JP2009266968A - 半導体製造装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】可動部が繰り返し動作しても可動部に設けられた線材等に断線や接触不良等が生じ難い半導体製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】固定部と、前記固定部に対して可動する可動部とを有する半導体製造装置であって、前記可動部及び/又は前記固定部は、無線信号を送信する送信ユニットを有し、前記固定部及び/又は前記可動部は、前記無線信号を受信する受信ユニットを有することを特徴とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、固定部と、前記固定部に対して可動する可動部とを有する半導体製造装置に関する。
従来から、半導体基板上に半導体チップ等が搭載された半導体装置の製造工程において、例えば、エッチング処理や成膜処理等の複数の処理を連続的に行うマルチチャンバー処理装置や半導体基板上に薄膜を形成するCVD装置等の半導体製造装置が用いられている。これらの半導体製造装置は、例えばカセット等で供給される半導体基板を所定の位置まで搬送するための可動機構を備えている。
このような可動機構を構成する可動部は、一例として、電気回路が搭載された基板を有し、電気回路が搭載された基板と可動部の外部に設けられた制御装置等との間は、電気信号を伝送するための線材等により接続されている。又、他の例として、周辺温度を計測するため温度センサである熱電対を有し、熱電対と可動部の外部に設けられた温度制御装置等との間は、熱電対で発生した起電力である電気信号を伝送するための線材等(所謂、補償導線)により接続されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−183830号公報
しかしながら、電気信号を伝送するために可動部と制御装置等とを接続する線材等は、可動部の動作に対応して繰り返し屈曲するため、金属疲労等による断線や接触不良等を生じるという問題があった。
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、可動部が繰り返し動作しても可動部に設けられた線材等に断線や接触不良等が生じ難い半導体製造装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は、固定部(143)と、前記固定部(143)に対して可動する可動部(142)とを有する半導体製造装置(10)であって、前記可動部(142)及び/又は前記固定部(143)は、無線信号を送信する送信ユニット(150)を有し、前記固定部(143)及び/又は前記可動部(142)は、前記無線信号を受信する受信ユニット(154)を有することを特徴とする。
なお、上記括弧内の参照符号は、理解を容易にするために付したものであり、一例にすぎず、図示の態様に限定されるものではない。
本発明によれば、例えば、可動部が繰り返し動作しても可動部に設けられた線材等に断線や接触不良等が生じ難い半導体製造装置を提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態の説明を行う。
〈第1の実施の形態〉
図1は本発明の第1の実施の形態に係るマルチチャンバー装置の概略の構成を例示する平面図である。始めに、マルチチャンバー装置100の概略の構成について説明する。図1を参照するに、マルチチャンバー装置100は、第1のカセット部110と、第2のカセット部111と、第1の搬送室120と、ロード室130と、第2の搬送室140と、第1の処理室160と、第2の処理室161と、第3の処理室162と、ゲート180a〜180gとを有する。第1の搬送室120は、搬送部121を有する。第2の搬送室140は、搬送部141を有する。200は、マルチチャンバー装置100の処理対象である半導体基板を示している。
第1のカセット部110及び第2のカセット部111は、複数の半導体基板200を積載することができる。第1のカセット部110及び第2のカセット部111と第1の搬送室120とは、開閉可能なゲート180a及び180bにより連結されている。第1の搬送室120は、半導体基板200が第1のカセット部110及び第2のカセット部111とロード室130との間を搬送される際に経由する部屋であり、減圧雰囲気にされている。
第1の搬送室120とロード室130とは、開閉可能なゲート180cにより連結されている。ロード室130は、半導体基板200を一時的に設置する部屋であり、減圧雰囲気にされている。ロード室130は、半導体基板搬入用の部屋と半導体基板搬出用の部屋が、独立に設けられていても良い。
ロード室130と第2の搬送室140とは、開閉可能なゲート180dにより連結されている。第2の搬送室140は、半導体基板200がロード室130と第1の処理室160、第2の処理室161、又は第3の処理室162の間を搬送される際に経由する部屋であり、減圧雰囲気にされている。
第2の搬送室140と第1の処理室160、第2の処理室161、及び第3の処理室162とは、開閉可能なゲート180e、180f、及び180gにより連結されている。第1の処理室160、第2の処理室161、及び第3の処理室162は、エッチング処理や成膜処理等の複数の処理を連続的に行う部屋である。第1の処理室160、第2の処理室161、及び第3の処理室162は減圧雰囲気にされており、又、所定の温度に制御されている。
図2は図1に示すマルチチャンバー装置における搬送部の概略の構成を例示する断面図である。同図中、図1と同一部分については、同一符号を付し、その説明を省略する場合がある。図2(a)は、本発明に係るマルチチャンバー装置100における搬送部141を示しており、図2(b)は、比較のために、従来のマルチチャンバー装置における搬送部11を示している。
図2(a)において、搬送部141は、可動部142と、固定部143とを有する。可動部142は、軸部144と、載置部145と、軸受部147とを有する。軸部144には、熱電対148と、ヒータ149と、送信ユニット150とが設けられており、熱電対148と送信ユニット150とは、補償導線151で接続されている。ヒータ149は線材152により、搬送部141の外部に設けられている温度制御装置等(図示せず)と接続されている。送信ユニット150は線材153により、搬送部141の外部に設けられている電源(図示せず)と接続されている。
軸受部147は、X軸方向及びY軸方向に可動可能な機構(図示せず)を介して固定部143に設けられている。軸部144と載置部145とは一体化されており、軸部144は、軸受部147と嵌合している。軸部144及び載置部145は、ヒータ149で発生する熱が伝導しやすい材料により構成されている。載置部145の載置面145aには、半導体基板200が載置される。
可動部142(軸部144、載置部145、軸受部147)は、固定部143に対してX軸方向及びY軸方向に移動可能に構成されている。可動部142の軸部144及び載置部145は、軸受部147に沿ってZ軸方向に上下動可能に、軸受部147回りにXY平面内で回動可能に構成されている。
熱電対148は、周辺温度に対応したアナログ電気信号を出力する温度センサであり、軸部144に固定されている。熱電対148としては、例えば、クロメル/アルメル、銅/コンスタンタン等を用いることができる。送信ユニット150は、受信ユニット154に向かって一部突出するように軸部144の下部に固定されている。送信ユニット150は、補償導線151を経由して熱電対148から得られる温度に関する情報を、赤外線、電波、超音波等のワイヤレス信号に変換して送信する機能を有する。
受信ユニット154は、送信ユニット150が送信するワイヤレス信号を受信し、電気信号に変換する機能を有する。受信ユニット154は、送信ユニット150が送信するワイヤレス信号を受信可能な態様で、固定部143の底部に固定されている。すなわち、可動部142がどのような位置に移動しても、その位置は受信ユニット154のワイヤレス信号受信範囲内である。線材155は、例えば、電源線や信号線等の導電線であり、一端は受信ユニット154と接続されている。線材155の他端は、搬送部141の外部に設けられている温度制御装置等(図示せず)と電気的に接続されている。温度制御装置等(図示せず)は、受信ユニット154を通じて入手した温度に関する情報を含む電気信号に基いてヒータ149を制御し、半導体基板200を所定の温度にする。
図2(b)において、搬送部11は、可動部12と、固定部13とを有する。可動部12は、軸部14と、載置部15と、軸受部17とを有する。軸部14には、熱電対18と、ヒータ19とが設けられており、熱電対18は、補償導線21により、搬送部11の外部に設けられている温度制御装置等(図示せず)と接続されている。ヒータ19は線材22により、搬送部11の外部に設けられている温度制御装置等(図示せず)と接続されている。軸受部17は、X軸方向及びY軸方向に可動可能な機構(図示せず)を介して固定部13に設けられている。軸部14と載置部15とは一体化されており、軸部14は、軸受部17と嵌合している。軸部14及び載置部15は、ヒータ19で発生する熱が伝導しやすい材料により構成されている。載置部15の載置面15aには、半導体基板200が載置される。
可動部12(軸部14、載置部15、軸受部17)は、固定部13に対してX軸方向及びY軸方向に移動可能に構成されている。可動部12の軸部14及び載置部15は、軸受部17に沿ってZ軸方向に上下動可能に、軸受部17回りにXY平面内で回動可能に構成されている。
熱電対18は、周辺温度に対応したアナログ電気信号を出力する温度センサであり、軸部14に固定されている。温度制御装置等(図示せず)は、熱電対18により入手した温度に関する情報に基いてヒータ19を制御し、半導体基板200を所定の温度にする。
図3は、図2(a)に示す搬送部の送信ユニット及び受信ユニットの概略の構成を例示するブロック図である。同図中、図2(a)と同一部分については、同一符号を付し、その説明を省略する場合がある。図3は、ワイヤレス信号として赤外線を用いる場合の送信ユニット150及び受信ユニット154の概略の構成を例示している。
送信ユニット150において、温度変換器150aは、線材151を経由して熱電対148と接続されている。レギュレータ150iは、線材153により外部に設けられている電源(図示せず)と接続されており、電源(図示せず)から供給される電圧を所定の値の電圧に変換して送信ユニット150を構成する各回路に供給する。
温度変換器150aは熱電対148の出力をアナログ電圧に変換してレベル変換器150bに出力する。レベル変換器150bは、温度変換器150aの出力を所定のレベルのアナログ電圧に変換してA/D変換器150cに出力する。A/D変換器150cは、レベル変換器150bの出力をディジタルデータに変換して制御部150dに出力する。
制御部150dは、入力されたディジタルデータをシリアル化処理し、変調器150eに出力する。変調器150eは、入力されたディジタルデータに基づいてキャリア発振器150fで生成したキャリア(搬送波)に所定の方式の変調をしてドライバ150gに出力する。所定の方式の変調の一例としては、周波数偏移変調(FSK:Frequency Shift Keying)やパルス位置変調(PPM:Pulse Position Modulation)等を挙げることができる。ドライバ150gは、変調器150eの出力データに基づいて赤外線発光素子150hを発光させ、データを送信する。赤外線発光素子としては、例えば、発光ダイオードやレーザダイオード等を用いることができる。
受信ユニット154において、レギュレータ154eは、線材155により外部に設けられている電源(図示せず)と接続されており、電源(図示せず)から供給される電圧を所定の値の電圧に変換して受信ユニット154を構成する各回路に供給する。送信ユニット150から送信されたデータは、受信ユニット154の赤外線受光素子154aで受光され電気信号に変換される。赤外線受光素子154aとしては、例えば、フォトダイオード等を用いることができる。
増幅器154bは、赤外線受光素子154aの出力を増幅して復調器154cに出力する。復調器154cは、増幅器154bの出力を、所定の方式に基いて復調して制御部154dに出力する。制御部154dは、入力されたディジタルデータをシリアル化処理し、温度制御装置等(図示せず)に出力する。受信ユニット154に、ディジタル信号をアナログ信号に変換するD/A変換器を設け、アナログ信号として温度制御装置等(図示せず)に出力しても構わない。
続いて、図1〜図3を参照しながら、本発明の第1の実施の形態に係るマルチチャンバー装置100における搬送部121及び141の動作について説明する。始めに、マルチチャンバー装置100を制御する制御部(図示せず)の指令により、ゲート180aが開かれ、搬送部121の可動部は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、第1のカセット部110に積載されている複数の半導体基板200のうちの一つを載置し、第1の搬送室120に搬送する。
次いで、ゲート180aが閉じられ、ゲート180cが開かれ、搬送部121の可動部は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、載置した半導体基板200を第1の搬送室120からロード室130に搬送した後、第1の搬送室120に戻る。ロード室130に搬送された半導体基板200は、ロード室130に一時的に設置される。次いで、ゲート180cが閉じられ、ゲート180dが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、ロード室130に一時的に設置されている半導体基板200を載置部145の載置面145a上に載置し第2の搬送室140に搬送する。
この際、搬送部141の可動部142に設けられている送信ユニット150は、熱電対148の検出する周辺温度に対応したアナログ電気信号に前述のような所定の信号処理を施し、受信ユニット154に送信する。受信ユニット154は、受信した信号に前述のような所定の信号処理を施し、温度制御装置等(図示せず)に出力する(図3参照)。温度制御装置等(図示せず)は、受信ユニット154を通じて入手した温度に関する情報を含む電気信号に基いてヒータ149を制御し、半導体基板200を所定の温度にする。以降、継続的に温度制御が行われる。
次いで、ゲート180dが閉じられ、ゲート180eが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、載置部145の載置面145a上に載置した半導体基板200を第2の搬送室140から第1の処理室160に搬送した後、第2の搬送室140に戻る。半導体基板200は、第1の処理室160内でエッチング処理や成膜処理等の所定の処理が施される。
次いで、ゲート180eが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、半導体基板200を載置部145の載置面145a上に載置し、第1の処理室160から第2の搬送室140に搬送する。
次いで、ゲート180eが閉じられ、ゲート180fが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、載置部145の載置面145a上に載置した半導体基板200を第2の搬送室140から第2の処理室161に搬送した後、第2の搬送室140に戻る。半導体基板200は、第2の処理室161内でエッチング処理や成膜処理等の所定の処理が施される。
次いで、ゲート180fが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、半導体基板200を載置部145の載置面145a上に載置し、第2の処理室161から第2の搬送室140に搬送する。
次いで、ゲート180fが閉じられ、ゲート180gが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、載置部145の載置面145a上に載置した半導体基板200を第2の搬送室140から第3の処理室162に搬送した後、第2の搬送室140に戻る。半導体基板200は、第3の処理室162内でエッチング処理や成膜処理等の所定の処理が施される。
次いで、ゲート180gが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、半導体基板200を載置部145の載置面145a上に載置し、第3の処理室162から第2の搬送室140に搬送する。
次いで、ゲート180gが閉じられ、ゲート180dが開かれ、搬送部141の可動部142は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、載置部145の載置面145a上に載置した半導体基板200を第2の搬送室140からロード室130に搬送した後、第2の搬送室140に戻る。ロード室130に搬送された半導体基板200は、ロード室130に一時的に設置される。
次いで、ゲート180dが閉じられ、ゲート180cが開かれ、搬送部121の可動部は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、ロード室130に一時的に設置されている半導体基板200を載置し第1の搬送室120に搬送する。次いで、ゲート180cが閉じられ、ゲート180bが開かれ、搬送部121の可動部は、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、載置した半導体基板200を第1の搬送室120から第2のカセット部111に搬送する。半導体基板200は、第2のカセット部111に積載される。
このように、マルチチャンバー装置100における搬送部121及び141の可動部は、半導体基板200を搬送するために、制御部(図示せず)の指令により所定の方向に駆動され、Z軸方向の上下動、X軸方向及びY軸方向の移動、XY平面内の回動等を繰り返し実行する。
従って、図2(b)に示す従来の従来のマルチチャンバー装置における搬送部11のように、一端が熱電対18に接続されている補償導線21の他端が、固定部13を経由して搬送部11の外部に設置されている温度制御装置等と電気的に接続されている構成では、補償導線21が可動部12の動作に対応して繰り返し屈曲するため、金属疲労等による断線や接触不良等を生じる虞がある。
なお、可動部12には、ヒータ19を制御するために線材22が存在し、線材22も可動部12の動作に対応して繰り返し屈曲する。しかしながら、熱起電力の関係で材質が決まっている補償導線21と異なり、線材22の材質、線径、絶縁材等は選択の自由度が高いため、金属疲労等による断線や接触不良等を生じる虞を低減する対策が可能である。従って、金属疲労等による断線や接触不良等を生じる虞が高い補償導線21について対策を講じることが重要である。
本発明の第1の実施の形態に係るマルチチャンバー装置100における搬送部141においては、補償導線151は、搬送部141の可動部142を構成する軸部144に固定されている熱電対148と送信ユニット150とを接続しているのみで、搬送部141の可動部142を構成する軸部144から外には引き出されていない。従って、補償導線151は可動部142の動作に対応して屈曲しないため、金属疲労等による断線や接触不良等の発生を防止することができる。
なお、前述の線材22と同様な理由により、線材152及び線材153については、ワイヤレス通信を用いなくても、金属疲労等による断線や接触不良等を生じる虞を低減する対策が可能である。ただし、線材152については、搬送部141の可動部142に受信ユニットを設け、固定部143に送信ユニットを設けることにより、搬送部141の外部にある温度制御装置等(図示せず)からワイヤレスで制御することも可能である。
又、送信ユニット150に電源を供給するための線材153については、搬送部141の可動部142内にバッテリや電気二重層コンデンサ等の蓄電手段を搭載し、蓄電手段から送信ユニット150に電源を供給することにより、廃止することも可能である。これらの対応を併用することにより、可動部142の動作に対応して繰り返し屈曲する部分が完全になくなるため、金属疲労等による断線や接触不良等を生じる虞を排除することができる。以上、搬送部141を中心に説明をしたが、搬送部121も搬送部141と同様の構成とすることができる。
本発明の第1の実施の形態に係るマルチチャンバー装置によれば、可動部内に、周辺温度を測定する温度センサである熱電対と赤外線を送信する送信ユニットとを設け、これらを補償導線で接続する。又、受信ユニットを、可動部外の、送信ユニットからのワイヤレス信号を受信可能な位置に設け、受信ユニットと温度制御装置等とを線材で接続する。そして、熱電対が測定した温度に対応するデータをワイヤレス信号として送信ユニットから送信し、受信ユニットで受信し、温度制御装置等に伝送する。その結果、可動部内の補償導線は可動部の動作に対応して屈曲しないため、金属疲労等による補償導線の断線や接触不良等の発生をともなうことなく、半導体基板等の温度を制御することができる。
又、補償導線以外の線材についてもワイヤレス化し、更に、送信ユニット等の動作に必要な電力を可動部内に搭載したバッテリ等の蓄電手段から供給することにより、可動部の動作に対応して繰り返し屈曲する部分が完全になくなるため、金属疲労等による補償導線やその以外の線材の断線や接触不良等が生じる虞を排除することができる。
〈第2の実施の形態〉
図4は、本発明の第2の実施の形態に係る常圧CVD装置の概略の構成を例示する断面図である。始めに、常圧CVD装置300の概略の構成について説明する。図4を参照するに、常圧CVD装置300は、ヒータユニット301と、昇降部302と、成膜部303とを有する。ヒータユニット301は、熱電対305と、ヒータ306と、送信ユニット307と、補償導線308と、線材309と、線材310とを有する。301aはヒータユニット301の下面を、301bはヒータユニット301の上面を示している。
熱電対305と送信ユニット307とは、補償導線308で接続されている。ヒータ306は線材309により、ヒータユニット301の外部に設けられている温度制御装置等(図示せず)と接続されている。送信ユニット307は線材310により、ヒータユニット301の外部に設けられている電源(図示せず)と接続されている。成膜部303は、成膜ヘッド304を有する。昇降部302は、軸部311と、載置部312とを有する。400は、常圧CVD装置300の処理対象である半導体基板を示している。
温度制御装置等(図示せず)は、ヒータ306を制御し、半導体基板400を所定の温度にする。ヒータユニット301の下面301aは、半導体基板400を搭載可能に構成されている。ヒータユニット301は、昇降部302の上部と成膜部303の上部との間を、X軸に略平行な方向に移動可能に構成されている可動部である。
熱電対305は、周辺温度に対応したアナログ電気信号を出力する温度センサであり、ヒータユニット301の上面301bに固定されている。熱電対305としては、例えば、クロメル/アルメル、銅/コンスタンタン等を用いることができる。送信ユニット307は、受信ユニット313に向かって一部突出するように、ヒータユニット301の上面301bに固定されており、熱電対305と補償導線308により電気的に接続されている。送信ユニット307は、熱電対305から得られる温度に関する情報を、赤外線、電波、超音波等のワイヤレス信号に変換して送信する機能を有する。
昇降部302は、Z軸方向に略平行に設けられた軸部311と、軸部311の上部に軸部311と略垂直(X軸方向に略平行)に設けられた載置部312とを有する。載置部312上には、半導体基板400が載置される。昇降部302は、Z軸に略平行な方向に上下動可能に構成されている。成膜部303は、半導体基板400の成膜処理を行うところであり、成膜ヘッド304から膜の原料を含むガスを半導体基板400に吹き付ける機能を有する。
受信ユニット313は、送信ユニット307が送信するワイヤレス信号を受信し、電気信号に変換する機能を有する。受信ユニット313は、送信ユニット307が送信するワイヤレス信号を受信可能な態様で、ヒータユニット301の外部の可動しない部分(固定部)に固定されている。すなわち、可動部であるヒータユニット301がどのような位置に移動しても、その位置は受信ユニット313のワイヤレス信号受信範囲内である。
線材314は、例えば、電源線や信号線等の導電線であり、一端は受信ユニット313と接続されている。線材314の他端は、温度制御装置等(図示せず)と電気的に接続されている。温度制御装置等(図示せず)は、受信ユニット313を通じて入手した温度に関する情報を含む電気信号に基いて、ヒータ306を制御し、半導体基板400を所定の温度にする。
続いて、図4を参照しながら、本発明の第2の実施の形態に係る常圧CVD装置300の動作について説明する。初期状態で、昇降部302は最下点(Z軸の−方向)まで下降しており、ヒータユニット301は最左点(X軸の−方向)まで移動しているとする。始めに、常圧CVD装置300を制御する制御部(図示せず)の指令により、ロボット等(図示せず)を用いて、図4(a)に示すように、昇降部302の載置部312に半導体基板400が載置される。次いで、昇降部302が上昇し、ヒータユニット301の下面301aに半導体基板400を搭載する。
次いで、ヒータユニット301は半導体基板400とともに、X軸の+方向に移動し、図4(b)に示すように、成膜部303の上部で止まる。この際、可動部であるヒータユニット301に設けられている送信ユニット307は、熱電対305の検出する周辺温度に対応したアナログ電気信号に前述のような所定の信号処理を施し、受信ユニット313に送信する。受信ユニット313は、受信した信号に前述のような所定の信号処理を施し、温度制御装置等(図示せず)に出力する(図3参照)。温度制御装置等(図示せず)は、受信ユニット313を通じて入手した温度に関する情報を含む電気信号に基いてヒータ306を制御し、半導体基板400を所定の温度にする。以降、継続的に温度制御が行われる。
次いで、成膜部303は、成膜ヘッド304から膜の原料を含むガスを半導体基板400に吹き付け、半導体基板400に成膜する。成膜が終了すると、ヒータユニット301は半導体基板400とともに、X軸の−方向に移動し、図4(a)に示す位置に戻る。
このように、本発明の第2の実施の形態に係る常圧CVD装置300においては、補償導線308は、ヒータユニット301に固定されている熱電対305と送信ユニット307とを接続しているのみで、ヒータユニット301から外には引き出されていない。従って、補償導線308は可動部であるヒータユニット301の動作に対応して屈曲しないため、金属疲労等による断線や接触不良等の発生を防止することができる。
なお、本発明の第1の実施の形態で説明したように、線材309及び線材310については、ワイヤレス通信を用いなくても、金属疲労等による断線や接触不良等を生じる虞を低減する対策が可能である。ただし、線材309については、可動部であるヒータユニット301に受信ユニットを設け、ヒータユニット301の外部の可動しない部分(固定部)に送信ユニットを設けることにより、ヒータユニット301の外部にある温度制御装置等(図示せず)からワイヤレスで制御することも可能である。
又、送信ユニット307に電源を供給するための線材310については、可動部であるヒータユニット301内にバッテリや電気二重層コンデンサ等の蓄電手段を搭載し、蓄電手段から送信ユニット307に電源を供給することにより、廃止することも可能である。
これらの対応を併用することにより、可動部であるヒータユニット301の動作に対応して繰り返し屈曲する部分が完全になくなるため、金属疲労等による断線や接触不良等を生じる虞を排除することができる。
本発明の第2の実施の形態に係る常圧CVD装置によれば、可動部であるヒータユニット内に、周辺温度を測定する温度センサである熱電対と赤外線を送信する送信ユニットとを設け、これらを補償導線で接続する。又、受信ユニットを、可動部であるヒータユニット外の、送信ユニットからのワイヤレス信号を受信可能な位置に設け、受信ユニットと温度制御装置等とを線材で接続する。そして、熱電対が測定した温度に対応するデータをワイヤレス信号として送信ユニットから送信し、受信ユニットで受信し、温度制御装置等に伝送する。その結果、可動部であるヒータユニット内の補償導線は、可動部であるヒータユニットの動作に対応して屈曲しないため、金属疲労等による補償導線の断線や接触不良等の発生をともなうことなく、半導体基板等の温度を制御することができる。
又、補償導線以外の線材についてもワイヤレス化し、更に、送信ユニット等の動作に必要な電力を可動部内に搭載したバッテリ等の蓄電手段から供給することにより、可動部であるヒータユニットの動作に対応して繰り返し屈曲する部分が完全になくなるため、金属疲労等による補償導線やその以外の線材の断線や接触不良等が生じる虞を排除することができる。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳説したが、本発明は、上述した実施の形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
例えば、本発明の第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、熱電対に接続される補償導線が可動部の動作に対応して屈曲しないように構成する例を示したが、本発明は、熱電対に接続される補償導線に限定されることなく適用することができる。例えば、可動部にプリント配線板と送信ユニットを設け、それらを導電線で接続する。更に送信ユニットからのワイヤレス信号を受信する受信ユニットを可動部の外に設ける。このように構成すれば、可動部の動作に対応して導電線が屈曲しないため、金属疲労等による線材の断線や接触不良等の発生をともなうことなく、プリント配線板と外部の制御回路等との間で信号の授受を行うことができる。もちろん、熱電対に接続される補償導線及びプリント配線板等に接続される導電線が可動部の動作に対応して屈曲しないように構成しても構わない。この際、可動部に送信ユニット又は受信ユニットを設け、固定部にこれらに対応する受信ユニット又は送信ユニットを設けることができる。又、可動部に送信ユニット及び受信ユニットを設け、固定部にこれらに対応する受信ユニット及び送信ユニットを設け、双方向で通信することも可能である。
又、本発明の第1の実施の形態では、本発明をマルチチャンバーに適用する例を、第2の実施の形態では、本発明を常圧CVD装置に適用する例を示したが、本発明は、可動部と固定部との間で信号の授受を行う装置であれば、どのようなものにも適用することができる。もちろん、温度制御とは無関係な装置であっても構わない。
又、本発明の第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、赤外線を用いてワイヤレス信号を送受信する例を示したが、赤外線に代えて電波や超音波等を用いても構わない。例えば、赤外線送受信ユニットに代えてBluetoothに準拠した通信を行うブルートゥース送受信ユニットを設けても良いし、IEEE802.11bなどの無線LAN(Local Area Network)に対応する送受信ユニットを設けても構わない。
本発明の第1の実施の形態に係るマルチチャンバー装置の概略の構成を例示する平面図である。 図1に示すマルチチャンバー装置における搬送部の概略の構成を例示する断面図である。 図2(a)に示す搬送部の送信ユニット及び受信ユニットの概略の構成を例示するブロック図である。 本発明の第2の実施の形態に係る常圧CVD装置の概略の構成を例示する断面図である。
符号の説明
100 マルチチャンバー装置
110,111 カセット部
120 第1の搬送室
121,141,11 搬送部
130 ロード室
140 第2の搬送室
142,12 可動部
143,13 固定部
144,14 軸部
145,15 載置部
145a,15a 載置面
147,17 軸受部
148,305,18 熱電対
149,19 ヒータ
150,307 送信ユニット
150a 温度変換器
150b レベル変換器
150c A/D変換器
150d,154d 制御部
150e 変調器
150f キャリア発振器
150g ドライバ
150h 赤外線発光素子
150i,154e レギュレータ
151,308 補償導線
152,153,155,309,310,314 線材
154,313 受信ユニット
154a 赤外線受光素子
154b 増幅器
154c 復調器
160 第1の処理室
161 第2の処理室
162 第3の処理室
180a〜180g ゲート
200,400 半導体基板
300 常圧CVD装置
301 ヒータユニット
301a ヒータユニット301の下面
301b ヒータユニット301の上面
302 昇降部
311 軸部
312 載置部
303 成膜部
304 成膜ヘッド

Claims (8)

  1. 固定部と、前記固定部に対して可動する可動部とを有する半導体製造装置であって、
    前記可動部及び/又は前記固定部は、無線信号を送信する送信ユニットを有し、
    前記固定部及び/又は前記可動部は、前記無線信号を受信する受信ユニットを有することを特徴とする半導体製造装置。
  2. 前記受信ユニットは、前記可動部が可動範囲内の何れの位置にあっても、前記送信ユニットから送信される前記無線信号を受信可能な位置に配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導体製造装置。
  3. 前記送信ユニットは、アナログ信号をディジタル信号に変換する変換器を有することを特徴とする請求項1又は2記載の半導体製造装置。
  4. 前記受信ユニットは、ディジタル信号をアナログ信号に変換する変換器を有することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項記載の半導体製造装置。
  5. 前記可動部は、蓄電手段を有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項記載の半導体製造装置。
  6. 前記可動部は、半導体基板を載置する載置部を有することを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項記載の半導体製造装置。
  7. 前記無線信号は、光を搬送波とする信号であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項記載の半導体製造装置。
  8. 前記光は、赤外線であることを特徴とする請求項7記載の半導体製造装置。
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