JP2009265924A - 座標入力装置 - Google Patents

座標入力装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2009265924A
JP2009265924A JP2008114379A JP2008114379A JP2009265924A JP 2009265924 A JP2009265924 A JP 2009265924A JP 2008114379 A JP2008114379 A JP 2008114379A JP 2008114379 A JP2008114379 A JP 2008114379A JP 2009265924 A JP2009265924 A JP 2009265924A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
branch
electrode
pattern
branch pattern
patterns
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008114379A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4568771B2 (ja
Inventor
Osamu Yoshikawa
治 吉川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SMK Corp
Original Assignee
SMK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SMK Corp filed Critical SMK Corp
Priority to JP2008114379A priority Critical patent/JP4568771B2/ja
Priority to TW097141394A priority patent/TWI447624B/zh
Priority to US12/403,538 priority patent/US8247712B2/en
Publication of JP2009265924A publication Critical patent/JP2009265924A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4568771B2 publication Critical patent/JP4568771B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

【課題】4種類の電極のみで入力操作面が拡大しても精度良く操作位置を検出できる座標入力装置を提供する。
【解決手段】絶縁基板の一面側に、X方向の一側から他側に向けて複数のX+分岐パターンが分岐するX+電極と、X方向の他側から一側に向けて複数のX−分岐パターンが分岐するX−電極とが形成され、他面側に、Y方向の一側から他側に向けて複数のY+分岐パターンが分岐するY+電極と、Y方向の他側から一側に向けて複数のY−分岐パターンが分岐するY−電極とが形成される。対となるX+分岐パターンとX−分岐パターン、及びY+分岐パターンとY−分岐パターンは、一方が一側に向かって絶縁基板への投影面積が漸次増加し、他方が漸次減少する形状に形成される。被検出体との対向面積に応じて変化するX+電極とX−電極の浮遊容量の差分と、Y+電極とY−電極の浮遊容量の差分から、それぞれ被検出体による操作位置のX座標とY座標を検出する。
【選択図】図4

Description

本発明は、指などの被検出体の入力操作面への操作位置を、入力操作面に沿って形成された電極の浮遊容量の変化から検出する静電容量方式の座標入力装置に関し、更に詳しくは、少ない電極数で大面積の入力操作面上の操作位置を検出する座標入力装置に関する。
近年、可動部品を用いず、透明な薄型化した材料から構成可能な静電容量方式の座標入力装置が、液晶表示パネルなどの表示装置上に配置し、表示位置への入力操作を検出する入力デバイスとして好適であることから、広く使用されている。
従来の座標入力装置は、多数のX側電極とY側電極を絶縁基板の表裏で交差するようにマトリックス状に形成し、指などの被検出体を接近させた付近で、交差する各X側電極とY側電極間の静電容量が変化することを利用して、被検出体の絶縁基板への操作位置を検出していた(特許文献1)。
この座標入力装置では、例えば、多数のY側電極に順次、所定のパルス電圧を印加して走査し、各Y側電極にパルス電圧を印加している間に、パルス電圧が印加されたY側電極に交差する各X側電極の電圧を検出する。指などの被検出体を絶縁基板へ接近させると、被検出体が接近する位置で交差するX側電極とY側電極間の静電容量が変化することから、静電容量の変化で電圧が変化したX側電極と、その時にパルス電圧を印加したY側電極の配置から、被検出体の絶縁基板への操作位置を検出する。
しかしながら、指などの被検出体を静電容量の変化から検出する為には、少なくともXY方向に3mm以下のピッチでX側電極とY側電極を配置する必要があり、入力操作面が大面積となると、その入力面積の増加に応じて静電容量の変化を検出するX側電極とY側電極の数が増大して、各電極の交差位置について走査する走査周期が長くなり、短時間で操作位置を検出できず、A4版以上の大きさの入力操作面では、実用に適さなかった。
そこで、A4版以上の大きさの入力操作面について、被検出体の操作位置を検出する座標入力装置として、図8に示す構造の座標入力装置100が知られている(特許文献2)。
この座標入力装置100は、均一抵抗膜が表面に形成された絶縁基板101の四隅に、一定の交流電圧を印加する操作位置検出用の電極E1、E2、E3、E4が配置される。絶縁基板101の任意の位置に指を接触させると、各電極Eから、絶縁基板101の表面の抵抗を通して指に電流が流れる。この時、各電極E1、E2、E3、E4から指に流れる電流値i1、i2、i3、i4は、四隅の電極から指の接触位置までの距離に応じて変化するので、対向する電極対E1、E3を結ぶ直線をX軸、電極対E2、E4を結ぶ直線をY軸として、指の接触位置である操作位置の座標(X,Y)は、
X=i1/(i1+i3)、Y=i1/(i2+i4)から求めることができる。
特開2005−337773号公報(明細書の項目0017乃至項目0031、図1) 特開平8−137607号公報(明細書の項目0003、図10)
このように、マトリックス状に多数のX側電極とY側電極を配線した前者の従来の座標入力装置では、入力操作面が拡大すると、操作位置の検出時間を要するだけではなく、増加したX側電極とY側電極を走査する為に、相当する本数に対応するマルチプレクサを用いなければならず、回路構成が複雑、大型化するという問題があった。
また、この問題を解決する後者の従来の座標入力装置100についても、4種類の電極のみで操作位置を検出できるものの、一定の交流電圧を各電極へ印加し、単位長さあたりの抵抗値が均一となる抵抗被膜を絶縁基板上に貼り付ける必要があるので、回路構成が複雑、大型化するものであった。
更に、絶縁基板101の四隅に配置された4種類の電極Eで検出する検出値のみで、大型の入力操作面の全ての操作位置を検出するので、操作位置の検出誤差が大きくなるものであった。特に、指に電流を流して操作位置を検出するので、各電極に大きな電流値が流れるような交流電圧を印加することはできず、各電極に流れる微弱な電流値のみから操作位置を求める上記座標入力装置100では、拡大した入力操作面に対して精度良く操作位置を検出できないものであった。
本発明は、このような従来の問題点を考慮してなされたものであり、4種類の電極のみで、入力操作面が拡大しても精度良く入力操作の操作位置を検出できる座標入力装置を提供することを目的とする。
上述の目的を達成するため、請求項1の座標入力装置は、絶縁基板の一面側のX方向の一側で分岐された複数のX+分岐パターンがX方向の他側に向けて形成されたX+電極と、前記絶縁基板の一面側のX方向の他側で分岐された複数のX−分岐パターンが、それぞれ対となる前記各X+分岐パターンに沿って前記X方向の一側に向けて形成されたX−電極と、絶縁基板の他面側のX方向に直交するY方向の一側で分岐された複数のY+分岐パターンがY方向の他側に向けて形成されたY+電極と、前記絶縁基板の他面側のY方向の他側で分岐された複数のY−分岐パターンが、それぞれ対となる前記各Y+分岐パターンに沿って前記Y方向の一側に向けて形成されたY−電極と、X+電極とX−電極の浮遊容量の差分を検出するX方向差分検出手段と、Y+電極とY−電極の浮遊容量の差分を検出するY方向差分検出手段とを備え、
絶縁基板の一面側に形成されるX+分岐パターン及びX−分岐パターンと、他面側に形成されるY+分岐パターン及びY−分岐パターンは、絶縁基板を介して交差する互いの交差領域で細幅に形成され、対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンの一方は、交差領域で区切られたパターンの絶縁基板への投影面積がX方向の一側に向かって漸次増加し、他方が漸次減少する形状に形成されるとともに、対となるY+分岐パターンとY−分岐パターンの一方は、交差領域で区切られたパターンの絶縁基板への投影面積がY方向の一側に向かって漸次増加し、他方が漸次減少する形状に形成され、
被検出体を絶縁基板に接近させて入力操作を行った際に、被検出体のX方向の操作位置に応じて変化するX+電極とX−電極の浮遊容量の差分から、被検出体のX方向の操作位置を検出し、被検出体のY方向の操作位置に応じて変化するY+電極とY−電極の浮遊容量の差分から、被検出体のY方向の操作位置を検出することを特徴とする。
櫛形に分岐するX+電極の複数のX+分岐パターンと、櫛形に分岐するX−電極の複数のX−分岐パターンは、対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンが、X方向で互いの櫛形が咬合するように向かい合うので、多数の対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンを、絶縁基板の一面側の全体にむらなく形成することができる。
絶縁基板へ被検出体を接近させると、被検出体の近傍の対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンの浮遊容量が増加する。浮遊容量の増加分は、被検出体との対向面積に比例し、また、X+分岐パターンとX−分岐パターンの投影面積は、X方向に沿って一方が漸次増加し、他方が漸次減少する関係にあるので、被検出体の近傍のX+分岐パターンとX−分岐パターンの浮遊容量の差分は、X方向の被検出体を接近させた位置、すなわちX方向の操作位置を表す。被検出体の近傍のX+分岐パターンとX−分岐パターンの各浮遊容量の増加は、それぞれX+電極とX−電極の浮遊容量の増加となって表れるので、X+電極とX−電極の浮遊容量の差分を、X方向差分検出手段で検出することによりX方向の操作位置が検出される。
櫛形に分岐するY+電極の複数のY+分岐パターンと、櫛形に分岐するY−電極の複数のY−分岐パターンは、対となるY+分岐パターンとY−分岐パターンが、Y方向で互いの櫛形が咬合するように向かい合うので、多数の対となるY+分岐パターンとY−分岐パターンを、絶縁基板の他面側の全体にむらなく形成することができる。
絶縁基板へ被検出体を接近させると、被検出体の近傍の対となるY+分岐パターンとY−分岐パターンの浮遊容量が増加する。浮遊容量の増加分は、被検出体との対向面積に比例し、また、Y+分岐パターンとY−分岐パターンの投影面積は、Y方向に沿って一方が漸次増加し、他方が漸次減少する関係にあるので、被検出体の近傍のY+分岐パターンとY−分岐パターンの浮遊容量の差分は、Y方向の被検出体を接近させた位置、すなわちY方向の操作位置を表す。被検出体の近傍のY+分岐パターンとY−分岐パターンの各浮遊容量の増加は、それぞれY+電極とY−電極の浮遊容量の増加となって表れるので、Y+電極とY−電極の浮遊容量の差分を、Y方向差分検出手段で検出することによりY方向の操作位置が検出される。
絶縁基板の一面側に形成されるX+分岐パターン及びX−分岐パターンと、他面側に形成されるY+分岐パターン及びY−分岐パターンは、絶縁基板を介して交差する互いの交差領域で細幅に形成されるので、絶縁基板の背面側に形成される分岐パターンは、交差領域でのみ、細幅に形成された表面側に形成される分岐パターンに覆われる。従って、両者が絶縁基板の表面側と背面側でマトリックス状に形成されていても、背面側に形成される分岐パターンは、表面側に形成される分岐パターンによる影響が少なく、被検出体を接近させることによって、背面側の分岐パターンの浮遊容量は、被検出体との対向面積に比例して増加する。
請求項2の座標入力装置は、交差領域で区切られるX+分岐パターン若しくはX−分岐パターンの一方と、Y+分岐パターン若しくはY−分岐パターンの一方が、それぞれ同一の交差領域で区切られる対となる分岐パターンと略正方形を相補する形状に形成されることを特徴とする。
交差領域で区切られる対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンで形成される略正方形と、交差領域で区切られる対となるY+分岐パターンとY−分岐パターンで形成される略正方形とは、絶縁基板への投影方向に市松模様のように表れ、表面側に形成されるいずれか一方の対となるパターンと、背面側に形成される他方の対となるパターンが投影方向で重ならずに、絶縁基板に接近する被検出体に対向する。
請求項3の座標入力装置は、交差領域で区切られる対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンは、前記交差領域を結ぶX方向の対角線を底辺とするX側仮想三角形の残る2辺を互いの境界とし、交差領域間の各X側仮想三角形は、X方向に沿って、頂点の位置が前記X方向の対角線対称にY方向の一側から他側に向かって漸次変化する三角形であり、交差領域で区切られる対となるY+分岐パターン若しくはY−分岐パターンは、前記交差領域を結ぶY方向の対角線を底辺とするY側仮想三角形の残る2辺を境界とし、交差領域間の各Y側仮想三角形は、Y方向に沿って、頂点の位置が前記Y方向の対角線対称にX方向の一側から他側に向かって漸次変化する三角形であることを特徴とする
交差領域間のX側仮想三角形の絶縁基板への投影面積は、X方向の対角線から頂点までの高さに比例する。従って、X方向に沿った各X側仮想三角形の頂点を、X方向の対角線対称にY方向の一側から他側に漸次変化させことにより、変化させた長さに比例して、Y方向の一側のX+分岐パターン若しくはX−分岐パターンの投影面積が増加し、増加した分、他側の分岐パターンの投影面積が減少する。
また、同様に、交差領域間のY側仮想三角形の絶縁基板への投影面積は、Y方向の対角線から頂点までの高さに比例する。従って、Y方向に沿った各Y側仮想三角形の頂点を、Y方向の対角線対称にX方向の一側から他側に漸次変化させことにより、変化させた長さに比例して、X方向の一側のY+分岐パターン若しくはY−分岐パターンの投影面積が増加し、増加した分、他側の分岐パターンの投影面積が減少する。
請求項1の発明によれば、X+電極、X−電極、Y+電極及びY−電極の各電極がそれぞれ分岐した多数の分岐パターンを有するので、入力操作面とする絶縁基板の全体にむらなく分岐パターンを配線することができ、入力操作面のいずれの位置に被検出体が接近しても、被検出体に対向する分岐パターンの静電容量の増加から精度良く操作位置を検出できる。
また、入力操作面が大面積となっても、4種類の電極の静電容量の増加量を比較するだけで、XY方向の操作位置を検出できるので、短時間に操作位置が検出される。
また、4種類の電極の静電容量の増加を比較するだけで、XY方向の操作位置を検出できるので、多数の電極を走査したり、電極に交流電圧を印加することなく、簡単な構成で操作位置を検出できる。
絶縁基板の入力操作面の全体でXY方向の操作位置を検出するために、絶縁基板の表面側と背面側に分岐パターンをマトリックス状に形成しても、被検出体を接近させることによる浮遊容量の増加を、絶縁基板の背面側に形成される分岐パターンにおいてもほぼ正確に検出でき、背面側に形成されるX+電極とX−電極若しくはY+電極とY−電極の浮遊容量の差分で操作位置が検出できる。
請求項2の発明によれば、絶縁基板の一面側に形成される対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンと、他面側に形成される対となるY+分岐パターンとY−分岐パターンとを、互いに絶縁基板に直交する鉛直方向で重なる部分が少なく、それぞれ無駄なく広い投影面積とすることができ、被検出体を接近による浮遊容量の増加をより精度良く検出できる。
請求項3の発明によれば、X方向に沿った各X側仮想三角形の頂点の位置を、Y方向で異ならせることにより、X方向に沿って絶縁基板への投影面積の増減量を所望に設定したX+分岐パターンとX−分岐パターンを容易に形成できる。特に、各X側仮想三角形の頂点のY方向の位置(高さ)を、底辺対称にY方向の一側から他側に向かって等間隔で変化させれば、交差領域で区切られたX+分岐パターン及びX−分岐パターンの各投影面積が、X方向に沿って等しい増加量若しくは減少量で増減するX+分岐パターンとX−分岐パターンを容易に形成できる。このように形成したX+分岐パターンとX−分岐パターンによれば、投影面積に比例して変化する浮遊容量は、X方向の操作位置に応じてリニアに変化し、X方向の操作位置を正確に検出できる。
又、Y方向も同様に、Y方向に沿った各Y側仮想三角形の頂点の位置を、X方向で異ならせることにより、Y方向に沿って絶縁基板への投影面積の増減量を所望に設定したY+分岐パターンとY−分岐パターンを容易に形成できる。特に、各Y側仮想三角形の頂点のX方向の位置(高さ)を、底辺対称にX方向の一側から他側に向かって等間隔で変化させれば、交差領域で区切られたY+分岐パターン及びY−分岐パターンの各投影面積が、Y方向に沿って等しい増加量若しくは減少量で増減するY+分岐パターンとY−分岐パターンを容易に形成できる。このように形成したY+分岐パターンとY−分岐パターンによれば、投影面積に比例して変化する浮遊容量は、Y方向の操作位置に応じてリニアに変化し、Y方向の操作位置も正確に検出できる。
以下、本発明の第1実施の形態に係る座標入力装置1を、図1乃至図5を用いて説明する。図1は、座標入力装置1の入力操作面14aを示す平面図、図2は、図1の要部拡大平面図、図3は、図2のA−A線断面図、図4は、座標入力装置1の回路構成図、図5は、図4の各部の波形を示す波形図である。
座標入力装置1は、指を接近させて入力操作を行う操作パネル10と、操作パネル10への入力操作位置を検出する入力位置検出回路部20とから構成されている。操作パネル10は、図3に示すように、透明ガラス基板11上に、下部絶縁シート12、上部絶縁シート13及びカバーシート14を順に積層して構成されている。
下部絶縁シート12は、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリイミドなどの透明な絶縁材料で薄肉の可撓性シートとしたもので、図4に示すように、その平面上に銀などの材料からなるE+電極とE−電極の2種類の電極が互いに絶縁して印刷形成されている。
+電極は、図中、下部絶縁シート12のY側でY方向と直交するX方向に沿って印刷されたY+引き出しパターン2aと、所定のピッチでY+引き出しパターン2aからY側に向けてY方向に沿って印刷された複数のY+分岐パターン2b、2b・・とからなり、下部絶縁シート12の平面上のほぼ全体に櫛形の形状となって表れている。Y+分岐パターン2b、2b・・のX方向のピッチは、ここでは操作パネル10のいずれの位置に指が接近しても2乃至3本のY+分岐パターン2bが対向するように、2mmのピッチとなっている。
また、E−電極は、下部絶縁シート12のY側でX方向に沿って印刷されたY−引き出しパターン3aと、X方向の所定のピッチでY−引き出しパターン3aからY側に向けてY方向に沿って印刷された複数のY−分岐パターン3b、3b・・とからなり、同様に下部絶縁シート12の平面上のほぼ全体に、櫛形のE+電極と咬合する櫛形の形状となって表れている。Y−分岐パターン3bは、それぞれ対となるY+分岐パターン2bに沿ってわずかな絶縁間隙を隔てて形成され、従って、X方向のピッチは、Y+分岐パターン2bと同じ2mmとなっている。
図1、図2に示すように、Y+分岐パターン2bとY−分岐パターン3bは、鉛直方向(XY平面と直交するZ方向)で上部絶縁シート13を介して、後述のX+分岐パターン4b及びX−分岐パターン5bと交差する交差領域(以下、交差部という)が細幅のパターンとして形成され、交差部と交差部間の各形状は、Y+分岐パターン2bがY側からY側に向かってZ方向の投影面積が徐々に小さく、Y−分岐パターン3bがY側からY側に向かってZ方向の投影面積が徐々に小さくなるように形成されている。また、隣り合うことによって対となるY+分岐パターン2bとY−分岐パターン3bの交差部間の形状は、両者を組み合わせてほぼ同一の正方形状の輪郭となるように、互いに相補する形状としているので、Y方向に沿っていずれか一方のZ方向への投影面積が減少する分、他方の投影面積が増加するものとなる。
上部絶縁シート13も、下部絶縁シート12と同材質のポリエチレンテレフタレート(PET)やポリイミドなどの透明な絶縁材料で薄肉の可撓性シートとしたもので、その平面上に銀などの材料からなるE+電極とE−電極の2種類の電極が互いに絶縁して印刷形成されている。
+電極は、図4において、上部絶縁シート13のX側でY方向に沿って印刷されたX+引き出しパターン4aと、所定のピッチでX+引き出しパターン4aからX側に向けてX方向に沿って印刷された複数のX+分岐パターン4b、4b・・とからなり、上部絶縁シート13の平面上のほぼ全体に櫛形の形状となって表れている。
また、E−電極は、上部絶縁シート13のX側でX方向に沿って印刷されたX−引き出しパターン5aと、所定のピッチでX−引き出しパターン5aからX側に向けてX方向に沿って、それぞれ対となるX+分岐パターン4b、4b・・に沿ってわずかな絶縁間隙を隔てて印刷された複数のX−分岐パターン5b、5b・・とからなっている。E−電極も同様に上部絶縁シート13の平面上のほぼ全体で、櫛形のE+電極と咬合する櫛形の形状となって表れている。
本実施の形態では、X+分岐パターン4b若しくはX−分岐パターン5bのX方向のピッチも、Y+分岐パターン2b若しくはY+分岐パターン2bと等ピッチの2mmのピッチであり、図1、図2に示すように、上部絶縁シート13を介して、Z方向でY+分岐パターン2b及びY−分岐パターン3bと鉛直方向で交差する交差領域(以下、交差部という)が、細幅のパターンとなっている。また、交差部と交差部間の各形状は、X+分岐パターン4bが、X側からX側に向かってZ方向の投影面積が徐々に小さく、X−分岐パターン5bが、X側からX側に向かってZ方向の投影面積が徐々に小さくなるように形成され、隣り合うことにより対となったX+分岐パターン4bとX−分岐パターン5bの交差部間の形状は、上述のY+分岐パターン2b及びY−分岐パターン3bと同様に、両者を組み合わせてほぼ同一の正方形状の輪郭となるように、互いに相補する形状となり、X方向に沿っていずれか一方のZ方向への投影面積が減少する分、他方の投影面積が増加するものとなっている。
上述のように、上部絶縁シート13の表面側に形成されたE+電極とE−電極は、背面側に形成されたE+電極とE−電極と、直交方向で同一形状となっている。従って、E+電極とE−電極を印刷形成した上部絶縁シート13、又は、E+電極とE−電極を印刷形成した下部絶縁シート12のいずれか一方を製造し、直交方向に回転させて積層すれば、他方に代用できる。
カバーシート14は、上部絶縁シート13の印刷されたE+電極とE−電極を覆い保護するもので、透明なポリエステル樹脂などで薄板状に形成されている。カバーシート14の表面は、指を接近させ、若しくは接触させてなぞる入力操作面14aとなっている。
このように構成された操作パネル10は、対となるX+分岐パターン4bとX−分岐パターン5bの交差部間の形状と、対となるY+分岐パターン2bとY−分岐パターン3bの交差部間の形状が、それぞれ正方形状で、図1、図2に示すように、操作パネル10の上方(Z方向)からみて、市松模様となっている。
図4に示すように、操作パネル10への入力操作位置を検出する入力位置検出回路部20は、E+電極とE−電極の静電容量の差分を電圧Vに変換するX側C/V変換回路21と、E+電極とE−電極の静電容量の差分を電圧Vに変換するY側C/V変換回路22とを有している。
X側C/V変換回路21は、抵抗R1と抵抗R2の入力側を共通の発振器30に接続し、発振器30から出力されるクロック信号を抵抗R1と抵抗R2へ同期入力している。抵抗R1の出力側は、E−電極に接続することにより、E−電極の浮遊容量C−と抵抗R1とで直列に接続したRC時定数回路を形成し、更にE−電極をXOR回路(IC)の一方の入力端子へ接続し、E−電極の電位Ve−をXOR回路(IC)の一方の入力としている。また、同様に、抵抗R2の出力側は、E+電極と可変容量コンデンサVCの非接地側電極を介してXOR回路(IC)の他方の入力端子へ接続し、抵抗R2にE+電極の浮遊容量C+と可変容量コンデンサVCとを直列に接続してなるRC時定数回路のE+電極の電位Ve+を、XOR回路(IC)の他方へ入力している。
ここで、XOR回路(IC)の一方に入力されるE−電極の電位Ve−の波形は、クロック信号を、抵抗R1の抵抗値と浮遊容量C−を乗じた時定数で遅延させた波形となり、他方に入力されるE+電極の電位Ve+は、図中の可変容量コンデンサVCの容量を無視すれば、クロック信号を、抵抗R2の抵抗値と浮遊容量C+を乗じた時定数で遅延させた波形となる。ここでは、抵抗R1と抵抗R2に、同一抵抗値の抵抗を用いるとして、XOR回路(IC)の一方と他方の入力に、E−電極の浮遊容量C−とE+電極の浮遊容量C+に応じてそれぞれ遅延時間が異なる2種類の電圧波形を入力する。その結果、XOR回路(IC)の出力には、浮遊容量C−と浮遊容量C+の差分に応じたパルス幅のパルス波形が表れ、XOR回路(IC)の出力を、パルス幅に応じた電圧VとするX側平滑化回路23へ接続することにより、X側平滑化回路23から浮遊容量C−と浮遊容量C+の差分に応じた出力Vが出力される。
−電極の浮遊容量C−若しくはE+電極の浮遊容量C+は、指をE−電極とE+電極へ接近させた際のX+分岐パターン4b若しくはX−分岐パターン5bの指との対向面積に比例して変化するが、上述の通りE−電極とE+電極は、XとXの中間でX方向について対称形状となっているので、指がXとXの中間に接近した際に、浮遊容量C−と浮遊容量C+の差分が0となり、出力Vが0となる。そこで、指がXの位置を入力操作した際に出力Vが0となるように、E+電極と接地間に、E+電極の浮遊容量C+と並列に接続した可変容量コンデンサVCの容量値を調整するもので、その調整方法は後述する。
Y側C/V変換回路22も、X側C/V変換回路21と同一の構成となっている。すなわち、同一抵抗値の抵抗R3と抵抗R4の入力側を共通の発振器30に接続し、発振器30から出力されるクロック信号を抵抗R3と抵抗R4へ同期入力している。抵抗R3の出力側は、E−電極に接続することにより、E−電極の浮遊容量C−と抵抗R3とで直列に接続したRC時定数回路を形成し、E−電極をXOR回路(IC)の一方の入力端子に接続し、E−電極の電位Ve−をXOR回路(IC)の一方の入力としている。また、抵抗R4の出力側は、E+電極と可変容量コンデンサVCの非接地側電極を介してXOR回路(IC)の他方の入力端子に接続し、抵抗R4にE+電極の浮遊容量C+と可変容量コンデンサVCとを直列に接続したRC時定数回路のE+電極の電位Ve+を、XOR回路(IC)の他方へ入力している。
この構成によって、X側C/V変換回路21と同様に、図中の可変容量コンデンサVCの容量を無視すれば、XOR回路(IC)の出力には、浮遊容量C−と浮遊容量C+の差分に応じたパルス幅のパルス波形が表れ、XOR回路(IC)の出力を、パルス幅に応じた電圧VとするY側平滑化回路24へ接続することにより、Y側平滑化回路24から浮遊容量C−と浮遊容量C+の差分に応じた出力Vが出力される。尚、E+電極と接地間に、E+電極の浮遊容量C+と並列となるように接続された可変容量コンデンサVCは、可変容量コンデンサVCと同様に、指がYの位置を入力操作した際に、出力Vを0とするようにその容量が調整される。
X側C/V変換回路21の出力(X側平滑化回路23の出力)と、Y側C/V変換回路22の出力(Y側平滑化回路24の出力)は、それぞれ切換スイッチ25の一対の選択端子に接続し、切換スイッチ25を介してA/Dコンバータ26の入力に接続している。A/Dコンバータ26は、切換スイッチ25を切り換えて、それぞれ入力される出力Vと出力Vを、出力側に接続された制御部27で演算処理が可能な2値データとし、制御部27は、二値化した出力Vと出力Vとから、指の操作位置を表すXY座標を得る。
以下、このように構成された座標入力装置1の動作を説明する。始めに、指がXの位置を入力操作した際に、出力Vを0とするように、可変容量コンデンサVCの容量Cvを調整する調整方法を説明する。
図4に示すように、上部絶縁シート13に印刷されたX+分岐パターン4bとX−分岐パターン5bの一側の位置をX、他側の位置をXとして、指を操作パネル10のXの位置となるいずれかに接近させると、指に対向する複数対のX+分岐パターン4bとX−分岐パターン5bの浮遊容量が増加する。浮遊容量の増加は、指に対向する分岐パターンの面積にほぼ比例し、全てのX+分岐パターン4bのZ方向の投影面積は、Xで最小、Xで最大に形成されているので、指を位置Xに接近させたときに、E+電極の浮遊容量C+は、最小C+minと、位置Xに接近させたときに、最大C+maxとなる。一方、全てのX−分岐パターン5bのZ方向の投影面積は、Xで最大、Xで最小に形成されているので、指を位置Xに接近させたときに、E−電極の浮遊容量C−は、最大C−maxと、位置Xに接近させたときに、最小C−minとなる。
上述のように、可変容量コンデンサVCは、指がXの位置を入力操作した際に、出力Vを0とするように、つまり、C+minに可変容量コンデンサVCの容量Cvを加えた値が、C−maxに等しくなるように、容量Cvを設定する。
また、同様に、全てのY+分岐パターン2bのZ方向の投影面積は、Yで最小、Yで最大に形成されているので、指を位置Yに接近させたときに、E+電極の浮遊容量C+は、最小C+minと、位置Yに接近させたときに、最大C+maxとなり、一方、全てのY−分岐パターン3bのZ方向の投影面積は、Yで最大、Yで最小に形成されているので、指を位置Yに接近させたときに、E−電極の浮遊容量C−は、最大C−maxと、位置Yに接近させたときに、最小C−minとなる。
そこで、可変容量コンデンサVCの容量Cvの調整は、可変容量コンデンサVCと同様、指がYの位置を入力操作した際に、出力Vを0とするように、つまり、C+minに可変容量コンデンサVCの容量Cvを加えた値が、C−maxに等しくなるように、容量Cvを設定する。
次に、このように、可変容量コンデンサVCと可変容量コンデンサVCの容量を調整した座標入力装置1で、入力操作面14a上のX方向の操作位置を検出する方法を説明する。始めに、説明上、Xの位置に指を接近させたものとすると、XOR回路(IC)の一方に入力されるE−電極の電位Ve−(X)は、図5に示すように、クロック信号のパルス入力とパルス休止期間中に、浮遊容量C−maxに比例した時定数で上昇し、下降する。また、XOR回路(IC)の他方に入力されるE+電極の電位Ve+(X)も、E+電極の浮遊容量C+は、C+minであるが、可変容量コンデンサVCの容量Cvを加えて、C−maxと等しい容量としているので、電位Ve−(X)と同一波形で上昇し、下降する。
XOR回路(IC)は、一方に入力される電位Ve−(X)と、他方に入力される電位Ve+(X)を、それぞれ飽和電圧以下の所定電位に設定したしきい値VSLと比較して「H」「L」の二値化し、二値化した2入力の排他的論理和をICoutとして出力する。電位Ve−(X)とVe+(X)は、遅延時間が同じ同一電圧波形であるので、ICout(X)の出力は、図に示すように、「L」のみの出力となる。
入力操作面14aへの指の操作位置がXからX方向のXに移動すると、指に対向するX−分岐パターン5bの対向面積は、徐々に減少し、逆にX+分岐パターン4bの対向面積は同じ割合で徐々に増加する。Xの位置に指を接近させると、XOR回路(IC)の一方に入力されるE−電極の浮遊容量は最小のC−minとなり、時定数が最小となるので、電位Ve−(X)は、クロック信号の入力に応じて、急激に上昇し、下降する。従って、図5に示すように、操作位置がXであるVe−(X)と比較すると、クロック信号のパルス入力期間中は、より早く「L」から「H」へ移行し、パルス入力が休止すると、より早く「H」から「L」へ移行する。一方、XOR回路(IC)の他方に入力されるE+電極の電位Ve+(X)は、E+電極の浮遊容量が最大となるC+maxに更に可変容量コンデンサVCの容量Cvを加えたものとなるので、時定数が増加し、Ve+(X)と比較し、クロック信号のパルス入力期間中は、「L」から「H」への移行が遅れ、パルス入力が休止すると、「H」から「L」への移行が遅れる。
その結果、Ve−(X)とVe+(X)とは、「L」から「H」及び「H」から「L」へ移行するタイミングが異なり、同図に示すように、ICout(X)の出力は、このタイミングが異なった期間で「H」を出力する。つまり、XOR回路(IC)の出力ICoutは、操作位置がX方向でXからX方向のXに移動するほど、「H」のパルス幅が長くなり、Xで最長となるパルス信号を出力する。
XOR回路(IC)の出力ICoutを平滑化するX側平滑化回路23は、ICoutのデューティー比に比例した出力Vを出力するので、出力Vは、操作位置がXで0、Xで最大の電圧値となり、指の操作位置のX座標を電圧値で表すものとなる。切換スイッチ25をX側平滑化回路23の出力側に切り換えて、A/Dコンバータ26により、この出力Vを二値化し、制御部27は、出力Vから指のX方向の操作位置を表すX座標を得る。
入力操作面14a上のY方向の操作位置の検出は、X方向の検出と同様であり、Y側C/V変換回路22は、X側C/V変換回路21と同一の構成であるので、各部の詳細な説明は省略する。指の操作位置がYであるときには、E+電極の浮遊容量C+は、最小のC+minであるが、可変容量コンデンサVCの容量Cvを加えて、E−電極の最大浮遊容量C−maxに等しくしているので、XOR回路(IC)の一方に入力されるE−電極の電位Ve−(Y)と他方に入力されるE+電極の電位Ve+(Y)は、同一電圧波形となり、ICout(Y)の出力は、図に示すように、「L」のみの出力となる。
入力操作面14aへの指の操作位置がYからY方向のYに移動すると、指に対向するY−分岐パターン3bの対向面積は、徐々に減少し、逆にY+分岐パターン2bの対向面積は同じ割合で徐々に増加する。Yの位置に指を接近させると、XOR回路(IC)の一方に入力されるE−電極の浮遊容量は最小のC−minとなり、時定数が最小となるので、電位Ve−(Y)は、Ve−(Y)と比較し、クロック信号のパルス入力期間中は、より早く「L」から「H」へ移行し、パルス入力が休止すると、より早く「H」から「L」へ移行する。一方、XOR回路(IC)の他方に入力されるE+電極の電位Ve+(Y)は、E+電極の浮遊容量が最大となるC+maxに可変容量コンデンサVCの容量Cvを加えたものとなるので、時定数が増加し、Ve+(Y)と比較し、クロック信号のパルス入力期間中は、「L」から「H」への移行が遅れ、パルス入力が休止すると、「H」から「L」への移行が遅れる。
その結果、Ve−(Y)とVe+(Y)とは、「L」から「H」及び「H」から「L」へ移行するタイミングが異なり、同図に示すように、ICout(Y)の出力は、操作位置がY方向でYからY方向のYに移動するほど、「H」のパルス幅が長くなり、Yで最長となるパルス信号を出力する。
XOR回路(IC)の出力ICoutを平滑化するY側平滑化回路24は、ICoutのデューティー比に比例した出力Vを出力するので、出力Vは、操作位置がYで0、Yで最大の電圧値となり、指の操作位置のY座標を電圧値で表すものとなる。切換スイッチ25をY側平滑化回路24の出力側に切り換えて、A/Dコンバータ26により、この出力Vを二値化し、制御部27は、出力Vから指のY方向の操作位置を表すY座標を得る。
本実施の形態によれば、Y方向で指との対向面積が異なる多数のY+分岐パターン2b及びY−分岐パターン3bと、X方向で指との対向面積が異なる多数のX+分岐パターン4b及びX−分岐パターン5bとを、それぞれ互いに絶縁させて、操作パネル10の入力操作面14aの全体にマトリックス状に配置するので、いずれの位置に指を接近させても、正確に接近させた操作位置が検出できる。
更に、多数のY+分岐パターン2b及びY−分岐パターン3bと、多数のX+分岐パターン4b及びX−分岐パターン5bとを、マトリックス状に配置させても、操作位置のXY座標を検出する為の電極は、Y方向のE+電極及びE−電極と、X方向のE+電極及びE−電極の4種類のみであり、操作位置の検出回路及び検出方法が簡単で、全ての分岐パターンを走査することなく、短時間に操作位置が検出できる。
また、マトリックス状に配置される多数のY+分岐パターン2b及びY−分岐パターン3bと、多数のX+分岐パターン4b及びX−分岐パターン5bとは、互いに指を接近させるZ方向で一部が交差するが、交差部を細幅とするとともに、他の領域はZ方向で重ならないように、市松模様で配置するので、上部絶縁シート13の背面側に配置されるY+分岐パターン2b及びY−分岐パターン3bであっても、表面側のX+分岐パターン4b及びX−分岐パターン5bに覆われずに、接近する指との対向面積を効率よく確保でき、浮遊容量をより大きく変化させて、操作位置を確実に検出できる。
上述の第1実施の形態において、交差部で区切られる互いに対となる分岐パターン2b、3b、4b、5bの輪郭形状は、絶縁基板の表裏で重ならない形状であれば、任意形状でよく、例えば正六角形などの正多角形としてもよい。
以下、交差部で区切られるX+分岐パターン及びX−分岐パターンと、Y+分岐パターン及びY−分岐パターンを異なる形状とした他の実施の形態に係る座標入力装置40を、図6と図7を用いて説明する。座標入力装置40は、分岐パターンの形状が異なる他は、上述の座標入力装置1と同一であるので、同一構成には同一番号を用いて、その詳細な説明は省略する。
座標入力装置40のE+電極及びE−電極と、E+電極及びE−電極も、図6に示すように、第1実施の形態と同様に、絶縁基板となる上部絶縁シート13の表面側で櫛形に形成されたE+電極とE−電極がX方向で咬合し、背面側で櫛形に形成されたE+電極とE−電極がY方向で咬合し、両者が上部絶縁シート13を介して投影方向でマトリックス状に形成されている。
すなわち、E+電極は、X側のX+引き出しパターン41aからX側に向けて複数のX+分岐パターン41b、41b・・が分岐して上部絶縁シート13の平面に印刷され、E−電極は、X側のX−引き出しパターン42aからX側に向けて複数のX−分岐パターン42b、42b・・が分岐して同平面に印刷され、それぞれ対となるX+分岐パターン41bとX−分岐パターン42bが、わずかな絶縁間隙を隔て、X方向に沿って印刷されている。
また、E+電極は、Y側のY+引き出しパターン43aからY側に向けて複数のY+分岐パターン43b、43b・・が分岐して上部絶縁シート13の背面側に印刷され、E−電極は、Y側のY−引き出しパターン44aからY側に向けて複数のY−分岐パターン44b、44b・・が分岐して同平面に形成され、それぞれ対となるY+分岐パターン43bとY−分岐パターン44bが、わずかな絶縁間隙を隔て、Y方向に沿って形成されている。
上部絶縁シート13の表面側のX+分岐パターン41b及びX−分岐パターン42bと、背面側の各Y+分岐パターン43b及びY−分岐パターン44bとは、それぞれ上部絶縁シート13を介して他側の分岐パターンと交差する交差部が細幅に形成され、交差部で区切られるX+分岐パターン41bとX−分岐パターン42bの形状と、交差部で区切られるY+分岐パターン43bとY−分岐パターン44bの形状が、対となる分岐パターンと組み合わせてほぼ同一の正方形状の輪郭となるように、互いに相補する形状であることも第1実施の形態と同様である。
対となるX+分岐パターン41bとX−分岐パターン42bは、図7の(a)に示すように、X方向に沿って交差部で区切られる分岐パターン毎に、交差部間を結ぶX方向の対角線を底辺とするX側仮想三角形45を想定し、X側仮想三角形45の残る2辺を互いの境界として、それぞれの輪郭が決定される。各交差部間毎に想定するX側仮想三角形45は、同図の破線でその領域を示すように、X方向のX側からX側に向かって、その頂点45aのY方向の位置が、X方向の対角線対称にY側からY側に向かって漸次変化する形状となっている。ここでは、隣り合うX側仮想三角形45の頂点45aのY方向で変化する距離を一定としているので、X側からX側に向かって、交差部で区切られるX+分岐パターン41bのZ方向の投影面積は、等面積で増加し、交差部で区切られるX−分岐パターン42bの投影面積は、等面積で減少する。
同様に、対となるY+分岐パターン43bとY−分岐パターン44bは、図7の(b)に示すように、Y方向に沿って交差部で区切られる分岐パターン毎に、交差部間を結ぶY方向の対角線を底辺とするY側仮想三角形46を想定し、Y側仮想三角形46の残る2辺を互いの境界とし、それぞれの輪郭が決定される。各交差部間毎に想定するY側仮想三角形46は、同図の破線でその領域を示すように、Y方向のY側からY側に向かって、その頂点46aのX方向の位置が、Y方向の対角線対称にX側からX側に向かって漸次変化する形状となっている。ここでは、隣り合うY側仮想三角形46の頂点46aのX方向で変化する距離も一定としているので、Y側からY側に向かって、交差部で区切られるY+分岐パターン43bのZ方向の投影面積は、等面積で増加し、交差部で区切られるY−分岐パターン44bの投影面積は、等面積で減少する。
従って、この第2実施の形態によれば、X+分岐パターン41bとX−分岐パターン42bの入力操作面14aへの投影面積は、X方向に沿って等しい面積で一方が増加し、他方が減少するので、投影面積に比例して変化する浮遊容量は、X方向の操作位置に応じてリニアに変化し、X方向の操作位置を正確に検出できる。
また、同様に、Y+分岐パターン43bとY−分岐パターン44bの入力操作面14aへの投影面積も、Y方向に沿って等しい面積で一方が増加し、他方が減少するので、Y方向の操作位置に応じてE+電極とE−電極の浮遊容量はリニアに変化し、Y方向の操作位置も正確に検出できる
上述の各実施の形態で、Y方向の操作位置を検出するためのE+電極とE−電極は、下部絶縁シート12の平面上に形成しているが、E+電極とE−電極を平面に形成する上部絶縁シート13の背面に形成し、1枚の絶縁基板の表裏に分けて形成してもよく、また、E+電極とE−電極を絶縁基板の背面側に、E+電極とE−電極を平面側に形成してもよい。
更に、上述の実施の形態では、多数のY+分岐パターン2b及びY−分岐パターン3bと、多数のX+分岐パターン4b及びX−分岐パターン5bとを、それぞれ等ピッチで対となる分岐パターンに沿って配置しているが、必ずしも等ピッチで配置しなくても本発明を実施できる。
更に、指を入力操作面14aに接近させて入力操作を行っているが、指以外の他側が操作者などを介して接地されるものであれば、指以外の他の入力操作具であってもよい。
本発明は、静電容量方式で被検出体によるXY方向の操作位置を検出する座標入力装置に適している。
座標入力装置1の入力操作面を示す平面図である。 図1の要部拡大平面図である。 図2のA−A線断面図である。 座標入力装置1の回路構成図である。 図4の各部の波形を示す波形図である。 本発明の他の実施の形態に係る座標入力装置40の入力操作面を示す平面図である。 座標入力装置40の(a)は、一対のX+分岐パターン41b及びX−分岐パターン42bの間隙を拡大して示す部分平面図、(b)は、一対のY+分岐パターン43b及びY−分岐パターン44bの間隙を拡大して示す部分平面図である。 従来の座標入力装置100を示す斜視図である。
符号の説明
1 座標入力装置
2b Y+分岐パターン
3b Y−分岐パターン
4b X+分岐パターン
5b X−分岐パターン
13 上部絶縁シート(絶縁基板)
21 X側C/V変換回路(X方向差分検出手段)
22 Y側C/V変換回路(Y方向差分検出手段)
+ X+電極
− X−電極
+ Y+電極
− Y−電極

Claims (3)

  1. 絶縁基板の一面側のX方向の一側で分岐された複数のX+分岐パターンがX方向の他側に向けて形成されたX+電極と、
    絶縁基板の前記一面側のX方向の他側で分岐された複数のX−分岐パターンが、それぞれ対となる前記各X+分岐パターンに沿ってX方向の前記一側に向けて形成されたX−電極と、
    前記絶縁基板の他面側のX方向に直交するY方向の一側で分岐された複数のY+分岐パターンがY方向の他側に向けて形成されたY+電極と、
    絶縁基板の前記他面側のY方向の他側で分岐された複数のY−分岐パターンが、それぞれ対となる前記各Y+分岐パターンに沿ってY方向の前記一側に向けて形成されたY−電極と、
    X+電極とX−電極の浮遊容量の差分を検出するX方向差分検出手段と、
    Y+電極とY−電極の浮遊容量の差分を検出するY方向差分検出手段とを備え、
    前記絶縁基板の一面側に形成されるX+分岐パターン及びX−分岐パターンと、他面側に形成されるY+分岐パターン及びY−分岐パターンは、前記絶縁基板を介して交差する互いの交差領域で細幅に形成され、
    対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンの一方は、前記交差領域で区切られたパターンの前記絶縁基板への投影面積がX方向の一側に向かって漸次増加し、他方が漸次減少する形状に形成されるとともに、
    対となるY+分岐パターンとY−分岐パターンの一方は、前記交差領域で区切られたパターンの前記絶縁基板への投影面積がY方向の一側に向かって漸次増加し、他方が漸次減少する形状に形成され、
    被検出体を前記絶縁基板に接近させて入力操作を行った際に、被検出体のX方向の操作位置に応じて変化するX+電極とX−電極の浮遊容量の差分から、被検出体のX方向の操作位置を検出し、被検出体のY方向の操作位置に応じて変化するY+電極とY−電極の浮遊容量の差分から、被検出体のY方向の操作位置を検出することを特徴とする座標入力装置。
  2. 交差領域で区切られるX+分岐パターン若しくはX−分岐パターンの一方と、Y+分岐パターン若しくはY−分岐パターンの一方は、それぞれ同一の交差領域で区切られる対となる分岐パターンと略正方形を相補する形状に形成されることを特徴とする請求項1に記載の座標入力装置。
  3. 交差領域で区切られる対となるX+分岐パターンとX−分岐パターンは、前記交差領域を結ぶX方向の対角線を底辺とするX側仮想三角形の残る2辺を互いの境界とし、交差領域間の各X側仮想三角形は、X方向に沿って、頂点の位置が前記X方向の対角線対称にY方向の一側から他側に向かって漸次変化する三角形であり、
    交差領域で区切られる対となるY+分岐パターン若しくはY−分岐パターンは、前記交差領域を結ぶY方向の対角線を底辺とするY側仮想三角形の残る2辺を境界とし、交差領域間の各Y側仮想三角形は、Y方向に沿って、頂点の位置が前記Y方向の対角線対称にX方向の一側から他側に向かって漸次変化する三角形であることを特徴とする請求項2に記載の座標入力装置。
JP2008114379A 2008-04-24 2008-04-24 座標入力装置 Expired - Fee Related JP4568771B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008114379A JP4568771B2 (ja) 2008-04-24 2008-04-24 座標入力装置
TW097141394A TWI447624B (zh) 2008-04-24 2008-10-28 座標輸入裝置
US12/403,538 US8247712B2 (en) 2008-04-24 2009-03-13 Coordinate input device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008114379A JP4568771B2 (ja) 2008-04-24 2008-04-24 座標入力装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009265924A true JP2009265924A (ja) 2009-11-12
JP4568771B2 JP4568771B2 (ja) 2010-10-27

Family

ID=41213888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008114379A Expired - Fee Related JP4568771B2 (ja) 2008-04-24 2008-04-24 座標入力装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8247712B2 (ja)
JP (1) JP4568771B2 (ja)
TW (1) TWI447624B (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010039515A (ja) * 2008-07-31 2010-02-18 Dmc:Kk タッチパネル
JP2011232928A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Kyocera Corp 入力装置、およびこれを備えた表示装置
JP2012033135A (ja) * 2010-06-28 2012-02-16 Teijin Chem Ltd タッチパネルデバイス、及びタッチパネルデバイス付表示装置
JP2013020611A (ja) * 2011-07-12 2013-01-31 Trendon Touch Technology Corp 接触感知回路及び接触点検出方法
JP2013168125A (ja) * 2012-02-14 2013-08-29 Samsung Display Co Ltd タッチパネル
JP2014098967A (ja) * 2012-11-13 2014-05-29 Tokai Rika Co Ltd タッチ式入力装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI426437B (zh) 2010-10-28 2014-02-11 Young Lighting Technology Inc 電容式觸控面板
EP2772837A1 (en) * 2013-02-28 2014-09-03 Nxp B.V. Touch sensor for smartcard
CN107025027A (zh) * 2016-08-12 2017-08-08 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制作方法、显示面板和显示装置
CN108897459B (zh) * 2018-08-31 2024-01-23 深圳和而泰智能控制股份有限公司 触摸屏的触摸检测方法、触摸电容、触摸屏和电子设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH117354A (ja) * 1997-06-17 1999-01-12 Japan Aviation Electron Ind Ltd 静電結合型タブレット装置
JP2004333302A (ja) * 2003-05-08 2004-11-25 Alps Electric Co Ltd タッチセンサ
JP2007240479A (ja) * 2006-03-13 2007-09-20 Fujikura Ltd 静電容量式位置検出装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4087625A (en) * 1976-12-29 1978-05-02 International Business Machines Corporation Capacitive two dimensional tablet with single conductive layer
GB9406702D0 (en) * 1994-04-05 1994-05-25 Binstead Ronald P Multiple input proximity detector and touchpad system
JPH08137607A (ja) 1994-11-15 1996-05-31 Alps Electric Co Ltd 座標入力装置
US6297811B1 (en) * 1999-06-02 2001-10-02 Elo Touchsystems, Inc. Projective capacitive touchscreen
JP2001221700A (ja) * 2000-02-08 2001-08-17 Nitta Ind Corp 静電容量式センサ
US6879930B2 (en) * 2001-03-30 2005-04-12 Microsoft Corporation Capacitance touch slider
JP4435622B2 (ja) 2004-05-25 2010-03-24 アルプス電気株式会社 静電容量式の検出装置
TWI272539B (en) * 2004-06-03 2007-02-01 Atlab Inc Electrical touch sensor and human interface device using the same
TW200715176A (en) * 2005-10-07 2007-04-16 Elan Microelectronics Corp Method for compensating sensitivity of sensor of touch panel
TWI313431B (en) * 2006-04-14 2009-08-11 Ritdisplay Corporatio Transparent touch panel
GB2439614B (en) * 2006-05-31 2008-12-24 Harald Philipp Two-dimensional position sensor

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH117354A (ja) * 1997-06-17 1999-01-12 Japan Aviation Electron Ind Ltd 静電結合型タブレット装置
JP2004333302A (ja) * 2003-05-08 2004-11-25 Alps Electric Co Ltd タッチセンサ
JP2007240479A (ja) * 2006-03-13 2007-09-20 Fujikura Ltd 静電容量式位置検出装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010039515A (ja) * 2008-07-31 2010-02-18 Dmc:Kk タッチパネル
JP2011232928A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Kyocera Corp 入力装置、およびこれを備えた表示装置
JP2012033135A (ja) * 2010-06-28 2012-02-16 Teijin Chem Ltd タッチパネルデバイス、及びタッチパネルデバイス付表示装置
WO2012033169A1 (ja) * 2010-09-08 2012-03-15 帝人化成株式会社 タッチパネルデバイス、及びタッチパネルデバイス付表示装置
CN103097995A (zh) * 2010-09-08 2013-05-08 帝人化成株式会社 触摸面板器件、及带有触摸面板器件的显示装置
KR101564150B1 (ko) * 2010-09-08 2015-10-28 테이진 카세이 가부시키가이샤 터치 패널 디바이스, 및 터치 패널 디바이스 부착 표시 장치
US9189112B2 (en) 2010-09-08 2015-11-17 Teijin Chemicals Ltd. Touch panel device and display device with touch panel device
JP2013020611A (ja) * 2011-07-12 2013-01-31 Trendon Touch Technology Corp 接触感知回路及び接触点検出方法
JP2013168125A (ja) * 2012-02-14 2013-08-29 Samsung Display Co Ltd タッチパネル
JP2014098967A (ja) * 2012-11-13 2014-05-29 Tokai Rika Co Ltd タッチ式入力装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4568771B2 (ja) 2010-10-27
US8247712B2 (en) 2012-08-21
TWI447624B (zh) 2014-08-01
US20090266625A1 (en) 2009-10-29
TW200945154A (en) 2009-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4568771B2 (ja) 座標入力装置
EP2808769B1 (en) Capacitive touch input device
JP5445438B2 (ja) 静電容量式タッチパネル
US20160005352A1 (en) Touch sensing device
CN104898905B (zh) 静电电容型输入装置
KR20100130156A (ko) 상호 커패시턴스 터치스크린
US8248382B2 (en) Input device
WO2013080638A1 (ja) タッチパネル
EP2336865A2 (en) Touch panel and coordinate detection method in touch panel
JP4891948B2 (ja) 入力装置
JP2015122067A (ja) 制御点検知パネル、及び当該制御点検知パネルのデザイン方法
US20120013563A1 (en) Touch input device
WO2016078073A1 (zh) 自电容触摸面板及其导电层结构
TWI455191B (zh) 互容式觸控面板及觸控系統
WO2013023088A1 (en) Two-finger gesture on a linear sensor or single layer sensor
JP6612123B2 (ja) 静電容量式入力装置
KR100924259B1 (ko) 터치 패널 센서
TWI467456B (zh) 觸控面板
KR20170067824A (ko) 디지타이저 센서
TW201537409A (zh) 觸控模組
KR20150107337A (ko) 터치 감지 방법 및 터치스크린 장치
KR101097274B1 (ko) 터치패널센서
KR101364956B1 (ko) 터치 패널 센서
TWM480115U (zh) 投射式電容觸控面板結構
KR101081249B1 (ko) 터치스크린 장치 및 이의 제어방법

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100525

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100622

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100803

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100809

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees