JP2009266492A - Power collector, its manufacturing method, negative electrode body, its manufacturing method, and lithium ion secondary battery - Google Patents

Power collector, its manufacturing method, negative electrode body, its manufacturing method, and lithium ion secondary battery Download PDF

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Hideki Nakayama
英樹 中山
Mitsuhiro Watanabe
充広 渡辺
Takuya Ishida
卓也 石田
Hideo Honma
英夫 本間
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Kanto Gakuin University Surface Engineering Research Institute
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Kanto Gakuin University Surface Engineering Research Institute
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a power collector allowing strength to be improved by increasing a surface area; its manufacturing method; a negative electrode body having the power collector; its manufacturing method; and a lithium ion secondary battery equipped with the negative electrode body. <P>SOLUTION: This power collector is provided with a copper layer having, on a surface thereof, a plurality of recessed parts each having a depth of 4-8 μm and having needle-like copper having a length of 0.5-2 μm projected all over the surface thereof. In this negative electrode body, a tin thin film is formed on the power collector. This lithium ion secondary battery is equipped with the negative electrode body. In this manufacturing method of a power collector, the plurality of recessed parts each having a depth of 4-8 μm are formed on the surface of the copper layer, and needle-like copper having a length of 0.5-2 μm is projected on the surface of the copper layer having the recessed parts by electrodeless plating. In this manufacturing method of the negative electrode body, the recessed parts having a depth of 4-8 μm are formed on the surface of the copper layer, the needle-like copper having a length of 0.5-2 μm is projected on the surface of the copper layer having the recessed parts by electrodeless plating, and a tin-plated layer is formed on the surface of the copper layer having the needle-like copper. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、集電体及びその製造方法、負極電極体及びその製造方法、並びに、リチウムイオン二次電池に関する。   The present invention relates to a current collector and a manufacturing method thereof, a negative electrode body and a manufacturing method thereof, and a lithium ion secondary battery.

リチウムイオン二次電池は、他の二次電池よりもエネルギー密度が高く、高電圧で作動させることができる。そのため、小型軽量化を図りやすい二次電池として携帯電話等の情報機器に使用されており、近年、ハイブリッド自動車用等、大型の動力用としての需要も高まっている。   A lithium ion secondary battery has a higher energy density than other secondary batteries and can be operated at a high voltage. For this reason, it is used as a secondary battery that can be easily reduced in size and weight in information equipment such as a mobile phone, and in recent years, there is an increasing demand for large-sized power such as for hybrid vehicles.

リチウムイオン二次電池には、正極層及び負極層と、これらの間に充填される電解質とが備えられ、電解質は、非水系の液体等によって構成される。製造されたリチウムイオン二次電池は、充電した後に放電され、放電後に充電することにより、再生される。リチウムイオン二次電池の充電時には、正極層に含有されている正極活物質からリチウムイオンが引き抜かれ、引き抜かれたリチウムイオンは、電解質を通って負極層へと移動し、負極層の中へ吸収される。一方、リチウムイオン二次電池の放電時には、負極層に含有されている負極活物質からリチウムイオンが放出され、放出されたリチウムイオンが電解質を通って正極層へと移動し、正極層内に入り込む。このように、リチウムイオン二次電池の充放電時には、正極活物質と負極活物質との間をリチウムイオンが移動する。   The lithium ion secondary battery includes a positive electrode layer and a negative electrode layer, and an electrolyte filled therebetween, and the electrolyte is composed of a non-aqueous liquid or the like. The manufactured lithium ion secondary battery is discharged after being charged, and is regenerated by charging after discharging. When charging a lithium ion secondary battery, lithium ions are extracted from the positive electrode active material contained in the positive electrode layer, and the extracted lithium ions move to the negative electrode layer through the electrolyte and are absorbed into the negative electrode layer. Is done. On the other hand, during discharge of the lithium ion secondary battery, lithium ions are released from the negative electrode active material contained in the negative electrode layer, and the released lithium ions move to the positive electrode layer through the electrolyte and enter the positive electrode layer. . Thus, at the time of charge / discharge of the lithium ion secondary battery, lithium ions move between the positive electrode active material and the negative electrode active material.

リチウムイオン二次電池は、負極活物質から正極活物質へリチウムイオンが移動する際に電気エネルギーが取り出される。それゆえ、リチウムイオン二次電池の性能を向上させるには、リチウムイオンが出入りしやすい形態の負極層とすることが重要であり、かかる形態とするには、負極層と電解質との界面の面積を増大させることが有効である。負極層の表面積を増大させることができれば、負極層と電解液との界面が形成されやすくなり、界面の面積を増大させることが可能になる。したがって、リチウムイオン二次電池の性能を向上させるには、表面積を増大させた負極層(以下において「負極電極体」ということがある。)を用いることが有効であると考えられる。   In the lithium ion secondary battery, electric energy is taken out when lithium ions move from the negative electrode active material to the positive electrode active material. Therefore, in order to improve the performance of the lithium ion secondary battery, it is important to use a negative electrode layer in a form in which lithium ions easily enter and exit, and in order to obtain such a form, the area of the interface between the negative electrode layer and the electrolyte is important. It is effective to increase. If the surface area of the negative electrode layer can be increased, the interface between the negative electrode layer and the electrolytic solution is easily formed, and the area of the interface can be increased. Therefore, in order to improve the performance of the lithium ion secondary battery, it is considered effective to use a negative electrode layer having an increased surface area (hereinafter sometimes referred to as “negative electrode body”).

リチウムイオン二次電池の性能を向上させることを目的とした技術、及び、性能を向上させたリチウムイオン二次電池を製造する際に適用可能な技術が、これまでにいくつか開示されてきている。例えば、特許文献1には、銅イオン、錯化剤、次亜リン酸化合物、還元反応開始金属触媒およびアセチレン含有ポリオキシエチレン系界面活性剤を含む無電解銅めっき液に予め不活性気体を吹き込んだ後、被めっき物に金属被膜を析出せしめることを特徴とする無電解めっき方法が開示されている。また、特許文献2には、負極及び正極の少なくとも一方の集電体表面に各々の活物質を形成する前に、集電体表面にひげ状の酸化物からなる酸化層を形成後、該酸化層を還元する処理を含むことを特徴とするリチウム二次電池の製造法が開示されている。また、特許文献3には、箔本体の表面から銅の針状体が前記表面に5〜900本/μmの平均密度で前記表面から突出して形成された表面処理銅箔と、当該表面処理銅箔を集電体として用いた電池用電極が開示されている。また、特許文献4には、発泡状金属及び繊維状金属焼結体からなる群から選択された1種類から構成される三次元構造を有する集電体に、リチウムと合金を形成することが可能な元素を含有する材料を堆積して薄膜を形成した負極電極を用いる非水電解質二次電池が開示されている。また、特許文献5には、集電体に粒状の銅電着層を有するリチウム二次電池負極用集電体が開示されている。 Several technologies that have been disclosed so far have been disclosed for the purpose of improving the performance of a lithium ion secondary battery and for applying a lithium ion secondary battery with improved performance. . For example, in Patent Document 1, an inert gas is previously blown into an electroless copper plating solution containing copper ions, a complexing agent, a hypophosphite compound, a reduction reaction initiation metal catalyst, and an acetylene-containing polyoxyethylene surfactant. After that, an electroless plating method characterized by depositing a metal film on an object to be plated is disclosed. In Patent Document 2, before forming each active material on the current collector surface of at least one of the negative electrode and the positive electrode, an oxide layer made of a whisker-like oxide is formed on the current collector surface, and then the oxidation is performed. A method for producing a lithium secondary battery comprising a treatment for reducing a layer is disclosed. Further, Patent Document 3 discloses a surface-treated copper foil in which copper needles are formed on the surface from the surface of the foil body so as to protrude from the surface at an average density of 5 to 900 / μm 2 , and the surface treatment. A battery electrode using a copper foil as a current collector is disclosed. Patent Document 4 discloses that lithium and an alloy can be formed on a current collector having a three-dimensional structure composed of one type selected from the group consisting of a foam metal and a fibrous metal sintered body. A nonaqueous electrolyte secondary battery using a negative electrode in which a thin film is formed by depositing a material containing various elements has been disclosed. Patent Document 5 discloses a current collector for a negative electrode of a lithium secondary battery having a current collector with a granular copper electrodeposition layer.

特開平4−116176号公報JP-A-4-116176 特開平11−307102号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-307102 特開平11−167922号公報JP 11-167922 A 特開2004−71305号公報JP 2004-71305 A 特開2006−190514号公報JP 2006-190514 A

特許文献1〜特許文献5に開示されている技術により、無電解銅めっきを用いて表面積を増大させた負極層を形成することが可能になると考えられる。しかしながら、これらの技術による表面積増大効果は不十分であるという問題があった。また、これらの技術によって形成した針状体(針状銅)は、その強度が不足しているため、セパレータ等の他部材に接触した状態で使用されると折れやすく、針状体が折れると表面積増大効果が失われるという問題もあった。   By the technique currently disclosed by patent document 1-patent document 5, it is thought that it becomes possible to form the negative electrode layer which increased the surface area using electroless copper plating. However, there has been a problem that the surface area increasing effect by these techniques is insufficient. In addition, since the needle-like body (acicular copper) formed by these techniques has insufficient strength, it is easy to break when used in contact with other members such as a separator, and the needle-like body breaks. There was also a problem that the effect of increasing the surface area was lost.

そこで本発明は、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能な、集電体及びその製造方法、当該集電体の表面にスズ層を形成した負極電極体及びその製造方法、並びに、当該負極電極体を備えたリチウムイオン二次電池を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention is capable of increasing the surface area and ensuring the strength, a current collector and a method for producing the current collector, a negative electrode body in which a tin layer is formed on the surface of the current collector, and It is an object of the present invention to provide a manufacturing method and a lithium ion secondary battery including the negative electrode body.

上記課題を解決するために、本発明は以下の手段をとる。すなわち、
第1の本発明は、深さ4μm以上8μm以下の凹部を表面に複数有し、かつ、表面全面に長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅が突出している銅層、を備えることを特徴とする、集電体である。
In order to solve the above problems, the present invention takes the following means. That is,
The first aspect of the present invention includes a copper layer having a plurality of recesses having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less on the surface, and needle-like copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less protruding from the entire surface. It is a current collector.

本発明において、「銅層」の形態は特に限定されるものではないが、例えば、銅箔により構成される形態や、基材表面に形成された銅めっき層により構成される形態とすることができる。さらに、「表面全面」とは、凹部の表面を含む、銅箔の表面全面を意味する。   In the present invention, the form of the “copper layer” is not particularly limited, but for example, a form constituted by a copper foil or a form constituted by a copper plating layer formed on the surface of the substrate. it can. Further, “entire surface” means the entire surface of the copper foil including the surface of the recess.

第2の本発明は、上記第1の本発明にかかる集電体と、該集電体の表面に形成されたスズ薄膜と、を備えることを特徴とする、負極電極体である。   A second aspect of the present invention is a negative electrode body comprising the current collector according to the first aspect of the present invention and a tin thin film formed on the surface of the current collector.

また、上記第2の本発明において、負極電極体が蛇腹状に折り曲げられていることが好ましい。   In the second aspect of the present invention, the negative electrode body is preferably bent in a bellows shape.

第3の本発明は、上記第2の本発明にかかる負極電極体を備えることを特徴とする、リチウムイオン二次電池である。   A third aspect of the present invention is a lithium ion secondary battery comprising the negative electrode body according to the second aspect of the present invention.

第4の本発明は、エッチングにより、銅層の表面に、深さ4μm以上8μm以下の凹部を複数形成する粗化工程と、少なくとも次亜リン酸を還元剤として含有する液体を用いて、粗化工程を経た銅層の表面に、無電解めっきにより長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅を突出させる無電解めっき工程と、を有することを特徴とする、集電体の製造方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, a roughening step of forming a plurality of recesses having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less on the surface of the copper layer by etching and a liquid containing at least hypophosphorous acid as a reducing agent are used. An electroless plating step of projecting needle-shaped copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less by electroless plating on the surface of the copper layer that has undergone the forming step. is there.

第5の本発明は、エッチングにより、銅層の表面に、深さ4μm以上8μm以下の凹部を形成する粗化工程と、少なくとも次亜リン酸を還元剤として含有する液体を用いて、粗化工程を経た銅層の表面に、無電解めっきにより長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅を突出させる無電解めっき工程と、無電解めっき工程を経た銅層の表面に、スズめっき層を形成するスズめっき工程と、を有することを特徴とする、負極電極体の製造方法である。   According to a fifth aspect of the present invention, a roughening step of forming a recess having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less on the surface of the copper layer by etching and a liquid containing at least hypophosphorous acid as a reducing agent are performed. An electroless plating process in which needle-shaped copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less is projected by electroless plating on the surface of the copper layer that has undergone the process, and a tin plating layer on the surface of the copper layer that has undergone the electroless plating process And a tin plating process to be formed.

また、上記第5の本発明において、銅層が、基材表面に形成された銅めっき層であり、スズめっき工程の後に、基材を除去する基材除去工程が備えられ、該基材除去工程よりも前に、基材を蛇腹状に折り曲げる蛇腹工程が備えられることが好ましい。   In the fifth aspect of the present invention, the copper layer is a copper plating layer formed on the surface of the base material, and after the tin plating step, a base material removal step for removing the base material is provided. Prior to the step, a bellows step of bending the base material into a bellows shape is preferably provided.

ここに、「基材を蛇腹状に折り曲げる蛇腹工程」とは、蛇腹工程がスズめっき工程よりも前に備えられる場合には、銅めっき層が形成されていない基材を折り曲げる工程、又は、銅めっき層が形成された基材を蛇腹状に折り曲げる工程が蛇腹工程であることを意味する。また、蛇腹工程がスズめっき工程よりも後に備えられる場合には、銅層の表面にスズめっき層が形成された基材を蛇腹状に折り曲げる工程が蛇腹工程であることを意味する。   Here, “the bellows step of bending the base material into a bellows shape” means that when the bellows step is provided before the tin plating step, the step of bending the base material on which the copper plating layer is not formed, or copper It means that the step of bending the base material on which the plating layer is formed into a bellows shape is a bellows step. Moreover, when a bellows process is provided after a tin plating process, the process of bending the base material in which the tin plating layer was formed in the surface of a copper layer to a bellows form means that it is a bellows process.

また、上記第5の本発明において、さらに、スズめっき工程の後に、還元雰囲気下で銅スズめっき電極を焼成する還元焼成工程が備えられていても良い。   In the fifth aspect of the present invention, a reduction firing step of firing the copper tin plating electrode in a reducing atmosphere may be further provided after the tin plating step.

また、基材除去工程及び蛇腹工程が備えられる上記第5の本発明において、さらに、スズめっき工程と基材除去工程との間に、還元雰囲気下で銅スズめっき電極を焼成する還元焼成工程が備えられていても良い。   Further, in the fifth aspect of the present invention provided with the base material removal step and the bellows step, a reduction firing step of firing the copper tin plating electrode in a reducing atmosphere between the tin plating step and the base material removal step is further provided. It may be provided.

第1の本発明では、深さ4μm以上8μm以下の複数の凹部の表面を含む、銅層の表面全面に、長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅が突出している。凹部の深さ及び針状銅の長さを制御することにより、表面積を増大させた銅層を備える集電体を提供することができる。さらに、針状銅の長さを0.5μm以上2μm以下に制御することにより、他部材と接触した場合であっても針状銅が折れ難い強度を確保することが可能な、集電体を提供することができる。したがって、第1の本発明によれば、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能な、集電体を提供することができる。   In the first aspect of the present invention, acicular copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less protrudes from the entire surface of the copper layer including the surfaces of a plurality of recesses having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less. By controlling the depth of the recess and the length of the acicular copper, a current collector including a copper layer with an increased surface area can be provided. Furthermore, by controlling the length of the acicular copper to 0.5 μm or more and 2 μm or less, a current collector that can ensure the strength that the acicular copper is difficult to break even when it contacts other members. Can be provided. Therefore, according to the first aspect of the present invention, it is possible to provide a current collector capable of increasing the surface area and ensuring the strength.

第2の本発明にかかる負極電極体では、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能な、集電体の表面に、スズ薄膜が形成されている。負極活物質として機能するスズ薄膜の表面積を増大させることにより、負極電極体の容量を増大させることが可能になる。また、表面積を増大させることにより、スズ薄膜の厚さを低減させつつ所定量のスズ薄膜を備えた負極電極体を提供することができ、スズ薄膜の厚さを低減させることにより、イオンの出入りに伴う膨張/収縮量を抑制することができる。さらに、スズ薄膜を針状銅の表面に形成させることにより、隣り合う針状銅の間に空隙を介在させることができるので、スズ薄膜の膨張/収縮によるスズの滑落を抑制することができる。スズ薄膜の膨張/収縮を抑制し、スズの滑落を抑制することにより、負極電極体の耐久性を向上させることができるので、第2の本発明によれば、容量及び耐久性を向上させることが可能な、負極電極体を提供することができる。   In the negative electrode body according to the second aspect of the present invention, a tin thin film is formed on the surface of the current collector that can increase the surface area and ensure the strength. By increasing the surface area of the tin thin film that functions as the negative electrode active material, the capacity of the negative electrode body can be increased. Further, by increasing the surface area, it is possible to provide a negative electrode body having a predetermined amount of tin thin film while reducing the thickness of the tin thin film. By reducing the thickness of the tin thin film, ions can enter and exit The amount of expansion / contraction associated with can be suppressed. Further, by forming the tin thin film on the surface of the acicular copper, a gap can be interposed between the adjacent acicular copper, so that the sliding of tin due to the expansion / contraction of the tin thin film can be suppressed. Since the durability of the negative electrode body can be improved by suppressing the expansion / contraction of the tin thin film and the sliding of the tin, the capacity and durability can be improved according to the second aspect of the present invention. The negative electrode body which can be provided can be provided.

また、第2の本発明において、負極電極体が蛇腹状に折り曲げられていることにより、単位体積当たりの容量を増大させることが可能な、負極電極体を提供することができる。   In the second aspect of the present invention, a negative electrode body that can increase the capacity per unit volume can be provided by bending the negative electrode body into a bellows shape.

第3の本発明にかかるリチウムイオン二次電池には、上記第2の本発明にかかる負極電極体が備えられる。そのため、第3の本発明によれば、容量及び耐久性を向上させることが可能な、リチウムイオン二次電池を提供することができる。   The lithium ion secondary battery according to the third aspect of the present invention includes the negative electrode body according to the second aspect of the present invention. Therefore, according to the third aspect of the present invention, it is possible to provide a lithium ion secondary battery capable of improving capacity and durability.

第4の本発明では、粗化工程で形成された複数の凹部の表面を含む銅層の表面全面に、無電解めっき工程で針状銅を突出させた、集電体が提供される。かかる形態の集電体は、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能である。そのため、第4の本発明によれば、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能な集電体を製造し得る、集電体の製造方法を提供することができる。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a current collector in which needle-like copper is projected on the entire surface of a copper layer including the surfaces of a plurality of recesses formed in a roughening step in an electroless plating step. Such a current collector can increase the surface area and ensure strength. Therefore, according to the fourth aspect of the present invention, it is possible to provide a method of manufacturing a current collector that can increase the surface area and can manufacture a current collector that can ensure strength. it can.

第5の本発明では、表面積を増大させること及び強度を確保することが可能な集電体の表面に、スズ薄膜を形成する工程を経て、負極電極体が製造される。このようにして製造された負極電極体は、容量及び耐久性を向上させることが可能である。そのため、第5の本発明によれば、容量及び耐久性を向上させることが可能な負極電極体を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。   In the fifth aspect of the present invention, the negative electrode body is manufactured through a step of forming a tin thin film on the surface of the current collector capable of increasing the surface area and ensuring the strength. The negative electrode body manufactured in this way can improve capacity and durability. Therefore, according to the fifth aspect of the present invention, it is possible to provide a method for producing a negative electrode body that can produce a negative electrode body capable of improving capacity and durability.

また、第5の本発明において、蛇腹工程が備えられることにより、単位体積当たりの容量を増大させることが可能な負極電極体を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。   In addition, in the fifth aspect of the present invention, a negative electrode body manufacturing method capable of manufacturing a negative electrode body capable of increasing the capacity per unit volume by providing a bellows process can be provided.

また、第5の本発明において、スズめっき工程の後に還元焼成工程が備えられることにより、銅層とスズめっき層との界面に、銅及びスズを含有する合金層を形成することができ、かかる合金層を形成することにより、耐久性を向上させることが可能になる。そのため、還元焼成工程が備えられる形態とすることにより、耐久性を向上させることが可能な負極電極体を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。   Further, in the fifth aspect of the present invention, an alloy layer containing copper and tin can be formed at the interface between the copper layer and the tin plating layer by providing a reduction firing step after the tin plating step. By forming the alloy layer, durability can be improved. Therefore, the manufacturing method of the negative electrode body which can manufacture the negative electrode body which can improve durability can be provided by setting it as the form provided with a reduction | restoration baking process.

以下、図面を参照しつつ、本発明について説明する。なお、以下に示す形態は本発明の例示であり、本発明は以下に示す形態に限定されるものではない。   The present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, the form shown below is an illustration of this invention and this invention is not limited to the form shown below.

1.集電体及びその製造方法
1.1.集電体
図1は、本発明の集電体10の形態例を示す概念図である。図1では、本発明の集電体10の一部を拡大して示している。以下、図1を参照しつつ、本発明の集電体10について説明する。
1. Current collector and manufacturing method thereof 1.1. Current Collector FIG. 1 is a conceptual diagram showing an example of a current collector 10 according to the present invention. In FIG. 1, a part of the current collector 10 of the present invention is shown enlarged. Hereinafter, the current collector 10 of the present invention will be described with reference to FIG.

図1に示すように、本発明の集電体10は銅箔からなり(以下において「銅箔10」ということがある。)、表面に複数の凹部1、1、…を有している。さらに、凹部1、1、…の表面を含む、銅箔10の表面全面には、針状銅2、2、…が突出している。表面に複数の凹部1、1、…を形成し、かつ、当該凹部1、1、…の表面を含む銅箔10の表面全面に針状銅2、2、…を突出させることにより、表面積を増大させることができる。さらに、針状銅2、2、…の長さを制御することにより、強度を確保することが可能になる。したがって、本発明によれば、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能な、集電体10を提供することができる。   As shown in FIG. 1, the current collector 10 of the present invention is made of a copper foil (hereinafter sometimes referred to as “copper foil 10”), and has a plurality of recesses 1, 1,. Further, needle-shaped copper 2, 2,... Protrudes from the entire surface of the copper foil 10 including the surfaces of the recesses 1, 1,. The surface area is increased by forming a plurality of recesses 1, 1,... On the surface and projecting the acicular coppers 2, 2,... Over the entire surface of the copper foil 10 including the surfaces of the recesses 1, 1,. Can be increased. Further, the strength can be ensured by controlling the lengths of the acicular coppers 2, 2,. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide the current collector 10 capable of increasing the surface area and ensuring the strength.

集電体10において、表面積の増大効果を得やすくする等の観点から、凹部1、1、…の深さは4μm以上とする。さらに、他部材と接触した場合であっても折れ難い集電体10を提供可能とする等の観点から、凹部1、1、…の深さは8μm以下とする。集電体10において、凹部1、1、…の深さは、5μm以上7μm以下とすることが好ましい。また、集電体10において、表面積の増大効果を得やすくする等の観点から、針状銅2、2、…の長さは0.5μm以上とする。さらに、他部材と接触した場合であっても折れ難い針状銅2、2、…を形成する等の観点から、針状銅2、2、…の長さは2μm以下とする。集電体10において、針状銅2、2、…の長さは、1μm以上2μm以下とすることが好ましい。   In the current collector 10, the depth of the recesses 1, 1,... Is 4 μm or more from the viewpoint of easily obtaining an effect of increasing the surface area. In addition, the depth of the recesses 1, 1,. In the current collector 10, the depth of the recesses 1, 1,... Is preferably 5 μm or more and 7 μm or less. Further, in the current collector 10, the length of the needle-shaped coppers 2, 2,... Further, from the viewpoint of forming needle-shaped coppers 2, 2,... That are not easily broken even when they are in contact with other members, the length of the needle-shaped coppers 2, 2,. In the current collector 10, the lengths of the acicular coppers 2, 2,... Are preferably 1 μm or more and 2 μm or less.

本発明の集電体に関する上記説明では、銅箔からなる集電体10を例示したが、本発明の集電体は当該形態に限定されるものではない。本発明の集電体は、深さ4μm以上8μm以下の複数の凹部を含む表面全面に長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅が形成された銅層を有していれば良く、例えば、銅箔10の表面を導電性材料で被覆することにより構成される集電体等、他の形態とすることも可能である。   In the said description regarding the electrical power collector of this invention, although the electrical power collector 10 which consists of copper foil was illustrated, the electrical power collector of this invention is not limited to the said form. The current collector of the present invention may have a copper layer in which needle-like copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less is formed on the entire surface including a plurality of recesses having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less. Other forms such as a current collector configured by coating the surface of the copper foil 10 with a conductive material are also possible.

1.2.集電体の製造方法
図2は、本発明の集電体の製造方法に備えられる工程例を示すフローチャートである。また、図3は、本発明の集電体の製造方法に備えられる工程の形態例を示す概念図である。図3において、図1と同様の構成を採るものには、図1で使用した符号と同符号を付し、その説明を適宜省略する。以下、図1〜図3を参照しつつ、本発明の集電体の製造方法について説明する。
1.2. 2. Current Collector Manufacturing Method FIG. 2 is a flowchart showing an example of steps provided in the current collector manufacturing method of the present invention. Moreover, FIG. 3 is a conceptual diagram which shows the example of the process with which the manufacturing method of the electrical power collector of this invention is equipped. 3, components having the same configuration as in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 1, and description thereof is omitted as appropriate. Hereinafter, the manufacturing method of the current collector of the present invention will be described with reference to FIGS.

図2及び図3に示すように、本発明の集電体の製造方法は、粗化工程(工程S11)と、無電解めっき工程(工程S12)と、を備え、工程S11及び工程S12を経て、本発明の集電体10が製造される。   As shown in FIG.2 and FIG.3, the manufacturing method of the electrical power collector of this invention is equipped with the roughening process (process S11) and the electroless-plating process (process S12), and passes through process S11 and process S12. Thus, the current collector 10 of the present invention is manufactured.

<工程S11>
工程S11は、所定の表面粗さ(凹凸)を有する銅箔をエッチングすることにより、銅箔の表面に、深さが4μm以上8μm以下の複数の凹部1、1、…を形成する工程である。凹部1、1、…の深さを4μm以上とするのは、表面積を十分に増大させることが可能な集電体を製造するためであり、凹部1、1、…の深さを8μm以下とするのは、他部材と接触した場合であっても折れ難い形態にするとともに、次工程で針状銅を均一に突出させるためである。
<Step S11>
Step S11 is a step of forming a plurality of recesses 1, 1,... Having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less on the surface of the copper foil by etching the copper foil having a predetermined surface roughness (unevenness). . The depth of the recesses 1, 1,... Is 4 μm or more in order to produce a current collector capable of sufficiently increasing the surface area, and the depth of the recesses 1, 1,. The reason for this is to make it difficult to break even when it comes into contact with other members, and to allow needle-shaped copper to protrude uniformly in the next step.

<工程S12>
工程S12は、少なくとも次亜リン酸を還元剤として含有する液体を用いて、上記工程S11を経た銅箔の表面に、無電解めっきにより長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅を突出させる工程である。針状銅めっきの長さは、めっきの時間を調整することによって、制御することができる。
<Step S12>
In step S12, needle-shaped copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less is projected by electroless plating on the surface of the copper foil that has undergone the above-described step S11 using a liquid containing at least hypophosphorous acid as a reducing agent. It is a process. The length of the acicular copper plating can be controlled by adjusting the plating time.

上記工程S11及び工程S12を経て製造された集電体10は、深さ4μm以上8μm以下の複数の凹部1、1、…を有し、かつ、その表面全面に長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅2、2、…が突出している。かかる形態とすることにより、表面積を増大させることができ、かつ、針状銅の長さを0.5μm以上2μm以下に制御することにより他部材と接触した場合であっても折れ難い強度を確保することができる。したがって、本発明によれば、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能な、集電体10を製造し得る、集電体の製造方法を提供することができる。   The current collector 10 manufactured through the steps S11 and S12 has a plurality of recesses 1, 1,... Having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less, and the entire surface has a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less. Are projected. By adopting such a configuration, the surface area can be increased, and the strength of the needle-shaped copper is controlled to be 0.5 μm or more and 2 μm or less to ensure the strength that does not break even when it comes into contact with other members. can do. Therefore, according to this invention, the manufacturing method of the electrical power collector which can manufacture the electrical power collector 10 which can increase a surface area and can ensure intensity | strength can be provided. .

本発明の集電体の製造方法において、工程S11でエッチングされる銅箔の表面に備えられる凹部の間隔(又は凸部の間隔)は、特に限定されるものではないが、工程S12で凹部の表面等に形成される針状銅の接触を抑制する等の観点からは、当該間隔を3μm以上とすることが好ましい。これに対し、表面積の増大効果を得やすくする等の観点からは、当該間隔を10μm以下とすることが好ましい。より好ましい間隔は、5μm以上8μm以下である。さらに、隣り合う凹部1、1、…に挟まれた凸部(「凸部3、3、…」等ということがある。)の幅は、特に限定されるものではないが、他部材と接触した場合であっても、工程S12で形成された針状銅が折れ難い形態とする等の観点からは、凸部3、3、…の幅を1μm以上とすることが好ましい。これに対し、表面積の増大効果を得やすくする等の観点からは、凸部3、3、…の幅を5μm以下とすることが好ましい。より好ましい凸部3、3、…の幅は、1.5μm以上4μm以下である。   In the manufacturing method of the current collector of the present invention, the interval between the recesses (or the interval between the projections) provided on the surface of the copper foil etched in step S11 is not particularly limited. From the viewpoint of suppressing contact of acicular copper formed on the surface or the like, the interval is preferably set to 3 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of easily obtaining the effect of increasing the surface area, the interval is preferably set to 10 μm or less. A more preferable interval is 5 μm or more and 8 μm or less. Furthermore, the width of the convex part (sometimes referred to as “convex part 3, 3,...”) Sandwiched between adjacent concave parts 1, 1,... Is not particularly limited, but is in contact with other members. Even if it is a case, it is preferable that the width | variety of the convex part 3, 3, ... shall be 1 micrometer or more from a viewpoint of setting it as the form in which the acicular copper formed by process S12 does not break easily. On the other hand, it is preferable that the width of the convex portions 3, 3,. More preferably, the width of the convex portions 3, 3,... Is 1.5 μm or more and 4 μm or less.

本発明の集電体の製造方法において、工程S11に供される銅箔の形態、及び、当該銅箔の表面に凹凸を設ける方法は、特に限定されるものではない。工程S11に供される銅箔としては、電解銅箔や圧延銅箔等に代表される金属素材を用いることができる。さらに、銅箔の表面に凹凸を設ける方法としては、エッチング等に代表される化学的粗化方法のほか、サンドブラスト処理、バフ研磨、ブラシ研磨等に代表される物理的粗化方法等を例示することができる。   In the method for producing a current collector of the present invention, the form of the copper foil used in step S11 and the method of providing irregularities on the surface of the copper foil are not particularly limited. As the copper foil used in step S11, a metal material typified by electrolytic copper foil, rolled copper foil, or the like can be used. Furthermore, as a method of providing irregularities on the surface of the copper foil, in addition to a chemical roughening method typified by etching or the like, a physical roughening method typified by sandblasting, buffing, brush polishing or the like is exemplified. be able to.

2.負極電極体及びその製造方法
2.1.負極電極体
図4は、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体20の形態例を示す概念図である。図4では、本発明の負極電極体20の一部を拡大して示している。図4において、図1と同様の構成を採るものには、図1で使用した符号と同符号を付し、その説明を適宜省略する。以下、図4を参照しつつ、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体20について説明する。
2. Negative electrode body and manufacturing method thereof 2.1. 4. Negative electrode body FIG. 4: is a conceptual diagram which shows the example of the form of the negative electrode body 20 of this invention concerning 1st Embodiment. FIG. 4 shows an enlarged part of the negative electrode body 20 of the present invention. 4, components having the same configuration as in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 1, and description thereof is omitted as appropriate. Hereinafter, the negative electrode body 20 of the present invention according to the first embodiment will be described with reference to FIG.

図4に示すように、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体20は、集電体10と、当該集電体10の表面に形成されたスズ薄膜11と、を有する。スズは、イオン(例えば、リチウムイオン等。以下同じ。)を出し入れすることができるので、本発明の負極電極体20は、例えば、リチウムイオン二次電池の負極層に用いることができる。   As shown in FIG. 4, the negative electrode body 20 of the present invention according to the first embodiment includes a current collector 10 and a tin thin film 11 formed on the surface of the current collector 10. Since tin can take in and out ions (for example, lithium ions, etc.), the negative electrode body 20 of the present invention can be used, for example, in the negative electrode layer of a lithium ion secondary battery.

本発明の負極電極体20では、凹部1、1、…、及び、針状銅2、2、…によって表面積を増大させた集電体10の表面に、スズ薄膜11が形成されている。そのため、負極活物質としてスズを用いた従来の負極電極体と比較して、スズ薄膜の表面積を増大させることができるので、本発明によれば、容量を増大させることが可能な負極電極体20を提供することができる。また、本発明と比較して表面積が不足している従来の負極電極体と、本発明の負極電極体20に、同じ質量のスズ薄膜を形成させた場合、本発明の負極電極体20によれば、スズ薄膜11の厚さを、従来の負極電極体に形成されたスズ薄膜よりも薄くすることができる。このようにしてスズ薄膜11の厚さを薄くすると、イオンの出入りに伴う膨張/収縮量を抑制することができる。膨張/収縮量が抑制されると、充放電を繰り返した場合における耐久性を向上させることができるので、本発明によれば、耐久性を向上させることが可能な、負極電極体20を提供することができる。さらに、スズ薄膜11を、針状銅2、2、…の表面にも形成させることにより、隣り合う針状銅2、2、…の間に空隙を介在させることができるので、スズ薄膜11の膨張/収縮によるスズの滑落を抑制することができる。スズの滑落が抑制されると、負極活物質として機能するスズの量を維持して耐久性を向上させることができるので、本発明によれば、耐久性を向上させることが可能な、負極電極体20を提供することができる。以上より、本発明によれば、容量を増大させ、かつ、耐久性を向上させることが可能な、負極電極体20を提供することができる。   In the negative electrode body 20 of the present invention, the tin thin film 11 is formed on the surface of the current collector 10 whose surface area is increased by the recesses 1, 1,. Therefore, since the surface area of the tin thin film can be increased as compared with the conventional negative electrode body using tin as the negative electrode active material, the negative electrode body 20 capable of increasing the capacity according to the present invention. Can be provided. Moreover, when the same mass tin film is formed on the conventional negative electrode body having a surface area insufficient as compared with the present invention and the negative electrode body 20 of the present invention, the negative electrode body 20 of the present invention For example, the thickness of the tin thin film 11 can be made thinner than the tin thin film formed on the conventional negative electrode body. When the thickness of the tin thin film 11 is thus reduced, the amount of expansion / contraction associated with the entry / exit of ions can be suppressed. When the amount of expansion / contraction is suppressed, durability when charging / discharging is repeated can be improved. Therefore, according to the present invention, the negative electrode body 20 capable of improving durability is provided. be able to. Further, by forming the tin thin film 11 also on the surfaces of the acicular coppers 2, 2,..., Gaps can be interposed between the adjacent acicular coppers 2, 2,. Tin sliding due to expansion / contraction can be suppressed. When tin sliding is suppressed, the amount of tin that functions as a negative electrode active material can be maintained and durability can be improved. Therefore, according to the present invention, the negative electrode can improve durability. A body 20 can be provided. As mentioned above, according to this invention, the negative electrode body 20 which can increase a capacity | capacitance and can improve durability can be provided.

図5は、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体21の形態例を示す概念図である。図5では、本発明の負極電極体21の一部を拡大して示している。図5において、図4と同様の構成を採るものには、図4で使用した符号と同符号を付し、その説明を適宜省略する。以下、図5を参照しつつ、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体21について説明する。   FIG. 5 is a conceptual diagram showing a form example of the negative electrode body 21 of the present invention according to the second embodiment. FIG. 5 shows an enlarged part of the negative electrode body 21 of the present invention. 5, components having the same configuration as in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 4, and description thereof is omitted as appropriate. Hereinafter, the negative electrode body 21 of the present invention according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

図5に示すように、本発明の負極電極体21は、負極電極体20を蛇腹状に折り曲げた形態をしている。かかる形態とすることにより、単位体積当たりの容量を増大させることが可能な負極電極体21を提供することができる。ここで、本発明の負極電極体21は、負極電極体20を蛇腹状に折り曲げたものであるため、表面に凹凸を有している。平滑な表面を有する負極電極体を折り曲げると、当該負極電極体の表面全面に電解質(例えば、非水系の液体によって構成される電解液等。以下同じ。)を行き渡らせることが困難になるが、負極電極体21の表面全面は凹凸面とされているため、蛇腹状に折り曲げられた状態であっても、その表面全面に電解質を行き渡らせることができる。   As shown in FIG. 5, the negative electrode body 21 of the present invention has a shape in which the negative electrode body 20 is bent into a bellows shape. By setting it as this form, the negative electrode body 21 which can increase the capacity | capacitance per unit volume can be provided. Here, since the negative electrode body 21 of the present invention is formed by bending the negative electrode body 20 into a bellows shape, the surface has irregularities. When a negative electrode body having a smooth surface is bent, it becomes difficult to distribute an electrolyte (for example, an electrolyte solution composed of a non-aqueous liquid, etc., the same applies hereinafter) over the entire surface of the negative electrode body. Since the entire surface of the negative electrode body 21 is an uneven surface, the electrolyte can be spread over the entire surface even in a state of being bent into a bellows shape.

本発明の負極電極体20、21において、集電体10の表面に形成されるスズ薄膜11の厚さは、特に限定されるものではない。充放電に伴う膨張/収縮量を抑制して耐久性を向上させることが可能な負極電極体20、21を提供する等の観点からは、スズ薄膜11の厚さを薄くすることが好ましい。これに対し、容量を増大させやすい形態の負極電極体20、21を提供する等の観点からは、スズ薄膜11の厚さを厚くすることが好ましい。スズ薄膜11の厚さは、耐久性及び容量のバランスを考慮して、適宜決定することができる。本発明の負極電極体20、21において、スズ薄膜11の厚さは、例えば、0.1μmとすることが好ましい。   In the negative electrode bodies 20 and 21 of the present invention, the thickness of the tin thin film 11 formed on the surface of the current collector 10 is not particularly limited. From the standpoint of providing the negative electrode bodies 20 and 21 capable of improving the durability by suppressing the amount of expansion / contraction associated with charging / discharging, it is preferable to reduce the thickness of the tin thin film 11. On the other hand, it is preferable to increase the thickness of the tin thin film 11 from the viewpoint of providing the negative electrode bodies 20 and 21 in a form that easily increases the capacity. The thickness of the tin thin film 11 can be appropriately determined in consideration of the balance between durability and capacity. In the negative electrode bodies 20 and 21 of the present invention, the thickness of the tin thin film 11 is preferably set to 0.1 μm, for example.

本発明の負極電極体20、21に関する上記説明では、集電体10(銅箔10)の表面にスズ薄膜11が直接形成されている形態を例示したが、本発明は当該形態に限定されるものではない。本発明において、負極電極体の電子伝導性を向上させやすくする等の観点からは、銅箔10とスズ薄膜11との間に、銅めっき層が備えられることが好ましい。銅箔10とスズ薄膜11との間に銅めっき層が備えられる場合、銅めっき層作製時のピンホールの形成を抑制する等の観点からは、当該銅めっき層の厚さを1μm以上とすることが好ましい。   In the said description regarding the negative electrode body 20 and 21 of this invention, although the form in which the tin thin film 11 was directly formed in the surface of the electrical power collector 10 (copper foil 10) was illustrated, this invention is limited to the said form. It is not a thing. In the present invention, a copper plating layer is preferably provided between the copper foil 10 and the tin thin film 11 from the viewpoint of easily improving the electronic conductivity of the negative electrode body. In the case where a copper plating layer is provided between the copper foil 10 and the tin thin film 11, the thickness of the copper plating layer is set to 1 μm or more from the viewpoint of suppressing the formation of pinholes during the preparation of the copper plating layer. It is preferable.

また、本発明の負極電極体において、銅の表面へスズを直接めっきすることに起因する、銅及びスズを含有する合金層の形成を抑制する等の観点からは、銅箔10とスズ薄膜11との間に、ニッケルめっき層が備えられることが好ましい。銅箔10とスズ薄膜11との間にニッケルめっき層が備えられる場合、ニッケルめっき層作製時のピンホールの形成を抑制する等の観点からは、当該ニッケルめっき層の厚さを1μm以上とすることが好ましい。   Further, in the negative electrode body of the present invention, from the viewpoint of suppressing the formation of an alloy layer containing copper and tin resulting from direct plating of tin on the surface of copper, the copper foil 10 and the tin thin film 11 are used. Between the two, a nickel plating layer is preferably provided. In the case where a nickel plating layer is provided between the copper foil 10 and the tin thin film 11, the thickness of the nickel plating layer is set to 1 μm or more from the viewpoint of suppressing the formation of pinholes during the production of the nickel plating layer. It is preferable.

また、本発明の負極電極体において、銅の表面へスズを直接めっきして銅及びスズを含有する合金層を積極的に形成することにより、耐久性を向上させ得る負極電極体とする等の観点からは、上記ニッケルめっき層が備えられない形態とすることが好ましい。銅及びスズを含有する合金層を銅箔及びスズ薄膜の間に積極的に形成させる場合には、スズ薄膜11を形成させた後に、還元雰囲気下で負極電極体20、21を焼結することが好ましい。   In addition, in the negative electrode body of the present invention, by directly forming tin on the surface of copper and positively forming an alloy layer containing copper and tin, a negative electrode body that can improve durability, etc. From the viewpoint, it is preferable that the nickel plating layer is not provided. When the alloy layer containing copper and tin is positively formed between the copper foil and the tin thin film, the negative electrode bodies 20 and 21 are sintered in a reducing atmosphere after the tin thin film 11 is formed. Is preferred.

2.2.負極電極体の製造方法
図6は、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に備えられる工程例を示すフローチャートである。また、図7は、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に備えられる工程の形態例を示す概念図である。図7において、図4と同様の構成を採るものには、図4で使用した符号と同符号を付し、その説明を適宜省略する。以下、図4、図6、及び、図7を参照しつつ、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法について説明する。
2.2. Method for Manufacturing Negative Electrode Body FIG. 6 is a flowchart showing an example of steps provided in the method for manufacturing the negative electrode body of the present invention according to the first embodiment. Moreover, FIG. 7 is a conceptual diagram showing an example of a process provided in the method for manufacturing a negative electrode body of the present invention according to the first embodiment. 7, components having the same configuration as in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 4, and description thereof is omitted as appropriate. Hereinafter, the manufacturing method of the negative electrode body according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4, 6, and 7.

図6及び図7に示すように、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法は、銅めっき工程(工程S21)と、粗化工程(工程S22)と、無電解めっき工程(工程S23)と、スズめっき工程(工程S24)と、基材除去工程(工程S25)と、を備える。すなわち、第1実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法では、工程S21〜工程S25を経て、負極電極体20が製造される。   As shown in FIG.6 and FIG.7, the manufacturing method of the negative electrode body of this invention concerning 1st Embodiment is a copper plating process (process S21), a roughening process (process S22), and an electroless-plating process ( Step S23), a tin plating step (Step S24), and a base material removal step (Step S25) are provided. That is, in the manufacturing method of the negative electrode body of the present invention according to the first embodiment, the negative electrode body 20 is manufactured through steps S21 to S25.

<工程S21>
工程S21は、樹脂フィルムからなる基材30の表面に銅めっき皮膜を形成することにより、基材30の表面に銅めっき層10aを形成する工程である。銅めっき層10aを形成する方法は特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。また、工程S21で形成される銅めっき層10aの厚さは、後述する工程S22で形成する凹部の深さよりも厚ければ、特に限定されるものではない。ただし、容量を増大させやすい形態の負極電極体を形成する等の観点からは、凹部を形成可能な範囲内で可能な限り薄くすることが好ましい。
<Step S21>
Step S21 is a step of forming a copper plating layer 10a on the surface of the substrate 30 by forming a copper plating film on the surface of the substrate 30 made of a resin film. The method for forming the copper plating layer 10a is not particularly limited, and a known method can be used. In addition, the thickness of the copper plating layer 10a formed in step S21 is not particularly limited as long as it is thicker than the depth of the recess formed in step S22 described later. However, from the viewpoint of forming a negative electrode body in a form in which the capacity is easily increased, it is preferable to make it as thin as possible within the range in which the concave portion can be formed.

<工程S22>
工程S22は、上記工程S21で形成された銅めっき層10aをエッチングすることにより、銅めっき層10aの表面に、深さが4μm以上8μm以下である複数の凹部1、1、…が形成された、銅めっき層10bを作製する工程である。凹部1、1、…の深さを4μm以上とするのは、表面積を十分に増大させることが可能な負極電極体を製造するためであり、凹部1、1、…の深さを8μm以下とするのは、他部材と接触した場合であっても折れ難い形態にするとともに、無電解めっき工程で針状銅を均一に突出させ、その後のスズめっき工程でスズめっき層を均一に形成するためである。
<Step S22>
In step S22, by etching the copper plating layer 10a formed in step S21, a plurality of recesses 1, 1,... Having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less are formed on the surface of the copper plating layer 10a. This is a step of producing the copper plating layer 10b. The depth of the recesses 1, 1,... Is 4 μm or more in order to manufacture a negative electrode body capable of sufficiently increasing the surface area, and the depth of the recesses 1, 1,. To make it difficult to break even when it comes into contact with other members, to make needle-shaped copper uniformly protrude in the electroless plating process, and to form a tin plating layer uniformly in the subsequent tin plating process It is.

<工程S23>
工程S23は、少なくとも次亜リン酸を還元剤として含有する液体を用いて、上記工程S22で作製した銅めっき層10bの表面全面に、無電解めっきにより長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅2、2、…を突出させた、銅めっき層10cを作製する工程である。針状銅2、2、…の長さを0.5μm以上とするのは、表面積を十分に増大させることが可能な負極電極体を製造するためであり、針状銅2、2、…の長さを2μm以下とするのは、スズめっき工程でスズめっき層を形成しても破損しない程度の強度を有する針状銅2、2、…とするためである。針状銅2、2、…の長さは、めっきの時間を調整することによって、制御することができる。
<Step S23>
Step S23 uses a liquid containing at least hypophosphorous acid as a reducing agent, and the entire surface of the copper plating layer 10b prepared in Step S22 is needle-shaped having a length of 0.5 μm to 2 μm by electroless plating. This is a step of producing a copper plating layer 10c from which copper 2, 2,. The length of the needle-shaped copper 2, 2,... Is 0.5 μm or more in order to produce a negative electrode body capable of sufficiently increasing the surface area. The length is set to 2 μm or less in order to obtain acicular copper 2, 2,... Having a strength that does not break even if a tin plating layer is formed in the tin plating step. The length of the acicular copper 2, 2,... Can be controlled by adjusting the plating time.

<工程S24>
工程S24は、上記工程S23で作製した銅めっき層10cの表面に、スズめっき皮膜を形成することにより、銅めっき層10cの表面にスズ薄膜11が形成された、銅スズめっき電極10dを作製する工程である。工程S24で形成されるスズ薄膜11の厚さは特に限定されるものではないが、充放電に伴う膨張/収縮量を抑制して耐久性を向上させることが可能な負極電極体を製造可能にする等の観点からは、スズ薄膜11の厚さを薄くすることが好ましい。これに対し、容量を増大させやすい形態の負極電極体を製造可能にする等の観点からは、スズ薄膜11の厚さを厚くすることが好ましい。スズ薄膜11の厚さは、耐久性及び容量のバランスを考慮して、適宜決定することができる。工程S24で形成されるスズ薄膜11の厚さは、例えば、0.1μm以上とすることが好ましい。
<Step S24>
In step S24, a tin plating film is formed on the surface of the copper plating layer 10c prepared in step S23, thereby producing a copper tin plating electrode 10d in which the tin thin film 11 is formed on the surface of the copper plating layer 10c. It is a process. The thickness of the tin thin film 11 formed in step S24 is not particularly limited, but it is possible to manufacture a negative electrode body capable of suppressing the amount of expansion / contraction associated with charge / discharge and improving the durability. From the viewpoint of, for example, it is preferable to reduce the thickness of the tin thin film 11. On the other hand, it is preferable to increase the thickness of the tin thin film 11 from the viewpoint of making it possible to manufacture a negative electrode body in a form that easily increases the capacity. The thickness of the tin thin film 11 can be appropriately determined in consideration of the balance between durability and capacity. The thickness of the tin thin film 11 formed in step S24 is preferably 0.1 μm or more, for example.

<工程S25>
工程S25は、上記工程S24の後に、基材30を除去することにより、負極電極体20を製造する工程である。工程S25は、表面積を増大させることが可能であり、かつ、強度を確保することが可能な負極電極体20を製造可能な形態であれば、特に限定されるものではなく、公知の形態とすることができる。
<Step S25>
Step S25 is a step of manufacturing the negative electrode body 20 by removing the base material 30 after the step S24. Step S25 is not particularly limited as long as the negative electrode body 20 capable of increasing the surface area and capable of securing the strength can be manufactured. be able to.

上記工程S21〜工程S25を経て製造された負極電極体20は、深さ4μm以上8μm以下の複数の凹部1、1、…を有し、かつ、その表面全面に長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅2、2、…が突出し、さらに、針状銅2、2、…の表面を含む銅めっき層の表面全面にスズ薄膜11が形成されている。そのため、負極活物質としてスズを用いた従来の負極電極体と比較して、スズ薄膜11の表面積を増大させることができるので、本発明によれば、容量を増大させることが可能な負極電極体20を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。また、従来の製造方法により製造された従来の負極電極体と、工程S21〜工程S25を経て製造された負極電極体20に、同じ質量のスズ薄膜を形成させた場合、負極電極体20によれば、スズ薄膜11の厚さを、従来の負極電極体に形成されたスズ薄膜よりも薄くすることができる。このようにしてスズ薄膜11の厚さを薄くすると、イオンの出入りに伴う膨張/収縮量を抑制することができる。膨張/収縮量が抑制されると、充放電を繰り返した場合における耐久性を向上させることができるので、本発明によれば、耐久性を向上させることが可能な負極電極体20を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。さらに、スズ薄膜11を、針状銅2、2、…の表面にも形成させることにより、隣り合う針状銅2、2、…の間に空隙を介在させることができるので、スズ薄膜11の膨張/収縮によるスズの滑落を抑制することができる。スズの滑落が抑制されると、負極活物質として機能するスズの量を維持して耐久性を向上させることができるので、本発明によれば、耐久性を向上させることが可能な負極電極体20を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。以上より、本発明によれば、容量を増大させ、かつ、耐久性を向上させることが可能な負極電極体20を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。   The negative electrode body 20 manufactured through the steps S21 to S25 has a plurality of recesses 1, 1,... Having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less, and the entire surface has a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less. Are projected, and a tin thin film 11 is formed on the entire surface of the copper plating layer including the surfaces of the needle-shaped coppers 2, 2,. Therefore, since the surface area of the tin thin film 11 can be increased as compared with the conventional negative electrode body using tin as the negative electrode active material, the negative electrode body capable of increasing the capacity according to the present invention. The manufacturing method of the negative electrode body which can manufacture 20 can be provided. Moreover, when the same mass tin film is formed on the conventional negative electrode body manufactured by the conventional manufacturing method and the negative electrode body 20 manufactured through steps S21 to S25, For example, the thickness of the tin thin film 11 can be made thinner than the tin thin film formed on the conventional negative electrode body. When the thickness of the tin thin film 11 is thus reduced, the amount of expansion / contraction associated with the entry / exit of ions can be suppressed. When the amount of expansion / contraction is suppressed, durability when charging / discharging is repeated can be improved. Therefore, according to the present invention, the negative electrode body 20 capable of improving durability can be manufactured. The manufacturing method of a negative electrode body can be provided. Further, by forming the tin thin film 11 also on the surfaces of the acicular coppers 2, 2,..., Gaps can be interposed between the adjacent acicular coppers 2, 2,. Tin sliding due to expansion / contraction can be suppressed. If tin sliding is suppressed, the amount of tin that functions as a negative electrode active material can be maintained and durability can be improved. Therefore, according to the present invention, the negative electrode body that can improve durability The manufacturing method of the negative electrode body which can manufacture 20 can be provided. As mentioned above, according to this invention, the manufacturing method of the negative electrode body which can manufacture the negative electrode body 20 which can increase a capacity | capacitance and can improve durability can be provided.

本発明の負極電極体の製造方法において、工程S22でエッチングにより形成される凹部1、1、…の間隔は特に限定されるものではないが、工程S23で凹部の表面等に形成される針状銅の接触を抑制する等の観点からは、当該間隔を3μm以上とすることが好ましい。これに対し、表面積の増大効果を得やすくする等の観点からは、当該間隔を10μm以下とすることが好ましい。より好ましい間隔は、5μm以上8μm以下である。さらに、工程S22で形成された複数の凹部1、1、…に挟まれる複数の凸部3、3、…の幅は、特に限定されるものではないが、他部材と接触した場合であっても、工程S23で形成された針状銅が折れ難い形態とする等の観点からは、凸部3、3、…の幅を1μm以上とすることが好ましい。これに対し、表面積の増大効果を得やすくする等の観点からは、凸部3、3、…の幅を5μm以下とすることが好ましい。より好ましい凸部3、3、…の幅は、1.5μm以上4μm以下である。   In the method for producing a negative electrode body of the present invention, the interval between the recesses 1, 1,... Formed by etching in step S22 is not particularly limited, but needles formed on the surface of the recesses in step S23. From the standpoint of suppressing copper contact, the distance is preferably 3 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of easily obtaining the effect of increasing the surface area, the interval is preferably set to 10 μm or less. A more preferable interval is 5 μm or more and 8 μm or less. Furthermore, although the width | variety of the some convex part 3, 3, ... pinched | interposed into the some recessed part 1, 1, ... formed by process S22 is not specifically limited, When it contacts with another member, However, from the standpoint of making the needle-shaped copper formed in step S23 difficult to break, it is preferable that the width of the convex portions 3, 3,. On the other hand, it is preferable that the width of the convex portions 3, 3,. More preferably, the width of the convex portions 3, 3,... Is 1.5 μm or more and 4 μm or less.

図8は、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に備えられる工程例を示すフローチャートである。また、図9は、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に備えられる蛇腹工程及び基材除去工程の形態例を示す概念図である。図9において、図7と同様の構成を採るものには、図7で使用した符号と同符号を付し、その説明を適宜省略する。以下、図6〜図9を参照しつつ、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法について説明する。   FIG. 8 is a flowchart showing an example of steps provided in the method for manufacturing a negative electrode body according to the second embodiment of the present invention. Moreover, FIG. 9 is a conceptual diagram which shows the form example of the bellows process and base-material removal process with which the manufacturing method of the negative electrode body of this invention concerning 2nd Embodiment is equipped. 9, those having the same configuration as in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 7, and description thereof will be omitted as appropriate. Hereinafter, the manufacturing method of the negative electrode body of the present invention according to the second embodiment will be described with reference to FIGS.

図8に示すように、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法は、銅めっき工程(工程S31)と、粗化工程(工程S32)と、無電解めっき工程(工程S33)と、スズめっき工程(工程S34)と、還元焼成工程(工程S35)と、蛇腹工程(工程S36)と、基材除去工程(工程S37)と、を備える。すなわち、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法では、工程S31〜工程S37を経て、負極電極体21が製造される。ここで、工程S31〜工程S34は、上述の工程S21〜工程S24と同様の工程である。そのため、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に関する説明では、これらの工程に関する記載を省略し、工程S35〜工程S37について説明する。   As shown in FIG. 8, the manufacturing method of the negative electrode body of the present invention according to the second embodiment includes a copper plating step (step S31), a roughening step (step S32), and an electroless plating step (step S33). And a tin plating step (step S34), a reduction firing step (step S35), a bellows step (step S36), and a base material removal step (step S37). That is, in the manufacturing method of the negative electrode body of the present invention according to the second embodiment, the negative electrode body 21 is manufactured through steps S31 to S37. Here, steps S31 to S34 are the same steps as steps S21 to S24 described above. Therefore, in the description regarding the manufacturing method of the negative electrode body of the present invention according to the second embodiment, description regarding these steps is omitted, and Steps S35 to S37 will be described.

<工程S35>
工程S35は、工程S24と同様の形態を採る工程S34で作製された銅スズめっき電極10dを、還元雰囲気下で焼成することにより、銅めっき層10cとスズ薄膜11との界面に銅スズ合金層が形成された銅スズめっき電極10eを作製する工程である。還元雰囲気下で焼成することにより、銅スズめっき電極10eの表面への酸化皮膜の形成を抑制することができ、イオン及び電子の出入りを向上させることが可能な銅スズめっき電極10eを作製することができる。工程S35における還元雰囲気は、銅スズめっき電極10e表面への酸化皮膜の形成を防止・抑制可能な雰囲気であれば特に限定されるものではなく、例えば、アルゴン及び水素の混合雰囲気等とすることができる。また、工程S35における焼成温度は、銅めっき層とスズ薄膜11との界面で銅及びスズを拡散させて銅スズ合金層を形成可能であり、かつ、銅スズめっき電極10dと同等(好ましくは略同一)の外形を有する銅スズめっき電極10eを作製可能な温度であれば、特に限定されるものではない。工程S35における焼成温度は、例えば200℃程度とすることができる。また、工程S35における焼成時間は、銅めっき層とスズ薄膜11との界面で銅及びスズを拡散させて銅スズ合金層を形成可能であり、かつ、銅スズめっき電極10dと同様の外形を有する銅スズめっき電極10eを作製可能な時間であれば、特に限定されるものではない。工程S35における焼成時間は、例えば30分〜600分程度とすることができる。
<Step S35>
In step S35, the copper tin plating electrode 10d produced in step S34 which takes the same form as step S24 is baked in a reducing atmosphere, so that a copper tin alloy layer is formed at the interface between the copper plating layer 10c and the tin thin film 11. This is a step of producing the copper tin plating electrode 10e formed with the. By firing in a reducing atmosphere, the formation of an oxide film on the surface of the copper tin plating electrode 10e can be suppressed, and the copper tin plating electrode 10e capable of improving the entrance and exit of ions and electrons is produced. Can do. The reducing atmosphere in step S35 is not particularly limited as long as it is an atmosphere that can prevent / suppress the formation of an oxide film on the surface of the copper tin plating electrode 10e, and may be, for example, a mixed atmosphere of argon and hydrogen. it can. Further, the firing temperature in step S35 can form a copper-tin alloy layer by diffusing copper and tin at the interface between the copper plating layer and the tin thin film 11, and is equivalent to the copper-tin plating electrode 10d (preferably substantially omitted). If it is the temperature which can produce the copper tin plating electrode 10e which has the external shape of the same), it will not specifically limit. The firing temperature in step S35 can be, for example, about 200 ° C. The firing time in step S35 can form a copper-tin alloy layer by diffusing copper and tin at the interface between the copper plating layer and the tin thin film 11, and has the same outer shape as the copper-tin plating electrode 10d. The time is not particularly limited as long as the copper tin plating electrode 10e can be produced. The firing time in step S35 can be, for example, about 30 minutes to 600 minutes.

<工程S36>
工程S36は、上記工程S35で作製された銅スズめっき電極10eを蛇腹状に折り曲げることにより、蛇腹状に折り曲げられた銅スズめっき電極10fを作製する工程である(図9参照)。なお、図9では、三層に折り曲げられた銅スズめっき電極10fを例示したが、工程S36は当該形態に限定されるものではない。
<Step S36>
Step S36 is a step of producing the copper tin plating electrode 10f bent in a bellows shape by bending the copper tin plating electrode 10e produced in the step S35 into a bellows shape (see FIG. 9). In addition, in FIG. 9, although the copper tin plating electrode 10f bent in the three layers was illustrated, process S36 is not limited to the said form.

<工程S37>
工程S37は、上記工程S36の後に、基材30を除去することにより、蛇腹状に折り曲げられた負極電極体21を製造する工程である。工程S37は、基材30を除去することにより、負極電極体21を製造可能な形態であれば、特に限定されるものではなく、公知の形態とすることができる。
<Step S37>
Step S37 is a step of manufacturing the negative electrode body 21 bent into a bellows shape by removing the base material 30 after the step S36. Step S37 is not particularly limited as long as the negative electrode body 21 can be manufactured by removing the base material 30, and can be a known form.

上記工程S31〜工程37を経て製造された負極電極体21は、銅めっき層10cとスズ薄膜11との間に銅スズ合金層が形成されているので、充放電に伴う性能低下を抑制すること(耐久性を向上させること)が可能である。また、負極電極体21は、蛇腹状に折り曲げられているので、単位体積あたりの容量を増大させることができる。すなわち、本発明によれば、強度を確保すること、耐久性を向上させること、及び、単位体積あたりの容量を増大させることが可能な負極電極体21を製造し得る、負極電極体の製造方法を提供することができる。   Since the copper tin alloy layer is formed between the copper plating layer 10c and the tin thin film 11, the negative electrode body 21 manufactured through the steps S31 to S37 suppresses the performance degradation associated with charge / discharge. (Improves durability). Moreover, since the negative electrode body 21 is bent in a bellows shape, the capacity per unit volume can be increased. That is, according to the present invention, a method for producing a negative electrode body that can produce a negative electrode body 21 that can ensure strength, improve durability, and increase the capacity per unit volume. Can be provided.

本発明の負極電極体の製造方法に関する上記説明では、蛇腹工程が備えられる場合に還元焼成工程が備えられる形態を例示したが、本発明の負極電極体の製造方法は、当該形態に限定されるものではない。本発明の負極電極体の製造方法は、蛇腹工程が備えられない場合であっても、還元焼成工程が備えられる形態とすることが可能である。この場合、スズめっき工程と基材除去工程との間に還元焼成工程が備えられる形態とすれば良い。   In the above description regarding the method for producing a negative electrode body of the present invention, the embodiment in which the reduction firing step is provided when the bellows step is provided is illustrated. However, the method for producing the negative electrode body of the present invention is limited to the embodiment. It is not a thing. Even if the manufacturing method of the negative electrode body of the present invention is not provided with a bellows process, it is possible to adopt a form in which a reduction firing process is provided. In this case, a reduction firing process may be provided between the tin plating process and the substrate removal process.

また、本発明の負極電極体の製造方法に関する上記説明では、銅めっき工程が備えられる形態を例示したが、本発明の負極電極体の製造方法は、当該形態に限定されるものではない。凹部及び針状銅が形成される銅層は、銅めっき以外の方法で製造されていても良い。   Moreover, in the said description regarding the manufacturing method of the negative electrode body of this invention, although the form provided with a copper plating process was illustrated, the manufacturing method of the negative electrode body of this invention is not limited to the said form. The copper layer on which the recesses and needle-like copper are formed may be manufactured by a method other than copper plating.

また、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に関する上記説明では、還元焼成工程及び蛇腹工程が備えられる形態を例示したが、本発明の負極電極体の製造方法は、還元焼成工程又は蛇腹工程が備えられない形態とすることも可能である。   Moreover, in the said description regarding the manufacturing method of the negative electrode body of this invention concerning 2nd Embodiment, although the form provided with a reduction baking process and a bellows process was illustrated, the manufacturing method of the negative electrode body of this invention is reduction baking. It is also possible to adopt a form in which no process or bellows process is provided.

また、第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に関する上記説明では、スズめっき工程と基材除去工程との間に蛇腹工程が備えられる形態を例示したが、本発明の負極電極体の製造方法は、当該形態に限定されるものではない。蛇腹工程が備えられる場合、蛇腹工程は基材除去工程よりも前に備えられていれば良く、例えば、銅めっき工程の前工程やスズめっき工程の前工程として蛇腹工程が備えられる形態とすることも可能である。ただし、基材表面に均一な厚さの銅めっき層を形成可能とする等の観点からは、銅めっき工程よりも後に蛇腹工程が備えられることが好ましい。また、針状銅が形成された銅めっき層の表面全面に均一な厚さのスズめっき層を形成可能とする等の観点からは、スズめっき工程よりも後に蛇腹工程が備えられることが好ましい。   Moreover, although the said description regarding the manufacturing method of the negative electrode body of this invention concerning 2nd Embodiment illustrated the form provided with a bellows process between a tin plating process and a base material removal process, the negative electrode of this invention The manufacturing method of a body is not limited to the said form. When the bellows process is provided, the bellows process may be provided before the base material removal process. For example, the bellows process may be provided as a preprocess of the copper plating process or a preprocess of the tin plating process. Is also possible. However, from the viewpoint of making it possible to form a copper plating layer having a uniform thickness on the surface of the substrate, it is preferable that a bellows process be provided after the copper plating process. Moreover, it is preferable that a bellows process is provided after a tin plating process from a viewpoint of making it possible to form the tin plating layer of uniform thickness on the whole surface of the copper plating layer in which the acicular copper was formed.

また、本発明の負極電極体の製造方法において、製造される負極電極体の表面積をより一層増大させ得る形態とする等の観点からは、予め孔が形成される等により複数の孔を有する基材を銅めっき工程等に供することが好ましい。製造される負極電極体の表面積をより一層増大させる他の形態としては、銅めっき工程でピンホールを形成する形態等を例示することができる。   In addition, in the method for producing a negative electrode body according to the present invention, from the standpoint that the surface area of the produced negative electrode body can be further increased, a group having a plurality of holes by forming holes in advance, etc. The material is preferably subjected to a copper plating process or the like. As another form which increases the surface area of the negative electrode body manufactured further, the form etc. which form a pinhole by a copper plating process can be illustrated.

3.リチウムイオン二次電池及びその製造方法
3.1.リチウムイオン二次電池
図10は、本発明のリチウムイオン二次電池の形態例を示す概念図であり、リチウムイオン二次電池の一部断面を拡大して示している。図10において、図9と同様の構成を採るものには、図9で使用した符号と同符号を付し、その説明を適宜省略する。また、本発明の理解を容易にするため、図10では、負極電極体に備えられる凹部、針状銅、及び、スズ薄膜の符号の記載を省略している。以下、図9及び図10を参照しつつ、本発明のリチウムイオン二次電池について説明する。
3. Lithium ion secondary battery and manufacturing method thereof 3.1. Lithium Ion Secondary Battery FIG. 10 is a conceptual diagram showing a form example of the lithium ion secondary battery of the present invention, and shows an enlarged partial cross section of the lithium ion secondary battery. 10, components having the same configuration as in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 9, and description thereof is omitted as appropriate. In addition, in order to facilitate understanding of the present invention, in FIG. 10, the description of the recesses, acicular copper, and tin thin film provided in the negative electrode body is omitted. Hereinafter, the lithium ion secondary battery of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

図10に示す本発明のリチウムイオン二次電池100は、集電体40、該集電体40に接触するように配設された正極層50、負極電極体21、及び、正極層50と負極電極体21との間に配設されたセパレータ60を備え、正極層50と負極電極体21との間には、非水系の電解液70が充填されている。リチウムイオン二次電池100に備えられる負極電極体21の表面には、凹凸が形成されている。そのため、蛇腹状に折り曲げられていても、負極電極体21の表面全面に電解液70を行き渡らせることができる。このように、リチウムイオン二次電池100には、負極電極体21が備えられているので、本発明によれば、強度を確保すること、耐久性を向上させること、及び、単位体積あたりの容量を増大させることが可能な、リチウムイオン二次電池100を提供することができる。   The lithium ion secondary battery 100 of the present invention shown in FIG. 10 includes a current collector 40, a positive electrode layer 50 disposed so as to be in contact with the current collector 40, a negative electrode body 21, and a positive electrode layer 50 and a negative electrode. A separator 60 is provided between the electrode body 21 and a non-aqueous electrolyte solution 70 is filled between the positive electrode layer 50 and the negative electrode body 21. Irregularities are formed on the surface of the negative electrode body 21 provided in the lithium ion secondary battery 100. Therefore, the electrolytic solution 70 can be spread over the entire surface of the negative electrode body 21 even when bent in a bellows shape. Thus, since the lithium ion secondary battery 100 is provided with the negative electrode body 21, according to the present invention, it is possible to ensure strength, improve durability, and capacity per unit volume. The lithium ion secondary battery 100 can be provided.

本発明のリチウムイオン二次電池100に関する上記説明では、蛇腹状に折り曲げられた負極電極体21が備えられる形態を例示したが、本発明のリチウムイオン二次電池は当該形態に限定されるものではない。本発明のリチウムイオン二次電池は、蛇腹状に折り曲げられていない本発明の負極電極体20が備えられる形態とすることも可能である。ただし、負極電極体を蛇腹状に折り曲げることにより、単位体積当たりの容量を増大させることが可能になるので、単位体積当たりの容量を増大させ得るリチウムイオン二次電池とする等の観点からは、蛇腹状に折り曲げられた本発明の負極電極体が備えられる形態とすることが好ましい。   In the above description regarding the lithium ion secondary battery 100 of the present invention, the mode in which the negative electrode body 21 bent in a bellows shape is illustrated, but the lithium ion secondary battery of the present invention is not limited to this mode. Absent. The lithium ion secondary battery of the present invention may be configured to include the negative electrode body 20 of the present invention that is not bent into a bellows shape. However, since the capacity per unit volume can be increased by bending the negative electrode body into a bellows shape, from the viewpoint of making a lithium ion secondary battery capable of increasing the capacity per unit volume, etc. It is preferable that the negative electrode body of the present invention bent in a bellows shape is provided.

本発明のリチウムイオン二次電池は、本発明の負極電極体が備えられていれば、その他の形態は特に限定されるものではない。正極層等は、公知のものを用いることができる。   The lithium ion secondary battery of the present invention is not particularly limited as long as the negative electrode body of the present invention is provided. A well-known thing can be used for a positive electrode layer.

3.2.リチウムイオン二次電池の製造方法
本発明のリチウムイオン二次電池の製造方法は、リチウムイオン二次電池に備えられる負極電極体が本発明の方法により製造されていれば、その他の工程の形態は特に限定されるものではない。負極電極体を製造する工程以外の工程は、公知の形態とすることができる。
3.2. Manufacturing Method of Lithium Ion Secondary Battery The manufacturing method of the lithium ion secondary battery of the present invention is such that the form of other steps is as long as the negative electrode body provided in the lithium ion secondary battery is manufactured by the method of the present invention. It is not particularly limited. Processes other than the process of manufacturing the negative electrode body can be in a known form.

以下、実施例を参照しつつ、本発明について説明する。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples.

1)集電体の製造及び表面観察
銅箔表面の酸化皮膜等を除去し、次工程の粗化処理が均一に行われることを目的として、スプレー圧0.1MPa〜0.15MPaで、株式会社荏原電産製のNBP(30℃)を、厚さ18μmの電解銅箔表面へ30秒間に亘って接触させることにより、前処理を行った。その後、当該前処理を経た電解銅箔の表面へ、株式会社荏原電産製のNBDII(30℃)を、スプレー圧0.1MPa〜0.15MPaで90秒間に亘って接触させることにより、当該電解銅箔の表面に深さ6μmの複数の凹部を形成する粗化処理(以下において「粗化工程」ということがある。)を行った。その後、表面を洗浄された電解銅箔に対し、以下に組成を示す処理液(60℃)を用いて10分間に亘って無電解銅めっき処理を施すことにより、電解銅箔の表面に長さ1μmの複数の針状銅を突出させ、実施例にかかる集電体を製造した。無電解銅めっき処理に用いた処理液の組成は、硫酸銅;15g/L、硫酸ニッケル;3g/L、錯化剤(クエン酸);15g/L、緩衝剤(ホウ酸);10g/L、還元剤(次亜リン酸);20g/L、及び、界面活性剤(PEG1000);1g/Lであり、当該処理液のpHは8.5であった。
1) Production of current collector and surface observation For the purpose of removing the oxide film and the like on the surface of the copper foil and performing the roughening treatment in the next step uniformly, at a spray pressure of 0.1 MPa to 0.15 MPa, Pretreatment was performed by bringing NBP (30 ° C.) manufactured by EBARA ELECTRIC CO., LTD. Into contact with the surface of an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm for 30 seconds. Thereafter, NBDII (30 ° C.) manufactured by Ebara Densan Co., Ltd. is brought into contact with the surface of the electrolytic copper foil that has undergone the pretreatment for 90 seconds at a spray pressure of 0.1 MPa to 0.15 MPa. A roughening treatment (hereinafter sometimes referred to as a “roughening step”) for forming a plurality of recesses having a depth of 6 μm on the surface of the copper foil was performed. Thereafter, the surface of the electrolytic copper foil is subjected to an electroless copper plating treatment for 10 minutes using a treatment liquid (60 ° C.) having the following composition for the electrolytic copper foil whose surface has been cleaned. A plurality of needle-shaped copper having a size of 1 μm was projected to manufacture a current collector according to the example. The composition of the treatment solution used for the electroless copper plating treatment is copper sulfate; 15 g / L, nickel sulfate; 3 g / L, complexing agent (citric acid); 15 g / L, buffer (boric acid); 10 g / L. And a reducing agent (hypophosphorous acid); 20 g / L, and a surfactant (PEG 1000); 1 g / L, and the pH of the treatment solution was 8.5.

これに対し、前処理及び粗化処理を行わないほかは、上記実施例にかかる集電体の製造方法と同様の工程により、比較例にかかる集電体を製造した。   On the other hand, the collector which concerns on a comparative example was manufactured by the process similar to the manufacturing method of the collector concerning the said Example except not performing a pre-processing and a roughening process.

2)集電体の表面観察
実施例にかかる集電体を製造するための粗化工程終了後における、電解銅箔表面の走査型電子顕微鏡像(以下において「SEM像」という。)を図11に、無電解銅めっき処理を経て製造された実施例にかかる集電体表面のSEM像を図12に、それぞれ示す。また、比較例にかかる集電体表面のSEM像を図13に示す。
2) Surface Observation of Current Collector A scanning electron microscope image (hereinafter referred to as “SEM image”) of the surface of the electrolytic copper foil after the completion of the roughening step for producing the current collector according to the example is shown in FIG. FIG. 12 shows SEM images of the surface of the current collector according to the example manufactured through the electroless copper plating process. Moreover, the SEM image of the collector surface concerning a comparative example is shown in FIG.

図12より、本発明の集電体の製造方法により製造した実施例にかかる集電体では、複数の針状銅が電解銅箔の表面全面に形成され、表面積が大幅に増大していた。これに対し、図13より、本発明の集電体の製造方法とは異なる方法により製造した比較例にかかる集電体では、実施例にかかる集電体と比較して、表面積の増大効果が低減した。すなわち、本発明によれば、表面積を増大させることが可能な集電体を提供することができた。以上より、本発明の集電体によれば、表面積を増大させることができ、また、針状銅の長さが制御されているので、強度を確保することが可能である。   From FIG. 12, in the current collector according to the example manufactured by the method for manufacturing a current collector of the present invention, a plurality of acicular copper was formed on the entire surface of the electrolytic copper foil, and the surface area was greatly increased. On the other hand, from FIG. 13, the current collector according to the comparative example manufactured by a method different from the method of manufacturing the current collector according to the present invention has an effect of increasing the surface area as compared with the current collector according to the example. Reduced. That is, according to the present invention, a current collector capable of increasing the surface area could be provided. As described above, according to the current collector of the present invention, the surface area can be increased, and the length of the acicular copper is controlled, so that the strength can be ensured.

3)負極電極体の製造−1
上記実施例にかかる集電体、及び、上記比較例にかかる集電体に対し、以下に組成を示す処理液(70℃)を用いて120分間に亘ってスズめっき層を形成させるスズめっき処理を施すことにより、針状銅の表面に厚さ0.1μmのスズ薄膜を形成し、負極電極体を製造した(以下において、上記実施例にかかる集電体の表面にスズ薄膜を形成した負極電極体を「実施例にかかる負極電極体」といい、上記比較例にかかる集電体の表面にスズ薄膜を形成した負極電極体を「比較例1にかかる負極電極体」という。)。ここで、スズめっき処理に用いた処理液の組成は、塩化スズ;60g/L、水酸化カリウム;300g/L、錯化剤(クエン酸カリウム);250g/L、界面活性剤(PEG1000);50ppmであった。また、実施例にかかる負極電極体及び比較例1にかかる負極電極体のほか、粗化処理等を施していない電解銅箔の表面へ、上記スズめっき処理の処理液を用いてスズ薄膜を形成することにより、比較例2にかかる負極電極体を製造した。
3) Production of negative electrode body-1
The tin plating process which forms a tin plating layer over 120 minutes using the process liquid (70 degreeC) which shows a composition with respect to the electrical power collector concerning the said Example and the electrical power collector concerning the said comparative example below. To form a tin thin film having a thickness of 0.1 μm on the surface of acicular copper to produce a negative electrode body (hereinafter, a negative electrode having a tin thin film formed on the surface of the current collector according to the above example) The electrode body is referred to as “negative electrode body according to example”, and the negative electrode body in which a tin thin film is formed on the surface of the current collector according to the comparative example is referred to as “negative electrode body according to comparative example 1”). Here, the composition of the treatment solution used for the tin plating treatment was tin chloride; 60 g / L, potassium hydroxide; 300 g / L, complexing agent (potassium citrate); 250 g / L, surfactant (PEG 1000); It was 50 ppm. In addition to the negative electrode body according to the example and the negative electrode body according to comparative example 1, a tin thin film is formed on the surface of the electrolytic copper foil that has not been subjected to the roughening treatment or the like by using the above-described tin plating treatment liquid. Thus, a negative electrode body according to Comparative Example 2 was manufactured.

4)負極電極体の表面観察
レーザー顕微鏡を用いて、実施例にかかる負極電極体の表面積、比較例1にかかる負極電極体の表面積、及び、比較例2にかかる負極電極体の表面積を測定した。比較例2にかかる負極電極体の表面積を1とするとき、実施例にかかる負極電極体の表面積は約10となったのに対し、比較例1にかかる負極電極体の表面積は約4となった。また、実施例にかかる負極電極体表面のSEM像を示す図14より、実施例にかかる負極電極体は、スズ薄膜が形成された後においても、表面の凹凸が維持されていた。すなわち、本発明によれば、従来よりも表面積を増大させた負極電極体を製造することができた。以上より、本発明の負極電極体によれば、容量を増大させることができ、また、スズ薄膜の厚さが0.1μmに制御されているので、耐久性を向上させることが可能である。
4) Surface observation of negative electrode body Using a laser microscope, the surface area of the negative electrode body according to the example, the surface area of the negative electrode body according to comparative example 1, and the surface area of the negative electrode body according to comparative example 2 were measured. . When the surface area of the negative electrode body according to Comparative Example 2 is 1, the surface area of the negative electrode body according to Example is about 10, while the surface area of the negative electrode body according to Comparative Example 1 is about 4. It was. Moreover, from FIG. 14 which shows the SEM image of the negative electrode body surface concerning an Example, the unevenness | corrugation on the surface of the negative electrode body concerning an Example was maintained even after the tin thin film was formed. That is, according to the present invention, it was possible to produce a negative electrode body with an increased surface area compared to the conventional art. As described above, according to the negative electrode body of the present invention, the capacity can be increased, and the thickness of the tin thin film is controlled to 0.1 μm, so that the durability can be improved.

5)負極電極体の製造−2
ポリメチルメタクリレートフィルム基材の表面に、厚さ7μmの銅めっき層を作製した後、上記実施例にかかる負極電極体と同様の方法により、前処理、粗化処理、無電解銅めっき処理、及び、スズめっき処理を施し、銅スズめっき電極を作製した。その後、当該銅スズめっき電極に、200℃の還元雰囲気(アルゴン及び水素の混合雰囲気)下で300分間に亘って還元焼成処理を施した。引き続き、当該還元焼成処理を経た銅スズめっき電極を3層の蛇腹状に折り畳む蛇腹処理を施した。その後、蛇腹処理が施された銅スズめっき電極を、25℃のシクロヘキサン溶媒中に30分間に亘って浸漬させて基材を除去する基材除去処理を施すことにより、実施例2にかかる負極電極体を製造した。一方、表面に粗化処理等を施していない電解銅箔の表面へ、上記スズめっき処理の処理液を用いて厚さ3μmのスズ薄膜を形成することにより、比較例3にかかる負極電極体を製造した。
5) Production of negative electrode body-2
After preparing a copper plating layer having a thickness of 7 μm on the surface of the polymethyl methacrylate film substrate, pretreatment, roughening treatment, electroless copper plating treatment, and Then, tin plating treatment was performed to produce a copper tin plating electrode. Thereafter, the copper tin plating electrode was subjected to a reduction firing process for 300 minutes in a reducing atmosphere of 200 ° C. (a mixed atmosphere of argon and hydrogen). Subsequently, a bellows treatment for folding the copper tin plating electrode that had undergone the reduction firing process into a three-layer bellows shape was performed. Thereafter, the copper tin plating electrode subjected to the bellows treatment was immersed in a cyclohexane solvent at 25 ° C. for 30 minutes to perform a substrate removal treatment for removing the substrate, whereby the negative electrode according to Example 2 The body was manufactured. On the other hand, by forming a tin thin film having a thickness of 3 μm on the surface of the electrolytic copper foil whose surface is not roughened by using the above-described tin plating treatment liquid, the negative electrode body according to Comparative Example 3 is obtained. Manufactured.

6)リチウムイオン二次電池の耐久性評価
上記実施例2にかかる負極電極体を組み込んだ、CR2032型コイン電池(以下において「実施例のリチウムイオン二次電池」又は単に「実施例」という。)、及び、上記比較例3にかかる負極電極体を組み込んだCR2032型コイン電池(以下において「比較例のリチウムイオン二次電池」又は単に「比較例」という。)を作製した。なお、実施例のリチウムイオン二次電池、及び、比較例のリチウムイオン二次電池は、負極電極体が異なるのみであり、その他の仕様は共通していた。実施例のリチウムイオン二次電池、及び、比較例のリチウムイオン二次電池の電池容量は、ともに、3mAhであった。
6) Durability Evaluation of Lithium Ion Secondary Battery CR2032-type coin battery incorporating the negative electrode body according to Example 2 above (hereinafter referred to as “lithium ion secondary battery of Example” or simply “Example”). A CR2032-type coin battery (hereinafter referred to as “a lithium ion secondary battery of a comparative example” or simply “comparative example”) incorporating the negative electrode body according to the comparative example 3 was prepared. In addition, the lithium ion secondary battery of an Example and the lithium ion secondary battery of a comparative example differed only in the negative electrode body, and other specifications were common. The battery capacities of the lithium ion secondary battery of the example and the lithium ion secondary battery of the comparative example were both 3 mAh.

電流C/10で、実施例のリチウムイオン二次電池、及び、比較例のリチウムイオン二次電池の初期容量を確認した。その後、電流C/5で充放電(上限電圧1.5V、下限電圧0.01V)を繰り返す充放電サイクルを50サイクル繰り返し、1サイクル目の放電容量Xと50サイクル目の放電容量Yとの比率(100×Y/X)から、容量維持率(%)を評価した。結果を表1に示す。   With the current C / 10, the initial capacities of the lithium ion secondary battery of the example and the lithium ion secondary battery of the comparative example were confirmed. Thereafter, the charge / discharge cycle of repeating charge / discharge at the current C / 5 (upper limit voltage 1.5V, lower limit voltage 0.01V) is repeated 50 times, and the ratio between the discharge capacity X of the first cycle and the discharge capacity Y of the 50th cycle From (100 × Y / X), the capacity retention rate (%) was evaluated. The results are shown in Table 1.

表1より、実施例のリチウムイオン二次電池の容量維持率は67%であったのに対し、比較例のリチウムイオン二次電池の容量維持率は24%であった。すなわち、蛇腹状の負極電極体を有する本発明のリチウムイオン二次電池とすることにより、耐久性を向上させることが可能であった。また、本発明の負極電極体は表面積を増大させることができる。したがって、蛇腹状の負極電極体を有する本発明のリチウムイオン二次電池によれば、容量及び耐久性を向上させることができる。   From Table 1, the capacity retention rate of the lithium ion secondary battery of the example was 67%, whereas the capacity retention rate of the lithium ion secondary battery of the comparative example was 24%. That is, it was possible to improve durability by using the lithium ion secondary battery of the present invention having a bellows-like negative electrode body. Moreover, the negative electrode body of the present invention can increase the surface area. Therefore, according to the lithium ion secondary battery of the present invention having the bellows-like negative electrode body, capacity and durability can be improved.

本発明の集電体10の形態例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example of the form of the electrical power collector 10 of this invention. 本発明の集電体の製造方法に備えられる工程例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process example with which the manufacturing method of the electrical power collector of this invention is equipped. 本発明の集電体の製造方法に備えられる工程の形態例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example of the process with which the manufacturing method of the electrical power collector of this invention is equipped. 第1実施形態にかかる本発明の負極電極体20の形態例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example of the form of the negative electrode body 20 of this invention concerning 1st Embodiment. 第2実施形態にかかる本発明の負極電極体21の形態例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example of a form of the negative electrode body 21 of this invention concerning 2nd Embodiment. 第1実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に備えられる工程例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process example with which the manufacturing method of the negative electrode body of this invention concerning 1st Embodiment is equipped. 第1実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に備えられる工程の形態例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example of the process with which the manufacturing method of the negative electrode body of this invention concerning 1st Embodiment is equipped. 第2実施形態にかかる本発明の負極電極体の製造方法に備えられる工程例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process example with which the manufacturing method of the negative electrode body of this invention concerning 2nd Embodiment is equipped. 蛇腹工程の形態例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the form example of a bellows process. 本発明のリチウムイオン二次電池の形態例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example of a form of the lithium ion secondary battery of this invention. 粗化工程終了後における電解銅箔表面のSEM像である。It is a SEM image of the electrolytic copper foil surface after completion | finish of a roughening process. 実施例にかかる集電体表面のSEM像である。It is a SEM image of the collector surface concerning an Example. 比較例にかかる集電体表面のSEM像である。It is a SEM image of the collector surface concerning a comparative example. 実施例にかかる負極電極体表面のSEM像である。It is a SEM image of the negative electrode body surface concerning an Example.

符号の説明Explanation of symbols

1…凹部
2…針状銅
3…凸部
10…集電体
11…スズ薄膜
20、21…負極電極体
30…基材
40…集電体
50…正極層
60…セパレータ
70…電解液
100…リチウムイオン二次電池
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Concave part 2 ... Acicular copper 3 ... Convex part 10 ... Current collector 11 ... Tin thin film 20, 21 ... Negative electrode body 30 ... Base material 40 ... Current collector 50 ... Positive electrode layer 60 ... Separator 70 ... Electrolyte solution 100 ... Lithium ion secondary battery

Claims (9)

深さ4μm以上8μm以下の凹部を表面に複数有し、かつ、前記表面全面に長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅が突出している銅層、を備えることを特徴とする、集電体。 And a copper layer having a plurality of recesses having a depth of not less than 4 μm and not more than 8 μm on the surface, and a needle-like copper having a length of not less than 0.5 μm and not more than 2 μm protruding on the entire surface. body. 請求項1に記載の集電体と、前記集電体の表面に形成されたスズ薄膜と、を備えることを特徴とする、負極電極体。 A negative electrode body comprising: the current collector according to claim 1; and a tin thin film formed on a surface of the current collector. 前記負極電極体が蛇腹状に折り曲げられていることを特徴とする、請求項2に記載の負極電極体。 The negative electrode body according to claim 2, wherein the negative electrode body is bent in a bellows shape. 請求項2又は3に記載の負極電極体を備えることを特徴とする、リチウムイオン二次電池。 A lithium ion secondary battery comprising the negative electrode body according to claim 2. エッチングにより、銅層の表面に、深さ4μm以上8μm以下の凹部を複数形成する、粗化工程と、
少なくとも次亜リン酸を還元剤として含有する液体を用いて、前記粗化工程を経た前記銅層の表面に、無電解めっきにより長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅を突出させる、無電解めっき工程と、
を有することを特徴とする、集電体の製造方法。
A roughening step of forming a plurality of recesses having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less on the surface of the copper layer by etching;
Using a liquid containing at least hypophosphorous acid as a reducing agent, acicular copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less is projected by electroless plating on the surface of the copper layer that has undergone the roughening step. An electroplating process;
A method for producing a current collector, comprising:
エッチングにより、銅層の表面に、深さ4μm以上8μm以下の凹部を形成する、粗化工程と、
少なくとも次亜リン酸を還元剤として含有する液体を用いて、前記粗化工程を経た前記銅層の表面に、無電解めっきにより長さ0.5μm以上2μm以下の針状銅を突出させる、無電解めっき工程と、
前記無電解めっき工程を経た前記銅層の表面に、スズめっき層を形成する、スズめっき工程と、
を有することを特徴とする、負極電極体の製造方法。
A roughening step of forming a recess having a depth of 4 μm or more and 8 μm or less on the surface of the copper layer by etching;
Using a liquid containing at least hypophosphorous acid as a reducing agent, acicular copper having a length of 0.5 μm or more and 2 μm or less is projected by electroless plating on the surface of the copper layer that has undergone the roughening step. An electroplating process;
Forming a tin plating layer on the surface of the copper layer that has undergone the electroless plating step, and a tin plating step;
The manufacturing method of the negative electrode body characterized by having.
前記銅層が、基材表面に形成された銅めっき層であり、
前記スズめっき工程の後に、前記基材を除去する、基材除去工程が備えられ、
前記基材除去工程よりも前に、前記基材を蛇腹状に折り曲げる蛇腹工程が備えられることを特徴とする、請求項6に記載の負極電極体の製造方法。
The copper layer is a copper plating layer formed on the substrate surface,
After the tin plating step, a substrate removing step for removing the substrate is provided,
The method of manufacturing a negative electrode body according to claim 6, further comprising a bellows step of bending the base member into a bellows shape before the base material removing step.
さらに、前記スズめっき工程の後に、還元雰囲気下で前記銅スズめっき電極を焼成する還元焼成工程が備えられることを特徴とする、請求項6に記載の負極電極体の製造方法。 The method for producing a negative electrode body according to claim 6, further comprising a reduction firing step of firing the copper tin plating electrode in a reducing atmosphere after the tin plating step. さらに、前記スズめっき工程と前記基材除去工程との間に、還元雰囲気下で前記銅スズめっき電極を焼成する還元焼成工程が備えられることを特徴とする、請求項7に記載の負極電極体の製造方法。 The negative electrode body according to claim 7, further comprising a reduction firing step of firing the copper tin plating electrode in a reducing atmosphere between the tin plating step and the base material removal step. Manufacturing method.
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