JP2009245969A - Substrate processing apparatus - Google Patents

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亮介 中村
Yasuaki Aoshima
泰明 青島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing apparatus having a detecting device eliminating the necessity of setting adjusting operation such as a sensitivity adjustment irrespective of the color of each substrate and highly accurately detecting even a transparent substrate. <P>SOLUTION: The substrate processing apparatus includes: a carrying device for carrying a printed board along a carrying path on a pedestal; the detecting device for detecting the presence or absence of an object to be carried such as the printed board on the detecting position set on the carrying path; an executing section for executing predetermined processing such as mounting of electric components for the printed board carried to the working position on the pedestal by the carrying device. The detecting device is constituted by adjacently arranging a plurality of ultrasonic sensors each consisting of a wave transmitter for transmitting an ultrasonic radio wave; and a wave receiver for receiving a reflected wave of an ultrasonic wave transmitted by the wave transmitter and reflected on the object to be carried on the detecting position, and outputting a detecting signal according to the level of the received reflection wave. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、上流側から搬入される基板に対して、半田ペーストの印刷、接着剤の塗布、電子部品の実装、基板検査など予め決められた処理を実行し、処理済みの基板を下流側に搬出する基板処理装置に関する。   The present invention performs predetermined processes such as solder paste printing, adhesive application, electronic component mounting, and board inspection on a board carried from the upstream side, and the processed board is placed downstream. The present invention relates to a substrate processing apparatus to be carried out.

従来から、印刷機、ディスペンサ、表面実装機、リフロー装置などの各種基板処理装置を一列状に配置して製造ラインを構築し、プリント基板に、半田ペーストの印刷処理、接着剤の塗布処理、電子部品の実装処理、基板検査処理、リフロー処理の各処理を順に行うことで、実装基板を製造することが広く行われている。この種の基板処理装置においては、プリント基板を目的の作業位置に搬送、及び隣接する装置との間にて受け渡す必要があり、プリント基板搬送用の搬送装置を備えている。そして、搬送装置に光学式のセンサを付設してプリント基板の搬送状況を検出することで、搬送装置を制御している(下記特許文献1〜3参照)。
特開2005−93765公報 特開2005−45140公報 特開平6−211334号公報
Conventionally, various substrate processing devices such as printers, dispensers, surface mounters, reflow devices, etc. are arranged in a line to build a production line, and solder paste printing processing, adhesive coating processing, electronic It is widely performed to manufacture a mounting board by sequentially performing component mounting processing, substrate inspection processing, and reflow processing. In this type of substrate processing apparatus, it is necessary to transport the printed circuit board to a target work position and to transfer it between adjacent apparatuses, and includes a transport apparatus for transporting the printed circuit board. Then, the conveyance device is controlled by attaching an optical sensor to the conveyance device and detecting the conveyance state of the printed circuit board (see Patent Documents 1 to 3 below).
JP 2005-93765 A JP 2005-45140 A Japanese Patent Laid-Open No. 6-211334

光学式のセンサを用いてプリント基板の検出を行うものでは、以下の問題点がある。
(a)プリント基板の種類は多様であり、基板の種類に応じて基板色もそれぞれ異なる。基板色が異なると、それに応じて光の吸光度が変わるので、投光側の出力調整、受光感度の調整などの設定調整作業を行う必要があり、手間がかかる。
(b)透明基板の検出が不可能である。
(c)透明基板以外であってもプリント基板に反りがある場合には、光の反射方向が変わってしまうので、基板の検出を高精度に行うことが出来ない。
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、基板色に拘わらず、感度調整などの設定調整作業が不要であり、かつ透明基板などについても高精度に検出可能な検出装置を有する基板処理装置を提供することを目的とする。
In the case of detecting a printed circuit board using an optical sensor, there are the following problems.
(A) There are various types of printed circuit boards, and the substrate colors are different depending on the types of boards. If the substrate color is different, the light absorbance changes accordingly, and it is necessary to perform setting adjustment work such as output adjustment on the light emitting side and adjustment of light receiving sensitivity, which is troublesome.
(B) The transparent substrate cannot be detected.
(C) Even if the printed circuit board is warped other than the transparent substrate, the light reflection direction changes, so that the substrate cannot be detected with high accuracy.
The present invention has been completed based on the above circumstances, and does not require setting adjustment work such as sensitivity adjustment regardless of the substrate color, and can detect a transparent substrate with high accuracy. An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus having the apparatus.

基台と、前記基台上に設けられる搬送路に沿ってプリント基板を直接的、或いは板状の基板支持体を介して間接的に搬送する搬送装置と、前記プリント基板、及び前記基板支持体を搬送対象物と定義したときに、前記搬送路上にて設定された検出位置における前記搬送対象物の有無を検出する検出装置と、前記搬送装置によって前記基台上の作業位置に搬入された前記プリント基板に対して半田ペーストの印刷、接着剤の塗布、電子部品の実装、基板検査など予め決められた処理を実行する実行部と、を備えた基板処理装置であって、
前記検出装置は、
(1)超音波を送波する送波器と、前記送波器より送波され前記検出位置にある前記搬送対象物で反射した超音波の反射波を受波し、受波した反射波のレベルに応じた検出信号を出力する受波器と、からなる複数個の超音波センサを、互いに隣接して配置してなるセンサ群と、
(2)前記超音波を前記検出位置に向けて送波する送波動作と前記反射波を受波する受波動作とからなる検出動作を、前記センサ群を構成する各超音波センサに同期、或いは検出周期だけずらして実行させるセンサ制御部と、を備えてなる。
A base, a transport device that transports a printed circuit board directly or indirectly via a plate-shaped substrate support along a transport path provided on the base, the printed circuit board, and the substrate support Is defined as a transport object, a detection device for detecting the presence or absence of the transport object at a detection position set on the transport path, and the transport device transported to the work position on the base An execution unit that executes predetermined processing such as printing solder paste, applying adhesive, mounting electronic components, and inspecting a substrate on a printed circuit board,
The detection device includes:
(1) A transmitter that transmits an ultrasonic wave, and a reflected wave of the ultrasonic wave that is transmitted from the transmitter and reflected by the object to be conveyed at the detection position. A receiver that outputs a detection signal corresponding to the level, and a plurality of ultrasonic sensors that are arranged adjacent to each other;
(2) A detection operation including a transmission operation for transmitting the ultrasonic wave toward the detection position and a reception operation for receiving the reflected wave is synchronized with each ultrasonic sensor constituting the sensor group. Alternatively, a sensor control unit that is executed by shifting the detection period is provided.

この発明の実施態様として、以下の構成としておくことが、好ましい。
・前記超音波センサは、電気的振動と機械的振動を相互に変換する単一個の圧電振動子を、前記送波器及び前記受波器として共用するセンサである。このようにしておけば、検出装置を安価に構成できる。
As an embodiment of the present invention, the following configuration is preferable.
The ultrasonic sensor is a sensor that shares a single piezoelectric vibrator that mutually converts electrical vibration and mechanical vibration as the transmitter and the receiver. In this way, the detection device can be configured at low cost.

・前記センサ群は、互いに隣接して配置された一対の超音波センサから構成されると共に、前記センサ制御部は、前記一対の超音波センサに対して前記検出動作を同じ検出周期、かつ同時的に実行させる第一の検出パターンと、一方の超音波センサを送波器として使用し、他方の超音波センサを受波器として使用する第二の検出パターンと、を交互に実行させるところに特徴を有する。
・前記第一の検出パターンと、第二の検出パターンの少なくともいずれかの一方のパターンにて前記反射波の検出が有ることを条件に、搬送対象物有りと判断し、前記搬送装置及びそれに付属される装置の駆動、或いは前記実行部の駆動を制御する制御手段を、備える。このようにしておけば、第一の検出パターンにて検出位置一帯の広範な範囲について基板の有無を検出でき、また、第二の検出パターンにて、いわゆる近距離の検出が可能となる。
The sensor group includes a pair of ultrasonic sensors arranged adjacent to each other, and the sensor control unit performs the detection operation on the pair of ultrasonic sensors in the same detection cycle and simultaneously. And a second detection pattern in which one ultrasonic sensor is used as a transmitter and the other ultrasonic sensor is used as a receiver. Have
-It is determined that there is an object to be transported on the condition that the reflected wave is detected in at least one of the first detection pattern and the second detection pattern, and the transport device and its attachment Control means for controlling the driving of the apparatus to be executed or the driving of the execution unit. If it does in this way, the presence or absence of a board | substrate can be detected about the wide range of a detection position belt | band | zone with a 1st detection pattern, and what is called a short distance can be detected with a 2nd detection pattern.

本発明によれば、搬送対象物の検出に超音波センサを用いている。超音波であれば、空気の振動を遮るような障害物であれば、障害物の表面色(透明/不透明も含む)が異なっても同じように反射するから表面色の別に拘わらず検出が可能であり、従来では必要であった設定調整作業を廃止できる。   According to the present invention, an ultrasonic sensor is used to detect a conveyance object. In the case of an ultrasonic wave, if it is an obstacle that blocks air vibrations, it will be reflected in the same way even if the surface color (including transparent / opaque) of the obstacle is different, so detection is possible regardless of the surface color. Therefore, it is possible to abolish setting adjustment work that was necessary in the past.

加えて、本発明のものは、複数個の超音波センサを互いに隣接して配置させて使用している。よって、単一の超音波センサを使用した場合に比べて、検出位置一帯のより広い範囲に、超音波を照射でき、検出エリアを広くとれる。従って、搬送対象物に切り欠きや、スリットなどの開口が設けられていても、これら切り欠きやスリットが検出エリア(超音波の照射領域内)に収まるので、スリット等の影響をほとんど受けず、搬送対象物の有無を検出することが可能となる。   In addition, the present invention uses a plurality of ultrasonic sensors arranged adjacent to each other. Therefore, compared with the case where a single ultrasonic sensor is used, it is possible to irradiate ultrasonic waves in a wider range of the detection position, and the detection area can be widened. Therefore, even if a notch or opening such as a slit is provided in the object to be transported, the notch or slit fits in the detection area (within the ultrasonic irradiation area), so it is hardly affected by the slit or the like. It becomes possible to detect the presence or absence of the conveyance object.

しかも、本発明のものは、これら複数の超音波センサを同期させ、あるいは検出周期分だけずれして動作させているので、隣接する超音波センサ間での相互干渉(他の超音波センサの検出動作による反射波が予期せぬタイミングで観測されるなど)を未然に回避することが可能となり、この点も効果的である。   In addition, in the present invention, these plural ultrasonic sensors are operated synchronously or shifted by the detection period, so that mutual interference between adjacent ultrasonic sensors (detection of other ultrasonic sensors). It is possible to avoid the fact that the reflected wave due to the operation is observed at an unexpected timing, and this point is also effective.

以上のことから、検出位置における搬送対象物の有無を正確に検出することが可能となり、搬送対象物の搬送制御、基板に対する部品実装処理、印刷処理などを円滑に行うことが可能となる結果、基板処理装置を高稼働率にて稼動できる。   From the above, it is possible to accurately detect the presence or absence of a conveyance object at the detection position, and as a result, it is possible to smoothly perform conveyance control of the conveyance object, component mounting processing on the board, printing processing, etc. The substrate processing apparatus can be operated at a high operating rate.

<実施形態1>
本発明の実施形態1を図1ないし図15によって説明する。図1は表面実装機の平面図、図2は図1中のA−A線断面図、図3は図2をC方向から見た図である。本表面実装機1はプリント基板(以下、単に基板)Pに対して電子部品Bを実装する装置であり、図1にて示すように、上面が平らな基台10上に各種装置(基板Pを搬送する搬送コンベア20、基板P上に電子部品Bを実装する実装作業装置100)を配置してなる。
<Embodiment 1>
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view of a surface mounter, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1, and FIG. 3 is a view of FIG. The surface mounter 1 is a device for mounting an electronic component B on a printed circuit board (hereinafter simply referred to as a substrate) P. As shown in FIG. 1, various devices (substrate P) are mounted on a base 10 having a flat upper surface. And a mounting conveyor 100 for mounting the electronic component B on the substrate P.

尚、以下の説明において、基台10の長手方向(図1、図3の左右方向)をX方向と呼ぶものとし、Y方向、Z方向をそれぞれ図1〜3の向きに定めるものとする。また、図1において右手側を上流側(作業対象となる基板Pの搬入側)、左手側を下流側(作業済みの基板Pの搬出側)として説明を行う。   In the following description, the longitudinal direction of the base 10 (the left-right direction in FIGS. 1 and 3) is referred to as the X direction, and the Y direction and the Z direction are defined in the directions of FIGS. Further, in FIG. 1, the description will be made assuming that the right hand side is the upstream side (loading side of the substrate P to be worked) and the left hand side is the downstream side (loading side of the worked substrate P).

1.基板Pを搬送するコンベア及びそれに付属される装置
基台10はX方向に長い長方形状をなしており、中央に搬送コンベア(以下、単にコンベアと呼ぶ)20を配置し、また、上流側にあたる基台10の右端に搬入コンベア12を、下流側にあたる基台10の左端に搬出コンベア13を配置している。これら3つのコンベア12、13、20は互いに段差なく連続しており、作業対象となる基板PをX方向(図1の右側から左側)に順々に送ることが出来る構成となっている。ここでは、図2を参照して、基台10の中央に設置される搬送コンベア20の構成について説明するものとする。
1. Conveyor for transporting substrate P and apparatus attached thereto Base 10 has a long rectangular shape in the X direction, a transport conveyor (hereinafter simply referred to as a conveyor) 20 is disposed at the center, and a base on the upstream side. A carry-in conveyor 12 is disposed at the right end of the table 10 and a carry-out conveyor 13 is disposed at the left end of the base 10 on the downstream side. These three conveyors 12, 13, and 20 are continuous with each other without any step, and are configured so that the substrate P to be worked can be sequentially sent in the X direction (from the right side to the left side in FIG. 1). Here, with reference to FIG. 2, the structure of the conveyance conveyor 20 installed in the center of the base 10 shall be demonstrated.

搬送コンベア20は基台10上にて基板Pの搬送路Lcを形成するものであって、側壁体21、搬送ベルト25、及びコンベアモータ27を主体に構成されている。側壁体21は図2に示すようにY方向に向かい合う一対からなり、図3にて示すようにX方向に延びている。そして、各側壁体21の内周面であって、上部寄りの位置には一対のローラ23を掛け渡して搬送ベルト25が取り付けられている。両側壁体21の搬送ベルト25は、コンベアモータ27の作動により、X方向(図3の左右方向)に循環駆動する構成となっている。このような構成とすることで、ベルト上面の基板PをX方向に搬送できるようになっている。   The transport conveyor 20 forms a transport path Lc for the substrate P on the base 10 and is mainly composed of a side wall body 21, a transport belt 25, and a conveyor motor 27. As shown in FIG. 2, the side wall body 21 is composed of a pair facing in the Y direction, and extends in the X direction as shown in FIG. A pair of rollers 23 are stretched over the inner peripheral surface of each side wall body 21 and closer to the upper portion, and a conveyor belt 25 is attached. The conveyor belt 25 of the both side walls 21 is configured to circulate in the X direction (left and right direction in FIG. 3) by the operation of the conveyor motor 27. With such a configuration, the substrate P on the upper surface of the belt can be transported in the X direction.

また、図1に示す符号50は基板ストッパ、符号60はバックアップ装置である。基板ストッパ50は基台中央のやや左手側に配置され、シリンダ駆動などにより図3に示す下降位置と、図4に示す上昇位置に昇降操作可能なストッパピン51を備える。   Further, reference numeral 50 shown in FIG. 1 is a substrate stopper, and reference numeral 60 is a backup device. The substrate stopper 50 is disposed slightly on the left-hand side of the center of the base, and includes a stopper pin 51 that can be moved up and down to a lowered position shown in FIG. 3 and a raised position shown in FIG.

図3に示す下降位置では、ストッパピン51のピン先端が搬送される基板Pの高さより下方に位置する結果、基板Pは基板ストッパ50の上方を通過可能となる。その一方、図4に示す上昇位置では、ストッパピン51のピン先端が、搬送される基板Pの高さより高くなる結果、搬送される基板Pがストッパピン51に突き当たってその位置、すなわち基台中央の実装作業位置(本発明の「作業位置」に相当)にて停止される構成となっている。   In the lowered position shown in FIG. 3, the tip of the stopper pin 51 is positioned below the height of the substrate P to be transported. As a result, the substrate P can pass over the substrate stopper 50. On the other hand, in the raised position shown in FIG. 4, as a result of the tip of the stopper pin 51 becoming higher than the height of the substrate P to be conveyed, the substrate P to be conveyed hits the stopper pin 51 and is in that position, that is, the center of the base. Is stopped at the mounting work position (corresponding to the “work position” of the present invention).

バックアップ装置60は基台中央の実装作業位置に取り付けられており、多数個のバックアップピン61を起立状態に保持したバックアッププレート65と、同バックアッププレート65を昇降させる昇降軸71を備えた昇降装置70とから構成されている。   The backup device 60 is attached to a mounting work position in the center of the base, and includes a backup plate 65 that holds a large number of backup pins 61 in an upright state, and a lifting device 70 that includes a lifting shaft 71 that lifts and lowers the backup plate 65. It consists of and.

バックアッププレート65は昇降装置70の作動により、図2に示す下降位置と、図5に示す上昇位置とに変位可能となっている。   The backup plate 65 can be displaced to the lowered position shown in FIG. 2 and the raised position shown in FIG.

バックアッププレート65を図2に示す下降位置に位置させると、コンベア上を搬送される基板Pの下方において、各バックアップピン61が、基板Pから所定距離隔てた離間状態となる。その一方、バックアッププレート65を図5に示す上昇位置に移動させると、バックアップピン61が基板下面の中央を下から持ち上げてバックアップしつつ、実装作業位置にて停止した基板Pを側壁体21の上部に取り付けられたガイド片29との間に挟み付けて保持する構成となっている。   When the backup plate 65 is positioned at the lowered position shown in FIG. 2, the backup pins 61 are separated from the substrate P by a predetermined distance below the substrate P conveyed on the conveyor. On the other hand, when the backup plate 65 is moved to the raised position shown in FIG. 5, the backup pin 61 lifts the center of the lower surface of the substrate from the bottom and backs up the substrate P stopped at the mounting work position. The guide piece 29 is attached to and held between the guide pieces 29.

図6は基台中央の拡大図であり、同図に示す符号30はセンサユニットである。センサユニット30は、ベース部37上に超音波センサ31A、31BをX方向に、2つ横並び状に配置したものである。係る超音波センサ31A、31Bの具体的構成は図7に示す通りであり、下部に基板部を取り付けた金属製のケーシング35内に、電気的振動と機械的振動を相互に変換する圧電セラミック振動子(本発明の「圧電振動子」に相当)33を収容したものである。そして、ケーシング下部の基板部から端子34が引き出されており、この端子34と圧電セラミック振動子33との間がリード線Qにて接続されている。   FIG. 6 is an enlarged view of the center of the base, and reference numeral 30 shown in the figure is a sensor unit. In the sensor unit 30, two ultrasonic sensors 31 </ b> A and 31 </ b> B are arranged side by side in the X direction on the base portion 37. The specific configuration of the ultrasonic sensors 31A and 31B is as shown in FIG. 7, and a piezoelectric ceramic vibration that mutually converts electrical vibration and mechanical vibration in a metal casing 35 having a substrate portion attached to the lower part. A child (corresponding to the “piezoelectric vibrator” of the present invention) 33 is accommodated. A terminal 34 is drawn out from the substrate portion at the bottom of the casing, and the terminal 34 and the piezoelectric ceramic vibrator 33 are connected by a lead wire Q.

圧電セラミック振動子33は超音波を送波する送波器としての機能と、超音波を受波する受波器の機能を兼用しており、高い周波数の電圧を印加すると圧電効果により超音波を送波し、また超音波を受波すると、そのレベルに応じた電気信号(以下、検出信号Srと呼ぶ)を出力する。   The piezoelectric ceramic vibrator 33 has both a function as a transmitter for transmitting ultrasonic waves and a function of a receiver for receiving ultrasonic waves. When a high frequency voltage is applied, ultrasonic waves are generated by the piezoelectric effect. When a wave is transmitted and an ultrasonic wave is received, an electric signal (hereinafter referred to as a detection signal Sr) corresponding to the level is output.

尚、本実施形態では、ケーシング35の上面壁36の下面に、圧電セラミック振動子33を密着させた状態で配置しており、上面壁(以下の説明にて出射面とも呼ぶ)36が圧電セラミック振動子33と共に振動部を構成している。また、本実施形態では、指向性のよい、いわゆる高周波(300kHz〜400kHz)のもの使用することとしている。   In this embodiment, the piezoelectric ceramic vibrator 33 is disposed in close contact with the lower surface of the upper surface wall 36 of the casing 35, and the upper surface wall (also referred to as an emission surface in the following description) 36 is a piezoelectric ceramic. A vibrator is configured together with the vibrator 33. In this embodiment, a so-called high frequency (300 kHz to 400 kHz) with good directivity is used.

係るセンサユニット30は、搬送路Lc上にて設定された検出位置(基台中央の実装作業位置に対応する位置)Kの丁度真下において、両超音波センサ31A、31Bの出射面36を上に向けつつ、側壁体21の内側面にブラケット39を介して取り付けられている。   The sensor unit 30 has the emission surfaces 36 of both the ultrasonic sensors 31A and 31B on the upper side just below the detection position (position corresponding to the mounting work position at the center of the base) K set on the conveyance path Lc. While being directed, it is attached to the inner side surface of the side wall body 21 via a bracket 39.

これにより、搬送路Lc上を送られる基板Pが検出位置Kにて停止、或いは検出位置Kを横切るときには、センサユニット30から出射された超音波を、基板Pが下向きに反射させる。そのため、この反射波をセンサユニット30にて受波することで、検出位置Kにおける基板Pの有無を判別できる。   Thereby, when the substrate P sent on the transport path Lc stops at the detection position K or crosses the detection position K, the substrate P reflects the ultrasonic wave emitted from the sensor unit 30 downward. Therefore, the presence or absence of the substrate P at the detection position K can be determined by receiving the reflected wave with the sensor unit 30.

尚、本実施形態では、横並び状に配置された2つの超音波センサ31A、31Bによりセンサユニット30を構成させているのは、両超音波センサ31A、31Bの双方から超音波を送波し、その反射波を双方の超音波センサ31A、31Bにより受波する第一の検出パターンでの基板検出動作と、両超音波センサ31A、31Bのうちの一方を送信器として使用し、他方を受信器として使用する第二の検出パターンでの基板検出動作の双方を可能とするためであり、この点については、後に、図11、図13〜図16等を参照して詳しく説明を行うものとする。   In this embodiment, the two ultrasonic sensors 31A and 31B arranged side by side constitute the sensor unit 30 because the ultrasonic waves are transmitted from both the ultrasonic sensors 31A and 31B. The substrate detection operation in the first detection pattern for receiving the reflected wave by both ultrasonic sensors 31A and 31B, one of the ultrasonic sensors 31A and 31B is used as a transmitter, and the other is a receiver. This is to enable both of the substrate detection operations with the second detection pattern used as the above, and this point will be described in detail later with reference to FIGS. .

2.実装作業を実行する実装作業装置100及びそれに付属される装置
図1に戻って説明を続けると、基台10上であって、上記実装作業位置の周囲4箇所には部品供給部80が設けられ、そこには部品供給装置としてのフィーダ85がX方向に整列状に設置されている。各フィーダ85は、部品供給テープが巻回されたリール(不図示)、リールから部品供給テープを引き出す電動式の送出装置(不図示)などから構成されている。
2. The mounting work apparatus 100 for executing the mounting work and the apparatus attached thereto Returning to FIG. 1, the description will be continued. On the base 10, component supply sections 80 are provided at four places around the mounting work position. , A feeder 85 as a component supply device is arranged in the X direction. Each feeder 85 includes a reel (not shown) around which a component supply tape is wound, an electric delivery device (not shown) that pulls out the component supply tape from the reel, and the like.

部品供給テープには電子部品Bが一定間隔にて保持されており、送出装置を駆動させると、部品供給テープの引き出しに伴い、電子部品Bが一つずつ供給される。そして、供給された電子部品Bは、次に説明する実装作業装置100により、実装作業位置上にてバックアップされた基板P上に実装される構成となっている。   Electronic components B are held on the component supply tape at regular intervals. When the delivery device is driven, the electronic components B are supplied one by one as the component supply tape is pulled out. The supplied electronic component B is mounted on the substrate P backed up at the mounting work position by the mounting work device 100 described below.

また、基台10上であって搬送コンベア20のY方向の両側には、部品認識カメラ95が一対設置されている。この部品認識カメラ95は、吸着ヘッド185により吸着保持された電子部品Bを撮影するためのものである。   A pair of component recognition cameras 95 are installed on both sides of the conveyor 10 on the base 10 in the Y direction. The component recognition camera 95 is for photographing the electronic component B sucked and held by the suction head 185.

実装作業装置100は電子部品Bを吸着保持する吸着ヘッド185と移動装置130と、から構成されている。本移動装置130はXYZの直交する3つの駆動軸145、155、165を備えた直交座標ロボットであり、これら3つの駆動軸145、155、165を複合的に駆動させることで、吸着ヘッド185を基台10上の任意位置に移動操作する。   The mounting work device 100 includes a suction head 185 that sucks and holds the electronic component B and a moving device 130. The moving device 130 is a Cartesian coordinate robot having three drive axes 145, 155, and 165 orthogonal to each other in XYZ. By driving these three drive axes 145, 155, and 165 in combination, the suction head 185 is moved. Move to an arbitrary position on the base 10.

具体的に説明してゆくと、図1に示すように基台10上には一対の支持脚141が設置されている。両支持脚141は実装作業位置の両側(X方向両側)に位置しており、共にY方向(図1では上下方向)にまっすぐに延びている。   Specifically, as shown in FIG. 1, a pair of support legs 141 are installed on the base 10. Both support legs 141 are located on both sides (both sides in the X direction) of the mounting work position, and both extend straight in the Y direction (up and down direction in FIG. 1).

両支持脚141にはY方向に延びるガイドレール(Y方向案内軸)142が支持脚上面に設置されると共に、これら左右のガイドレール142に長手方向の両端部を嵌合わさせつつヘット支持体151が取り付けられている。   Both support legs 141 are provided with guide rails (Y direction guide shafts) 142 extending in the Y direction on the upper surfaces of the support legs, and head support bodies 151 are fitted to the left and right guide rails 142 at both ends in the longitudinal direction. Is attached.

また、図1において右側の支持脚141にはY方向に延びるY軸ボールねじ軸(Y方向駆動軸)145が装着され、更にY軸ボールねじ軸145にはボールナット(不図示)が螺合されている。そして、Y軸ボールねじ軸145の軸端部にはY軸モータ147が設けられている。   In FIG. 1, a Y-axis ball screw shaft (Y-direction drive shaft) 145 extending in the Y direction is mounted on the right support leg 141, and a ball nut (not shown) is screwed onto the Y-axis ball screw shaft 145. Has been. A Y-axis motor 147 is provided at the shaft end of the Y-axis ball screw shaft 145.

同Y軸モータ147を通電操作すると、Y軸ボールねじ軸145に沿ってボールナットが進退する結果、ボールナットに固定されたヘッド支持体151、ひいては次述するヘッドユニット160がガイドレール142に沿ってY方向に水平移動する(Y軸サーボ機構)。   When the Y-axis motor 147 is energized, the ball nut advances and retreats along the Y-axis ball screw shaft 145. As a result, the head support 151 fixed to the ball nut, and thus the head unit 160 described below, extends along the guide rail 142. And move horizontally in the Y direction (Y-axis servo mechanism).

図8に示すように、ヘッド支持体151にはX方向に延びるガイド部材(X方向案内軸)153が設置され、更に、ガイド部材153に対してヘッドユニット160が、移動自在に取り付けられている。このヘッド支持体151には、X方向に延びるX軸ボールねじ軸(X方向駆動軸)155が装着されており、更にX軸ボールねじ軸155にはボールナットが螺合されている。   As shown in FIG. 8, a guide member (X direction guide shaft) 153 extending in the X direction is installed on the head support 151, and the head unit 160 is movably attached to the guide member 153. . An X-axis ball screw shaft (X-direction drive shaft) 155 extending in the X direction is attached to the head support 151, and a ball nut is screwed onto the X-axis ball screw shaft 155.

そして、X軸ボールねじ軸155の軸端部にはX軸モータ157が設けられており、同X軸モータ157を通電操作すると、X軸ボールねじ軸155に沿ってボールナットが進退する結果、ボールナットに固定されたヘッドユニット160がガイド部材153に沿ってX方向に移動する(X軸サーボ機構)。   An X-axis motor 157 is provided at the shaft end of the X-axis ball screw shaft 155. When the X-axis motor 157 is energized, the ball nut advances and retreats along the X-axis ball screw shaft 155. The head unit 160 fixed to the ball nut moves in the X direction along the guide member 153 (X-axis servo mechanism).

従って、X軸サーボ機構、Y軸サーボ機構を複合的に制御することで、基台10上においてヘッドユニット160を水平方向(XY方向)に移動操作出来る構成となっている。   Therefore, the head unit 160 can be moved and operated in the horizontal direction (XY direction) on the base 10 by controlling the X-axis servo mechanism and the Y-axis servo mechanism in combination.

係るヘッドユニット160は図9にて示すように支持ブラケット163を備えており、係る支持ブラケット163には軸を上下に向けてZ軸ボールねじ軸(Z方向駆動軸)165が取り付けられている。そして、Z軸ボールねじ軸165にはボールナット171が螺合してあり、係るボールナット171に対して吸着ヘッド185が装着されている。尚、このボールナット171は不図示のガイド手段によりヘッドユニット160に回り止めされている。   The head unit 160 includes a support bracket 163 as shown in FIG. 9, and a Z-axis ball screw shaft (Z-direction drive shaft) 165 is attached to the support bracket 163 with its axis facing up and down. A ball nut 171 is screwed onto the Z-axis ball screw shaft 165, and a suction head 185 is attached to the ball nut 171. The ball nut 171 is locked to the head unit 160 by guide means (not shown).

そして、Z軸モータ167を通電操作すると、Z軸ボールねじ軸165に沿ってボールナット171が上下する結果、ボールナット171に固定された吸着ヘッド185を、ヘッドユニット160に対して昇降操作出来る構成となっている。   When the Z-axis motor 167 is energized, the ball nut 171 moves up and down along the Z-axis ball screw shaft 165. As a result, the suction head 185 fixed to the ball nut 171 can be moved up and down with respect to the head unit 160. It has become.

また、吸着ヘッド185の先端には吸着ノズル186が設けられている。吸着ノズル186は図外の負圧手段から負圧が供給されるように構成されており、ヘッド先端に吸引力を生じさせるようになっている。   A suction nozzle 186 is provided at the tip of the suction head 185. The suction nozzle 186 is configured so that a negative pressure is supplied from a negative pressure means (not shown), and generates a suction force at the tip of the head.

以上のことから、ヘッドユニット160を部品供給部80と基台中央の実装作業位置との間を往復移動させつつ、吸着ヘッド185を適宜昇降操作することにより、部品供給部80から電子部品Bを取り出すことが出来、かつ取り出した電子部品Bを実装作業位置にてバックアップされた基板P上に実装できる。   From the above, the electronic component B is removed from the component supply unit 80 by appropriately moving the suction head 185 while reciprocating the head unit 160 between the component supply unit 80 and the mounting work position in the center of the base. The electronic component B that can be taken out can be mounted on the substrate P backed up at the mounting work position.

尚、本実施形態のものは、上記吸着ヘッド185がヘッドユニット160にX方向に列をなして複数本設けられており、部品供給部80から複数個の電子部品Bを同時に取り出すことが出来る構成となっている。また、各吸着ヘッド185はヘッドユニット160に付設されるR軸モータ(不図示)の駆動により、各吸着ヘッド185ごとに軸周りの回転動作が可能な構成となっている。   In this embodiment, a plurality of the suction heads 185 are arranged in the X direction in the head unit 160, and a plurality of electronic components B can be taken out from the component supply unit 80 at the same time. It has become. Each suction head 185 is configured to be capable of rotating around the axis for each suction head 185 by driving an R-axis motor (not shown) attached to the head unit 160.

3.装置の電気的構成
表面実装機(センサユニット30を除く)1は、装置全体がコントローラ200により制御されている。コントローラ200は図10にて示すように、CPU等により構成される演算処理部211、記憶装置212、モータ制御部213、画像処理部214、及び入出力部215を備えてなる。
3. Electrical configuration of the apparatus The entire apparatus of the surface mounter (excluding the sensor unit 30) 1 is controlled by the controller 200. As shown in FIG. 10, the controller 200 includes an arithmetic processing unit 211 configured by a CPU or the like, a storage device 212, a motor control unit 213, an image processing unit 214, and an input / output unit 215.

記憶装置212には実装作業を行う実装作業装置100を制御するための実装プログラム及び、搬入コンベア12、搬送コンベア20、搬出コンベア13を制御するための各種データが格納されると共に、演算処理部211が各種演算を行う際の各情報を一時記憶させておくための作業領域が割り当てられている。   The storage device 212 stores a mounting program for controlling the mounting work device 100 that performs the mounting work, and various data for controlling the carry-in conveyor 12, the transport conveyor 20, and the carry-out conveyor 13, and the arithmetic processing unit 211. Is assigned a work area for temporarily storing each piece of information when performing various calculations.

モータ制御部213は演算処理部211の指令の下、各モータを通電制御するものであり、実装作業装置100を構成するX軸モータ157、Y軸モータ147、Z軸モータ167、及び各コンベア12、20、13を駆動させる各コンベアモータ27が電気的に連なっている。   The motor control unit 213 controls energization of each motor under the command of the arithmetic processing unit 211, and the X-axis motor 157, Y-axis motor 147, Z-axis motor 167, and each conveyor 12 constituting the mounting work device 100. , 20 and 13 are electrically connected to each other.

また、入出力部215にはセンサ制御装置40が電気的に連なっている。センサ制御装置40は両超音波センサ31A、31Bを制御するものであり、センサ制御部41、送信回路部43、A、受信回路部45A、送信回路部43B、受信回路部45B、メモリ46、カウンタ47、入出力部49などを備えてなる。   Further, the sensor control device 40 is electrically connected to the input / output unit 215. The sensor control device 40 controls both ultrasonic sensors 31A and 31B, and includes a sensor control unit 41, a transmission circuit unit 43, A, a reception circuit unit 45A, a transmission circuit unit 43B, a reception circuit unit 45B, a memory 46, and a counter. 47, an input / output unit 49, and the like.

各部の機能について説明すると、送信回路部43Aは超音波センサ31Aの圧電セラミック振動子33に高周波の電圧を印加して、超音波センサ31の圧電セラミック振動子33から超音波を送波させるものである。また、受信回路部45Aは超音波の受波動作を行うものであり、超音波センサ31Aの圧電セラミック振動子33から出力される電気信号(検出信号Sr)を増幅、A/D変換等して出力するものである。   The function of each part will be described. The transmission circuit unit 43A applies a high-frequency voltage to the piezoelectric ceramic vibrator 33 of the ultrasonic sensor 31A and transmits ultrasonic waves from the piezoelectric ceramic vibrator 33 of the ultrasonic sensor 31. is there. The receiving circuit unit 45A performs an ultrasonic wave receiving operation, and amplifies and A / D converts an electric signal (detection signal Sr) output from the piezoelectric ceramic vibrator 33 of the ultrasonic sensor 31A. Output.

また、同様にして、送信回路部43Bは超音波センサ31Aの圧電セラミック振動子33に高周波の電圧を印加して、超音波センサ31の圧電セラミック振動子33から超音波を送波させるものである。また、受信回路部45Bは超音波の受波動作を行うものであり、超音波センサ31Bの圧電セラミック振動子33から出力される電気信号(検出信号Sr)を増幅、A/D変換等して出力するものである。   Similarly, the transmission circuit unit 43B applies a high-frequency voltage to the piezoelectric ceramic vibrator 33 of the ultrasonic sensor 31A and transmits ultrasonic waves from the piezoelectric ceramic vibrator 33 of the ultrasonic sensor 31. . The receiving circuit unit 45B performs an ultrasonic wave receiving operation, and amplifies and A / D converts an electric signal (detection signal Sr) output from the piezoelectric ceramic vibrator 33 of the ultrasonic sensor 31B. Output.

本実施形態では上記送信回路部43A、43B及び受信回路部45A、45Bがセンサ制御部に信号線を介して電気的に連なっており、これら4つの回路部43A、43B、45A、45Bをセンサ制御部41によって個別に制御できる構成となっている。   In the present embodiment, the transmission circuit units 43A and 43B and the reception circuit units 45A and 45B are electrically connected to the sensor control unit via signal lines, and the four circuit units 43A, 43B, 45A, and 45B are sensor-controlled. The unit 41 can be individually controlled.

また、センサ制御部41は上記4つの回路部43A、43B、45A、45Bの制御に加えて、受信回路部45A、45Bを通じて取り込まれる検出信号Srの信号処理を行う構成としてあり、信号処理を経た検出信号Srに基づいて、基板Pの有無を検出し、その結果を入出力部49を通じて表面実装機1に通知(出力信号の出力)する構成となっている。   In addition to the control of the four circuit units 43A, 43B, 45A, and 45B, the sensor control unit 41 is configured to perform signal processing of the detection signal Sr captured through the reception circuit units 45A and 45B. Based on the detection signal Sr, the presence or absence of the substrate P is detected, and the result is notified to the surface mounter 1 through the input / output unit 49 (output signal output).

また、メモリ46には、センサ制御部41が超音波センサ31A、31Bを制御するのに必要な情報、及び検出信号Srの信号処理を行うのに必要な情報(受波時間Tmask1、受波時間Tmask2、受波時間Tmask3、受波時間Tmaxなどの時刻に関する情報)が予め記憶されている。また、カウンタ47は後述する検出シーケンスを実行する過程で経過時間Tを計時する機能を担うものである。   The memory 46 also includes information necessary for the sensor control unit 41 to control the ultrasonic sensors 31A and 31B and information necessary to perform signal processing of the detection signal Sr (reception time Tmask1, reception time). Time information such as Tmask2, received time Tmask3, received time Tmax) is stored in advance. Further, the counter 47 has a function of measuring the elapsed time T in the process of executing a detection sequence described later.

4.超音波センサ31A、31Bによる基板Pの具体的な検出動作
(a)両超音波センサ31A、31Bによる検出パターン
本実施形態のものは、検出位置Kにおける基板Pの有無を検出するのに、第一の検出パターンと、第二の検出パターンの異なる2種の検出パターンを用いている。
4). Specific Detection Operation of Substrate P by Ultrasonic Sensors 31A and 31B (a) Detection Pattern by Both Ultrasonic Sensors 31A and 31B In the present embodiment, the detection of the presence or absence of the substrate P at the detection position K Two detection patterns different in one detection pattern and the second detection pattern are used.

第一の検出パターンでは図11に示すように、両超音波センサ31A、31Bの双方から同時的に超音波を送波し、その反射波を両超音波センサ31A、31Bの双方を使用して受波することとしている。このようにすることで、検出位置K一帯のより広範な範囲に超音波を照射させることが出来る。   In the first detection pattern, as shown in FIG. 11, ultrasonic waves are simultaneously transmitted from both ultrasonic sensors 31A and 31B, and the reflected waves are transmitted using both ultrasonic sensors 31A and 31B. It is supposed to receive a wave. In this way, it is possible to irradiate ultrasonic waves over a wider range of the detection position K.

従って、第一の検出パターンでは、いわゆる割り基板など、基板P上に基板切断用の大きなスリットが形成されている場合に、そのスリットがセンサユニット真上の検出位置Kにて丁度位置していたとしても、スリット及びその周縁部に超音波が照射されることとなり、基板Pの有無を検出できる。   Therefore, in the first detection pattern, when a large slit for cutting the substrate is formed on the substrate P, such as a so-called split substrate, the slit is located exactly at the detection position K directly above the sensor unit. However, ultrasonic waves are applied to the slit and its peripheral portion, and the presence or absence of the substrate P can be detected.

また、第二の検出パターンでは図11に示すように、一方の超音波センサ(ここでは31A)から超音波を送波し、その反射波を他方側の超音波センサ31Bにて受波することとしている。この第二の検出パターンでは送信機能を担う送波器側の超音波センサと、受信機能の担う受波器側の超音波センサが別べつなので、いわゆる近距離検出が可能となる。   In the second detection pattern, as shown in FIG. 11, an ultrasonic wave is transmitted from one ultrasonic sensor (here 31A), and the reflected wave is received by the ultrasonic sensor 31B on the other side. It is said. In this second detection pattern, since the ultrasonic sensor on the transmitter side responsible for the transmission function is different from the ultrasonic sensor on the receiver side responsible for the reception function, so-called short distance detection is possible.

従って、いわゆる両面実装タイプの基板など、基板Pの裏面上にコンデンサなどの大型電子部品B1が既に実装され、その大型電子部品B1がセンサユニット真上の検出位置Kにて丁度位置していたとしても(図12参照)、基板Pの有無を検出できる。   Accordingly, it is assumed that a large electronic component B1 such as a capacitor has already been mounted on the back surface of the substrate P, such as a so-called double-sided mounting type substrate, and the large electronic component B1 is located just at the detection position K directly above the sensor unit. (See FIG. 12), the presence or absence of the substrate P can be detected.

尚、送波器側の超音波センサ31Aと受波器側の超音波センサ31Bが別べつであると、近距離検出が可能となるのは、受波器側に残響がないからである。残響というのは、送波器の残留振動のことであって、図13に示すように、受波器を送信器と同一の超音波センサにて兼用させると、超音波の送波直後、反射波を受波してなくても、残響によって検出信号Srが観測される。従って、送波器と受波器を同一の超音波センサにて兼用させた場合には、この残響が発生する時間帯については反射波を検出出来ず(残響と区別出来ない)、近距離の障害物を検出出来ない。この点、送波器と受波器を別べつであれば、受波器側に送波器側の影響がない(すなわち残響が発生しない)ので、近距離にある障害物も検出可能となるわけである。   In addition, when the ultrasonic sensor 31A on the transmitter side and the ultrasonic sensor 31B on the receiver side are different, the short distance can be detected because there is no reverberation on the receiver side. The reverberation is the residual vibration of the transmitter. As shown in FIG. 13, when the receiver is also used by the same ultrasonic sensor as the transmitter, the reflected wave is reflected immediately after the ultrasonic wave is transmitted. Even if no wave is received, the detection signal Sr is observed due to reverberation. Therefore, when the transmitter and receiver are combined with the same ultrasonic sensor, the reflected wave cannot be detected in the time zone in which this reverberation occurs (cannot be distinguished from reverberation), An obstacle cannot be detected. In this regard, if the transmitter and the receiver are separately provided, there is no influence on the transmitter side on the receiver side (that is, no reverberation occurs), so that an obstacle at a short distance can be detected. That is why.

そして、本実施形態のものは、図11にて示すように、1回の基板検出動作において、上記した第一の検出パターンでの検出動作と上記した第二の検出パターンでの検出動作の双方を実行しており、いわゆる割り基板など開口を有する基板P、裏面に大型電子部品B1を実装した両面実装型の基板Pの双方を検出できる構成となっている。   In the embodiment, as shown in FIG. 11, both the detection operation using the first detection pattern and the detection operation using the second detection pattern described above are performed in one substrate detection operation. The board P having an opening such as a so-called split board and the double-sided mounting type board P having the large electronic component B1 mounted on the back surface can be detected.

(b)反射波の受波タイミングとマスク処理
ところで、図14にも示すように、検出位置Kの上方には基板Pの他にも、ヘッドユニット160など超音波の進行を妨げる障害物がある。従って、例えば、基板Pが検出位置K以外のところを搬送されているときであっても、超音波が、これらの障害物(ヘッドユニット160)にて反射して、受波されることがある。この点を鑑み、本実施形態では、以下のマスク処理を行うこととしている。
(B) Reflected wave reception timing and mask processing By the way, as shown in FIG. 14, there are obstacles such as the head unit 160 that obstruct the progress of the ultrasonic wave in addition to the substrate P above the detection position K. . Therefore, for example, even when the substrate P is transported outside the detection position K, ultrasonic waves may be reflected by these obstacles (head unit 160) and received. . In view of this point, in the present embodiment, the following mask processing is performed.

具体的に説明すると、反射波は、超音波を送波してから一定時間遅れた時間に超音波センサ31によって受波され、図13の例では、図13中の時刻T0から時間t内の期間において超音波が検出位置Kに向けて送波され、図13中の時刻Tsamに反射波を受波している。   More specifically, the reflected wave is received by the ultrasonic sensor 31 at a time delayed by a predetermined time from the transmission of the ultrasonic wave. In the example of FIG. 13, the reflected wave is within the time t from the time T0 in FIG. During the period, the ultrasonic wave is transmitted toward the detection position K, and the reflected wave is received at time Tsam in FIG.

超音波を送波してから、その反射波を受波するまでの受波時間Tは下記の(1)式にて求めることが出来、超音波の出射面36から障害物までの距離Lに比例する。
T=2×L/V・・・・・・・・・・・・・・・(1)式
尚、Vは音速であり、約343m/Sである。
The wave receiving time T from when the ultrasonic wave is transmitted to when the reflected wave is received can be obtained by the following equation (1), and the distance L from the ultrasonic wave emission surface 36 to the obstacle is obtained. Proportional.
T = 2 × L / V (1) where V is the speed of sound and is about 343 m / S.

そして、超音波の出射面36から基板Pまでの距離は基本的には一定であるから、基板Pにて反射された反射波は、送波後の特定時間帯に、常に観測されることとなる。従って、第一の検出パターン、第二の検出パターンの双方共、送波後の特定時間帯を超える超過時間帯(時刻Tmask3以降の時間帯)に観測される検出信号を無効化(図14〜図16)してやれば、基板Pより上方の障害物(ヘッドユニット160など)にて反射した反射波を検出対象から除外でき、これ起因する基板Pの誤検出を回避可能となる。   Since the distance from the ultrasonic emission surface 36 to the substrate P is basically constant, the reflected wave reflected by the substrate P is always observed in a specific time zone after transmission. Become. Therefore, both the first detection pattern and the second detection pattern invalidate the detection signals observed in the excess time zone (time zone after time Tmask3) exceeding the specific time zone after transmission (FIG. 14 to FIG. 14). 16), the reflected wave reflected by the obstacle (such as the head unit 160) above the substrate P can be excluded from the detection target, and erroneous detection of the substrate P due to this can be avoided.

尚、時刻Tmask3の具体的な設定は、距離L3を図14にて示すように、バックアップされた際の基板上面の高さ位置Lp3より数ミリ程度遠い距離に設定し、以下の(2)式に基づいて決定してやればよい。
Tmask3=2×L3/V・・・・・・・・・(2)式
Note that the specific setting of the time Tmask3 is as follows. As shown in FIG. 14, the distance L3 is set to a distance of several millimeters from the height position Lp3 of the upper surface of the substrate when backed up. It may be decided based on
Tmask3 = 2 × L3 / V (2) formula

また、図15にて示すように、第一の検出パターンにおいては、送波直後から特定時間帯までの時間帯(T0〜Tmask2までの時間帯)についても、無効化している。これは、既に説明した残響に起因して出力される検出信号Srを無効化するためである。   Further, as shown in FIG. 15, in the first detection pattern, the time zone from the time immediately after the transmission to the specific time zone (the time zone from T0 to Tmask2) is also invalidated. This is to invalidate the detection signal Sr output due to the reverberation already described.

尚、時刻Tmask2の具体的な設定は、距離L2を図14にて示すように基板Pの下面の高さ位置Lp2より数ミリ程度近い距離に設定し、以下の(3)式に基づいて決定してやればよい。
Tmask2=2×L2/V・・・・・・・・・(3)式
The specific setting of the time Tmask2 is determined based on the following equation (3) by setting the distance L2 to a distance of about several millimeters from the height position Lp2 of the lower surface of the substrate P as shown in FIG. Just do it.
Tmask2 = 2 × L2 / V (3)

また、図16にて示すように、第二の検出パターンにおいては、送波直後から一定の時間帯については無効化するものの、検出信号Srを有効化する特定時間帯の開始時刻を時刻Tmask2より早い、時刻Tmask1に設定してある。   Further, as shown in FIG. 16, in the second detection pattern, although a certain time zone is invalidated immediately after transmission, the start time of the specific time zone in which the detection signal Sr is validated is determined from time Tmask2. The time Tmask1 is set early.

尚、時刻Tmask1の具体的な設定は、距離L1を図14にて示すようにバックアッププレート65の下面の高さ位置Lp1より数ミリ程度近い距離に設定し、以下の(4)式に基づいて決定してやればよい。
Tmask1=2×L1/V・・・・・・・・・(4)式
The specific setting of the time Tmask1 is as follows. The distance L1 is set to a distance of about several millimeters from the height position Lp1 on the lower surface of the backup plate 65 as shown in FIG. 14, and based on the following equation (4). You just have to decide.
Tmask1 = 2 × L1 / V (4)

このようにすることで、超音波センサ31A、31Bの出射面36から近い位置にある障害物、すなわち、大型電子部品B1にて反射された反射波を受波して得られる検出信号を特定時間帯に含ませることが可能となる。   By doing in this way, the detection signal obtained by receiving the reflected wave reflected by the obstacle, that is, the large-sized electronic component B1, close to the emission surface 36 of the ultrasonic sensors 31A and 31B is specified time. It can be included in the belt.

(c)検出周期の設定
また、本実施形態では、図11にて示すように、第一の検出パターンと、第二の検出パターンの2種の検出パターンを設けているものの、基板検出動作の基本は、超音波を送波する送波動作と、その反射波を受波する受波動作とから構成されており、本実施形態では、この検出動作をパターンを替えつつ繰り返し行って、基板Pの有無を検出することとしている。ここで、基板Pの有無を早期に検出するには、検出動作のサイクルを、短いサイクルに設定してやればよいが、サイクル(すなわち、検出周期TS)を短くし過ぎると、その一方で、検出動作同士で相互干渉が起きる恐れがある。
(C) Setting of detection cycle In the present embodiment, as shown in FIG. 11, although two detection patterns of the first detection pattern and the second detection pattern are provided, the substrate detection operation is performed. Basically, it is composed of a wave transmitting operation for transmitting an ultrasonic wave and a wave receiving operation for receiving the reflected wave. In this embodiment, this detection operation is repeated while changing the pattern, and the substrate P The presence or absence of is to be detected. Here, in order to detect the presence or absence of the substrate P at an early stage, the cycle of the detection operation may be set to a short cycle. However, if the cycle (that is, the detection cycle TS) is made too short, the detection operation is performed on the other hand. Mutual interference may occur between each other.

ここで言う、相互干渉というのは、前回の検出動作により送波した超音波の反射波が、次の検出動作中に観測されてしまうことである。このような干渉は、例えば、超音波が、基板Pより遠くの障害物にて反射すると、その反射波は基板Pで反射した場合のそれに比べてセンサ30に遅れて到達するから、この遅れが原因となって発生する。   Here, the mutual interference means that the reflected wave of the ultrasonic wave transmitted by the previous detection operation is observed during the next detection operation. For example, when the ultrasonic wave is reflected by an obstacle far from the substrate P, the reflected wave reaches the sensor 30 later than that when the ultrasonic wave is reflected by the substrate P. It occurs as a cause.

この点を鑑み、本実施形態のものは、超音波センサ31A、31Bから超音波が送波されてから、それが最も遠方にある障害物(例えば、表面実装機の天井Fなど)にて反射され、その反射波が受波されるまでの受波時間Tmaxを検出周期TSに設定している(図14、図15参照)。
Tmax=2×L4/V・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(5)
In view of this point, in the present embodiment, after ultrasonic waves are transmitted from the ultrasonic sensors 31A and 31B, it is reflected by an obstacle farthest away (for example, a ceiling F of a surface mounter). The reception time Tmax until the reflected wave is received is set to the detection cycle TS (see FIGS. 14 and 15).
Tmax = 2 × L4 / V (5)

このような構成としておけば、送波された超音波は、その回の検出動作にて必ず受波されるから、検出動作を繰り返し行ったとしても、各検出動作間での相互干渉が生じ得ず、基板Pの有無を正確に判別することが可能となる。   With such a configuration, the transmitted ultrasonic waves are always received by the detection operation of each time, so even if the detection operation is repeated, mutual interference between the detection operations may occur. Therefore, it is possible to accurately determine the presence or absence of the substrate P.

また、第一の検出パターンでは、2つの超音波センサ31A、31Bを使用して、検出動作を行うこととしているが、本実施形態では、センサ制御部41から両超音波センサ31A、31Bの送信回路部43A、43Bに送波動作を開始させる開始信号を同時一斉的に与え、かつ受信回路部45A、45Bに受波動作を開始させる開始信号を同時一斉的に与え、両超音波センサ31A、31Bに検出動作(送波動作及び受波動作)を同期、すなわち同じ検出周期で同時的に実行させている。   In the first detection pattern, the two ultrasonic sensors 31A and 31B are used to perform the detection operation. In the present embodiment, the sensor control unit 41 transmits both ultrasonic sensors 31A and 31B. The circuit units 43A and 43B are simultaneously provided with a start signal for starting a transmission operation, and the reception circuit units 45A and 45B are simultaneously provided with a start signal for starting a reception operation. The detection operation (transmitting operation and receiving operation) is synchronized with 31B, that is, simultaneously executed in the same detection cycle.

このようにすることで、第一の検出パターンにおいて、超音波センサ31A、31B間での相互干渉についても防止可能となる。ここで言う、相互干渉というのは、一方の超音波センサから出射された超音波の反射波が、隣接する他方の超音波センサに受波され、その結果、基板Pの有無について、誤検出を生じさせるものである。例えば、両超音波センサ31A、31Bから別べつのタイミングで超音波を送波する設定にしておくと、図17にて示すように、一方の超音波センサ(ここでは、センサ31B)から出射され、ヘッドユニット160など基板上方の障害物にて反射された反射波が、他方の超音波センサ(ここでは、センサ31A)にて、そのセンサの特定時間帯に受波されることが起こり得る。この場合、正しくは「基板無し」と判定するべきところ、「基板あり」と誤検出してしまう。   By doing so, it is possible to prevent mutual interference between the ultrasonic sensors 31A and 31B in the first detection pattern. Here, mutual interference means that the reflected wave of the ultrasonic wave emitted from one ultrasonic sensor is received by the other adjacent ultrasonic sensor, and as a result, the presence or absence of the substrate P is erroneously detected. It is what is generated. For example, if it is set to transmit ultrasonic waves at different timings from both ultrasonic sensors 31A and 31B, as shown in FIG. 17, it is emitted from one ultrasonic sensor (here, sensor 31B). The reflected wave reflected by the obstacle above the substrate such as the head unit 160 may be received by the other ultrasonic sensor (here, the sensor 31A) in a specific time zone of the sensor. In this case, it should be correctly determined that “no substrate”, but erroneously detected “with substrate”.

この点、本実施形態では、両超音波センサ31A、31Bに検出動作(送波動作及び受波動作)を同じ検出周期で、同時的に実行させるように設定してあるから、図18にて示すように、ヘッドユニット160など基板Pの上方にて反射された反射波は、双方の超音波センサ31A、31Bに対して、そのセンサに設定される無効時間帯にて必ず、観測されることとなり、上記誤検出を未然に回避できる。   In this regard, in the present embodiment, since the ultrasonic sensors 31A and 31B are set to execute detection operations (transmitting operation and receiving operation) simultaneously in the same detection cycle, in FIG. As shown, the reflected wave reflected above the substrate P such as the head unit 160 must be observed for both ultrasonic sensors 31A and 31B in the invalid time zone set for the sensors. Thus, the erroneous detection can be avoided in advance.

5.検出シーケンス
次に、センサ制御部41により実行される検出シーケンスについて説明する。尚、検出シーケンスの開始にあたり、メモリ46の記憶(後述する判定結果に関する記憶)はリセットされた状態にあるものとする。表面実装機1が稼動し始めると、コントローラ200からセンサユニット30側に通信ラインDLを通じて基板検出動作を開始する指令が与えられる。
5. Detection Sequence Next, a detection sequence executed by the sensor control unit 41 will be described. At the start of the detection sequence, it is assumed that the memory 46 (memory related to a determination result described later) is in a reset state. When the surface mounter 1 starts to operate, a command to start the substrate detection operation is given from the controller 200 to the sensor unit 30 side through the communication line DL.

そして、指令が与えられると、センサユニット30のセンサ制御部41により、図19にて示す検出シーケンスが実行される。順に説明してゆくと、まず、S1にて、第一の検出パターン実行処理が行われる。この第一の検出パターン実行処理は、図20にて示すように、S10〜S60の処理から構成されており、S10にて、カウンタ47のカウント値をリセットする処理がセンサ制御部41により行われる。   When a command is given, the detection sequence shown in FIG. 19 is executed by the sensor control unit 41 of the sensor unit 30. To explain in order, first, in S1, a first detection pattern execution process is performed. As shown in FIG. 20, the first detection pattern execution process is composed of the processes of S10 to S60. In S10, the sensor control unit 41 performs a process of resetting the count value of the counter 47. .

その後、ステップ20で、センサ制御部41の制御下のもと、カウンタ47がカウント動作を開始し、検出動作の開始時刻T0からの経過時間Tを計時し始める。その後、S30−1では、センサ制御部41の制御下のもと、両送信回路部43A、43Bが同時的にドライブされ、両超音波センサ31A、31Bの両圧電セラミック振動子33に高周波の電圧が同時に印加される。   Thereafter, in step 20, under the control of the sensor control unit 41, the counter 47 starts the count operation and starts to measure the elapsed time T from the start time T0 of the detection operation. After that, in S30-1, under the control of the sensor control unit 41, both transmission circuit units 43A and 43B are driven simultaneously, and the high frequency voltage is applied to both piezoelectric ceramic vibrators 33 of both ultrasonic sensors 31A and 31B. Are applied simultaneously.

これにより、両超音波センサ31A、31Bから超音波が送波される。係る超音波の送波は図15にて示すように、カウンタ47が時刻を計時し始めた開始時刻T0の直後から、時間tの間継続される(送波動作)。   Thereby, an ultrasonic wave is transmitted from both ultrasonic sensors 31A and 31B. As shown in FIG. 15, the ultrasonic wave transmission is continued for a time t immediately after the start time T0 when the counter 47 starts to measure time (wave transmission operation).

その後、送波動作が完了すると、次に、センサ制御部41の指令の下、両超音波センサ31A、31Bの受信回路部45A、45Bが起動状態となり、受波動作が開始される。そして、係る受波動作と同時に、センサ制御部41は受信回路部45A、45Bを通じて取り込まれる検出信号Srの信号処理(すなわち、マスク処理)を行う。   After that, when the wave transmission operation is completed, next, under the command of the sensor control unit 41, the reception circuit units 45A and 45B of the ultrasonic sensors 31A and 31B are activated, and the wave reception operation is started. Simultaneously with the wave receiving operation, the sensor control unit 41 performs signal processing (that is, mask processing) of the detection signal Sr captured through the receiving circuit units 45A and 45B.

具体的に説明すると、まずS40−1にて、カウンタ47により計時される経過時間Tをメモリ46に記憶された情報「受波時間Tmask2」、「受波時間Tmask3」と大小比較して、経過時間Tが「受波時間Tmask2」から「受波時間Tmask3」までの範囲内にあるか、否かについて判定(Tmask2<T<Tmask3)する処理がセンサ制御部41により行われる。ここでは、経過時刻Tは「受波時間Tmask2」に達していないので、N0判定される。   More specifically, first, in S40-1, the elapsed time T counted by the counter 47 is compared with the information “received time Tmask2” and “received time Tmask3” stored in the memory 46 to determine the elapsed time. The sensor control unit 41 performs a process of determining whether or not the time T is within the range from “received time Tmask2” to “received time Tmask3” (Tmask2 <T <Tmask3). Here, since the elapsed time T has not reached the “reception time Tmask2”, the determination is NO.

次に行われるS60では、カウンタ47により計時される経過時間Tをメモリ46に記憶された情報「受波時間Tmax」と大小比較する処理がセンサ制御部41により行われ、そこでも、NO判定される。その結果、処理は再び、S40に戻る。   In the next step S60, the sensor control unit 41 performs a process for comparing the elapsed time T measured by the counter 47 with the information “received time Tmax” stored in the memory 46, and NO is also determined there. The As a result, the process returns to S40 again.

このように、経過時間Tが「Tmask2」に達するまでの間は、図20にて示すループ1(S40−1、S60の処理)内にて処理を繰り返す状態となり、それ以外の処理は行われない。このようにしておくことで、図15に示す無効時間帯Aについては、仮に、検出信号Srが観測されていたとしても、それは次に説明する信号確認処理1に反映されず、無効化される。   As described above, until the elapsed time T reaches “Tmask2”, the process is repeated in the loop 1 (the processes of S40-1 and S60) shown in FIG. 20, and the other processes are performed. Absent. By doing in this way, even if the detection signal Sr is observed for the invalid time zone A shown in FIG. 15, it is not reflected in the signal confirmation processing 1 described below and is invalidated. .

やがて、経過時刻Tが「Tmask2」に達すると、その後、S40−1の処理を実行したときにYes判定される結果、ループ1を抜ける。すると、今度は、S50の信号確認処理1を含むループ2の処理が、センサ制御部41により繰り返し実行されることとなる。このループ2の処理は、経過時刻Tが「Tmask3」に達するまで続けられる。   Eventually, when the elapsed time T reaches “Tmask2”, the result of the Yes determination is made when the process of S40-1 is executed, and the loop 1 is exited. Then, this time, the process of the loop 2 including the signal confirmation process 1 of S50 is repeatedly executed by the sensor control unit 41. The process of the loop 2 is continued until the elapsed time T reaches “Tmask3”.

信号確認処理1の内容は、図21に示す通りであり、検出信号Srの有無についての判定処理(S51−1)、及び判定結果を記憶する処理(S55)などから構成されている。これにより、図15にて示す特定時間帯Bにて、いずれかに超音波センサ31A、31Bにて検出信号Srが観測されれば、センサ制御部41は「検出信号Srあり」の情報(本例では「1」)をメモリ46に記憶させ、観測されなければ、「検出信号Srなし」の情報(本例では「0」)をメモリ46に記憶させる。   The contents of the signal confirmation process 1 are as shown in FIG. 21, and are composed of a determination process (S51-1) for the presence or absence of the detection signal Sr, a process for storing the determination result (S55), and the like. As a result, if the detection signal Sr is observed in any one of the ultrasonic sensors 31A and 31B in the specific time zone B shown in FIG. In the example, “1”) is stored in the memory 46, and if it is not observed, information “no detection signal Sr” (“0” in this example) is stored in the memory 46.

その後、経過時間Tが、「Tmask3」を過ぎると、次にS40−1の判定処理を行ったときに、NO判定される結果(S60についてもNO判定)、再び、ループ1内にて処理を繰り返す状態となり、それ以外の処理は行われない。このようにしておくことで、図15に示す無効時間帯Cについては、仮に、検出信号Srが観測されていたとしても、上記信号確認処理に反映されず、無効化される。   Thereafter, when the elapsed time T has passed “Tmask3”, the result of the NO determination (NO also for S60) is performed when the determination process of S40-1 is performed next, and the process is performed again in the loop 1. Repeatedly, no other processing is performed. By doing so, the invalid time zone C shown in FIG. 15 is invalidated without being reflected in the signal confirmation processing even if the detection signal Sr is observed.

やがて、経過時間Tが「Tmax」に達すると、S60の判定処理にてYes判定され、これにて、第一の検出パターン実行処理が終了する。   Eventually, when the elapsed time T reaches “Tmax”, the determination in S60 is Yes, and the first detection pattern execution process is completed.

その後、図19にて示すS3の第二の検出パターン実行処理が開始される。この第二の検出パターン実行処理は、図22にて示すようにS10〜S60の処理(尚、S10、S20、S60は第一の検出パターン実行処理と同じ処理)から構成されており、S10にて、カウンタ47のカウント値をリセットする処理がセンサ制御部41により行われる。   Thereafter, the second detection pattern execution process of S3 shown in FIG. 19 is started. As shown in FIG. 22, the second detection pattern execution process is composed of the processes of S10 to S60 (S10, S20, and S60 are the same processes as the first detection pattern execution process). Thus, the process of resetting the count value of the counter 47 is performed by the sensor control unit 41.

その後、ステップ20で、センサ制御部41の制御下のもと、カウンタ47がカウント動作を開始し、検出動作の開始時刻T0からの経過時間Tを計時し始める。   Thereafter, in step 20, under the control of the sensor control unit 41, the counter 47 starts the count operation and starts to measure the elapsed time T from the start time T0 of the detection operation.

その後、S30−2では、センサ制御部41の制御下のもと、送信回路部43Aがドライブされ、両超音波センサ31Aの圧電セラミック振動子33に高周波の電圧が同時に印加される。これにより、超音波センサ31Aから超音波が送波される。係る超音波の送波は図16にて示すように、カウンタ47が時刻を計時し始めた開始時刻T0の直後から、時間tの間継続される(送波動作)。   Thereafter, in S30-2, the transmission circuit unit 43A is driven under the control of the sensor control unit 41, and a high frequency voltage is simultaneously applied to the piezoelectric ceramic vibrators 33 of both ultrasonic sensors 31A. Thereby, an ultrasonic wave is transmitted from the ultrasonic sensor 31A. As shown in FIG. 16, the ultrasonic wave transmission is continued for a time t immediately after the start time T0 when the counter 47 starts to measure time (wave transmission operation).

その後、送波動作が完了すると、次に、センサ制御部41の指令の下、超音波センサ31Bの受信回路部45Bが起動状態となり、受波動作が開始される。そして、係る受波動作と同時に、センサ制御部41は受信回路部45Bを通じて取り込まれる検出信号Srの信号処理(すなわち、マスク処理)を行う。   Thereafter, when the transmission operation is completed, the reception circuit unit 45B of the ultrasonic sensor 31B is activated under the instruction of the sensor control unit 41, and the reception operation is started. Simultaneously with the wave receiving operation, the sensor control unit 41 performs signal processing (that is, mask processing) of the detection signal Sr captured through the reception circuit unit 45B.

具体的に説明すると、まずS40−2にて、カウンタ47により計時される経過時間Tをメモリ46に記憶された情報「受波時間Tmask1」、「受波時間Tmask3」と大小比較して、経過時間Tが「受波時間Tmask1」から「受波時間Tmask3」までの範囲内にあるか、否かについて判定(Tmask1<T<Tmask3)する処理がセンサ制御部41により行われる。ここでは、経過時刻Tは「受波時間Tmask1」に達していないので、N0判定される。   More specifically, first, in S40-2, the elapsed time T counted by the counter 47 is compared with the information “received time Tmask1” and “received time Tmask3” stored in the memory 46 to determine the elapsed time. The sensor control unit 41 performs a process of determining whether or not the time T is within the range from “received time Tmask1” to “received time Tmask3” (Tmask1 <T <Tmask3). Here, since the elapsed time T has not reached the “reception time Tmask1”, the determination is N0.

次に行われるS60では、カウンタ47により計時される経過時間Tをメモリ46に記憶された情報「受波時間Tmax」と大小比較する処理がセンサ制御部41により行われ、そこでも、NO判定される。その結果、処理は再び、S40−2に戻る。   In the next step S60, the sensor control unit 41 performs a process for comparing the elapsed time T measured by the counter 47 with the information “received time Tmax” stored in the memory 46, and NO is also determined there. The As a result, the process returns to S40-2 again.

このように、経過時間Tが「Tmask1」に達するまでの間は、図22にて示すループ1(S40−2、S60の処理)内にて処理を繰り返す状態となり、それ以外の処理は行われない。このようにしておくことで、図16に示す無効時間帯Dについては、仮に、検出信号Srが観測されていたとしても、それは次に説明する信号確認処理2に反映されず、無効化される。   As described above, until the elapsed time T reaches “Tmask1”, the process is repeated in the loop 1 (the processes in S40-2 and S60) shown in FIG. 22, and the other processes are performed. Absent. By doing in this way, even if the detection signal Sr is observed, the invalid time zone D shown in FIG. 16 is invalidated without being reflected in the signal confirmation processing 2 described below. .

やがて、経過時刻Tが「Tmask1」に達すると、その後、S40−2の処理を実行したときにYes判定される結果、ループ1を抜ける。すると、今度は、S50−2の信号確認処理2を含むループ2の処理が、センサ制御部41により繰り返し実行されることとなる。このループ2の処理は、経過時刻Tが「Tmask3」に達するまで続けられる。   Eventually, when the elapsed time T reaches “Tmask1”, the result of Yes determination is made when the process of S40-2 is executed, and the loop 1 is exited. Then, this time, the process of loop 2 including the signal confirmation process 2 of S50-2 is repeatedly executed by the sensor control unit 41. The process of the loop 2 is continued until the elapsed time T reaches “Tmask3”.

信号確認処理2の内容は、図23に示す通りであり、検出信号Srの有無についての判定処理(S51−2)、及び判定結果を記憶する処理(S55)などから構成されている。これにより、図16にて示す特定時間帯Eにて、超音波センサ31Bにて検出信号Srが観測されれば、センサ制御部41は「検出信号Srあり」の情報(本例では「1」)をメモリ46に記憶させ、観測されなければ、「検出信号Srなし」の情報(本例では「0」)をメモリ46に記憶させる。   The contents of the signal confirmation process 2 are as shown in FIG. 23, and include a determination process (S51-2) for the presence or absence of the detection signal Sr, a process for storing the determination result (S55), and the like. As a result, if the detection signal Sr is observed by the ultrasonic sensor 31B in the specific time zone E shown in FIG. 16, the sensor control unit 41 indicates the information “there is a detection signal Sr” (“1” in this example). ) Is stored in the memory 46, and if it is not observed, information “no detection signal Sr” (“0” in this example) is stored in the memory 46.

その後、経過時間Tが、「Tmask3」を過ぎると、次にS40−2の判定処理を行ったときに、NO判定される結果(S60についてもNO判定)、再び、ループ1内にて処理を繰り返す状態となり、それ以外の処理は行われない。このようにしておくことで、図16に示す無効時間帯Fについては、仮に、検出信号Srが観測されていたとしても、上記信号確認処理2に反映されず、無効化される。   Thereafter, when the elapsed time T has passed “Tmask3”, the result of the NO determination (NO also for S60) when the determination processing of S40-2 is performed next, the processing is again performed in the loop 1. Repeatedly, no other processing is performed. By doing so, the invalid time zone F shown in FIG. 16 is invalidated without being reflected in the signal confirmation processing 2 even if the detection signal Sr is observed.

やがて、経過時間Tが「Tmax」に達すると、S60の判定処理にてYes判定され、これにて、第二の検出パターン実行処理が終了する。   Eventually, when the elapsed time T reaches “Tmax”, the determination in S60 is Yes, and the second detection pattern execution process is completed.

その後、図19にて示すS5にて、表面実装機1のコントローラ200に検出結果を出力する処理がセンサ制御部41により行われる。具体的には、センサ制御部41はメモリ46にアクセスして、第一の検出パターン実行処理での判定結果、第二の検出パターンでの判定結果の双方を読み出す。   Thereafter, in S <b> 5 shown in FIG. 19, processing for outputting the detection result to the controller 200 of the surface mounter 1 is performed by the sensor control unit 41. Specifically, the sensor control unit 41 accesses the memory 46 and reads both the determination result in the first detection pattern execution process and the determination result in the second detection pattern.

これにより、メモリ46から第一の検出パターン実行処理中の特定時間帯B内にて、検出信号Srが観測された場合には「1」の情報、観測されてない場合には「0」の情報が読み出される。また、第二の検出パターン実行処理中の特定時間帯E内にて、検出信号Srが観測された場合には「1」の情報、観測されてない場合には「0」の情報が読み出される。   As a result, “1” information is detected when the detection signal Sr is observed from the memory 46 within the specific time zone B during the first detection pattern execution process, and “0” is detected when the detection signal Sr is not observed. Information is read. In addition, information “1” is read when the detection signal Sr is observed in the specific time zone E during the second detection pattern execution process, and information “0” is read when the detection signal Sr is not observed. .

そして、センサ制御部41は読み出した両パターンの判定結果の情報について、その論理和(OR)をとり、結果が「1」であれば、出力信号としてON信号を表面実装機1側に出力し、結果が「ゼロ」であれば、出力信号としてOFF信号を出力する。かくして、第一の検出パターンと第二の検出パターンの双方の検出パターンを一の組とした基板検出動作が完了する。   And the sensor control part 41 takes the logical sum (OR) about the information of the determination result of both patterns which were read, and if a result is "1", it will output an ON signal to the surface mounter 1 side as an output signal. If the result is “zero”, an OFF signal is output as an output signal. Thus, the substrate detection operation in which the detection patterns of both the first detection pattern and the second detection pattern are set as one set is completed.

あとは、S7でメモリ46に記憶してある判定結果に関する記憶情報をリセットした後、再び、S1に戻り、上記した処理が繰り替えし実行される。かくして、上記した第一の検出パターンと第二の検出パターンの双方を一の組とした基板検出動作が繰り返し実行され、その都度、センサ制御部41から表面実装機1に出力信号(基板有りに対応するON信号/基板なしに対応するOFF信号のいずれかの信号)が出力される。   After that, after the storage information regarding the determination result stored in the memory 46 in S7 is reset, the process returns to S1 again, and the above-described processing is repeated and executed. Thus, the substrate detection operation in which both the first detection pattern and the second detection pattern described above are combined as one set is repeatedly executed, and each time the sensor control unit 41 outputs an output signal (with a substrate). A corresponding ON signal / an OFF signal corresponding to no substrate) is output.

一方、表面実装機1側では、センサ制御部41から出力される出力信号を取り込み、表面実装機1を構成する各装置を適宜制御する。例えば、作業対象となる基板Pを基台10上の実装作業位置に搬入するときに、センサ制御部41から出力される出力信号がOFF信号→ON信号に切り替わる(基板なしの判定状態から基板有りの判定状態に切り替わる)と、その後、コントローラ200の制御下のもと、搬送コンベア20を減速させる処理が行われる。   On the other hand, on the surface mounting machine 1 side, an output signal output from the sensor control unit 41 is captured, and each device constituting the surface mounting machine 1 is appropriately controlled. For example, when the board P to be worked is carried into the mounting work position on the base 10, the output signal output from the sensor control unit 41 is switched from the OFF signal to the ON signal (the board is present from the judgment state without the board). After that, under the control of the controller 200, a process of decelerating the conveyor 20 is performed.

これにより、基板Pは減速されつつ、基台中央の実装作業位置に向かう。そして、基板先端が上昇位置にあるストッパピン51に突き当たり、作業対象となる基板Pは実装作業位置にて停止する。その後、コントローラ200の制御下のもとバックアップ装置60が作動して、基板Pがバックアップされ、次いでバックアップされた基板Pに対する電子部品Bの実装作業が、コントローラ200の制御下のもと実装作業装置100により行われることとなる。   Thereby, the board | substrate P heads for the mounting work position of the base, being decelerated. Then, the front end of the board hits the stopper pin 51 at the raised position, and the board P to be worked stops at the mounting work position. Thereafter, the backup device 60 operates under the control of the controller 200 to back up the board P, and then the mounting operation of the electronic component B on the backed up board P is performed under the control of the controller 200. 100.

また、実装作業が完了すると、次いで、上昇位置にあるストッパピン51が下降位置に変位操作され、その後、搬送コンベア20が駆動される。これにより、部品実装済みの基板Pが実装作業位置から搬出されてゆく。このとき、センサ制御部41の出力信号がON信号からOFF信号に切り替わる(基板有りの判定状態から基板なし判定状態に切り替わる)と、コントローラ200の制御下のもと、再び、ストッパピン51が下降位置から上昇位置に変位操作(次に実装作業を行う新規基板Pを実装作業位置にて停止させるための準備動作)されることとなる。   When the mounting operation is completed, the stopper pin 51 in the raised position is then displaced to the lowered position, and then the conveyor 20 is driven. As a result, the component-mounted board P is carried out of the mounting work position. At this time, when the output signal of the sensor control unit 41 is switched from the ON signal to the OFF signal (switching from the determination state with the substrate to the determination state without the substrate), the stopper pin 51 is lowered again under the control of the controller 200. A displacement operation (preparation operation for stopping the new substrate P to be mounted next) at the mounting work position is performed from the position to the raised position.

尚、この実施形態においては、本発明で言うところの、「前記第一の検出パターンと、第二の検出パターンの少なくともいずれかの一方の検出パターンにて前記反射波の検出が有ることを条件に、搬送対象物有りと判断し、前記搬送装置及びそれに付属される装置の駆動、或いは前記実行部の駆動を制御する」のうちの、前段部分の処理、すなわち「前記第一の検出パターンと、第二の検出パターンの少なくともいずれかの一方の検出パターンにて前記反射波の検出が有ることを条件に、搬送対象物有りと判断し」をセンサユニット30側のセンサ制御部41が担っている。より詳しく言えば、センサ制御部41が図19〜図23にて示す検出シーケンスを実行することで、前段の処理が実行される構成としてある。また後段部分の処理、すなわち、「前記搬送装置及びそれに付属される装置の駆動、或いは前記実行部の駆動を制御する」を表面実装機本体側のコントローラ200が担っており、これらコントローラ200とセンサ制御部41との協働により、本発明の「制御手段」の果たす処理機能を実現させている。   In this embodiment, the condition of the present invention is that “the reflected wave is detected in at least one of the first detection pattern and the second detection pattern”. In addition, it is determined that there is an object to be transported, and controls the driving of the transporting device and the device attached thereto, or the driving of the execution unit ”, that is,“ the first detection pattern and The sensor control unit 41 on the sensor unit 30 side is responsible for determining that there is an object to be transported on condition that the reflected wave is detected in at least one of the second detection patterns. Yes. More specifically, the sensor control unit 41 executes the detection sequence shown in FIGS. 19 to 23 so that the preceding process is executed. Also, the controller 200 on the surface mounter main body is responsible for the processing of the subsequent stage, that is, “controls the drive of the transport device and the device attached thereto, or the drive of the execution unit”. By cooperating with the control unit 41, the processing function fulfilled by the “control means” of the present invention is realized.

6.本実施形態の効果
本実施形態によれば、基板Pの検出に超音波センサ31を用いている。超音波であれば、空気の振動を遮るような障害物は、障害物の表面色(透明/不透明も含む)が異なっても同じように反射するから表面色の別に拘わらず検出が可能であり、基板Pの色に応じた設定調整作業を廃止できる。
6). Effects of this Embodiment According to this embodiment, the ultrasonic sensor 31 is used to detect the substrate P. In the case of ultrasonic waves, obstacles that block the vibration of air can be detected regardless of the surface color because they are reflected in the same way even if the surface color (including transparent / opaque) of the obstacles is different. The setting adjustment work corresponding to the color of the substrate P can be abolished.

加えて、本実施形態のものは、基板Pの検出に2つの超音波センサ31A、31Bを用いており、1回の基板検出動作にて、第一の検出パターンと第二の検出パターンの双方を行うこととしている。このような構成であれば、第一の検出パターンにて検出位置K一帯の広範な範囲について基板Pの有無を検出でき、また、第二の検出パターンにて、いわゆる近距離の検出が可能となる。   In addition, in the present embodiment, two ultrasonic sensors 31A and 31B are used for detecting the substrate P, and both the first detection pattern and the second detection pattern are detected by one substrate detection operation. Is going to do. With such a configuration, it is possible to detect the presence or absence of the substrate P in a wide range of the detection position K in the first detection pattern, and it is possible to detect a so-called short distance with the second detection pattern. Become.

よって、通常の基板Pに加えて、基板上に大型のスリットSTを開口したいわゆる割り基板P、基板裏面に電子部品Bを実装した両面実装タイプの基板Pについても、検出位置Kにおける基板Pの有無を正確に検出することが可能となり、基板Pの搬送制御、基板Pに対する部品実装制御を円滑に行うことが可能となる結果、表面実装機1を高稼働率にて稼動できる。   Therefore, in addition to the normal substrate P, the so-called split substrate P in which a large slit ST is opened on the substrate and the double-sided mounting type substrate P in which the electronic component B is mounted on the back surface of the substrate P Presence / absence can be accurately detected, and the substrate P transport control and the component mounting control on the substrate P can be smoothly performed. As a result, the surface mounter 1 can be operated at a high operating rate.

<実施形態2>
次に、本発明の実施形態2を、図24〜図27を参照して説明する。
実施形態2のものは、実施形態1のものに対して、検出シーケンスの一部を変更したものである。この実施形態2の検出シーケンスも第一の検出パターン実行処理と、第二の検出パターン実行処理とを交互に行うものであり、図24にて示すS1の第一の検出パターン実行処理では実施形態1と同様、図20に示す一連の処理が実行され、また図24にて示すS3の第二の検出パターン実行処理では実施形態1と同様、図22に示す一連の処理が実行される。
<Embodiment 2>
Next, Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIGS.
In the second embodiment, a part of the detection sequence is changed from that in the first embodiment. The detection sequence of the second embodiment also alternately performs the first detection pattern execution process and the second detection pattern execution process. In the first detection pattern execution process of S1 shown in FIG. 20, the series of processes shown in FIG. 20 is executed, and in the second detection pattern execution process of S3 shown in FIG. 24, the series of processes shown in FIG.

ここで、図20にて示す第一の検出パターン実行処理、及び図22にて示す第二の検出パターン実行処理中には、それぞれ信号確認処理1、2が含まれているが、実施形態2のものは、この信号確認処理1、2を実施形態1の処理に対して異ならせてある。具体的には、図25、図26にて示すように、信号確認処理1、2の処理過程で行うS51−1、S51−2にて、Yes判定された場合、いずれもS53にて出力信号をON状態にセットすることとしている。この結果、超音波センサ31A、31Bにて基板Pを検出したときには、その検出結果が、表面実装機1側に直ぐに通知されることとなり、表面実装機1側にて基板Pの搬送状況に対応した迅速な制御が可能となる。   Here, the first detection pattern execution process shown in FIG. 20 and the second detection pattern execution process shown in FIG. 22 include signal confirmation processes 1 and 2, respectively. In this example, the signal confirmation processes 1 and 2 are different from those of the first embodiment. Specifically, as shown in FIG. 25 and FIG. 26, when the determination is made in S51-1, S51-2 performed in the process of the signal confirmation processing 1, 2, both are output signals in S53. Is set to the ON state. As a result, when the substrate P is detected by the ultrasonic sensors 31A and 31B, the detection result is immediately notified to the surface mounter 1 side, and the surface mounter 1 side corresponds to the state of conveyance of the substrate P. Quick control is possible.

そして、実施形態2では、上記処理を行うことに対応して、図24にて示すように、S6の出力OFF判定処理を新たに設けている(言い換えれば、実施形態1でのS5の処理を廃止している)。このS6の出力OFF判定処理はセンサ制御部41により実行され、その処理内容は、図27にて示す通りであり、まず、S100では、メモリ46にアクセスして判定結果、すなわち検出信号Srの有無についての情報が、第一の検出パターン、第二の検出パターンについてそれぞれ読み出される。   In the second embodiment, in response to performing the above processing, as shown in FIG. 24, an output OFF determination process in S6 is newly provided (in other words, the processing in S5 in the first embodiment is performed). Abolished). The output OFF determination processing in S6 is executed by the sensor control unit 41, and the processing content is as shown in FIG. 27. First, in S100, the memory 46 is accessed and the determination result, that is, the presence or absence of the detection signal Sr. Is read for each of the first detection pattern and the second detection pattern.

そして、続くS110では、検出信号Srの有無について判定する処理が行われ、検出信号Srがいずれか一方の検出パターンの実行過程の特定時間帯で観測されていた場合には、YESの判定がなされる。このときには、続くS120にて出力信号をOFFする処理が行われ、その後、処理は終了する。一方、S110にてNO判定された場合には、その後、処理は終了する。   In the subsequent S110, a process for determining the presence or absence of the detection signal Sr is performed. If the detection signal Sr is observed in a specific time zone in the execution process of one of the detection patterns, a determination of YES is made. The At this time, a process for turning off the output signal is performed in the subsequent S120, and then the process ends. On the other hand, if NO is determined in S110, then the process ends.

このような出力OFF判定処理をすることで、検出シーケンスの処理過程で実装機1側に、出力したON信号を、その回の検出シーケンスが終了する際に、OFFできる。   By performing such an output OFF determination process, the ON signal output to the mounting machine 1 in the process of the detection sequence can be turned OFF when the detection sequence of that time is completed.

<実施形態3>
次に、本発明の実施形態3を説明する。
上記実施形態1では、表面実装機1側のコントローラ200からセンサユニット30側に基板検出動作を開始する指令のみ与えて、図19〜図23に示す検出シーケンスをセンサユニット30のセンサ制御部41にて実行する構成とした。これに対して実施形態2のものは、表面実装機1側の演算処理部211にて、図19〜図23に示す検出シーケンスを実行し、シーケンスの実行過程で必要な指令をセンサ制御部41に与えて、センサユニット30に、第一の検出パターンと第二の検出パターンの双方を一の組とした基板検出動作を行わせるようにしている。
<Embodiment 3>
Next, Embodiment 3 of the present invention will be described.
In the first embodiment, only the command for starting the substrate detection operation is given from the controller 200 on the surface mounter 1 side to the sensor unit 30 side, and the detection sequence shown in FIGS. 19 to 23 is given to the sensor control unit 41 of the sensor unit 30. To execute. On the other hand, in the second embodiment, the detection processing shown in FIGS. 19 to 23 is executed by the arithmetic processing unit 211 on the surface mounting machine 1 side, and a command required in the execution process of the sequence is sent to the sensor control unit 41. Therefore, the sensor unit 30 is caused to perform a substrate detection operation in which both the first detection pattern and the second detection pattern are set as one set.

尚、上記処理をコントローラ200側にて実行するには、例えば、コントローラ200の記憶装置212に受波時間Tmask1、受波時間Tmask2、受波時間Tmask3、受波時間Tmaxの情報を予め記憶させておくと共に、コントローラ200側にカウンタ47を設けて、コントローラ200側にて検出動作の開始時刻T0からの経過時間をTを計時する構成としてやればよい。   In order to execute the above processing on the controller 200 side, for example, information on the reception time Tmask1, reception time Tmask2, reception time Tmask3, and reception time Tmax is stored in the storage device 212 of the controller 200 in advance. In addition, a counter 47 may be provided on the controller 200 side, and an elapsed time from the detection operation start time T0 may be measured on the controller 200 side.

<実施形態4>
実施形態1〜3では、本発明の基板処理装置の一例として、基板Pに電子部品Bを実装する表面実装機1を例示したが、実施形態4では基板処理装置の一例として、基板Pに半田ペーストを印刷する印刷機300を例示するものである。以下、印刷機300の構成を図28〜図33を参照しつつ簡単に説明する。尚、以下の説明において、基板搬送方向(図28における左右方向)をX方向と呼ぶものとする。また、Y方向、Z方向をそれぞれ図28、図29の向きに定める。
<Embodiment 4>
In the first to third embodiments, the surface mounter 1 that mounts the electronic component B on the substrate P is illustrated as an example of the substrate processing apparatus of the present invention. In the fourth embodiment, the substrate P is soldered as an example of the substrate processing apparatus. The printing machine 300 which prints a paste is illustrated. Hereinafter, the configuration of the printing press 300 will be briefly described with reference to FIGS. 28 to 33. In the following description, the substrate transport direction (left-right direction in FIG. 28) is referred to as the X direction. Further, the Y direction and the Z direction are determined in the directions shown in FIGS. 28 and 29, respectively.

印刷機300は、上面がフラットな基台310を備える。基台10の外周部にはフレーム310Aが設けられると共に、基台310上にはフレーム310Aの内側に位置して印刷作業装置320が取り付けられている。   The printing machine 300 includes a base 310 having a flat upper surface. A frame 310 </ b> A is provided on the outer periphery of the base 10, and a printing work device 320 is attached on the base 310 so as to be positioned inside the frame 310 </ b> A.

印刷作業装置320は支持部材321、スキージヘッド支持フレーム340、Y軸移動装置327、スキージヘッド331、スキージ335などから構成されている。順に説明してゆくと、図29に示すように、支持部材321はX方向の両側に一対設置されると共に、基台310上においてY方向に延びておりY方向の前後両端部を支柱315によって支えられている。   The printing work device 320 includes a support member 321, a squeegee head support frame 340, a Y-axis movement device 327, a squeegee head 331, a squeegee 335, and the like. To explain in order, as shown in FIG. 29, a pair of support members 321 are installed on both sides in the X direction, and extend in the Y direction on the base 310, and both front and rear ends in the Y direction are supported by columns 315. It is supported.

両支持部材321の上面壁にはY方向に延びるレール323が設置されている。これら左右の支持部材321上には、レール323に端部下面の受け部343を嵌合させつつ、スキージヘッド支持フレーム340が横向きに設置されている。そして、図29において左方側の支持部材321上には、モータ325と同モータ325を駆動源とするY軸移動装置(ボールねじ328とボールナットからなる)327が設置されている。   Rails 323 extending in the Y direction are installed on the upper surface walls of both support members 321. On these left and right support members 321, a squeegee head support frame 340 is installed sideways while a receiving portion 343 on the lower surface of the end is fitted to the rail 323. In FIG. 29, a motor 325 and a Y-axis moving device (consisting of a ball screw 328 and a ball nut) 327 using the motor 325 as a drive source are installed on the support member 321 on the left side.

これにより、モータ325を通電操作するとY軸移動装置327が作動して、スキージヘッド支持フレーム340をレール323に沿ってY方向に進退させるようになっている。   As a result, when the motor 325 is energized, the Y-axis moving device 327 is activated, and the squeegee head support frame 340 is advanced and retracted along the rail 323 in the Y direction.

尚、図29では省略してあるが、上記スキージヘッド支持フレーム340のX方向の中央には、スキージヘッド331に支持されつつスキージ335が取り付けられている(図28参照)。スキージ335はX方向に水平に延びる横長な形状をなし、昇降可能とされている。   Although omitted in FIG. 29, a squeegee 335 is attached to the center of the squeegee head support frame 340 in the X direction while being supported by the squeegee head 331 (see FIG. 28). The squeegee 335 has a horizontally long shape extending horizontally in the X direction and can be raised and lowered.

そして、スキージ335の下方にはマスク保持装置350を介してマスクMが取り付けられるようになっている。マスクMは、金属製の角パイプを枠状に形成したマスク枠M1の底面側に、テンショナーM2を介して、薄板に印刷用の開口(図略)を形成したステンシルM3を取り付けたものである。   A mask M is attached below the squeegee 335 via a mask holding device 350. The mask M is obtained by attaching a stencil M3 in which a printing plate opening (not shown) is formed on a thin plate via a tensioner M2 on the bottom side of a mask frame M1 in which a metal square pipe is formed in a frame shape. .

次に、基板支持ユニット400の説明を行う。基板支持ユニット400はテーブル410、テーブル420、テーブル430、テーブル440、テーブル450を下から順に積み上げた構成とされる(図28参照)。   Next, the substrate support unit 400 will be described. The substrate support unit 400 is configured by stacking a table 410, a table 420, a table 430, a table 440, and a table 450 in order from the bottom (see FIG. 28).

図31に示すように、4段目のテーブル440上には、最上段の5段目のテーブル450を間に挟むようにしてY方向の両側に搬送ベルト471が設置されている。両搬送ベルト471は共にX方向に水平に延びており、支持部480A、480Bによって支持されている。係る基板搬送ベルト471はX方向に循環駆動可能とされ、印刷対象の基板PをX方向に搬送する基板搬送コンベア470を構成している。   As shown in FIG. 31, on the fourth stage table 440, conveyor belts 471 are installed on both sides in the Y direction with the uppermost fifth stage table 450 interposed therebetween. Both conveyor belts 471 extend horizontally in the X direction and are supported by support portions 480A and 480B. The substrate transport belt 471 can be circulated and driven in the X direction, and constitutes a substrate transport conveyor 470 that transports the substrate P to be printed in the X direction.

また、両支持部480A、480B上には、基板クランプ片480C、480Dがそれぞれ設置されている。図31において上側に位置する装置奥側の基板クランプ片480Dは支持部480Bに対してY方向にスライド可能とされており、テーブル450上に運ばれてきた基板Pを相手側の基板クランプ片480Cと共にY方向の両側から挟んで保持する機能(図33の(a)、(b)参照)を担っている。   In addition, substrate clamp pieces 480C and 480D are installed on both support portions 480A and 480B, respectively. In FIG. 31, the board clamp piece 480D on the back side of the apparatus located on the upper side is slidable in the Y direction with respect to the support portion 480B, and the board clamp piece 480C on the other side is transferred to the board P carried on the table 450. At the same time, it has a function of holding it from both sides in the Y direction (see FIGS. 33A and 33B).

そして、4段目のテーブル440のX方向中央であって、図31の上側の位置にはセンサユニット30が取り付けられている。このセンサユニット30は実施形態1のセンサユニットと同じく2つの超音波センサ31A、31Bを対にして配置したものであり、基板搬送コンベア470上を運ばれる基板Pの有無を検出する構成となっている。   And the sensor unit 30 is attached to the position of the upper side of FIG. Similar to the sensor unit of the first embodiment, the sensor unit 30 is configured by arranging two ultrasonic sensors 31A and 31B as a pair, and detects the presence or absence of the substrate P carried on the substrate transfer conveyor 470. Yes.

図31に戻って説明を続けると、最上段にあたる5段目のテーブル450上には、ピン保持孔(不図示)を行列状に配置したバックアッププレート490が設置されている。このバックアッププレート490上には、ピン保持孔にピン端部を挿通させつつ、バックアップピン495が複数本起立保持されている。   Referring back to FIG. 31, the description will be continued. A backup plate 490 having pin holding holes (not shown) arranged in a matrix form is installed on the table 450 at the uppermost level. On the backup plate 490, a plurality of backup pins 495 are held upright while the pin ends are inserted through the pin holding holes.

さて、基板支持ユニット400を構成する5つのテーブル410〜450はいずれも可動テーブルとなっている。順に説明してゆくと、基台310上にはY方向に延びるYレール311が4本設置されている(図29では省略してある)。そして、これらYレール311上に、テーブル下面に設けられたレール受け部413を嵌合させつつ、初段のテーブル410が乗っている。これにより、図外のY軸サーボ機構を作動させると、初段のテーブル410を含む基板支持ユニット400の全体をYレール411に沿ってY方向に移動できる。   Now, all of the five tables 410 to 450 constituting the substrate support unit 400 are movable tables. To explain sequentially, four Y rails 311 extending in the Y direction are installed on the base 310 (not shown in FIG. 29). The first stage table 410 is on the Y rail 311 while fitting the rail receiving portion 413 provided on the lower surface of the table. Accordingly, when the Y-axis servo mechanism (not shown) is operated, the entire substrate support unit 400 including the first stage table 410 can be moved in the Y direction along the Y rail 411.

初段のテーブル410はX方向に延びる横長な形状とされ、テーブル上面にはX方向に延びるXレール415が2本設置されている。そして、これらXレール415上に、テーブル下面に設けられたレール受け部423を嵌合させつつ、2段目のテーブル420が乗っている。   The first stage table 410 has a horizontally long shape extending in the X direction, and two X rails 415 extending in the X direction are provided on the upper surface of the table. Then, on the X rails 415, the second stage table 420 is on the rail receiving portion 423 provided on the lower surface of the table.

これにより、図外のX軸サーボ機構を作動させると、2段目のテーブル420をレールに沿ってX方向に移動できる。以上のことから、初段のテーブル410と2段目のテーブル420を複合的に動作させることで、基板支持ユニット400を基台310上における任意の位置に水平移動させることが出来る。   Thus, when the X-axis servo mechanism (not shown) is operated, the second stage table 420 can be moved in the X direction along the rail. From the above, the substrate support unit 400 can be horizontally moved to an arbitrary position on the base 310 by operating the first table 410 and the second table 420 in combination.

2段目のテーブル420上には回転機構425が設けられている。回転機構425は回転用サーボ機構(図略)の動力を得て駆動し、3段目のテーブル430を回転させる。また、3段目のテーブル430と4段目のテーブル440の間、4段目のテーブル440と5段目のテーブル450の間にそれぞれ昇降装置(不図示)が設けられており、4段目のテーブル440、5段目のテーブル450がそれぞれ独立して昇降できるようになっている。   A rotation mechanism 425 is provided on the second stage table 420. The rotation mechanism 425 is driven by obtaining power from a rotation servo mechanism (not shown) to rotate the third-stage table 430. Also, a lifting device (not shown) is provided between the third stage table 430 and the fourth stage table 440 and between the fourth stage table 440 and the fifth stage table 450, respectively. The table 440 and the fifth table 450 can be moved up and down independently.

そして、当実施形態のものは、4段目のテーブル440、5段目のテーブル450をいずれも下降した状態(以下、基板搬送姿勢と呼ぶ)にセットしておくと、バックアップピン495が基板搬送コンベア470の下方に位置すると共に、基板搬送コンベア470のレール高さが、当印刷機300に隣接する他の装置(検査装置や、実装機など)に設けられるレールと同じ高さとなる。   In this embodiment, when the fourth-stage table 440 and the fifth-stage table 450 are both set in a lowered state (hereinafter referred to as a substrate transfer posture), the backup pin 495 is transferred to the substrate. In addition to being positioned below the conveyor 470, the rail height of the substrate transport conveyor 470 is the same as the rail provided in another apparatus (such as an inspection apparatus or a mounting machine) adjacent to the printing press 300.

従って、基板搬送姿勢にある基板支持ユニット400を水平移動させつつ、基台310の端に移動させると、図31にて示すように、基板搬送コンベア470を隣接する装置に設けられるコンベア700に段差なく連続させることができ、同コンベアを通じて印刷対象の基板Pを、隣接する他の装置との間で受け渡すことが出来る。   Accordingly, when the substrate support unit 400 in the substrate transfer posture is moved horizontally while being moved to the end of the base 310, the substrate transfer conveyor 470 is stepped on the conveyor 700 provided in the adjacent apparatus as shown in FIG. The substrate P to be printed can be transferred to and from other adjacent devices through the conveyor.

尚、本実施形態のものは、既に説明を行ったように、4段目のテーブル440のX方向中央にセンサユニット30を配置しており、このセンサユニット30にて、実施形態1と同様の検出シーケンスを実行して、基板Pの有無を検出することとしている。そして、センサユニット30から出力される出力信号を基に、基板支持ユニット400上における基板Pの有無を、演算制御部511(図32参照)にて確認できる構成となっている。   In the present embodiment, as already described, the sensor unit 30 is arranged at the center in the X direction of the table 440 in the fourth stage, and this sensor unit 30 is the same as in the first embodiment. The detection sequence is executed to detect the presence or absence of the substrate P. And based on the output signal output from the sensor unit 30, it has the structure which can confirm the presence or absence of the board | substrate P on the board | substrate support unit 400 in the calculation control part 511 (refer FIG. 32).

印刷機300の電気的構成は図32に示す通りであり、演算制御部511、記憶装置512、入出部515などを備え、演算制御部511に対して基板支持ユニット400、実装作業装置320、より具体的にはこれら各装置400、320を駆動させるアクチュエータ(モータなど)が電気的に連なっており、演算制御部511の制御下のもと、各装置400、320が制御される構成となっている。   The electrical configuration of the printing press 300 is as shown in FIG. 32, and includes an arithmetic control unit 511, a storage device 512, an input / output unit 515, and the like. Specifically, an actuator (such as a motor) that drives each of the devices 400 and 320 is electrically connected, and the devices 400 and 320 are controlled under the control of the arithmetic control unit 511. Yes.

次に、図33を参照して、当印刷機300による印刷動作を簡単に説明する。印刷対象の基板Pは上流側の装置より搬入された後、ベルト駆動によって基板搬送コンベア470上をX方向左側へと運ばれ、基板ユニット中央の基板停止位置に停止される(図33の(a))。   Next, with reference to FIG. 33, a printing operation by the printing machine 300 will be briefly described. After the board P to be printed is carried in from the upstream apparatus, it is carried to the left side in the X direction by the belt drive and stopped at the board stop position in the center of the board unit ((a in FIG. 33). )).

その後、基台中央のセンサユニット30の出力信号がON信号となっていることを条件に、演算制御部511の制御下のもと、5段目のテーブル440を昇降させる処理が行われ、下降状態にあったテーブル450、ひいてはバックアップピン495が持ち上げられてゆく。   Thereafter, on the condition that the output signal of the sensor unit 30 at the center of the base is an ON signal, the process of raising and lowering the fifth stage table 440 is performed under the control of the arithmetic control unit 511, and the lowering The table 450 and the backup pin 495 in the state are lifted up.

そして、上昇動作の過程でバックアップピン495の上端が、基板停止位置にある基板Pの下面に当接し、印刷対象の基板Pを持ち上げる。これにより、印刷対象の基板Pは、基板搬送コンベア470から浮いた状態となり、搬送コンベア470から切り離される。   Then, the upper end of the backup pin 495 comes into contact with the lower surface of the substrate P at the substrate stop position in the process of ascending operation, and lifts the substrate P to be printed. As a result, the substrate P to be printed is in a state of floating from the substrate transport conveyor 470 and is separated from the transport conveyor 470.

そして、テーブル450の昇降量が所定量に達し、印刷対象の基板Pが図33の(b)に示すように、基板クランプ片480C、480Dの上面と面一となる高さまで持ち上げられると、テーブル450はその高さで停止される。   Then, when the amount of elevation of the table 450 reaches a predetermined amount and the substrate P to be printed is lifted to a height that is flush with the upper surfaces of the substrate clamp pieces 480C and 480D, as shown in FIG. 450 is stopped at that height.

テーブル450の上昇動作が停止されると、今度は不図示のシリンダ装置が駆動し、基板クランプ片480Dが、相手側の基板クランプ片480Cとの対向距離を狭めるようにY方向(図33では右側)に移動する。これにより、バックアップピン495により下面を支持された印刷対象の基板Pは、両基板クランプ片480C、480DによってY方向の両側から挟み込まれて保持される(図33の(b)参照)。   When the ascending operation of the table 450 is stopped, a cylinder device (not shown) is driven this time so that the substrate clamp piece 480D narrows the facing distance from the counterpart substrate clamp piece 480C in the Y direction (right side in FIG. 33). ) Accordingly, the substrate P to be printed, the lower surface of which is supported by the backup pins 495, is sandwiched and held from both sides in the Y direction by the both substrate clamp pieces 480C and 480D (see FIG. 33B).

かくして、印刷対象の基板Pが保持されると、基板支持ユニット400は基台310上を水平移動してマスクMの下方に移動し、印刷対象の基板Pをステンシル下方の印刷作業位置(本発明の「作業位置」に相当)にセットさせる(図33の(c))。次いで、4段目のテーブル440を昇降させる処理が行われ、下降状態にあったテーブル440を上昇させる。   Thus, when the substrate P to be printed is held, the substrate support unit 400 moves horizontally on the base 310 and moves below the mask M, and moves the substrate P to be printed to a printing work position below the stencil (the present invention). (Corresponding to “working position” in FIG. 33). Next, a process of raising and lowering the fourth-stage table 440 is performed, and the table 440 that has been lowered is raised.

これにより、保持状態にある印刷対象の基板PはステンシルM3に接近してゆく。そして、テーブル440の昇降量が所定量に達すると、テーブル440の上昇動作は停止され、このときには、印刷対象の基板Pが図33の(d)に示すようにステンシルM3の下面に重装された状態となる。   Thereby, the substrate P to be printed in the holding state approaches the stencil M3. Then, when the elevation amount of the table 440 reaches a predetermined amount, the raising operation of the table 440 is stopped, and at this time, the substrate P to be printed is overlaid on the lower surface of the stencil M3 as shown in FIG. It becomes a state.

あとは、スキージ435を下降させてステンシルM3の上面に当接させつつ、半田供給装置によってステンシルM3上にペースト状の半田を供給する。そして、スキージ435をY方向に往復移動させ、ペースト状の半田を引き延ばしてやれば、ステンシルM3の印刷用開口に半田が埋め込まれ、印刷対象の基板P上の所望位置に半田を印刷することが出来る。   Thereafter, paste solder is supplied onto the stencil M3 by the solder supply device while the squeegee 435 is lowered and brought into contact with the upper surface of the stencil M3. Then, if the squeegee 435 is reciprocated in the Y direction to extend the paste-like solder, the solder is embedded in the printing opening of the stencil M3, and the solder can be printed at a desired position on the substrate P to be printed. I can do it.

そして、半田の印刷が完了したら、上記した動作を逆に辿ることで、基板支持ユニット400を基台中央まで移動させることが出来、また、基板支持ユニット400を基板搬送姿勢(すなわち、図28に示すように4段目のテーブル440、5段目のテーブル450をいずれも下降させた状態)に戻すことが出来る。   When the solder printing is completed, the substrate support unit 400 can be moved to the center of the base by following the above-described operation in reverse, and the substrate support unit 400 is moved to the substrate transfer posture (ie, in FIG. 28). As shown, the fourth table 440 and the fifth table 450 are both lowered.

従って、あとは、基板搬送姿勢にある基板支持ユニット400を下流側の装置側、すなわち図1における左端側に移動させつつ基板搬送コンベア470の一部を装置外に突出させると、突出した基板搬送コンベア470が下流側の装置のコンベア700に段差なく連続する。これにより、同コンベア700を通じて印刷済みの基板Pを、下流側の装置に搬出できる。   Accordingly, when a part of the substrate transport conveyor 470 is projected outside the apparatus while moving the substrate support unit 400 in the substrate transport posture to the downstream apparatus side, that is, the left end side in FIG. The conveyor 470 continues to the conveyor 700 of the downstream apparatus without a step. Thereby, the printed board | substrate P can be carried out to the downstream apparatus through the conveyor 700. FIG.

この実施形態も、実施形態1と同様に、基板Pの検出に超音波を利用している。超音波であれば、空気の振動を遮るような障害物であれば、障害物の表面色(透明/不透明も含む)が異なっても同じように反射するから表面色の別に拘わらず検出が可能であり、従来では必要であった設定調整作業を廃止できる。   In this embodiment, similarly to the first embodiment, ultrasonic waves are used to detect the substrate P. In the case of an ultrasonic wave, if it is an obstacle that blocks air vibrations, it will be reflected in the same way even if the surface color (including transparent / opaque) of the obstacle is different, so detection is possible regardless of the surface color. Therefore, it is possible to abolish setting adjustment work that was necessary in the past.

加えて、本実施形態のものは、基板Pの検出を行うセンサユニット30を、実施形態1と同様、2つの超音波センサ31A、31Bから構成しており、第一の検出パターンと、第二の検出パターンの双方を行って、基板Pの有無を検出している。このようにしておけば、いわゆる割り基板Pについても正確に検出できるので、基板Pの搬送制御、基板Pに対する印刷制御を円滑に行うことが可能となる結果、印刷機300を高稼働率にて稼動できる。   In addition, in the present embodiment, the sensor unit 30 for detecting the substrate P is composed of two ultrasonic sensors 31A and 31B as in the first embodiment, and the first detection pattern and the second detection pattern The presence or absence of the substrate P is detected by performing both of the detection patterns. In this way, since the so-called split substrate P can also be detected accurately, it becomes possible to smoothly perform the transport control of the substrate P and the print control on the substrate P. As a result, the printing press 300 can be operated at a high operating rate. Can operate.

<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
<Other embodiments>
The present invention is not limited to the embodiments described with reference to the above description and drawings. For example, the following embodiments are also included in the technical scope of the present invention.

(1)実施形態1では、センサユニット30を搭載した基板処理装置の一例として「表面実装機1」を、実施形態4では「印刷機300」を例示したが、センサユニット30を基板検査装置に使用することも可能である。ここで言う、基板検査装置とは、印刷処理後、部品実装後において、処理が正しく行われた否かを、基板画像に基づいて検査するものであり、その具体的構成は、例えば、図1にて示す表面実装機1のヘッドユニット160に、吸着ヘッド185に替えて、検査用のカメラ(図略)を搭載してやればよい。   (1) In the first embodiment, the “surface mounter 1” is exemplified as an example of the substrate processing apparatus on which the sensor unit 30 is mounted, and the “printer 300” is illustrated in the fourth embodiment. However, the sensor unit 30 is used as a substrate inspection apparatus. It is also possible to use it. The board inspection apparatus referred to here is an apparatus that inspects whether or not the processing is correctly performed after printing processing and after component mounting based on a board image. Instead of the suction head 185, an inspection camera (not shown) may be mounted on the head unit 160 of the surface mounter 1 shown in FIG.

(2)実施形態1では、センサユニット30を搭載した基板処理装置の一例として「表面実装機1」を、実施形態4では「印刷機300」を例示したが、センサユニット30を塗布装置に使用することも可能である。ここで言う、塗布装置とは印刷処理後、部品実装前において、基板P上に接着剤を塗布するものであり、その具体的構成は、例えば、図1にて示す表面実装機1のヘッドユニット160に、吸着ヘッド185に替えて、接着剤を塗布する塗布ヘッド(図略)を搭載してやればよい。   (2) In the first embodiment, the “surface mounter 1” is exemplified as an example of the substrate processing apparatus on which the sensor unit 30 is mounted, and the “printer 300” is exemplified in the fourth embodiment. However, the sensor unit 30 is used in the coating apparatus. It is also possible to do. Here, the coating device is a device that applies an adhesive onto the substrate P after the printing process and before component mounting. The specific configuration thereof is, for example, the head unit of the surface mounter 1 shown in FIG. Instead of the suction head 185, an application head (not shown) for applying an adhesive may be mounted on 160.

(3)実施形態1では、センサユニット30の検出対象として基板Pを例示したが、例えば、図34にて示すように、基板Pを基板台(本発明の「板状の基板支持体」の一例)600に載せて運ぶ場合であれば、基板台600を検出することも無論可能である。   (3) In the first embodiment, the substrate P is exemplified as the detection target of the sensor unit 30. However, as shown in FIG. 34, for example, the substrate P is placed on the substrate stand (the “plate-like substrate support” of the present invention For example, if it is carried on 600, it is of course possible to detect the substrate table 600.

(4)実施形態1では、第一の検出パターンにて、超音波センサ31A、31B間の相互干渉を回避するのに、これら両超音波センサ31A、31Bを同期させる制御方式をとったが、この他にも、両超音波センサ31A、31Bを検出周期TS分だけずらせて動作させてもよく、これを果たすには、両超音波センサ31A、31Bの送信回路部43A、43Bに送波動作を開始させる開始信号を検出周期TS分だけずらして順に与え、かつ受信回路部45A、45Bに受波動作を開始させる開始信号を検出周期TS分だけずらして順に与えてやればよい。   (4) In the first embodiment, in order to avoid mutual interference between the ultrasonic sensors 31A and 31B in the first detection pattern, a control method is adopted in which both the ultrasonic sensors 31A and 31B are synchronized. In addition to this, both ultrasonic sensors 31A and 31B may be operated by being shifted by the detection period TS, and in order to achieve this, a transmission operation is performed on the transmission circuit units 43A and 43B of both ultrasonic sensors 31A and 31B. The start signal for starting the signal may be sequentially shifted by the detection cycle TS, and the start signal for starting the reception operation to the reception circuit units 45A and 45B may be sequentially shifted by the detection cycle TS.

実施形態1に適用された表面実装機の平面図Plan view of a surface mounter applied to the first embodiment 図1中のA−A線断面図AA line sectional view in FIG. 図2をC方向から見た図(ストッパピンの下降位置を示す)FIG. 2 is a view from the direction C (showing the lowering position of the stopper pin) 図2をC方向から見た図(ストッパピンの上昇位置を示す)FIG. 2 is a view from the direction C (showing the position where the stopper pin is raised) 基板をバックアップした状態を示す図The figure which shows the state which backed up the board センサユニット周辺の拡大図Enlarged view around the sensor unit 超音波センサの内部構造を示す図Diagram showing the internal structure of the ultrasonic sensor ヘッドユニットの支持構造を示す図The figure which shows the support structure of the head unit 吸着ヘッドの支持構造を示す図Diagram showing the suction head support structure 表面実装機の電気的構成を示すブロック図Block diagram showing the electrical configuration of the surface mounter 第一の検出パターンと第二の検出パターンの検出動作の内容を示す図The figure which shows the content of the detection operation | movement of a 1st detection pattern and a 2nd detection pattern 近距離検出を示す図Diagram showing short-range detection 検出動作により観測される検出信号の信号波形を示す図The figure which shows the signal waveform of the detection signal observed by detection operation マスク処理を説明する図(センサからの距離と、有効範囲との関係を示す)Diagram explaining mask processing (shows relationship between distance from sensor and effective range) マスク処理を説明する図(第一の検出パターンにおいて、無効とされる時間帯と有効とされる時間帯の関係を示す)The figure explaining mask processing (in the 1st detection pattern, the relation between the time zone made invalid and the time zone made effective is shown) マスク処理を説明する図(第二の検出パターンにおいて、無効とされる時間帯と有効とされる時間帯の関係を示す)The figure explaining mask processing (in the 2nd detection pattern, the relation between the time zone made invalid and the time zone made effective is shown) 両超音波センサ間で起こる検出信号の相互干渉状態を示す図The figure which shows the mutual interference state of the detection signal which occurs between both ultrasonic sensors 相互干渉が回避された状態を示す図Diagram showing a state where mutual interference is avoided 検出シーケンスの手順を示すフローチャート図Flowchart diagram showing detection sequence procedure 第一の検出パターン実行処理の処理手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the process sequence of a 1st detection pattern execution process 信号確認処理1の処理手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the process sequence of the signal confirmation process 1. 第二の検出パターン実行処理の処理手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the process sequence of a 2nd detection pattern execution process 信号確認処理2の処理手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the process sequence of the signal confirmation process 2. 実施形態2に適用された検出シーケンスの手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the procedure of the detection sequence applied to Embodiment 2. 信号確認処理1の処理手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the process sequence of the signal confirmation process 1. 信号確認処理2の処理手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the process sequence of the signal confirmation process 2. 出力OFF判定処理の処理手順を示すフローチャート図The flowchart figure which shows the process sequence of an output OFF determination process 実施形態3に適用された印刷機の正面図Front view of a printing machine applied to the third embodiment 印刷装置本体の構成を示す斜視図A perspective view showing a configuration of a printing apparatus main body マスクの取り付け構造を示す図(押圧保持前)Figure showing the mask mounting structure (before pressing) 基板支持ユニットの平面図Plan view of substrate support unit 印刷機の電気的構成を示すブロック図Block diagram showing the electrical configuration of the printing press 印刷動作を示す図Diagram showing printing operation 他の実施形態を示す図The figure which shows other embodiment

符号の説明Explanation of symbols

1…表面実装機(本発明の「基板処理装置」の一例)
10…基台
20…搬送コンベア(本発明の「搬送装置」の一例)
30…センサユニット(本発明の「検出装置」に相当)
31A…超音波センサ(本発明の「一対の超音波センサ」に相当)
31B…超音波センサ(本発明の「一対の超音波センサ」に相当)
33…圧電セラミック振動子(本発明の「圧電振動子」に相当)
40…センサ制御装置
41…センサ制御部(本発明の「制御手段」に相当)
100…実装作業装置(本発明の「実行部」の一例)
200…コントローラ(本発明の「制御手段」相当)
300…印刷機(本発明の「基板処理装置」の一例)
320…印刷作業装置(本発明の「実行部」の一例)
470…基板搬送コンベア(本発明の「搬送装置」の一例)
1. Surface mounter (an example of the “substrate processing apparatus” of the present invention)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base 20 ... Conveyor (an example of "conveyor" of the present invention)
30 ... Sensor unit (corresponding to "detection device" of the present invention)
31A ... Ultrasonic sensor (corresponding to "a pair of ultrasonic sensors" of the present invention)
31B ... Ultrasonic sensor (corresponding to "a pair of ultrasonic sensors" of the present invention)
33 ... Piezoelectric ceramic vibrator (corresponding to "piezoelectric vibrator" of the present invention)
40 ... sensor control device 41 ... sensor control section (corresponding to "control means" of the present invention)
100 ... Mounting apparatus (an example of the “execution unit” of the present invention)
200 ... Controller (corresponding to "control means" of the present invention)
300 ... Printer (an example of the “substrate processing apparatus” of the present invention)
320 ... Printing device (an example of the “execution unit” of the present invention)
470: Substrate transport conveyor (an example of the “transport device” of the present invention)

Claims (4)

基台と、
前記基台上に設けられる搬送路に沿ってプリント基板を直接的、或いは板状の基板支持体を介して間接的に搬送する搬送装置と、
前記プリント基板、及び前記基板支持体を搬送対象物と定義したときに、前記搬送路上にて設定された検出位置における前記搬送対象物の有無を検出する検出装置と、
前記搬送装置によって前記基台上の作業位置に搬入された前記プリント基板に対して半田ペーストの印刷、接着剤の塗布、電子部品の実装、基板検査など予め決められた処理を実行する実行部と、を備えた基板処理装置であって、
前記検出装置は、
(1)超音波を送波する送波器と、前記送波器より送波され前記検出位置にある前記搬送対象物で反射した超音波の反射波を受波し、受波した反射波のレベルに応じた検出信号を出力する受波器と、からなる複数個の超音波センサを、互いに隣接して配置してなるセンサ群と、
(2)前記超音波を前記検出位置に向けて送波する送波動作と前記反射波を受波する受波動作とからなる検出動作を、前記センサ群を構成する各超音波センサに同期、或いは検出周期だけずらして実行させるセンサ制御部と、を備えてなることを特徴とする基板処理装置。
The base,
A transport device that transports a printed circuit board directly or indirectly via a plate-like substrate support along a transport path provided on the base;
A detection device that detects the presence or absence of the transport object at a detection position set on the transport path when the printed circuit board and the substrate support are defined as a transport object;
An execution unit that executes predetermined processing such as solder paste printing, adhesive application, electronic component mounting, and board inspection on the printed board carried into the work position on the base by the transport device; A substrate processing apparatus comprising:
The detection device includes:
(1) A transmitter that transmits an ultrasonic wave, and a reflected wave of the ultrasonic wave that is transmitted from the transmitter and reflected by the object to be conveyed at the detection position. A receiver that outputs a detection signal corresponding to the level, and a plurality of ultrasonic sensors that are arranged adjacent to each other;
(2) A detection operation including a transmission operation for transmitting the ultrasonic wave toward the detection position and a reception operation for receiving the reflected wave is synchronized with each ultrasonic sensor constituting the sensor group. Alternatively, a substrate processing apparatus comprising: a sensor control unit that is executed while being shifted by a detection cycle.
前記超音波センサは、電気的振動と機械的振動を相互に変換する単一個の圧電振動子を、前記送波器及び前記受波器として共用するセンサであることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 2. The ultrasonic sensor according to claim 1, wherein the ultrasonic sensor is a sensor sharing a single piezoelectric vibrator that mutually converts electrical vibration and mechanical vibration as the transmitter and the receiver. The substrate processing apparatus as described. 前記センサ群は、互いに隣接して配置された一対の超音波センサから構成されると共に、
前記センサ制御部は、前記一対の超音波センサに対して前記検出動作を同じ検出周期、かつ同時的に実行させる第一の検出パターンと、
一方の超音波センサを送波器として使用し、他方の超音波センサを受波器として使用する第二の検出パターンと、を交互に実行させることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
The sensor group includes a pair of ultrasonic sensors arranged adjacent to each other,
The sensor control unit has a first detection pattern for causing the pair of ultrasonic sensors to execute the detection operation at the same detection period and simultaneously,
The substrate processing according to claim 2, wherein a second detection pattern using one ultrasonic sensor as a transmitter and the other ultrasonic sensor as a receiver is alternately executed. apparatus.
前記第一の検出パターンと、第二の検出パターンの少なくともいずれかの一方の検出パターンにて前記反射波の検出が有ることを条件に、搬送対象物有りと判断し、前記搬送装置及びそれに付属される装置の駆動、或いは前記実行部の駆動を制御する制御手段を、備えることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。 It is determined that there is an object to be transported on the condition that the reflected wave is detected in at least one of the first detection pattern and the second detection pattern, and the transport device and its attachment The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising a control unit that controls driving of the apparatus to be operated or driving of the execution unit.
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