVO 4 : Eu, (Y, Gd) BO 3 : Eu, and the like. Examples of blue-colored phosphors include ZnS: Ag, ZnS: Ag, Al, ZnS: Ag, Ga, Al, ZnS: Ag, Cu, Ga, Cl, ZnS: Ag + In 2 O 3 , and Ca 2 B. 5 O 9 Cl: Eu 2+ , (Sr, Ca, Ba, Mg) 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ , Sr 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ , BaMgAl 14 O 23 : Eu 2+ , BaMgAl 16 O 26 : Eu 2+ and the like. Examples of green phosphors include ZnS: Cu, Zn 2 SiO 4 : Mn, ZnS: Cu + Zn 2 SiO 4 : Mn, Gd 2 O 2 S: Tb, Y 3 Al 5 O 12 : Ce, ZnS. : Cu, Al, Y 2 O 2 S: Tb, ZnO: Zn, ZnS: Cu, Al + In 2 O 3, LaPO 4: Ce, Tb, BaO · 6Al 2 O 3: Mn , and the like.

蛍光体粒子の平均粒径は、0.01〜20μmが好ましく、0.1〜10μmがより好ましい。
本実施形態の無機粒子含有組成物が、無機粒子として金属粒子又は金属酸化物粒子を含む場合、かかる無機粒子含有組成物は電極の形成に好適なものとなる。また、ガラス粒子を含む場合、かかる無機粒子含有組成物は誘電体層の形成に好適なものとなる。また、蛍光体粒子を含む場合、かかる無機粒子含有組成物は蛍光体層の形成に好適なものとなる。
The average particle diameter of the phosphor particles is preferably 0.01 to 20 μm, and more preferably 0.1 to 10 μm.
When the inorganic particle-containing composition of the present embodiment contains metal particles or metal oxide particles as inorganic particles, the inorganic particle-containing composition is suitable for forming an electrode. In addition, when glass particles are included, such an inorganic particle-containing composition is suitable for forming a dielectric layer. When the phosphor particles are included, the inorganic particle-containing composition is suitable for forming a phosphor layer.

本実施形態の無機粒子含有組成物における無機粒子の含有量は、基板に対する塗工性を向上できる観点から、組成物全量を基準として5〜80質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましく、10〜60質量%が更により好ましく、30〜50質量%が最も好ましい。
本実施形態の無機粒子含有組成物に用いる(B)有機溶剤として、塗膜の平坦性の点で、沸点が150〜250℃の範囲にある有機溶剤を含むことが好ましい。なお、本明細書において溶剤の沸点は、大気圧下での値を指す。
沸点が150〜250℃の範囲にある溶剤としては、例えば、ホロン(沸点:198℃)、シクロヘキサノン(沸点:155℃)、メチルシクロヘキサノン(沸点:170℃)等のケトン系溶剤、メチルフェニルエーテル(沸点:153℃)、エチルフェニルエーテル(172℃)、メトキシトルエン(沸点:172℃)、ベンジルエチルエーテル(沸点:189℃)、ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:160℃)、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点:188℃)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(沸点:194℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(沸点:231℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点:247℃)、エチレングリコールモノブチルエーテル(沸点:171℃)、エチレングリコールモノイソアミルエーテル(沸点:181℃)、ブチルカルビトール(沸点:231℃)等のエーテル系溶剤、1−ヘキサノール(沸点:157℃)、1−ヘプタノール(沸点:176℃)、2−ヘプタノール(沸点:160℃)、3−ヘプタノール(沸点:156℃)、1−オクタノール(沸点:195℃)、2−オクタノール(沸点:179℃)、2−エチル−1−ヘキサノール(沸点:184℃)、シクロヘキサノール(沸点:161℃)、1−メチルシクロヘキサノール(沸点:155℃)、2−メチルシクロヘキサノール(沸点:165℃)、3−メチルシクロヘキサノール(沸点:173℃)、4−メチルシクロヘキサノール(沸点:174℃)、フルフリルアルコール(沸点:170℃)、ベンジルアルコール((沸点:205℃)、エチレングリコール(沸点:198℃)、プロピレングリコール(沸点:187℃)、1,2−ブチレングリコール(沸点:191℃)、ヘキシレングリコール(沸点:197℃)、3−メチル−3−メトキシブタノール(沸点:174℃)、ブチルプロピレンジグルコール(沸点:231℃)等のアルコール系溶剤、3−メトキシ−3−メチル−1−ブチルアセテート(沸点:188℃)、エチレングリコールモノアセテート(沸点:182℃)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点:247℃)等のアセテート系溶剤、プロピレンカーボネート(沸点:241℃)等の環状カーボネート系溶剤、γ−ブチロラクトン(沸点:204℃)等のラクトン系溶剤、N−メチル−2−ピロリドン(沸点:202℃)等のピロリドン系溶剤、α−ピネン(沸点:156℃)、β−ピネン(沸点:161℃)、リモネン(沸点:177℃)、ターピネオール(沸点:217℃)、ジヒドロターピネオール(沸点:207℃)、ジヒドロターピニルアセテート(沸点:220℃)等のテルペン系溶剤、ジメチルホルムアミド(沸点:153℃)、ジメチルスルホキシド(沸点:189℃)などが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、シクロヘキサノール、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等の脂環式基と水酸基又はエステル基とを有する化合物が好ましく、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピニルアセテート等のテルペンアルコール又はテルペンエステル等のテンルペン系溶剤を含有させることがより好ましい。これにより、基板上に塗布された本発明の無機粒子含有組成物を乾燥したときに、基板面の温度分布に起因して発生する膜厚のばらつきなどのムラをより確実に低減することができる。
The content of the inorganic particles in the inorganic particle-containing composition of the present embodiment is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, based on the total amount of the composition, from the viewpoint of improving the coatability to the substrate. 10-60 mass% is still more preferable, and 30-50 mass% is the most preferable.
The organic solvent (B) used in the inorganic particle-containing composition of the present embodiment preferably contains an organic solvent having a boiling point in the range of 150 to 250 ° C. in terms of the flatness of the coating film. In the present specification, the boiling point of the solvent indicates a value under atmospheric pressure.
Examples of the solvent having a boiling point in the range of 150 to 250 ° C. include ketone solvents such as holon (boiling point: 198 ° C.), cyclohexanone (boiling point: 155 ° C.), methylcyclohexanone (boiling point: 170 ° C.), methyl phenyl ether ( Boiling point: 153 ° C), ethyl phenyl ether (172 ° C), methoxytoluene (boiling point: 172 ° C), benzyl ethyl ether (boiling point: 189 ° C), diethylene glycol dimethyl ether (boiling point: 160 ° C), diethylene glycol diethyl ether (boiling point: 188 ° C) ), Diethylene glycol monomethyl ether (boiling point: 194 ° C.), diethylene glycol monobutyl ether (boiling point: 231 ° C.), diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point: 247 ° C.), ethylene glycol monobutyl ether ( Point: 171 ° C), ether solvents such as ethylene glycol monoisoamyl ether (boiling point: 181 ° C), butyl carbitol (boiling point: 231 ° C), 1-hexanol (boiling point: 157 ° C), 1-heptanol (boiling point: 176) ° C), 2-heptanol (boiling point: 160 ° C), 3-heptanol (boiling point: 156 ° C), 1-octanol (boiling point: 195 ° C), 2-octanol (boiling point: 179 ° C), 2-ethyl-1-hexanol (Boiling point: 184 ° C), cyclohexanol (boiling point: 161 ° C), 1-methylcyclohexanol (boiling point: 155 ° C), 2-methylcyclohexanol (boiling point: 165 ° C), 3-methylcyclohexanol (boiling point: 173 ° C) ), 4-methylcyclohexanol (boiling point: 174 ° C.), furfuryl alcohol (boiling point: 170 ° C.) Benzyl alcohol ((boiling point: 205 ° C), ethylene glycol (boiling point: 198 ° C), propylene glycol (boiling point: 187 ° C), 1,2-butylene glycol (boiling point: 191 ° C), hexylene glycol (boiling point: 197 ° C) Alcohol solvents such as 3-methyl-3-methoxybutanol (boiling point: 174 ° C.), butylpropylene diglycol (boiling point: 231 ° C.), 3-methoxy-3-methyl-1-butyl acetate (boiling point: 188 ° C.) , Acetate solvents such as ethylene glycol monoacetate (boiling point: 182 ° C.), diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point: 247 ° C.), cyclic carbonate solvents such as propylene carbonate (boiling point: 241 ° C.), γ-butyrolactone (boiling point: 204) Lactone) solvent, N-methyl Pyrrolidone solvents such as 2-pyrrolidone (boiling point: 202 ° C), α-pinene (boiling point: 156 ° C), β-pinene (boiling point: 161 ° C), limonene (boiling point: 177 ° C), terpineol (boiling point: 217 ° C) Terpene solvents such as dihydroterpineol (boiling point: 207 ° C.) and dihydroterpinyl acetate (boiling point: 220 ° C.), dimethylformamide (boiling point: 153 ° C.), dimethyl sulfoxide (boiling point: 189 ° C.) and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
Among these, a compound having an alicyclic group and a hydroxyl group or an ester group such as cyclohexanol, terpineol, dihydroterpineol, dihydroterpinel acetate is preferable, terpene alcohol such as terpineol, dihydroterpineol, dihydroterpinel acetate or the like It is more preferable to contain a tenlpenic solvent such as a terpene ester. Thereby, when the inorganic particle-containing composition of the present invention applied on the substrate is dried, unevenness such as film thickness variations caused by the temperature distribution on the substrate surface can be more reliably reduced. .

ターピネオールは、ガムテレビン油から誘導された、下記式で示されるα−,β−,γ−ターピネオールの異性体混合物であり、「ターピネオールC」(日本テルペン化学株式会社製、商品名)が商業的に入手可能である。   Turpineol is an isomer mixture of α-, β-, and γ-terpineol derived from gum turpentine oil represented by the following formula, and “Terpineol C” (trade name, manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) is commercially available. It is available.

Figure 2010159370

ジヒドロターピネオールは、下記式で示される、ガムテレビン油から誘導されるターピネオールに水素添加した化合物であり、日本テルペン化学株式会社より商業的に入手可能である。
Figure 2010159370

Dihydroterpineol is a compound obtained by hydrogenation of terpineol derived from gum turpentine oil represented by the following formula, and is commercially available from Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.

Figure 2010159370

ジヒドロターピニルアセテートは、下記式で示される、ガムテレビン油から誘導されるターピネオールに水素添加及びエステル化した化合物であり、日本テルペン化学株式会社より商業的に入手可能である。
Figure 2010159370

Dihydroterpinyl acetate is a compound obtained by hydrogenation and esterification of terpineol derived from gum turpentine oil represented by the following formula, and is commercially available from Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.

Figure 2010159370
Figure 2010159370

乾燥後の塗膜にムラが発生するのを防止する観点から、本発明の無機粒子含有組成物における沸点が150〜250℃の範囲にある有機溶剤の含有量は、組成物に含まれる有機化合物全量(有機化合物(A)を含む)に対して3〜48質量%であることが好ましく、3〜43質量%であることがより好ましく、3〜38質量%であることが特に好ましく、8〜28質量%であることが最も好ましい。   From the viewpoint of preventing unevenness in the coating film after drying, the content of the organic solvent having a boiling point in the range of 150 to 250 ° C. in the inorganic particle-containing composition of the present invention is an organic compound contained in the composition. It is preferable that it is 3-48 mass% with respect to whole quantity (an organic compound (A) is included), it is more preferable that it is 3-43 mass%, it is especially preferable that it is 3-38 mass%, 8- Most preferably, it is 28 mass%.

また、本実施形態の無機粒子含有組成物においては、塗膜の乾燥性を制御する目的で、沸点が50℃以上、150℃未満の有機溶剤を含有させてもよい。
沸点が50℃以上、150℃未満の有機溶剤としては、例えば、アルコール系有機溶剤(メタノール(沸点:64.7℃)、エタノール(沸点:78℃)、イソプロピルアルコール(沸点:82.4℃)、n−ブチルアルコール(沸点:117℃)等)、芳香族系有機溶剤(ベンゼン(沸点:80.1℃)、トルエン(沸点:110.6℃)、キシレン(沸点:144℃)等)、ケトン系溶剤(アセトン(沸点:56.5℃)、メチルエチルケトン(沸点:79.5℃)、メチルイソブチルケトン(沸点:116.2℃)等)、エーテル系溶剤(テトラヒドロフラン(沸点:66℃)、ジオキサン(沸点:101.1℃)、エチレングリコールモノメチルエーテル(沸点:124.5℃)、エチレングリコールモノエチルエーテル(沸点:135℃))、酢酸エチル(沸点:77.1℃)、シクロヘキサン(沸点:81℃)等が挙げられる。
Moreover, in the inorganic particle containing composition of this embodiment, you may contain the organic solvent whose boiling point is 50 degreeC or more and less than 150 degreeC in order to control the drying property of a coating film.
Examples of organic solvents having a boiling point of 50 ° C. or higher and lower than 150 ° C. include alcohol organic solvents (methanol (boiling point: 64.7 ° C.), ethanol (boiling point: 78 ° C.), isopropyl alcohol (boiling point: 82.4 ° C.)). N-butyl alcohol (boiling point: 117 ° C), aromatic organic solvents (benzene (boiling point: 80.1 ° C), toluene (boiling point: 110.6 ° C), xylene (boiling point: 144 ° C), etc.), Ketone solvents (acetone (boiling point: 56.5 ° C.), methyl ethyl ketone (boiling point: 79.5 ° C.), methyl isobutyl ketone (boiling point: 116.2 ° C.)), ether solvents (tetrahydrofuran (boiling point: 66 ° C.)), Dioxane (boiling point: 101.1 ° C), ethylene glycol monomethyl ether (boiling point: 124.5 ° C), ethylene glycol monoethyl ether (boiling point: 1 5 ° C.)), ethyl acetate (boiling point: 77.1 ° C.), cyclohexane (boiling point: 81 ° C.), and the like.

本実施形態の無機粒子含有組成物における有機溶剤の含有量は、特に制限されないが、有機化合物(A)と混合したときの混合物の25℃における粘度が500〜50000mPa・sとなるように設定することが好ましく、1000〜25000mPa・sとなるように設定することがより好ましく、1000〜10000mPa・sとなるように設定することが特に好ましく、更に、無機粒子含有組成物における粘度が後述する範囲となるように設定することが好ましい。
例えば、有機化合物(A)として一般式(1)で表されるトリシクロデカン骨格を有する有機化合物と無機粒子とからなる無機粒子含有組成物では、塗工可能な粘度に調整することは困難である。そこで、有機溶剤(B)を用いて粘度を調整することが好ましいが、粘度低下及び粘度低下率が大きい有機溶剤(B)は、添加量の僅かな違いによる粘度変化が大きいため、粘度制御を厳密に管理する必要があるので好ましくない。粘度制御の容易性の観点から、有機溶剤(B)の配合により無機粒子含有組成物の粘度を調整する場合は、添加量を増加しても、粘度低下及び粘度低下率が小さくなるものを選択することが好ましい。
The content of the organic solvent in the inorganic particle-containing composition of the present embodiment is not particularly limited, but is set so that the viscosity at 25 ° C. of the mixture when mixed with the organic compound (A) is 500 to 50000 mPa · s. Is preferably set to 1000 to 25000 mPa · s, more preferably set to 1000 to 10000 mPa · s, and the viscosity of the inorganic particle-containing composition is within a range described below. It is preferable to set so that
For example, in an inorganic particle-containing composition comprising an organic compound having a tricyclodecane skeleton represented by the general formula (1) as an organic compound (A) and inorganic particles, it is difficult to adjust the viscosity to be coatable. is there. Therefore, it is preferable to adjust the viscosity using the organic solvent (B). However, the organic solvent (B) having a large decrease in viscosity and a large decrease in viscosity has a large change in viscosity due to a slight difference in addition amount. It is not preferable because it must be strictly controlled. From the viewpoint of ease of viscosity control, when adjusting the viscosity of the inorganic particle-containing composition by blending the organic solvent (B), select the one that decreases the viscosity decrease and the viscosity decrease rate even if the addition amount is increased. It is preferable to do.

図4は、有機化合物(A)としてのビスヒドロキシメチルトリシクロデカン(DCPD)と有機溶剤(B)とを混合したときの混合物の25℃における粘度と、有機溶剤(B)の添加量との関係を示す図である。ここで、X軸の有機溶剤(B)の添加量とは、DCPDと上記有機溶剤(B)との混合物中の有機溶剤(B)の質量%を示す。また、図4中、TPOは、ターピネオール(沸点:217℃)、BCは、ブチルカルビトール(沸点:231℃)の有機溶剤(B)でり、MTPHは、イソボルニルシクロヘキサノール(日本テルペン化学株式会社製、商品名:テルソルブMTPH)であり、DCPDとの比較するための有機化合物である。
MTPHと、TPO又はBCである有機溶剤(B)との混合系では、有機溶剤(B)の添加量の増加に伴う粘度低下率(図4におけるグラフの傾き)が大きい。それに対して、DCPDと、TPO又はBCである有機溶剤(B)との混合系では、有機溶剤(B)の添加量の増加に伴う粘度低下率は小さい。
このような傾向から、DCPDのようなトリシクロデカン骨格を有する有機化合物(A)を用いることが、粘度制御の容易性の点で好ましい。なお、本実施形態においては、有機溶剤(B)の複数種を組み合わせることにより、粘度制御の容易性と塗膜の乾燥性制御との両立を図ることも可能である。
本実施形態の無機粒子含有組成物が、上記有機溶剤(B)からなる群より選択される1種以上の有機溶剤を含む場合、係る有機溶剤の含有量は、組成物に含まれる有機化合物全量に対して3〜30質量%であることが好ましい。
本実施形態の無機粒子含有組成物は、25℃における粘度が1000〜100000mPa・sであることが好ましく、2000〜60000mPa・sであることがより好ましく、2500〜50000mPa・sであることが特に好ましい。無機粒子含有組成物の粘度が1000mPa・sより小さい場合は、無機粒子含有組成物の保存中に無機粒子が沈降しやすくなり、一方、粘度が100000mPa・sより大きい場合は、塗膜の平坦性が低下する傾向がある。
FIG. 4 shows the viscosity at 25 ° C. of the mixture of bishydroxymethyltricyclodecane (DCPD) as the organic compound (A) and the organic solvent (B), and the amount of the organic solvent (B) added. It is a figure which shows a relationship. Here, the addition amount of the organic solvent (B) on the X axis indicates mass% of the organic solvent (B) in the mixture of DCPD and the organic solvent (B). In FIG. 4, TPO is terpineol (boiling point: 217 ° C.), BC is an organic solvent (B) of butyl carbitol (boiling point: 231 ° C.), and MTPH is isobornylcyclohexanol (Nippon Terpene Chemical). This is an organic compound for comparison with DCPD.
In a mixed system of MTPH and an organic solvent (B) that is TPO or BC, the rate of decrease in viscosity accompanying the increase in the amount of organic solvent (B) added (the slope of the graph in FIG. 4) is large. On the other hand, in the mixed system of DCPD and the organic solvent (B) which is TPO or BC, the rate of decrease in viscosity due to the increase in the amount of organic solvent (B) added is small.
From such a tendency, it is preferable to use an organic compound (A) having a tricyclodecane skeleton such as DCPD from the viewpoint of easy viscosity control. In addition, in this embodiment, it is also possible to aim at coexistence with the ease of viscosity control and the drying property control of a coating film by combining multiple types of organic solvent (B).
When the inorganic particle-containing composition of the present embodiment contains one or more organic solvents selected from the group consisting of the organic solvent (B), the content of the organic solvent is the total amount of organic compounds contained in the composition. It is preferable that it is 3-30 mass% with respect to.
In the inorganic particle-containing composition of the present embodiment, the viscosity at 25 ° C. is preferably 1000 to 100,000 mPa · s, more preferably 2000 to 60000 mPa · s, and particularly preferably 2500 to 50000 mPa · s. . When the viscosity of the inorganic particle-containing composition is less than 1000 mPa · s, the inorganic particles tend to settle during storage of the inorganic particle-containing composition, while when the viscosity is greater than 100,000 mPa · s, the flatness of the coating film Tends to decrease.

また、本実施形態の無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物は、300℃で10分間加熱したときの加熱残分が1質量%以下であることが好ましい。
本実施形態の無機粒子含有組成物には、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物の300℃で10分間加熱したときの加熱残分が1質量%以下となる範囲内であれば、必要に応じて、例えば、有機バインダ樹脂、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を添加することができる。
但し、重量平均分子量が5000〜1000000の有機バインダ樹脂を添加した場合、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物の300℃で10分間加熱したときの加熱残分を1質量%以下にするのは困難である。そのため、重量平均分子量が5000〜1000000の有機バインダ樹脂を添加する場合、その含有量は、無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量を基準として、0〜1質量%とすることが好ましく、0〜0.5質量%とすることがより好ましく、0質量%(すなわち添加しないこと)が特に好ましい。
Moreover, it is preferable that the heating residue when the organic compound contained in the inorganic particle containing composition of this embodiment is heated at 300 degreeC for 10 minutes is 1 mass% or less.
The inorganic particle-containing composition of the present embodiment is necessary if the heating residue of the organic compound contained in the inorganic particle-containing composition when heated at 300 ° C. for 10 minutes is within a range of 1% by mass or less. Depending on the conditions, for example, organic binder resins, dyes, color formers, plasticizers, pigments, polymerization inhibitors, surface modifiers, stabilizers, adhesion promoters, thermosetting agents, and the like can be added.
However, when an organic binder resin having a weight average molecular weight of 5000 to 1000000 is added, the heating residue when heated at 300 ° C. for 10 minutes of the organic compound contained in the inorganic particle-containing composition is 1% by mass or less. It is difficult. Therefore, when an organic binder resin having a weight average molecular weight of 5,000 to 1,000,000 is added, the content is preferably 0 to 1% by mass based on the total amount of organic compounds contained in the inorganic particle-containing composition, The content is more preferably 0 to 0.5% by mass, and particularly preferably 0% by mass (that is, not added).

本実施形態の無機粒子含有組成物は、例えば、有機化合物(A)を上記有機溶剤(B)と混合し、次いで、上記無機粒子を添加し、これらを公知の混合手段により混合することにより調製することができる。   The inorganic particle-containing composition of the present embodiment is prepared, for example, by mixing the organic compound (A) with the organic solvent (B), then adding the inorganic particles, and mixing them by a known mixing means. can do.

<誘電体層及び蛍光体層の形成方法、誘電体層及び蛍光体層、並びにプラズマディスプレイパネル(PDP)>
次に、本発明の無機物層の形成方法の具体例として、誘電体層及び蛍光体層の形成方法の好適な実施形態について説明する。本実施形態に係る誘電体層の形成方法は、基板上に、無機粒子としてガラス粒子を含む上述の本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、その組成物層を加熱する工程とを有するものである。以下、PDP用前面基板を構成する前面ガラス基板上に誘電体層を形成する実施形態について図1を参照しつつ説明する。
図1は、本実施形態の誘電体層の形成方法を説明するための模式断面図である。
図1(a)に示すように、表示電極52が設けられた前面ガラス基板40を用意する。
次に、図1(b)に示すように、前面ガラス基板40の表示電極52が設けられている側に本発明の無機粒子含有組成物を塗布し乾燥して、無機粒子含有組成物層1を形成する。本実施形態においては、無機粒子として上述した低融点のガラス粒子を含有する無機粒子含有組成物を用いることが好ましい。この場合の無機粒子含有組成物層1は、ガラス含有組成物層である。
<Method for forming dielectric layer and phosphor layer, dielectric layer and phosphor layer, and plasma display panel (PDP)>
Next, as a specific example of the method for forming an inorganic layer of the present invention, a preferred embodiment of a method for forming a dielectric layer and a phosphor layer will be described. The method for forming a dielectric layer according to the present embodiment includes a step of providing an inorganic particle-containing composition layer formed from the above-described inorganic particle-containing composition of the present invention containing glass particles as inorganic particles on a substrate, And a step of heating the composition layer. Hereinafter, an embodiment in which a dielectric layer is formed on a front glass substrate constituting a front substrate for PDP will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a dielectric layer forming method of the present embodiment.
As shown in FIG. 1A, a front glass substrate 40 provided with display electrodes 52 is prepared.
Next, as shown in FIG.1 (b), the inorganic particle containing composition of this invention is apply | coated and dried on the side in which the display electrode 52 of the front glass substrate 40 is provided, and the inorganic particle containing composition layer 1 is dried. Form. In this embodiment, it is preferable to use the inorganic particle-containing composition containing the low melting point glass particles described above as the inorganic particles. In this case, the inorganic particle-containing composition layer 1 is a glass-containing composition layer.

塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法等が挙げられる。
乾燥温度としては、特に制限は無いが、60℃〜350℃が好ましく、100℃〜350℃がより好ましく、150℃〜300℃が特に好ましい。乾燥時間は1分間〜2時間程度とすることが好ましく、1分間〜1時間程度とすることが好ましい。なお、この加熱乾燥工程において、有機化合物は90質量%以上除去されることが好ましく、95質量%以上除去されることがより好ましく、99質量%以上除去されることが特に好ましい。乾燥工程において、有機化合物の残留物低減及び無機粒子の変色を抑制できる観点から、加熱雰囲気の酸素濃度を10体積%以下とすることが好ましく、0〜5体積%とすることがより好ましく、0〜3体積%とすることが特に好ましい。加熱機器内の酸素濃度は自然状態では大気中の酸素濃度と同等の約20体積%である。この酸素濃度を10体積%以下とする手段としては、加熱機器内を窒素、又はアルゴン、ヘリウム、ネオン等の不活性ガスで置換すること、真空ポンプを用いることなどが挙げられ、その酸素濃度は可能なかぎり低い値であることが好ましい。酸素濃度の測定は、酸素濃度計により容易に行なうことができ、市販の酸素濃度計としては、酸素濃度計LC−750L(東レエンジニアリング株式会社製)等が挙げられる。
Examples of the coating method include screen printing, knife coating method, roll coating method, spray coating method, gravure coating method, bar coating method, die coating method, and curtain coating method.
Although there is no restriction | limiting in particular as drying temperature, 60 to 350 degreeC is preferable, 100 to 350 degreeC is more preferable, and 150 to 300 degreeC is especially preferable. The drying time is preferably about 1 minute to 2 hours, and preferably about 1 minute to 1 hour. In this heat drying step, the organic compound is preferably removed by 90% by mass or more, more preferably by 95% by mass or more, and particularly preferably by 99% by mass or more. In the drying step, the oxygen concentration in the heating atmosphere is preferably 10% by volume or less, more preferably 0 to 5% by volume, from the viewpoint of suppressing the reduction of organic compound residues and the discoloration of the inorganic particles. It is especially preferable to set it as -3 volume%. The oxygen concentration in the heating device is about 20% by volume equivalent to the oxygen concentration in the air in the natural state. Examples of means for reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less include replacing the inside of the heating device with an inert gas such as nitrogen or argon, helium, or neon, using a vacuum pump, and the like. A value as low as possible is preferred. The measurement of the oxygen concentration can be easily performed with an oxygen concentration meter, and examples of a commercially available oxygen concentration meter include an oxygen concentration meter LC-750L (manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.).

次に、前面ガラス基板40上に設けられた無機粒子含有組成物層1を焼成して焼結体である誘電体層70を得る(図1(c)を参照)。焼成方法としては、例えば、電気炉中に基板と上記無機粒子含有組成物層との積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上述の積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。
焼成温度は、上記無機粒子含有組成物層が十分に焼結する温度であれば特に限定されないが、最高温度が300〜700℃であることが好ましく、300〜600℃であることがより好ましく、400℃〜600℃であることが特に好ましい。焼成時間は、5分間〜2時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。
上記の焼成工程を経ることにより、無機粒子含有組成物層中の有機成分は揮発し、無機成分のみの誘電体層が形成されると考えられる。
本実施形態の誘電体層の形成方法によれば、本発明の無機粒子含有組成物から無機粒子含有組成物層1を形成し、これを乾燥することにより、焼成に際して無機粒子含有組成物層1に含まれる有機成分を従来よりも少なくできることから、より低エネルギーで焼成工程を完了して良好な誘電体層を形成することができ、また電気炉などへの分解生成物の堆積を十分低減することが可能となる。
本実施形態の誘電体層の形成方法により得られる基板上に誘電体層を備えた積層体は、PDP用前面基板(PDP用基板)として好適に用いることができる。
Next, the inorganic particle-containing composition layer 1 provided on the front glass substrate 40 is fired to obtain a dielectric layer 70 that is a sintered body (see FIG. 1C). Examples of the firing method include a method in which a laminate of the substrate and the inorganic particle-containing composition layer is accommodated in an electric furnace and heated, a method in which the laminate is placed on a hot plate and heated. Can be mentioned.
The firing temperature is not particularly limited as long as the inorganic particle-containing composition layer is sufficiently sintered, but the maximum temperature is preferably 300 to 700 ° C, more preferably 300 to 600 ° C, It is especially preferable that it is 400 to 600 degreeC. The firing time is preferably about 5 minutes to 2 hours. Moreover, it is preferable that baking is implemented in air | atmosphere.
It is considered that the organic component in the inorganic particle-containing composition layer is volatilized through the above firing step, and a dielectric layer containing only the inorganic component is formed.
According to the method for forming a dielectric layer of the present embodiment, the inorganic particle-containing composition layer 1 is formed from the inorganic particle-containing composition of the present invention, and dried, whereby the inorganic particle-containing composition layer 1 is fired. Since the organic component contained in can be reduced as compared with the conventional case, the firing process can be completed with lower energy to form a good dielectric layer, and the deposition of decomposition products in an electric furnace or the like is sufficiently reduced. It becomes possible.
A laminate including a dielectric layer on a substrate obtained by the dielectric layer forming method of the present embodiment can be suitably used as a PDP front substrate (PDP substrate).

次に、本発明に係る蛍光体層の形成方法の好適な実施形態について説明する。本実施形態に係る蛍光体層の形成方法は、基板上に、無機粒子として蛍光体粒子を含む上述の本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を設ける工程と、その組成物層を加熱する工程とを有するものである。以下、PDP用背面ガラス基板上に蛍光体層を形成する実施形態について図2を参照しつつ説明する。図2は、本実施形態の蛍光体層の形成方法を説明するための模式断面図である。   Next, a preferred embodiment of the method for forming a phosphor layer according to the present invention will be described. The method for forming a phosphor layer according to this embodiment includes a step of providing an inorganic particle-containing composition layer formed from the above-described inorganic particle-containing composition of the present invention containing phosphor particles as inorganic particles on a substrate; And heating the composition layer. Hereinafter, an embodiment in which a phosphor layer is formed on a PDP rear glass substrate will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining the method for forming the phosphor layer of the present embodiment.

アドレス電極54が設けられた背面ガラス基板41を用意する。次に、背面ガラス基板41のアドレス電極54が設けられている側に背面誘電体層72を形成する。形成した誘電体層72上に、バリアリブ80を形成する(図2(a)を参照)。
隣り合うバリアリブ80の間隙に、無機粒子として蛍光体粒子を含む本発明に係る無機粒子含有組成物を塗布し、無機粒子含有組成物層1’を形成する(図2(b)を参照)。
塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法、ディスペンサー塗布法等が挙げられる。
次に、無機粒子含有組成物層1’を乾燥し、焼成することにより無機物層としての蛍光体層90を形成する(図2(c)を参照)。
乾燥温度としては、特に制限は無いが、60〜200℃程度とすることが好ましく、乾燥時間は1分間〜1時間程度とすることが好ましい。
焼成方法としては、例えば、電気炉中に背面基板と上記無機粒子含有組成物層との積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上述の積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。
焼成温度は、上記無機粒子含有組成物層中の有機成分が完全に除去される温度であれば特に限定されないが、最高温度が300〜700℃であることが好ましく、300〜600℃であることがより好ましい。焼成時間は、5分間〜2時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。
A rear glass substrate 41 provided with address electrodes 54 is prepared. Next, the rear dielectric layer 72 is formed on the side of the rear glass substrate 41 where the address electrodes 54 are provided. Barrier ribs 80 are formed on the formed dielectric layer 72 (see FIG. 2A).
The inorganic particle-containing composition according to the present invention containing phosphor particles as inorganic particles is applied to the gaps between adjacent barrier ribs 80 to form an inorganic particle-containing composition layer 1 ′ (see FIG. 2B).
Examples of the coating method include screen printing, knife coating method, roll coating method, spray coating method, gravure coating method, bar coating method, die coating method, curtain coating method, dispenser coating method, and the like.
Next, the phosphor layer 90 as an inorganic layer is formed by drying and baking the inorganic particle-containing composition layer 1 ′ (see FIG. 2C).
The drying temperature is not particularly limited, but is preferably about 60 to 200 ° C., and the drying time is preferably about 1 minute to 1 hour.
Examples of the firing method include a method in which a laminated body of the back substrate and the inorganic particle-containing composition layer is accommodated in an electric furnace and heated, a method in which the laminated body is placed on a hot plate and heated, etc. Is mentioned.
The firing temperature is not particularly limited as long as the organic component in the inorganic particle-containing composition layer is completely removed, but the maximum temperature is preferably 300 to 700 ° C, and preferably 300 to 600 ° C. Is more preferable. The firing time is preferably about 5 minutes to 2 hours. Moreover, it is preferable that baking is implemented in air | atmosphere.

また、本実施形態の蛍光体層の形成方法においては、無機粒子含有組成物層1’の乾燥条件を、酸素濃度が10体積%以下、好ましくは0〜5体積%、より好ましくは0〜3体積%である雰囲気下、150〜350℃、好ましくは170〜300℃、より好ましくは200〜280℃での加熱とすることにより、有機化合物をほぼ全量除去することが可能である。この場合、焼成工程を省略することができ、工程が簡略化された蛍光体層の形成方法が実現可能となる。
本実施形態においては、不活性ガス雰囲気下で加熱することが好ましい。また、加熱温度は、150〜300℃程度とすることが好ましく、加熱時間は、1分間〜1時間程度とすることが好ましい。具体的な条件としては、例えば、250℃、30分間加熱する条件が挙げられる。
本実施形態の蛍光体層の形成方法によれば、焼成に際して無機粒子含有組成物層に含まれる有機化合物由来の不純物を従来よりも少なくできることから、有機化合物由来の不純物の残留による蛍光体層90の性能低下を抑制することができる。また、本実施形態の蛍光体層の形成方法によれば、焼成工程を省略することができ、工程が簡略化された蛍光体層の形成方法が実現可能となる。
本実施形態の蛍光体層の形成方法により得られる蛍光体層を備えた積層体は、PDP用背面基板(PDP用基板)200として好適に用いることができる。
Moreover, in the formation method of the fluorescent substance layer of this embodiment, oxygen concentration is 10 volume% or less, Preferably it is 0-5 volume%, More preferably, it is 0-3 as drying conditions of inorganic particle content composition layer 1 '. By heating at 150 to 350 ° C., preferably 170 to 300 ° C., more preferably 200 to 280 ° C. in an atmosphere of volume%, almost all organic compounds can be removed. In this case, the firing step can be omitted, and a phosphor layer forming method with a simplified process can be realized.
In this embodiment, it is preferable to heat in an inert gas atmosphere. The heating temperature is preferably about 150 to 300 ° C., and the heating time is preferably about 1 minute to 1 hour. Specific conditions include, for example, a condition of heating at 250 ° C. for 30 minutes.
According to the method for forming the phosphor layer of the present embodiment, since the impurities derived from the organic compound contained in the inorganic particle-containing composition layer can be reduced when firing, the phosphor layer 90 due to the residual impurities derived from the organic compound. The performance degradation can be suppressed. In addition, according to the method for forming a phosphor layer of the present embodiment, the firing step can be omitted, and a method for forming a phosphor layer with a simplified process can be realized.
The laminate including the phosphor layer obtained by the phosphor layer forming method of the present embodiment can be suitably used as the PDP rear substrate (PDP substrate) 200.

次に、本実施形態の方法により形成された誘電体層及び蛍光体層を備えたPDPの一実施形態について図3を参照しつつ説明する。
図3は、本発明によるPDPの一実施形態を示す部分斜視図である。図3に示すPDP300は、PDP用前面基板100と、PDP用背面基板200とで主として構成される。PDP用前面基板100は、積層体3と、積層体3における前面誘電体層70の表面を覆うように設けられた保護層71とで構成されている。積層体3は、主に前面ガラス基板40と帯状の表示電極52と前面誘電体層70とを順に積層して構成されている。前面誘電体層70は、本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を加熱して得られるものである。PDP用背面基板200は、背面ガラス基板41と、背面ガラス基板41上に設けられた帯状のアドレス電極54と、背面ガラス基板41及びアドレス電極54上に設けられた背面誘電体層72と、背面誘電体層72上に設けられたバリアリブ80と、バリアリブ80の壁面及び背面誘電体層72の表面を覆うように形成された蛍光体層90とで主として構成されている。蛍光体層90は、本発明の無機粒子含有組成物から形成される無機粒子含有組成物層を加熱して得られるものである。そして、PDP用前面基板100とPDP用背面基板200とは、保護層71とバリアリブ80とが互いに密着するように貼り合わされて、蛍光体層90及び保護層71で囲まれた放電空間76が形成されている。なお、PDP300において、ガラス基板40、41、保護層71、背面誘電体層72、バリアリブ80、及び電極52、54等の構成部材は、従来公知の材料及び方法で形成することができる。背面誘電体層72は、本発明の無機物層の形成方法により形成されていてもよい。
Next, an embodiment of a PDP having a dielectric layer and a phosphor layer formed by the method of this embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 3 is a partial perspective view showing an embodiment of a PDP according to the present invention. A PDP 300 shown in FIG. 3 is mainly composed of a PDP front substrate 100 and a PDP rear substrate 200. The front substrate 100 for PDP is composed of the laminate 3 and a protective layer 71 provided so as to cover the surface of the front dielectric layer 70 in the laminate 3. The laminate 3 is configured by laminating a front glass substrate 40, a strip-shaped display electrode 52, and a front dielectric layer 70 in order. The front dielectric layer 70 is obtained by heating an inorganic particle-containing composition layer formed from the inorganic particle-containing composition of the present invention. The PDP rear substrate 200 includes a rear glass substrate 41, a strip-shaped address electrode 54 provided on the rear glass substrate 41, a rear dielectric layer 72 provided on the rear glass substrate 41 and the address electrode 54, and a rear surface. The barrier rib 80 provided on the dielectric layer 72 and a phosphor layer 90 formed so as to cover the wall surface of the barrier rib 80 and the surface of the back dielectric layer 72 are mainly configured. The phosphor layer 90 is obtained by heating an inorganic particle-containing composition layer formed from the inorganic particle-containing composition of the present invention. The PDP front substrate 100 and the PDP rear substrate 200 are bonded together so that the protective layer 71 and the barrier rib 80 are in close contact with each other, thereby forming a discharge space 76 surrounded by the phosphor layer 90 and the protective layer 71. Has been. In the PDP 300, the constituent members such as the glass substrates 40 and 41, the protective layer 71, the back dielectric layer 72, the barrier rib 80, and the electrodes 52 and 54 can be formed by a conventionally known material and method. The back dielectric layer 72 may be formed by the method for forming an inorganic layer of the present invention.

このように構成されるPDP300は、前面誘電体層70及び蛍光体層90が従来よりも低エネルギーで形成され、有機化合物に起因する悪影響が十分低減されているため、放電特性、製造コスト及び環境の点で優れたものである。
また、本実施形態においては、表示電極52を本発明の無機粒子含有組成物を用いて形成してもよい。この場合、基板40上に、無機粒子として上述した金属粒子又は金属酸化物粒子を含有する無機粒子含有組成物を塗布して無機粒子含有組成物層を形成し、これを乾燥し、焼成することにより電極を形成することができる。
塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度としては、特に制限は無いが、60〜200℃程度とすることが好ましく、乾燥時間は1分間〜1時間程度とすることが好ましい。
焼成方法としては、例えば、電気炉中に基板と上記無機粒子含有組成物層との積層体を収容して加熱する方法、ホットプレート上に上述の積層体を載置して加熱する方法等が挙げられる。
焼成温度は、上記無機粒子含有組成物層が十分に焼結する温度であれば特に限定されないが、最高温度が300〜700℃であることが好ましく、300〜600℃であることがより好ましい。焼成時間は、5分間〜2時間程度が好ましい。また、焼成は大気中で実施されることが好ましい。
上記のように、電極、誘電体層又は蛍光体層が本発明の無機粒子含有組成物を用いて形成されたPDPを用いたプラズマディスプレイは、表示特性、製造コスト及び環境の点で優れたものとなる。特に、電極、誘電体層及び蛍光体層のすべてが本発明の無機粒子含有組成物を用いて形成された場合、表示特性、製造コスト及び環境の点で更に優れたものとなる。
In the PDP 300 configured in this manner, the front dielectric layer 70 and the phosphor layer 90 are formed with lower energy than before, and adverse effects caused by organic compounds are sufficiently reduced. It is excellent in terms of.
Moreover, in this embodiment, you may form the display electrode 52 using the inorganic particle containing composition of this invention. In this case, the inorganic particle-containing composition layer is formed on the substrate 40 by applying the inorganic particle-containing composition containing the metal particles or metal oxide particles described above as the inorganic particles, and is dried and fired. Thus, an electrode can be formed.
Examples of the coating method include screen printing, knife coating method, roll coating method, spray coating method, gravure coating method, bar coating method, die coating method, and curtain coating method. The drying temperature is not particularly limited, but is preferably about 60 to 200 ° C., and the drying time is preferably about 1 minute to 1 hour.
Examples of the firing method include a method in which a laminate of the substrate and the inorganic particle-containing composition layer is accommodated in an electric furnace and heated, a method in which the laminate is placed on a hot plate and heated. Can be mentioned.
The firing temperature is not particularly limited as long as the inorganic particle-containing composition layer is sufficiently sintered, but the maximum temperature is preferably 300 to 700 ° C, and more preferably 300 to 600 ° C. The firing time is preferably about 5 minutes to 2 hours. Moreover, it is preferable that baking is implemented in air | atmosphere.
As described above, the plasma display using the PDP in which the electrode, the dielectric layer, or the phosphor layer is formed using the inorganic particle-containing composition of the present invention is excellent in terms of display characteristics, manufacturing cost, and environment. It becomes. In particular, when all of the electrode, the dielectric layer, and the phosphor layer are formed using the inorganic particle-containing composition of the present invention, the display characteristics, production cost, and environment are further improved.

以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<無機粒子含有組成物の作製>
以下、実施例により本発明を説明する。
(実験例)
(A)有機化合物として、ビスヒドロキシメチルトリシクロデカン(以下DCPDと略す)、(B)有機溶媒としてテルピネオール(異性体混合物、日本テルペン化学株式会社製、商品名)(以下TPOと略す)、又は2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール(以下慣用名(ブチルカルビトール)より、BCと略す)、無機微粒子(C)として、蛍光体微粒子を混合して無機微粒子含有組成物溶を調整した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.
<Preparation of inorganic particle-containing composition>
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples.
(Experimental example)
(A) Bishydroxymethyltricyclodecane (hereinafter abbreviated as DCPD) as the organic compound, (B) Terpineol (isomer mixture, trade name, manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as TPO) as the organic solvent, or Phosphor fine particles were mixed as 2- (2-butoxyethoxy) ethanol (hereinafter abbreviated as BC from the conventional name (butyl carbitol)) and inorganic fine particles (C) to prepare a solution containing inorganic fine particles.

(実施例1〜6)
表2に示す質量部の比率で、DCPD、BC又はTPO、及び蛍光体微粒子(Zn2SiO4:Mn)をそれぞれ混合し、ビーズミルを用いて15分間混合、分散し、更に30μm角の開口部を有する濾布を通過させて濾過し、蛍光体微粒子含有樹脂組成物を調製した。
(Examples 1-6)
DCPD, BC or TPO and phosphor fine particles (Zn 2 SiO 4 : Mn) are mixed at the ratio of parts by mass shown in Table 2, mixed and dispersed for 15 minutes using a bead mill, and further an opening of 30 μm square. And filtered through a filter cloth having a phosphor fine particle-containing resin composition.

(比較例1〜6)
実施例のDCPDに代えて下記一般式で表されるイソボルニルシクロヘキサノール(日本テルペン化学株式会社製、商品名:テルソルブMTPH)を用い、表2に示す質量部の比率で、BC又はTPO、及び蛍光体微粒子(Zn2SiO4:Mn)をそれぞれ混合し、ビーズミルを用いて15分間混合、分散し、更に30μm角の開口部を有する濾布を通過させて濾過し、蛍光体微粒子含有樹脂組成物を調製した。
(Comparative Examples 1-6)
In place of DCPD of the examples, isobornylcyclohexanol represented by the following general formula (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd., trade name: Tersolve MTPH) was used, and in the ratio of parts by mass shown in Table 2, BC or TPO, And phosphor fine particles (Zn 2 SiO 4 : Mn) are mixed, mixed and dispersed for 15 minutes using a bead mill, and further filtered through a filter cloth having a 30 μm square opening, to obtain a phosphor fine particle-containing resin A composition was prepared.

Figure 2010159370
Figure 2010159370

得られた蛍光体微粒子含有樹脂組成物の粘度を、比較すると、実施例1〜3の組成物は、添加溶媒の比率が5質量部下降した場合、粘度が167%上昇した。これに対し、比較例1〜3の組成物の粘度は、360%上昇した。また、実施例4〜6の組成物では、添加溶媒の比率が10質量部下降した場合、粘度は210%上昇した。これに対し、比較例4〜6の組成物の粘度は、287%上昇した。
上記結果の通り、(A)有機化合物に一般式(1)で示されるDCPDを使用した組成物では、それ以外の有機化合物であるMTPHを使用した組成物と比較して、希釈溶媒の比率の変化に対して、粘度の変化が穏やかであった。
Comparing the viscosities of the obtained phosphor fine particle-containing resin compositions, the compositions of Examples 1 to 3 increased in viscosity by 167% when the ratio of the added solvent decreased by 5 parts by mass. On the other hand, the viscosities of the compositions of Comparative Examples 1 to 3 increased by 360%. In the compositions of Examples 4 to 6, the viscosity increased by 210% when the ratio of the added solvent decreased by 10 parts by mass. On the other hand, the viscosities of the compositions of Comparative Examples 4 to 6 increased by 287%.
As described above, in the composition using DCPD represented by the general formula (1) as the organic compound (A), the ratio of the dilution solvent is higher than that in the composition using MTPH which is the other organic compound. The change in viscosity was moderate with respect to the change.

Figure 2010159370
(蛍光体微粒子含有組成物の組成(質量部))
Figure 2010159370
(Composition of phosphor fine particle-containing composition (parts by mass))

Figure 2010159370
(蛍光体微粒子含有組成物の組成(質量部))
Figure 2010159370
(Composition of phosphor fine particle-containing composition (parts by mass))

以上の結果から分かるように、本発明の無機微粒子含有樹脂組成物は、所望の粘度を得るための希釈溶剤の配合量に対して粘度の変化が穏やかで、組成物作製時の配合量の誤差に対する溶液粘度の裕度が広くなることが分かる。これにより、基板への無機微粒子含有溶液を塗布する工程での、塗布ムラ抑制、及び膜厚制御が容易となる。また、所望の無機体或いは無機物層を従来よりも低エネルギーで形成できるとともに有機化合物に起因する悪影響を低減でき、作業性、コストに有利な無機物層の形成方法、及び、かかる無機物層の形成方法によって形成された無機物層を備えるプラズマディスプレイを提供することができる。   As can be seen from the above results, the inorganic fine particle-containing resin composition of the present invention has a gentle change in viscosity with respect to the blending amount of the dilution solvent to obtain a desired viscosity, and an error in blending amount at the time of preparing the composition It turns out that the tolerance of the solution viscosity with respect to becomes wide. Thereby, it becomes easy to suppress coating unevenness and control the film thickness in the step of applying the inorganic fine particle-containing solution to the substrate. In addition, it is possible to form a desired inorganic body or inorganic layer with lower energy than before, and to reduce the adverse effects caused by organic compounds, and to form an inorganic layer that is advantageous in terms of workability and cost, and a method for forming such an inorganic layer A plasma display including an inorganic layer formed by the above can be provided.

1、1’ 無機粒子含有組成物層
3 積層体
40 前面ガラス基板
41 背面ガラス基板
52 表示電極
54 アドレス電極
70 誘電体層(前面誘電体層)
71 保護層
72 背面誘電体層
76 放電空間
80 バリアリブ
90 蛍光体層
100 PDP用前面基板
200 PDP用背面基板(PDP用基板)
300 PDP
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1 'Inorganic particle containing composition layer 3 Laminated body 40 Front glass substrate 41 Back glass substrate 52 Display electrode 54 Address electrode 70 Dielectric layer (front dielectric layer)
71 Protective layer 72 Rear dielectric layer 76 Discharge space 80 Barrier rib 90 Phosphor layer 100 PDP front substrate 200 PDP rear substrate (PDP substrate)
300 PDP

Claims (6)

(A)下記一般式(1)で表わされる有機化合物と、
(B)有機溶剤と、
(C)無機粒子と、を含む無機粒子含有組成物。
Figure 2010159370
(一般式(1)中、Rは炭素数1〜10アルキレン基を示し、n+mは1〜3の整数を示し、同一分子中にRが2以上存在する場合、それぞれのRは同一でも異なっていても良い。)
(A) an organic compound represented by the following general formula (1);
(B) an organic solvent;
(C) Inorganic particle-containing composition containing inorganic particles.
Figure 2010159370
(In the general formula (1), R represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, n + m represents an integer of 1 to 3, and when two or more R exist in the same molecule, each R is the same or different. May be.)
前記一般式(1)で表わされる有機化合物の含有量が、前記無機粒子含有組成物中に含まれる有機化合物全量に対して50〜95質量%である、無機粒子含有組成物。   The inorganic particle containing composition whose content of the organic compound represented by the said General formula (1) is 50-95 mass% with respect to the organic compound whole quantity contained in the said inorganic particle containing composition. 基板上に、請求項1又は2に記載の無機粒子含有組成物を塗工して無機粒子含有組成物層を設ける工程と、
前記無機粒子含有組成物層を加熱する工程と、
を備える、無機物層の形成方法。
On the substrate, coating the inorganic particle-containing composition according to claim 1 or 2 to provide an inorganic particle-containing composition layer;
Heating the inorganic particle-containing composition layer;
A method for forming an inorganic layer.
前記基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、前記無機粒子がガラス粒子であり、前記無機物層としてプラズマディスプレイ用誘電体層を形成する、請求項3に記載の無機物層の形成方法。   The method for forming an inorganic layer according to claim 3, wherein the substrate is a plasma display substrate, the inorganic particles are glass particles, and a dielectric layer for plasma display is formed as the inorganic layer. 前記基板が、プラズマディスプレイ用基板であり、前記無機粒子が蛍光体粒子であり、前記無機物層としてプラズマディスプレイ用蛍光体層を形成する、請求項3に記載の無機物層の形成方法。   The method for forming an inorganic layer according to claim 3, wherein the substrate is a plasma display substrate, the inorganic particles are phosphor particles, and a phosphor layer for plasma display is formed as the inorganic layer. 請求項4に記載の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用誘電体層、又は、請求項5に記載の無機物層の形成方法により形成されたプラズマディスプレイ用蛍光体層を備える、プラズマディスプレイ。   A plasma display comprising the dielectric layer for plasma display formed by the method for forming an inorganic layer according to claim 4 or the phosphor layer for plasma display formed by the method for forming an inorganic layer according to claim 5. .
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