JP2009258351A - 配向膜の製造方法及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】生産性の低下を招くことなくインクの濡れ拡がりを防止することのできる配向膜の製造方法と、この方法を用いた液晶表示装置の製造方法とを提供する。
【解決手段】溶媒に配向膜材料を溶解させた材料液L1を液滴吐出法で基板P上に配し、配向膜を形成する配向膜の製造方法である。基板P上の、配向膜の形成領域Cを囲む外周領域に、材料液L2に対して相分離を起こす有機溶媒からなる外郭材料L1を液滴吐出法で配する工程と、基板P上の、配向膜の形成領域に材料液L2を液滴吐出法で配する工程と、基板P上に外郭材料L2と材料液L1とを共に配した後、これら外郭材料L2と材料液L1とを乾燥処理して配向膜を形成するとともに外郭材料を除去する工程と、を有する。
【選択図】図4
【解決手段】溶媒に配向膜材料を溶解させた材料液L1を液滴吐出法で基板P上に配し、配向膜を形成する配向膜の製造方法である。基板P上の、配向膜の形成領域Cを囲む外周領域に、材料液L2に対して相分離を起こす有機溶媒からなる外郭材料L1を液滴吐出法で配する工程と、基板P上の、配向膜の形成領域に材料液L2を液滴吐出法で配する工程と、基板P上に外郭材料L2と材料液L1とを共に配した後、これら外郭材料L2と材料液L1とを乾燥処理して配向膜を形成するとともに外郭材料を除去する工程と、を有する。
【選択図】図4
Description
この発明は、液晶表示装置における配向膜の製造方法及び液晶表示装置の製造方法に関する。
従来、液晶表示装置用の配向膜の製造方法としては、フレキソ印刷方式が一般的であった。しかし、近年では、テレビ等の表示装置の大型化、ならびに材料の使用量削減の観点から、インクジェット法に代表される液滴吐出方式が採用されるようになってきている。
液滴吐出方式としてインクジェット法による塗布技術を用い、配向膜の形成材料であるポリイミドインク(PIインク)を基板に塗布する場合、このPIインクの吐出性を確保するため、その粘度を数mPa・s〜約15mPa・s程度の低粘度にする必要がある。
液滴吐出方式としてインクジェット法による塗布技術を用い、配向膜の形成材料であるポリイミドインク(PIインク)を基板に塗布する場合、このPIインクの吐出性を確保するため、その粘度を数mPa・s〜約15mPa・s程度の低粘度にする必要がある。
ところが、このように低粘度であることから、PIインクを基板上に塗布すると、PIインクはその直後に基板上で濡れ拡がってしまう。その結果、塗布領域の中央部とエッジ部との間で塗布厚ムラによる膜厚差(膜厚ムラ)を生じ、これに起因して液晶表示装置に表示ムラを生じさせ、表示品質を低下させてしまう。したがって、配向膜を所望の寸法に形成するには、インクの濡れ拡がりを考慮したビットマップ設計が必要になる。
また、従来では、このようなビットマップ設計を不要にできる配向膜の製造方法として、狙い寸法の外周部に隔壁(土手部)を形成し、この隔壁によってPIインクの濡れ拡がりを防止し、薄膜の面内均一性の向上を図った方法が提案されている(特許文献1参照)。この方法では、土手部を形成する工程と土手部内を塗布する工程とで略同一組成のインクを使用するため、土手部の形成時にインクの濡れ性を低下させる表面処理を行い、土手部内の形成時に濡れ性を向上させる表面処理を行うようにしている。
また、他の方法として、基板上のシール部に囲まれた膜形成領域に成膜する際に、膜形成領域に対して、インクを1.3倍以上の面積で塗布する方法が提案されている(特許文献2参照)。この方法は、実験的にインクの塗布面積を求めた方法である。
特開2003−126760号公報
特開2006−208545号公報
また、他の方法として、基板上のシール部に囲まれた膜形成領域に成膜する際に、膜形成領域に対して、インクを1.3倍以上の面積で塗布する方法が提案されている(特許文献2参照)。この方法は、実験的にインクの塗布面積を求めた方法である。
しかしながら、特許文献1の技術では、配向膜を成膜する際に、基板に対して二度表面処理を行う必要があるため、生産性が低いといった課題がある。さらに、土手部形成工程で塗布されるインクと、土手部内に塗布されるインクとが接触するため、これらの間の相互作用が問題となる可能性もある。
また、特許文献2の技術では、実験的にインクの塗布面積を1.3倍以上と求めているため、適用範囲が限定されてしまう可能性が高い。
また、特許文献2の技術では、実験的にインクの塗布面積を1.3倍以上と求めているため、適用範囲が限定されてしまう可能性が高い。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、生産性の低下を招くことなくインクの濡れ拡がりを防止することのできる配向膜の製造方法と、この方法を用いた液晶表示装置の製造方法とを提供することを目的としている。
前記課題を解決するため本発明の配向膜の製造方法は、溶媒に配向膜材料を溶解させた材料液を液滴吐出法で基板上に配し、配向膜を形成する配向膜の製造方法であって、
前記基板上の、前記配向膜の形成領域を囲む外周領域に、前記材料液に対して相分離を起こす有機溶媒からなる外郭材料を液滴吐出法で配する工程と、
前記基板上の、前記配向膜の形成領域に前記材料液を液滴吐出法で配する工程と、
前記基板上に前記外郭材料と前記材料液とを共に配した後、これら外郭材料と材料液とを乾燥処理して配向膜を形成するとともに外郭材料を除去する工程と、
を有することを特徴としている。
前記基板上の、前記配向膜の形成領域を囲む外周領域に、前記材料液に対して相分離を起こす有機溶媒からなる外郭材料を液滴吐出法で配する工程と、
前記基板上の、前記配向膜の形成領域に前記材料液を液滴吐出法で配する工程と、
前記基板上に前記外郭材料と前記材料液とを共に配した後、これら外郭材料と材料液とを乾燥処理して配向膜を形成するとともに外郭材料を除去する工程と、
を有することを特徴としている。
この配向膜の製造方法によれば、材料液に対して相分離を起こす有機溶媒からなる外郭材料を、配向膜の形成領域を囲む外周領域に配するので、この外郭材料に囲まれる形成領域上の材料液は、外郭材料によってその外側に濡れ拡がることが抑えられる。すなわち、外郭材料が隔壁として機能することで、前記材料液は外郭材料の外側に流れ出ることが防止される。したがって、濡れ拡がりを考慮したビットマップ設計をすることなく、濡れ拡がりによる膜厚ムラを防止することができ、これにより、面内が均一な薄膜を得ることができる。
また、基板に対しての表面処理を行うことなく、しかも、各材料の乾燥も一工程で行うため、生産性の向上を図ることができる。
さらに、外郭材料として、材料液に対して相分離を起こす有機溶媒を用いているので、外郭材料が材料液に混ざることによって相互作用を引き起こすおそれがない。また、外郭材料は乾燥時に気化して基板上から除かれるので、この外郭材料が材料液から得られる配向膜の性状を変化させるといったおそれもない。
また、実験的に材料液(インク)の塗布面積を求めるといったこともしていないので、適用範囲が広くなる。
また、基板に対しての表面処理を行うことなく、しかも、各材料の乾燥も一工程で行うため、生産性の向上を図ることができる。
さらに、外郭材料として、材料液に対して相分離を起こす有機溶媒を用いているので、外郭材料が材料液に混ざることによって相互作用を引き起こすおそれがない。また、外郭材料は乾燥時に気化して基板上から除かれるので、この外郭材料が材料液から得られる配向膜の性状を変化させるといったおそれもない。
また、実験的に材料液(インク)の塗布面積を求めるといったこともしていないので、適用範囲が広くなる。
また、前記の配向膜の製造方法においては、前記外郭材料となる有機溶媒として、その沸点が、前記材料液中の前記溶媒の沸点と同じかそれより高いものを用いるのが好ましい。
このようにすれば、外郭材料と材料液とを熱処理した際、外郭材料が先に全部気化してしまうことが抑えられ、したがって、外郭材料が先に気化してしまうことで材料液が前記形成領域の外側に濡れ拡がってしまうことが確実に防止される。
このようにすれば、外郭材料と材料液とを熱処理した際、外郭材料が先に全部気化してしまうことが抑えられ、したがって、外郭材料が先に気化してしまうことで材料液が前記形成領域の外側に濡れ拡がってしまうことが確実に防止される。
また、前記の配向膜の製造方法においては、前記外郭材料を液滴吐出法で配する工程の後に、前記材料液を液滴吐出法で配する工程を行うのが好ましい。
このようにすれば、材料液が前記形成領域の外側に濡れ拡がってしまうことが、外郭材料によって確実に防止される。
このようにすれば、材料液が前記形成領域の外側に濡れ拡がってしまうことが、外郭材料によって確実に防止される。
また、前記の配向膜の製造方法においては、前記基板上に外郭材料を配する工程での液滴吐出法として、インクジェット法を用いるのが好ましい。
このようにすれば、外郭材料を、配向膜の形成領域を囲む外周領域上により正確に、しかも所望の量だけ配することが可能になる。
このようにすれば、外郭材料を、配向膜の形成領域を囲む外周領域上により正確に、しかも所望の量だけ配することが可能になる。
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、配向膜を形成する工程を、前記の配向膜の製造方法で行うことを特徴としている。
この液晶表示装置の製造方法によれば、前記の配向膜の製造方法で配向膜を形成するので、配向膜の膜厚ムラを防止することができ、また、生産性の向上を図ることもできる。
この液晶表示装置の製造方法によれば、前記の配向膜の製造方法で配向膜を形成するので、配向膜の膜厚ムラを防止することができ、また、生産性の向上を図ることもできる。
以下、本発明を詳しく説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
(成膜装置)
まず、本発明の配向膜の製造方法の説明に先立ち、本発明に用いられる成膜装置について説明する。
図1は、本発明の製造方法に好適に用いられる成膜装置の一例の、概略構成を示す図であり、図1中符号10は成膜装置である。この成膜装置10は、液滴吐出法の一つであるインクジェット法によって配向膜の形成材料である材料液を基板P上に吐出し、配向膜を形成するためのもので、ベース31と、基板移動手段32と、ヘッド移動手段33と、液滴吐出ヘッド34と、液体供給部35と、制御装置40とを備えて構成されている。なお、本例の成膜装置10では、液滴吐出ヘッド34を二つ備えており、したがってこの液滴吐出ヘッド34を移動させるヘッド移動手段33も二つ備えている。
ベース31の上には、基板移動手段32と、二つヘッド移動手段33とが設置されている。また、成膜装置10は、不図示のクリーニングユニットと、キャッピングユニットとを備えている。
まず、本発明の配向膜の製造方法の説明に先立ち、本発明に用いられる成膜装置について説明する。
図1は、本発明の製造方法に好適に用いられる成膜装置の一例の、概略構成を示す図であり、図1中符号10は成膜装置である。この成膜装置10は、液滴吐出法の一つであるインクジェット法によって配向膜の形成材料である材料液を基板P上に吐出し、配向膜を形成するためのもので、ベース31と、基板移動手段32と、ヘッド移動手段33と、液滴吐出ヘッド34と、液体供給部35と、制御装置40とを備えて構成されている。なお、本例の成膜装置10では、液滴吐出ヘッド34を二つ備えており、したがってこの液滴吐出ヘッド34を移動させるヘッド移動手段33も二つ備えている。
ベース31の上には、基板移動手段32と、二つヘッド移動手段33とが設置されている。また、成膜装置10は、不図示のクリーニングユニットと、キャッピングユニットとを備えている。
基板移動手段32は、ベース31上にY軸方向に沿うガイドレール36を有したもので、例えばリニアモータ(図示せず)により、スライダ37をガイドレール36に沿って移動させるよう構成されたものである。
スライダ37上にはステージ39が固定されており、このステージ39は、基板Pを位置決めして保持するためのものである。すなわち、このステージ39は、公知の吸着保持手段(図示せず)を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、基板Pをステージ39の上に吸着保持するように構成されている。基板Pは、例えばステージ39の位置決めピン(図示せず)により、ステージ39上の所定位置に正確に位置決めされ、保持されるようになっている。
スライダ37上にはステージ39が固定されており、このステージ39は、基板Pを位置決めして保持するためのものである。すなわち、このステージ39は、公知の吸着保持手段(図示せず)を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、基板Pをステージ39の上に吸着保持するように構成されている。基板Pは、例えばステージ39の位置決めピン(図示せず)により、ステージ39上の所定位置に正確に位置決めされ、保持されるようになっている。
ヘッド移動手段33は、ベース31の後部側に立てられた一対の架台33a、33aと、これら架台33a、33a上に設けられた走行路33bを備え、この走行路33bをX軸方向、すなわち前記の基板移動手段32のY軸方向と直交する方向に沿って配置したものである。走行路33bは、架台33a、33a間に渡された保持板33cと、この保持板33c上に設けられた一対のガイドレール33d、33dとを備え、ガイドレール33d、33dの長さ方向に液滴吐出ヘッド34を搭載するキャリッジ42を移動可能に保持している。キャリッジ42は、リニアモータ(図示せず)等の作動によってガイドレール33d、33d上を走行し、これにより液滴吐出ヘッド34をX軸方向に移動させるように構成されている。
なお、本例では、前記したように同一構成のヘッド移動手段33が二つ備えられており、これら二つのヘッド移動手段33は、ベース31の後部側において間隔を開けて前後に配設されている。
また、前記のキャリッジ42は、ガイドレール33d、33dの長さ方向、すなわちX軸方向に、例えば、1μm単位で移動可能になっている。キャリッジ42のこのような移動はコンピュータ等からなる制御装置40によって制御可能に構成されている。
制御装置40は、液滴吐出ヘッド34の位置情報、すなわち液滴吐出ヘッド34のガイドレール33d、33d上での位置(X座標)とそのときの各ノズルの位置(X座標)とを検知して記憶するものである。
また、前記のキャリッジ42は、ガイドレール33d、33dの長さ方向、すなわちX軸方向に、例えば、1μm単位で移動可能になっている。キャリッジ42のこのような移動はコンピュータ等からなる制御装置40によって制御可能に構成されている。
制御装置40は、液滴吐出ヘッド34の位置情報、すなわち液滴吐出ヘッド34のガイドレール33d、33d上での位置(X座標)とそのときの各ノズルの位置(X座標)とを検知して記憶するものである。
液滴吐出ヘッド34は、二つのヘッド移動手段33のキャリッジ42に、取付部43を介してそれぞれに回動可能に取り付けられたものである。取付部43にはモータ44が設けられており、液滴吐出ヘッド34はその支持軸(図示せず)がモータ44に連結している。このような構成のもとに、液滴吐出ヘッド34はその周方向に回動可能となっている。また、モータ44も制御装置40に接続されており、これによって液滴吐出ヘッド34はその周方向への回動が、制御装置40に制御されるようになっている。
ここで、液滴吐出ヘッド34は、図2(a)に示すように例えばステンレス製のノズルプレート12と振動板13とを備え、両者を仕切部材(リザーバプレート)14を介して接合したものである。ノズルプレート12と振動板13との間には、仕切部材14によって複数の空間15と液溜まり16とが形成されている。各空間15と液溜まり16の内部は液状体で満たされており、各空間15と液溜まり16とは供給口17を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート12には、空間15から液状体を噴射するためのノズル18が縦横に整列させられた状態で複数形成されている。一方、振動板13には、液溜まり16に液状体を供給するための孔19が形成されている。
また、振動板13の空間15に対向する面と反対側の面上には、図2(b)に示すように圧電素子(ピエゾ素子)20が接合されている。この圧電素子20は、アクチュエータとして機能するもので、一対の電極21を有し、これら電極21、21間に通電されると外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子20が接合されている振動板13は、圧電素子20と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間15の容積が増大するようになっている。したがって、増大した容積分に相当する液状体が、液溜まり16から供給口17を介して空間15内に流入する。また、このような状態から圧電素子20への通電を解除すると、圧電素子20と振動板13はともに元の形状に戻る。したがって、空間15も元の容積に戻ることから、空間15内部の液状体の圧力が上昇し、ノズル18から基板に向けて液状体の液滴22が吐出される。
このような構成からなる液滴吐出ヘッド34は、その底面形状が略矩形状のもので、多数のノズル18を一列に整列配置させたものである。
また、液滴吐出ヘッド34としては、前記の圧電素子20を用いたピエゾジェットタイプ以外にも、例えばエネルギー発生素子として電気熱変換体を用いる方式などを採用することができる。
また、液滴吐出ヘッド34としては、前記の圧電素子20を用いたピエゾジェットタイプ以外にも、例えばエネルギー発生素子として電気熱変換体を用いる方式などを採用することができる。
図1に示すように液体供給部35は、配向膜の材料液L1が充填された供給容器45Aと、外郭材料L2が充填された供給容器45Bと、供給容器45Aから一方の液滴吐出ヘッド34に材料液L1を送るためのインク供給チューブ46Aと、供給容器45Bから他方の液滴吐出ヘッド34に外郭材料L2を送るためのインク供給チューブ46Bとを備えたものである。
ここで、本例では、配向膜の材料液(材料インク)L1として、溶媒に液晶分子の配向を規制する配向膜の材料を溶解させたものが用いられる。配向膜の材料としては、例えばポリイミドが用いられる。また、この配向膜の材料を溶解する溶媒としては、γ−ブチロラクトン(GBL)、ブチルセロソルブ(BC)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)等の有機溶剤が用いられる。なお、このような材料インクL1としては、市販のものとして、例えばJSR社製のAL−6061を、前記液滴吐出ヘッド34での吐出が可能になるように、溶媒で希釈したものが使用可能である。希釈用の溶媒としては、前記のGBL、BC、NMPなどが使用可能である。
一方、外郭材料L2としては、前記材料液L1に対して相分離を起こす有機溶媒が用いられる。このような有機溶媒としては、例えばフッ素系の不活性溶剤であるフロリナートが好適に用いられる。フロリナートとして具体的には、3M社製のフロリナートFC−70(沸点215℃)、フロリナートFC−43(沸点174℃)、フロリナートFC−40(沸点155℃)、ノベックHFE7600(沸点131℃)などが挙げられる。
(配向膜の製造方法)
次に、本発明の配向膜の製造方法の一実施形態について説明する。本実施形態では、基板Pとして透明基板上に絶縁膜、TFT、電極及び配線等が形成された液晶表示装置の素子基板を用意し、前記の成膜装置10を用いて基板P上に前述の材料液L1を吐出し、配向膜を製造するようにしている。
次に、本発明の配向膜の製造方法の一実施形態について説明する。本実施形態では、基板Pとして透明基板上に絶縁膜、TFT、電極及び配線等が形成された液晶表示装置の素子基板を用意し、前記の成膜装置10を用いて基板P上に前述の材料液L1を吐出し、配向膜を製造するようにしている。
まず、図1に示すように、ステージ39上に基板Pを位置決めピンにより位置決めして配置し、吸着保持手段により基板Pをステージ39の上に吸着保持する。これにより、基板Pは、ステージ39上に正確に位置決めされた状態で保持される。
次に、基板移動手段32及びヘッド移動手段33により、外郭材料L2を吐出する側の液滴吐出ヘッド34を基板Pに対して相対的に移動させ、かつ、取付部43のモータ44を作動させて、外郭材料L2を吐出する側の液滴吐出ヘッド34を基板Pに対する初期位置に配置する。
次に、基板移動手段32及びヘッド移動手段33により、外郭材料L2を吐出する側の液滴吐出ヘッド34を基板Pに対して相対的に移動させ、かつ、取付部43のモータ44を作動させて、外郭材料L2を吐出する側の液滴吐出ヘッド34を基板Pに対する初期位置に配置する。
続いて、図3(a)の側面図に示すように、この液滴吐出ヘッド34から基板P上に外郭材料L2を吐出する。そして、再度基板移動手段32とヘッド移動手段33とを作動させ、液滴吐出ヘッド34を基板Pに対して相対的に移動させつつ、外郭材料L2の吐出を行う。これにより、図3(b)の平面図に示すように、配向膜の形成領域Cを囲む外周領域Eに外郭材料L2を吐出し、これによって矩形枠状の外郭5を形成する。その際、液滴吐出ヘッド34によって外郭材料L2をインクジェット法で吐出しているので、外郭材料L2を、外周領域E上により正確に、しかも所望の量だけ配することができる。
ここで、この外郭5を形成する外郭材料L2としては、本実施形態では前記した3M社製のフロリナートFCが用いられる。このフロリナートは、フッ素系不活性溶剤であり、沸点が215℃のものである。このフロリナートは、不活性であることから、他の有機溶媒との相溶性が極めて低いものとなっている。したがって、基板Pの表面に対しても濡れ性が悪く、濡れ拡がることがないため、図3(a)に示したように枠状の状態を保持するようになっている。なお、この外郭材料L2からなる外郭5については、その高さが、後述する材料液L1からなる配向膜層の厚さより高く(厚く)なるように形成するのが好ましく、本実施形態では、配向膜層の厚さより十分に高く(厚く)なるように形成している。ただし、実際には材料液L1が外郭材料L2を乗り越えることはないので、配向膜層の厚さより薄くすることも可能である。
次いで、材料液L1を吐出するべく、この材料液L1を吐出する側の液滴吐出ヘッド34を移動させるヘッド移動手段33と、基板移動手段32とを作動させ、液滴吐出ヘッド34を基板Pに対して相対的に移動させることにより、液滴吐出ヘッド34を基板Pに対する初期位置に配置する。
続いて、図4(a)に示すように、基板P上に液滴吐出ヘッド34から材料液L1を吐出する。そして、再度基板移動手段32とヘッド移動手段33とを作動させ、液滴吐出ヘッド34を基板Pに対して相対的に移動させつつ、材料液L1の吐出を行う。これにより、図4(b)に示すように配向膜の形成領域C、すなわち、矩形枠状の外郭5に囲まれた領域に材料液L1を配し、配向膜層6を形成する。
続いて、図4(a)に示すように、基板P上に液滴吐出ヘッド34から材料液L1を吐出する。そして、再度基板移動手段32とヘッド移動手段33とを作動させ、液滴吐出ヘッド34を基板Pに対して相対的に移動させつつ、材料液L1の吐出を行う。これにより、図4(b)に示すように配向膜の形成領域C、すなわち、矩形枠状の外郭5に囲まれた領域に材料液L1を配し、配向膜層6を形成する。
この配向膜層6を形成する材料液L1としては、本実施形態では前記したように、JSR社製のAL−6061を、前記液滴吐出ヘッド34での吐出が可能になるように、溶媒で希釈したものを用いる。例えば、固形分濃度を3.5wt%とし、これを溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)[沸点;204℃]とブチルセロソルブ(BC)[沸点;170℃]とで溶解(希釈)したものを用いる。なお、溶媒組成としては、(NMP/BC)=(50/50)とする。この材料液L1にあっては、溶媒(有機溶剤)の沸点が170℃から204℃であり、前記のフロリナート(外郭材料L1)の沸点(215℃)より低くなっている。
このようにして材料液L1を配すると、この材料液L1は基板Pに対してある程度濡れ拡がることから、形成領域C全体に濡れ拡がって均一な層を形成する。しかし、形成領域Cの外周には外郭5が形成されており、この外郭5を形成する外郭材料L2は材料液L1に対して相分離を起こす有機溶媒(フロリナート)からなっているため、この外郭5によってその外側に濡れ拡がることを抑えることができる。すなわち、外郭5が隔壁として機能することで、材料液L2は外郭5の外側に流れ出ることが防止される。
なお、この外郭5は、前述したようにその高さが配向膜層6の厚さより高く(厚く)なっているので、この隔壁50に囲まれた材料液L2は、隔壁50を乗り越えてその外側に流れ出ることが確実に防止される。ただし、外郭5の高さを配向膜層6の厚さより薄く(低く)しても、外郭材料L2は不活性なフロリナートからなっており、材料液L1に対して撥液性を発揮することから、実際には材料液L1が外郭材料L2を乗り越えないのは、前述した通りである。
また、外郭材料L2として、材料液L1に対して相分離を起こす有機溶媒(フロリナート)を用いており、特にフロリナートが不活性であって他の有機溶媒との相溶性が極めて低いことから、材料液L1に対しても互いに混じる合うことがなく、したがって、この外郭材料L2が材料液L1に混ざることによって相互作用を引き起こすおそれがない。
なお、これら材料液L1からなる配向膜層6と外郭材料L2からなる外郭5とは、いずれも有機溶媒の沸点が170℃以上と高いので、常温では乾燥がそれほど早く進むことはなく、したがって、液状の状態のままに保持される。
なお、これら材料液L1からなる配向膜層6と外郭材料L2からなる外郭5とは、いずれも有機溶媒の沸点が170℃以上と高いので、常温では乾燥がそれほど早く進むことはなく、したがって、液状の状態のままに保持される。
次いで、これら材料液L1からなる配向膜層6と外郭材料L2からなる外郭5とを、例えば60℃〜80℃程度で数分間程度加熱処理する。すると、本実施形態では、材料液L1の溶媒の沸点の方が外郭材料L2の沸点より低いので、配向膜層6中の溶媒が先に気化して除去され、図5(a)、(b)に示すようにその溶質であるポリイミドが析出し、厚さ30〜100nm程度にのポリイミドからなる配向膜7が得られる。そして、その後外郭材料L2も気化する。すると、この外郭材料L2は溶剤のみから形成されているので、図5(a)、(b)に示したようにこの外郭材料L2は基板P上から全て除かれるようになる。
したがって、このような乾燥処理(熱処理)により、基板P上の所望領域、すなわち配向膜の形成領域Cに、配向膜7を設計寸法通りに形成することができる。
このような配向膜の製造方法によれば、前記したように外郭材料L2からなる外郭5を隔壁として機能させることにより、材料液L2が外郭5の外側に流れ出るのを防止しているので、濡れ拡がりを考慮したビットマップ設計をすることなく、濡れ拡がりによる膜厚ムラを防止することができる。したがって、面内が均一な配向膜(薄膜)7を得ることができる。
このような配向膜の製造方法によれば、前記したように外郭材料L2からなる外郭5を隔壁として機能させることにより、材料液L2が外郭5の外側に流れ出るのを防止しているので、濡れ拡がりを考慮したビットマップ設計をすることなく、濡れ拡がりによる膜厚ムラを防止することができる。したがって、面内が均一な配向膜(薄膜)7を得ることができる。
また、基板Pに対しての表面処理を行うことなく、しかも、配向膜層6(材料液L1)、外郭5(外郭材料L2)の乾燥(熱処理)も一工程で行うため、従来に比べて生産性の向上を図ることができる。
さらに、外郭材料L2として、材料液L1に対して相分離を起こす有機溶媒を用いているので、外郭材料L2が材料液に混ざることによって相互作用を引き起こすおそれがない。また、外郭材料L2を乾燥時に気化させて基板P上から除去するので、この外郭材料L2が材料液L1から得られる配向膜7の性状を変化させるといったおそれもない。したがって良好な膜質の配向膜7を形成することができる。
また、実験的に材料液(インク)の塗布面積を求めるといったこともしていないので、適用範囲が広くなる。
さらに、外郭材料L2として、材料液L1に対して相分離を起こす有機溶媒を用いているので、外郭材料L2が材料液に混ざることによって相互作用を引き起こすおそれがない。また、外郭材料L2を乾燥時に気化させて基板P上から除去するので、この外郭材料L2が材料液L1から得られる配向膜7の性状を変化させるといったおそれもない。したがって良好な膜質の配向膜7を形成することができる。
また、実験的に材料液(インク)の塗布面積を求めるといったこともしていないので、適用範囲が広くなる。
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば、前記実施形態では外郭材料L2として、その沸点が材料液L1中の溶媒の沸点より高いものを用いたが、本発明は、外郭材料L2として、その沸点が材料液L1中の溶媒の沸点と同じかそれより低いものを用いることもできる。その場合、乾燥時(熱処理時)において外郭材料L2が材料液L2中の溶媒とほぼ同じかこれより先に気化して除去される。しかし、そのときには材料液L1も溶媒の気化が進んでおり、材料液L1は高粘度になってほとんど流動性が失われているので、形成領域Cの外側に流れ出ることがほとんどなく、したがって、濡れ拡がりによる膜厚ムラが防止されるようになる。
また、前記実施形態では、基板P上に外郭材料L2を配した後、材料液L1を配するようにしたが、本発明においては、これら外郭材料L2と材料液L1との吐出順を逆にしたり、あるいは二つの液滴吐出ヘッド34から同時に吐出するようにしてもよい。具体的には、材料液L1について特にその形成領域Cにおける中央部への吐出と、外郭材料L2の吐出とを同時にあるいは前後して行い、その後、これら外郭材料L2と材料液L1との間を埋めるように、形成領域Cにおける周辺部への吐出を行うようにしてもよい。このようにしても、外郭5(外郭材料L2)が隔壁として機能することにより、材料液L2が外郭5の外側に流れ出るのを防止することができる。
また、前記実施形態では、材料液L1の吐出や外郭材料L2の吐出に前記成膜装置10を用い、したがって、液滴吐出法として特にインクジェット法を用いて吐出を行うようにしたが、本発明はインクジェット法に限定されることなく、例えばディスペンサによって液滴吐出を行うようにしてもよい。
次に、このような配向膜の製造方法を配向膜の形成工程として備えた、液晶表示装置の製造方法について説明する。図6は、本実施形態により製造される液晶表示装置の断面の概略を示す図である。
図6に示す液晶表示装置51は、パッシブマトリクス方式の半透過反射型カラー液晶表示装置である。この液晶表示装置51は、ガラス、プラスチック等からなる矩形平板形状の下基板52aと、上基板52bとがシール材及びスペーサ(図示せず)を介して対向配置され、この下基板52aと上基板52bとの間に液晶層56が挟持されている。
図6に示す液晶表示装置51は、パッシブマトリクス方式の半透過反射型カラー液晶表示装置である。この液晶表示装置51は、ガラス、プラスチック等からなる矩形平板形状の下基板52aと、上基板52bとがシール材及びスペーサ(図示せず)を介して対向配置され、この下基板52aと上基板52bとの間に液晶層56が挟持されている。
下基板52aと液晶層56との間には、下基板52aの側から複数のセグメント電極58及び液晶配向膜60が形成されている。セグメント電極58は、図6に示すように、ストライプ状に形成されており、インジウム錫酸化物(ITO)等の透明導電膜により形成されている。なお、液晶配向膜60は、前記した配向膜の製造方法によって形成されてなる配向膜7からなっている。
また、上基板52bと液晶層56との間には、上基板52b側から順に、カラーフィルタ62、オーバーコート膜66、コモン電極68及び液晶配向膜70が形成されている。カラーフィルタ62は、赤(R)、緑(G)、青(B)の各色素層62r、62g、62bから構成されており、カラーフィルタ62を構成する各色素層62r、62g、62bの間(境界)には、樹脂ブラックや光の反射率が低いクロム(Cr)等の金属により構成されるブラックマトリクス64が形成されている。なお、カラーフィルタ62を構成する各色素層62r、62g、62bは下基板52aに形成されているセグメント電極58に対向して配置されている。
オーバーコート膜66は、各色素層62r、62g、62b間の段差を平坦化すると共に各色素層の表面を保護するものであり、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、シリコン酸化膜等の無機膜により形成されている。
コモン電極68は、ITO等の透明導電膜から形成されており、下基板52aに形成されているセグメント電極58と直交する位置にストライプ状に形成されている。
また、液晶配向膜70は、前記液晶配向膜60と同様に、前記した配向膜の製造方法によって形成されてなる配向膜7からなっている。
コモン電極68は、ITO等の透明導電膜から形成されており、下基板52aに形成されているセグメント電極58と直交する位置にストライプ状に形成されている。
また、液晶配向膜70は、前記液晶配向膜60と同様に、前記した配向膜の製造方法によって形成されてなる配向膜7からなっている。
このような構成からなる液晶表示装置51を製造するに際して、特に液晶配向膜60、70を形成するには、図3、図4、図5に示した方法を用いて行う。すなわち、下基板52a上、および上基板52b上のそれぞれの外周領域Eに外郭材料L2を配し、次いでこの外郭材料L2に囲まれてなる形成領域Cに材料液L1を配する。その後、これら材料液L1と外郭材料L2とを共に乾燥(加熱処理)し、液晶配向膜60、70(配向膜7)を形成するとともに、外郭材料L2を除去する。
このようにして液晶配向膜60、70(配向膜7)を形成すれば、前述したように濡れ拡がりを考慮したビットマップ設計をすることなく、濡れ拡がりによる膜厚ムラを防止することができる。したがって、面内が均一な液晶配向膜60、70(配向膜7)を得ることができる。
よって、この液晶表示装置の製造方法によれば、液晶配向膜60、70(配向膜7)の膜厚ムラを防止することができ、また、生産性の向上を図ることもできる。
よって、この液晶表示装置の製造方法によれば、液晶配向膜60、70(配向膜7)の膜厚ムラを防止することができ、また、生産性の向上を図ることもできる。
L1…材料液、L2…外郭材料、P…基板、C…形成領域、E…外周領域、5…外郭、6…配向膜層、7…配向膜、34…液滴吐出ヘッド
Claims (5)
- 溶媒に配向膜材料を溶解させた材料液を液滴吐出法で基板上に配し、配向膜を形成する配向膜の製造方法であって、
前記基板上の、前記配向膜の形成領域を囲む外周領域に、前記材料液に対して相分離を起こす有機溶媒からなる外郭材料を液滴吐出法で配する工程と、
前記基板上の、前記配向膜の形成領域に前記材料液を液滴吐出法で配する工程と、
前記基板上に前記外郭材料と前記材料液とを共に配した後、これら外郭材料と材料液とを乾燥処理して配向膜を形成するとともに外郭材料を除去する工程と、
を有することを特徴とする配向膜の製造方法。 - 前記外郭材料となる有機溶媒として、その沸点が、前記材料液中の前記溶媒の沸点と同じかそれより高いものを用いることを特徴とする請求項1記載の配向膜の製造方法。
- 前記外郭材料を液滴吐出法で配する工程の後に、前記材料液を液滴吐出法で配する工程を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の配向膜の製造方法。
- 前記基板上に外郭材料を配する工程での液滴吐出法として、インクジェット法を用いることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の配向膜の製造方法。
- 配向膜を形成する工程を、請求項1〜4のいずれか一項に記載した配向膜の製造方法で行うことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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2008
- 2008-04-16 JP JP2008106724A patent/JP2009258351A/ja active Pending
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