JP2009244914A - Method of manufacturing polarizing plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make a fitted retardation plate not have large change in optical property even when a polarizing plate is placed under a high temperature and a dry condition. <P>SOLUTION: The polarizing plate is manufactured through the steps of: forming a cellulose acylate film from a cellulose acylate solution prepared by dissolving cellulose acylate in a solvent containing 0.003 to 0.1% by mass of water; subjecting the formed cellulose acylate film to a heat treatment for 0.5 to 200 hours at a temperature of 50 to 150°C and at a relative humidity of 0 to 10%; stretching the heat-treated cellulose acylate film at a longitudinal/lateral stretching ratio of 0.3 to 2; and stacking the retardation plate formed of the stretched cellulose acylate film, a first transparent protective film (the retardation plate may serve as the protective film), a moisture-proof layer, a linear polarizing film, and a second transparent protective film. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、二枚の透明保護膜の間に直線偏光膜が配置されており、さらに光学異方性を有する位相差板を含む偏光板に関する。特に本発明は、円偏光板のように、位相差板に対して正確な光学異方性(レターデーション値)が要求される用途の偏光板に関する。   The present invention relates to a polarizing plate including a retardation plate having a linear polarizing film disposed between two transparent protective films and further having optical anisotropy. In particular, the present invention relates to a polarizing plate for applications in which accurate optical anisotropy (retardation value) is required for a retardation plate, such as a circularly polarizing plate.

二枚の透明保護膜の間に直線偏光膜が配置されており、さらに光学異方性を有する位相差板を含む偏光板は、様々な光学分野で利用されている。
位相差板がλ/4板であり、位相差板と直線偏光膜とが位相差板の遅相軸と直線偏光膜の透過軸とが45°の角度となるように配置されていると、偏光板は円偏光板として機能する。円偏光板の用途では、λ/4板として機能する位相差板の光学的性質(レターデーション値)が非常に重要である。
従来のλ/4板はλ/4板と称していても、特定波長でのみλ/4を達成しているものが大部分であった。
A linear polarizing film is disposed between two transparent protective films, and a polarizing plate including a retardation plate having optical anisotropy is used in various optical fields.
When the retardation plate is a λ / 4 plate and the retardation plate and the linear polarizing film are arranged so that the slow axis of the retardation plate and the transmission axis of the linear polarizing film are at an angle of 45 °, The polarizing plate functions as a circularly polarizing plate. In the use of a circularly polarizing plate, the optical property (retardation value) of a retardation plate that functions as a λ / 4 plate is very important.
Even though the conventional λ / 4 plate is called a λ / 4 plate, most of them achieve λ / 4 only at a specific wavelength.

特許文献1および2に、レターデーションが大きい複屈折性フイルムと、レターデーションが小さい複屈折性フイルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板が開示されている。二枚のフイルムのレターデーションの差が可視光域の全体にわたりλ/4であれば、位相差板は理論的には、可視光域の全体にわたりλ/4板として機能する。   Patent Documents 1 and 2 disclose a retardation plate in which a birefringent film having a large retardation and a birefringent film having a small retardation are laminated so that their optical axes are orthogonal to each other. If the retardation difference between the two films is λ / 4 over the entire visible light region, the retardation plate theoretically functions as a λ / 4 plate over the entire visible light region.

特許文献3には、特定波長においてλ/4となっているポリマーフイルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ/2となっているポリマーフイルムとを積層させて、広い波長領域でλ/4が得られる位相差板が開示されている。
特許文献4にも、二枚のポリマーフイルムを積層することにより広い波長領域でλ/4を達成できる位相差板が開示されている。
ポリマーフイルムとしては、ポリカーボネートのような合成ポリマーの延伸フイルムが使用されている。ポリマーフイルムは2枚を重ね合わせて使用するため、厚みが厚くなり、貼合せ工程が必要なためコストが高くなり易いという欠点を有している。さらに各波長でのレターデーション値が目標値(各波長の1/4)からのずれが大きく、特に高波長域でのずれが顕著であった。
In Patent Document 3, a polymer film having a wavelength of λ / 4 at a specific wavelength and a polymer film made of the same material and having a wavelength of λ / 2 are laminated to form a λ / 4 in a wide wavelength region. A phase difference plate that can obtain the above is disclosed.
Patent Document 4 also discloses a retardation plate that can achieve λ / 4 in a wide wavelength region by laminating two polymer films.
As the polymer film, a stretched film of a synthetic polymer such as polycarbonate is used. Since the polymer film is used by superimposing two sheets, it has a drawback that the thickness is increased and a laminating process is required, so that the cost is likely to increase. Further, the retardation value at each wavelength greatly deviated from the target value (1/4 of each wavelength), and the deviation at a high wavelength region was particularly remarkable.

特許文献5は、ポリマーフイルムを一枚用いた広帯域λ/4板が開示している。ポリマーとして具体的には、2.5〜2.8のアセチル化度を有するセルロースアセテートが用いられている。しかし、セルロースアセテートのみでは、光学異方性(複屈折率)が不足気味であって、λ/4板として必要なレターデーション値を得るためには、フイルムを厚くする必要がある。
特許文献6には、複数の芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として含む一枚のセルロースエステルフイルムからなる広帯域λ/4板が開示されている。レターデーション上昇剤を使用することにより、高い光学異方性(複屈折率)が得られ、薄いセルロースエステルフイルム一枚でも広帯域λ/4を実現できる。
Patent Document 5 discloses a broadband λ / 4 plate using a single polymer film. Specifically, cellulose acetate having a degree of acetylation of 2.5 to 2.8 is used as the polymer. However, with cellulose acetate alone, the optical anisotropy (birefringence index) tends to be insufficient, and in order to obtain the necessary retardation value for the λ / 4 plate, it is necessary to increase the film thickness.
Patent Document 6 discloses a broadband λ / 4 plate made of a single cellulose ester film containing an aromatic compound having a plurality of aromatic rings as a retardation increasing agent. By using a retardation increasing agent, high optical anisotropy (birefringence) can be obtained, and a wide band λ / 4 can be realized even with a single thin cellulose ester film.

特開平5−27118号公報JP-A-5-27118 特開平5−27119号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-27119 特開平10−68816号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-68816 特開平10−90521号公報JP-A-10-90521 特開2000−137116号公報JP 2000-137116 A 国際公開第00/65384号パンフレットInternational Publication No. 00/65384 Pamphlet

本発明者が、特許文献6に記載のλ/4板を検討したところ、高温(60℃程度)で乾燥した(低湿)条件においてレターデーション値が大きく変化することが判明した。自動車に搭載される液晶表示装置のように、夏場において過酷な条件に置かれる画像表示装置にも、λ/4板あるいは円偏光板を取り付ける場合が多い。
本発明の目的は、高温で乾燥した条件に置かれても、取り付けられた位相差板の光学的性質が大きく変化しない偏光板を提供することである。
When the present inventor examined the λ / 4 plate described in Patent Document 6, it was found that the retardation value greatly changes under conditions of drying (low humidity) at a high temperature (about 60 ° C.). In many cases, a λ / 4 plate or a circularly polarizing plate is attached to an image display device that is subjected to severe conditions in summer, such as a liquid crystal display device mounted on an automobile.
An object of the present invention is to provide a polarizing plate in which the optical properties of the attached retardation plate do not change greatly even when placed under dry conditions at high temperatures.

本発明の目的は、下記(1)〜(3)により達成された。
(1)0.003乃至0.1質量%の水を含む溶剤中にセルロースアシレートが溶解しているセルロースアシレート溶液からセルロースアシレートフイルムを形成する工程;形成したセルロースアシレートフイルムを温度50乃至150℃、相対湿度0乃至10%の条件で0.5乃至200時間熱処理する工程;熱処理したセルロースアシレートフイルムを縦/横の延伸比が0.3乃至2となる条件で延伸する工程;そして、延伸したセルロースアシレートフイルムからなる位相差板、第1透明保護膜、直線偏光膜、第2透明保護膜、および防湿層を、位相差板、第1透明保護膜、直線偏光膜、そして第2透明保護膜の順序で、かつ位相差板と直線偏光膜との間に防湿層が存在するように積層するか、あるいは、延伸したセルロースアシレートフイルムからなる第1透明保護膜兼位相差板、防湿層、直線偏光膜、そして第2透明保護膜をこの順序で積層する工程により偏光板を製造することを特徴とする偏光板の製造方法。
The object of the present invention has been achieved by the following (1) to (3).
(1) A step of forming a cellulose acylate film from a cellulose acylate solution in which cellulose acylate is dissolved in a solvent containing 0.003 to 0.1% by mass of water; A step of heat-treating for 0.5 to 200 hours under conditions of 150 to 150 ° C. and a relative humidity of 0 to 10%; a step of stretching the heat-treated cellulose acylate film under a condition that a longitudinal / lateral stretch ratio is 0.3 to 2; And a retardation film made of a stretched cellulose acylate film, a first transparent protective film, a linearly polarizing film, a second transparent protective film, and a moisture-proof layer, the retardation film, the first transparent protective film, the linearly polarizing film, and The cellulose acylate is laminated or stretched in the order of the second transparent protective film so that a moisture-proof layer exists between the retardation film and the linearly polarizing film. The first transparent protective film and a retardation plate consisting of a film, the moisture-proof layer, the linear polarization film and method for manufacturing a polarizing plate, characterized by producing a polarizing plate by the process of the second transparent protective film laminated in this order.

(2)製造された偏光板を温度25℃、相対湿度60%の条件で調温調湿して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値から、さらに偏光板を温度60℃、相対湿度10%の条件で3時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値の変化が15nm未満である(1)に記載の偏光板の製造方法。
(3)製造された偏光板を温度60℃、相対湿度10%の条件で3時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値から、さらに偏光板を温度60℃、相対湿度10%の条件で47時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値の変化が15nm未満である(1)に記載の偏光板の製造方法。
(2) From the retardation value of the retardation plate measured by adjusting the temperature of the produced polarizing plate under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% and measuring at a wavelength of 550 nm, the polarizing plate was further heated to a temperature of 60 ° C. and a relative humidity. The method for producing a polarizing plate according to (1), wherein the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after being stored for 3 hours under the condition of 10% is less than 15 nm.
(3) From the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after storing the produced polarizing plate under conditions of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10% for 3 hours, the polarizing plate was further heated to a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10 The method for producing a polarizing plate according to (1), wherein the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after being stored for 47 hours under the condition of% is less than 15 nm.

本発明は、以下の態様で実施できる。
(4)偏光板から位相差板を除いた構造全体の透湿量が5g/m・日未満である。
(5)防湿層が、10−12乃至10−7(cm/cm・sec・cmHg)の水蒸気透過係数を有する。
(6)防湿層が、平均長径が0.3乃至20μmであり、平均アスペクト比が20乃至1万である平板状粒子を1乃至50質量%含み、平板状粒子がバインダー中に分散している。
The present invention can be implemented in the following modes.
(4) The moisture permeability of the entire structure excluding the retardation plate from the polarizing plate is less than 5 g / m 2 · day.
(5) The moisture-proof layer has a water vapor transmission coefficient of 10 −12 to 10 −7 (cm 3 / cm · sec · cmHg).
(6) The moisture-proof layer contains 1 to 50% by mass of tabular grains having an average major axis of 0.3 to 20 μm and an average aspect ratio of 20 to 10,000, and the tabular grains are dispersed in the binder. .

(7)セルロースアシレートフイルムを、温度25℃、相対湿度60%の条件で調温調湿して偏光赤外法で求めたカルボニル基の伸縮振動の2色比から、温度25℃、相対湿度10%の条件で調温調湿して偏光赤外法で求めたカルボニル基の伸縮振動の2色比への減少量が、0.8未満である。
(8)セルロースアシレートフイルムが含水率2乃至10%の条件で、1.1倍乃至2倍に延伸されている。
(9)セルロースアシレートフイルムが含水処理によって含水率2乃至10%に調整され、含水処理前に、セルロースアシレートフイルムが温度50乃至150℃、相対湿度0乃至30%の条件で3秒乃至30分加熱乾燥処理されている。
(7) A temperature of 25 ° C. and a relative humidity from the two-color ratio of the stretching vibration of the carbonyl group obtained by adjusting the temperature of the cellulose acylate film under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% and obtained by the polarization infrared method. The amount of reduction of the carbonyl group stretching vibration to the two-color ratio obtained by adjusting the temperature and humidity under the condition of 10% by the polarization infrared method is less than 0.8.
(8) The cellulose acylate film is stretched 1.1 to 2 times under the condition of a moisture content of 2 to 10%.
(9) The cellulose acylate film is adjusted to a moisture content of 2 to 10% by water treatment, and before the water treatment, the cellulose acylate film is heated for 3 seconds to 30 at a temperature of 50 to 150 ° C. and a relative humidity of 0 to 30%. It is heat-dried for minutes.

(10)偏光板を温度60℃、相対湿度10%の条件で47時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値から、さらに偏光板を温度25℃、相対湿度60%での条件で24時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値への変化が15nm未満である。
(11)位相差板が、ニップロールとフイルムとのラップ角が30°未満の条件で多段延伸されたセルロースアシレートフイルムからなる。
(12)偏光板を温度25℃、相対湿度60%の条件で24時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値から、さらに偏光板を温度25℃、相対湿度60%の条件で216時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値の変化が15nm未満である。
(10) From the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after storing the polarizing plate at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10% for 47 hours, the polarizing plate was further measured at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. The change in retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after being stored for 24 hours under the conditions is less than 15 nm.
(11) The retardation plate is made of a cellulose acylate film that is stretched in multiple stages under the condition that the wrap angle between the nip roll and the film is less than 30 °.
(12) From the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after storing the polarizing plate at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 24 hours, the polarizing plate was further subjected to a condition of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. The retardation value of the retardation plate measured at 550 nm after storage for 216 hours was less than 15 nm.

(13)波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値(Re550)が100nm<Re550<330nmであり、波長450nm、550nmおよび650nmで測定した位相差板のレターデーション値(Re450、Re550、Re650)が、それぞれ0.5<Re450/Re550<0.98、1.01<Re650/Re550<1.35を満足する。
(14)位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率nx、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび位相差板の厚み方向の屈折率nzが、1.1<(nx−nz)/(nx−ny)<3を満足する。
(13) The retardation value (Re550) of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm is 100 nm <Re550 <330 nm, and the retardation values of the retardation plate measured at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm (Re450, Re550, Re650). However, 0.5 <Re450 / Re550 <0.98 and 1.01 <Re650 / Re550 <1.35 are satisfied, respectively.
(14) The refractive index nx in the slow axis direction in the plane of the retardation plate, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane of the retardation plate, and the refractive index nz in the thickness direction of the retardation plate, 1.1 <(nx−nz) / (nx−ny) <3 is satisfied.

(15)表示面に(1)で製造した偏光板が取り付けられている画像表示装置。
(16)表示面に(1)で製造した偏光板が取り付けられている反射型液晶表示装置。
(15) An image display device in which the polarizing plate produced in (1) is attached to the display surface.
(16) A reflective liquid crystal display device in which the polarizing plate produced in (1) is attached to the display surface.

(17)表示面に(1)で製造した偏光板が取り付けられている有機EL素子。
(18)表示面に(1)で製造した偏光板が取り付けられているタッチパネル。
(17) An organic EL device in which the polarizing plate produced in (1) is attached to the display surface.
(18) A touch panel in which the polarizing plate manufactured in (1) is attached to the display surface.

高温乾燥下においても位相差板のレターデーション変化が小さい偏光板が得られる。   A polarizing plate having a small retardation change of the retardation plate even under high temperature drying can be obtained.

偏光板についての試験的な保存条件と時間経過に対応する位相差板のレターデーション値の変化を示すチャートである。It is a chart which shows the change of the retardation value of the phase difference plate corresponding to the test storage conditions about a polarizing plate and time passage.

[偏光板の基本構成]
本発明に従う偏光板は、下記(A)または(B)の基本構成を有する。
偏光板を画像表示装置に組み込む際には、下側(位相差板側)が内側(画像表示面側)となり、上側(第2透明保護膜側)が外側(視認側)となる。位相差板と画像表示面と間には、一般に粘着剤層を設ける。
[Basic configuration of polarizing plate]
The polarizing plate according to the present invention has the following basic configuration (A) or (B).
When the polarizing plate is incorporated in the image display device, the lower side (retardation plate side) is the inner side (image display surface side), and the upper side (second transparent protective film side) is the outer side (viewing side). In general, an adhesive layer is provided between the retardation plate and the image display surface.

────────────────────────────────────
(A) (B)
────────────────────────────────────
第2透明保護膜 第2透明保護膜
直線偏光膜 直線偏光膜
第1透明保護膜 第1透明保護膜兼位相差板
位相差板
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
(A) (B)
────────────────────────────────────
Second transparent protective film Second transparent protective film
Linear polarizing film Linear polarizing film First transparent protective film First transparent protective film and retardation plate
Phase plate ─────────────────────────────────────

[位相差板のレターデーション値変化]
本発明者が、偏光板の使用(または保存)条件における位相差板のレターデーション値変化を研究した結果、位相差板のレターデーション値が変動しやすい偏光板の使用(または保存)条件が判明した。
本発明では、そのような条件においても、位相差板のレターデーション値が実質的に変化しないように偏光板を改良する。
[Change in retardation value of retardation plate]
As a result of studying the retardation value change of the retardation plate under the use (or storage) conditions of the polarizing plate, the present inventors have found the use (or storage) conditions of the polarizing plate in which the retardation value of the retardation plate is likely to fluctuate. did.
In the present invention, the polarizing plate is improved so that the retardation value of the retardation film does not substantially change even under such conditions.

図1は、偏光板についての試験的な保存条件と時間経過に対応する位相差板のレターデーション値の変化を示すチャートである。なお、図1に示すレターデーション値(相対変化)は、実施例における試料番号12の結果である。
図1に示すように、第1に、偏光板を温度25℃、相対湿度60%の条件で調温調湿してから、波長550nmで位相差板のレターデーション値を測定する(第1測定)。
調温調湿に要する時間は、その前の偏光板の保存条件により異なる。すなわち、調温調湿の前に、温度25℃、相対湿度60%に近い条件で偏光板を保存していたならば、短時間で調温調湿処理が完了する。逆に、大きく異なる条件で偏光板を保存していたならば、調温調湿処理を長時間実施する必要がある。
具体的には、レターデーション値が実質的に変動しなくなる(例えば、変動が±1nm/時間未満となる)まで、偏光板を調温調湿する。一般的には(あるいは偏光板の保存条件が不明である場合には)、24時間調温調湿することが望ましい。
調温調湿後、偏光板から位相差板を剥離し、自動複屈折計(KOBRA−21ADH/PR:王子計測器(株)製)を用いて、波長550nmでレターデーション値を測定する。
FIG. 1 is a chart showing experimental storage conditions for a polarizing plate and changes in retardation value of a retardation plate corresponding to the passage of time. In addition, the retardation value (relative change) shown in FIG. 1 is a result of the sample number 12 in an Example.
As shown in FIG. 1, first, the retardation value of the retardation plate is measured at a wavelength of 550 nm after the temperature of the polarizing plate is adjusted at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% (first measurement). ).
The time required for temperature control and humidity varies depending on the storage conditions of the previous polarizing plate. That is, if the polarizing plate is stored under conditions close to a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% before the temperature and humidity control, the temperature and humidity control process is completed in a short time. On the other hand, if the polarizing plate is stored under greatly different conditions, it is necessary to carry out the temperature and humidity control treatment for a long time.
Specifically, the temperature of the polarizing plate is adjusted until the retardation value does not substantially vary (for example, the variation is less than ± 1 nm / hour). In general (or when the storage conditions of the polarizing plate are unknown), it is desirable to control the temperature for 24 hours.
After adjusting the temperature and humidity, the retardation plate is peeled off from the polarizing plate, and the retardation value is measured at a wavelength of 550 nm using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH / PR: manufactured by Oji Scientific Instruments).

第2に、調温調湿した偏光板を、さらに温度60℃、相対湿度10%の条件で3時間保存してから、波長550nmで位相差板のレターデーション値を測定する(第2測定)。
3時間保存後、偏光板から位相差板を剥離し、自動複屈折計(KOBRA−21ADH/PR:王子計測器(株)製)を用いて、波長550nmでレターデーション値を測定する。
本発明の第1の態様では、第1測定におけるレターデーション値から、第2測定におけるレターデーション値の変化が15nm未満である(本発明の第1過程)。レターデーション値の変化は、12nm未満が好ましく、10nm未満がさらに好ましい。図1に示す試料番号12の結果では、レターデーション値の変化が8nmである。
第1過程におけるレターデーション変化は、位相差板の製造において生じた歪みが、製造後に解消されることによって、位相差板が構造変化することにより生じる。図1に示す試料番号12の結果と同様に、第1過程では一般にレターデーション値が低下する(第1測定値>第2測定値)。
第2測定の後も、さらに偏光板の保存と、位相差板の測定を続けることが好ましい。
Secondly, after the temperature-controlled and humidity-controlled polarizing plate is further stored for 3 hours under conditions of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%, the retardation value of the retardation plate is measured at a wavelength of 550 nm (second measurement). .
After storage for 3 hours, the retardation plate is peeled off from the polarizing plate, and the retardation value is measured at a wavelength of 550 nm using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH / PR: manufactured by Oji Scientific Instruments).
In the first aspect of the present invention, the change in the retardation value in the second measurement is less than 15 nm from the retardation value in the first measurement (first process of the present invention). The change in retardation value is preferably less than 12 nm, and more preferably less than 10 nm. In the result of sample number 12 shown in FIG. 1, the change in retardation value is 8 nm.
The retardation change in the first process is caused by the structural change of the retardation plate by eliminating the distortion generated in the manufacture of the retardation plate after the manufacture. Similar to the result of the sample number 12 shown in FIG. 1, the retardation value generally decreases in the first process (first measured value> second measured value).
Even after the second measurement, it is preferable to continue the storage of the polarizing plate and the measurement of the retardation plate.

第3に、好ましくは、温度60℃、相対湿度10%の条件で3時間保存した偏光板を、さらに、同一条件(温度60℃、相対湿度10%)で47時間(温度60℃、相対湿度10%では、合計50時間)保存してから、波長550nmで位相差板のレターデーション値を測定する(第3測定)。
47時間保存後、偏光板から位相差板を剥離し、自動複屈折計(KOBRA−21ADH/PR:王子計測器(株)製)を用いて、波長550nmでレターデーション値を測定する。
本発明の第1の態様では、第2測定におけるレターデーション値から、第3測定におけるレターデーション値の変化が15nm未満であること(本発明の第2過程)が好ましい。レターデーション値の変化は、12nm未満がより好ましく、10nm未満がさらに好ましい。図1に示す試料番号12の結果では、レターデーション値の変化が5nmである。
第2過程におけるレターデーション変化は、位相差板に含まれる水分が、乾燥により減少することにより生じる。第2過程における変化は、第1過程よりもゆっくりしており、長時間(47時間)の保存が必要である。図1に示す試料番号12の結果と同様に、第2過程では一般にレターデーション値が上昇する(第2測定値<第3測定値)。
第3測定の後も、さらに偏光板の保存と、位相差板の測定を続けることが好ましい。
なお、本発明の第2の態様では、第1測定および第2測定を省略し、温度60℃、相対湿度10%の条件で調温調湿してから、波長550nmで位相差板のレターデーション値の測定(第3測定)を実施する。調温調湿に要する時間については、第1測定と同様である。
Third, preferably, a polarizing plate stored for 3 hours under conditions of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10% is further subjected to 47 hours (temperature of 60 ° C. and relative humidity) under the same conditions (temperature of 60 ° C. and relative humidity of 10%). At 10%, the retardation value of the retardation plate is measured at a wavelength of 550 nm (third measurement).
After storage for 47 hours, the retardation plate is peeled from the polarizing plate, and the retardation value is measured at a wavelength of 550 nm using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH / PR: manufactured by Oji Scientific Instruments).
In the first aspect of the present invention, it is preferable that the change in the retardation value in the third measurement is less than 15 nm from the retardation value in the second measurement (second process of the present invention). The change in retardation value is more preferably less than 12 nm, and even more preferably less than 10 nm. In the result of sample number 12 shown in FIG. 1, the change in retardation value is 5 nm.
The retardation change in the second process occurs when the moisture contained in the retardation plate is reduced by drying. The change in the second process is slower than in the first process, and storage for a long time (47 hours) is required. Similar to the result of the sample number 12 shown in FIG. 1, the retardation value generally increases in the second process (second measured value <third measured value).
Even after the third measurement, it is preferable to continue the storage of the polarizing plate and the measurement of the retardation plate.
In the second aspect of the present invention, the first measurement and the second measurement are omitted, the temperature is adjusted under the conditions of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%, and the retardation of the retardation plate at a wavelength of 550 nm. The value is measured (third measurement). The time required for temperature control and humidity control is the same as in the first measurement.

第4に、好ましくは、温度60℃、相対湿度10%の条件で47時間保存した偏光板を、さらに、温度25℃、相対湿度60%で24時間保存してから、波長550nmで位相差板のレターデーション値を測定する(第4測定)。
24時間保存後、偏光板から位相差板を剥離し、自動複屈折計(KOBRA−21ADH/PR:王子計測器(株)製)を用いて、波長550nmでレターデーション値を測定する。
本発明の第1の態様では、第3測定におけるレターデーション値から、第4測定におけるレターデーション値の変化が15nm未満であること(本発明の第3過程)が好ましい。レターデーション値の変化は、12nm未満がより好ましく、10nm未満がさらに好ましい。図1に示す試料番号12の結果では、レターデーション値の変化が4nmである。
本発明の第2の態様では、第3測定におけるレターデーション値から、第4測定におけるレターデーション値の変化が15nm未満である(本発明の第3過程)。レターデーション値の変化は、12nm未満が好ましく、10nm未満がさらに好ましい。
第3過程におけるレターデーション変化は、温度変化(冷却)に伴い、位相差板内の分子配列が変化することにより生じると推定される。図1に示す試料番号12の結果と同様に、第3過程では一般にレターデーション値が上昇する(第3測定値<第4測定値)。
第4測定の後も、さらに偏光板の保存と、位相差板の測定を続けることが好ましい。
Fourth, preferably, a polarizing plate stored for 47 hours at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10% is further stored for 24 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then a retardation plate at a wavelength of 550 nm. The retardation value is measured (fourth measurement).
After storage for 24 hours, the retardation plate is peeled off from the polarizing plate, and the retardation value is measured at a wavelength of 550 nm using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH / PR: manufactured by Oji Scientific Instruments).
In the first aspect of the present invention, it is preferable that the change in the retardation value in the fourth measurement is less than 15 nm from the retardation value in the third measurement (third process of the present invention). The change in retardation value is more preferably less than 12 nm, and even more preferably less than 10 nm. In the result of sample number 12 shown in FIG. 1, the change in retardation value is 4 nm.
In the second aspect of the present invention, the change in retardation value in the fourth measurement is less than 15 nm from the retardation value in the third measurement (third process of the present invention). The change in retardation value is preferably less than 12 nm, and more preferably less than 10 nm.
It is presumed that the retardation change in the third process is caused by the change in the molecular arrangement in the retardation plate accompanying the temperature change (cooling). Similar to the result of the sample number 12 shown in FIG. 1, the retardation value generally increases in the third process (third measurement value <fourth measurement value).
Even after the fourth measurement, it is preferable to continue the preservation of the polarizing plate and the measurement of the retardation plate.

第5に、好ましくは、温度25℃、相対湿度60%の条件で24時間保存した偏光板を、さらに、同一条件(温度25℃、相対湿度60%)で216時間(温度25℃、相対湿度60%では、合計240時間)保存してから、波長550nmで位相差板のレターデーション値を測定する(第5測定)。
216時間保存後、偏光板から位相差板を剥離し、自動複屈折計(KOBRA−21ADH/PR:王子計測器(株)製)を用いて、波長550nmでレターデーション値を測定する。
本発明の第1および第2の態様では、いずれも、第4測定におけるレターデーション値から、第5測定におけるレターデーション値の変化が15nm未満であること(本発明の第4過程)が好ましい。レターデーション値の変化は、12nm未満がより好ましく、10nm未満がさらに好ましい。図1に示す試料番号12の結果では、レターデーション値の変化が5nmである。
第4過程におけるレターデーション変化は、位相差板が吸湿することにより生じる。図1に示す試料番号12の結果と同様に、第4過程では一般にレターデーション値が低下する(第4測定値>第5測定値)。
Fifth, preferably, a polarizing plate stored for 24 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% is further subjected to 216 hours (temperature of 25 ° C. and relative humidity of 60%) under the same conditions (temperature of 25 ° C. and relative humidity of 60%). At 60%, the retardation value of the retardation plate is measured at a wavelength of 550 nm (5th measurement).
After storage for 216 hours, the retardation plate is peeled off from the polarizing plate, and the retardation value is measured at a wavelength of 550 nm using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH / PR: manufactured by Oji Scientific Instruments).
In both the first and second aspects of the present invention, it is preferable that the change in retardation value in the fifth measurement is less than 15 nm from the retardation value in the fourth measurement (fourth process of the present invention). The change in retardation value is more preferably less than 12 nm, and even more preferably less than 10 nm. In the result of sample number 12 shown in FIG. 1, the change in retardation value is 5 nm.
The retardation change in the fourth process occurs when the retardation plate absorbs moisture. Similar to the result of the sample number 12 shown in FIG. 1, the retardation value generally decreases in the fourth process (fourth measurement value> fifth measurement value).

[第1〜第4過程の実現手段]
第1過程のレターデーション値変化が本発明の条件を満足するためには、位相差板が、温度50乃至150℃、相対湿度0乃至70%の条件で0.5乃至200時間加熱処理されたポリマーフイルムからなることが好ましい。
加熱温度は、70乃至140℃がより好ましく、90乃至120℃がさらに好ましい。相対湿度は、0乃至50%がより好ましく、0乃至30%がさらに好ましい。加熱時間は、1乃至100時間がより好ましく、3乃至50時間がさらに好ましい。加熱処理によりポリマーフイルムの構造を緩和し、第1測定値と第2測定値との差を小さくすることができる。
加熱処理により、ポリマーフイルムのガラス転移温度(Tg)近傍の吸熱ピークの熱量(緩和熱量)が、0.1乃至2.0J/gとなることが好ましい。Tg近傍の吸熱ピークとは、Tg−10℃〜Tg+50℃の範囲に存在するピークを意味する。Tg近傍の吸熱ピークの熱量は、0.3乃至1.8J/gであることが好ましく、0.5乃至1.6J/gであることがさらに好ましい。なお、加熱処理を実施しないと、ポリマーフイルムには一般に、吸熱ピークが出現しない(0J/gである)。
[Means for realizing the first to fourth processes]
In order for the retardation value change in the first step to satisfy the conditions of the present invention, the retardation plate was heat-treated at a temperature of 50 to 150 ° C. and a relative humidity of 0 to 70% for 0.5 to 200 hours. It preferably consists of a polymer film.
The heating temperature is more preferably 70 to 140 ° C, further preferably 90 to 120 ° C. The relative humidity is more preferably 0 to 50%, and further preferably 0 to 30%. The heating time is more preferably 1 to 100 hours, and further preferably 3 to 50 hours. The structure of the polymer film can be relaxed by the heat treatment, and the difference between the first measurement value and the second measurement value can be reduced.
It is preferable that the heat amount (relaxation heat amount) of the endothermic peak near the glass transition temperature (Tg) of the polymer film is 0.1 to 2.0 J / g by the heat treatment. The endothermic peak near Tg means a peak existing in the range of Tg-10 ° C to Tg + 50 ° C. The amount of heat at the endothermic peak near Tg is preferably 0.3 to 1.8 J / g, and more preferably 0.5 to 1.6 J / g. Unless heat treatment is performed, generally no endothermic peak appears in the polymer film (0 J / g).

第2過程のレターデーション値変化が本発明の条件を満足するためには、偏光板から位相差板を除いた構造全体の透湿量を5g/m・日未満に抑制することが好ましい。透湿量は、0.01乃至4g/m・日であることが好ましく、0.05乃至3g/m・日であることがさらに好ましい。
上記の低透湿量は、偏光板に防湿層を設けることで達成できる。防湿層の水蒸気透過係数は、1×10−12乃至1×10−7(cm/cm・sec・cmHg)であることが好ましく、5×10−11 乃至5×10−8(cm/cm・sec・cmHg)であることがより好ましく、1×10−10乃至1×10−8(cm/cm・sec・cmHg)であることがさらに好ましい。
防湿層は、平均長径が0.3乃至20μmであり、平均アスペクト比が20乃至1万である平板状粒子を1乃至50質量%含み、平板状粒子がバインダー中に分散している層であることが好ましい。平均アスペクト比(円に換算した表面積の直径と厚みとの比)は、100乃至5万であることが好ましく、200乃至1万であることがさらに好ましい。
In order for the retardation value change in the second process to satisfy the conditions of the present invention, it is preferable to suppress the moisture permeation amount of the entire structure excluding the retardation plate from the polarizing plate to less than 5 g / m 2 · day. The moisture permeability is preferably 0.01 to 4 g / m 2 · day, and more preferably 0.05 to 3 g / m 2 · day.
The low moisture permeability can be achieved by providing a moisture-proof layer on the polarizing plate. The moisture vapor transmission coefficient of the moisture-proof layer is preferably 1 × 10 −12 to 1 × 10 −7 (cm 3 / cm · sec · cmHg), and 5 × 10 −11 to 5 × 10 −8 (cm 3 / cm · sec · cmHg), more preferably 1 × 10 −10 to 1 × 10 −8 (cm 3 / cm · sec · cmHg).
The moisture-proof layer is a layer containing 1 to 50% by mass of tabular grains having an average major axis of 0.3 to 20 μm and an average aspect ratio of 20 to 10,000, and the tabular grains are dispersed in the binder. It is preferable. The average aspect ratio (ratio of surface area diameter to thickness converted to a circle) is preferably 100 to 50,000, and more preferably 200 to 10,000.

位相差板がセルロースアシレートフイルムからなる場合、第2過程を満足するため、セルロースアシレートフイルムを、温度25℃、相対湿度60%の条件で調温調湿して偏光赤外法で求めたカルボニル基の伸縮振動の2色比から、温度25℃、相対湿度10%の条件で調温調湿して偏光赤外法で求めたカルボニル基の伸縮振動の2色比への減少量を、0.8未満に抑制することが好ましい。減少量は、0.7未満が好ましく、0.6未満がさらに好ましい。なお、通常の方法で延伸したセルロースアシレートフイルムでは、減少量が一般に1.2以上になる。従って、減少量を抑制するためには、特別な条件でセルロースアシレートフイルムを延伸する必要がある。
具体的には、セルロースアシレートフイルムを、含水率2乃至10%の条件で、1.1倍乃至2倍に延伸することが好ましい。含水率は、2.5乃至8%であることがより好ましく、3乃至6%であることがさらに好ましい。
含水状態で延伸することにより、湿度に対するレターデーション変化を小さくすることができる。すなわち、延伸により配向した分子がレターデーションを発現するが、分子配向は湿度変化で変動する。予め水分を含む状態で延伸すると、分子配向の変化を小さく抑制できると推定される。
含水率は、セルロースアシレートフイルムの含水処理によって調整する。含水処理前に、セルロースアシレートフイルムを温度50乃至150℃、相対湿度0乃至30%の条件で3秒乃至30分間加熱乾燥処理することが好ましい。加熱温度は、60乃至120℃がより好ましく、70乃至110℃がさらに好ましい。相対湿度は、0乃至25%がより好ましく、0乃至20%がさらに好ましい。加熱時間は、5秒乃至10分がより好ましく、10秒乃至3分がさらに好ましい。
When the phase difference plate is made of cellulose acylate film, the cellulose acylate film was conditioned and conditioned under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% in order to satisfy the second process. The amount of reduction from the two-color ratio of the stretching vibration of the carbonyl group to the two-color ratio of the stretching vibration of the carbonyl group determined by the polarization infrared method after adjusting the temperature under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 10%, It is preferable to suppress to less than 0.8. The amount of decrease is preferably less than 0.7, and more preferably less than 0.6. In the cellulose acylate film stretched by a usual method, the amount of decrease is generally 1.2 or more. Therefore, in order to suppress the decrease, it is necessary to stretch the cellulose acylate film under special conditions.
Specifically, the cellulose acylate film is preferably stretched 1.1 to 2 times under the condition of a moisture content of 2 to 10%. The water content is more preferably 2.5 to 8%, and further preferably 3 to 6%.
By stretching in a water-containing state, a change in retardation with respect to humidity can be reduced. That is, molecules oriented by stretching develop retardation, but the molecular orientation varies with changes in humidity. It is presumed that the molecular orientation change can be suppressed to a small extent by stretching in a state containing moisture in advance.
The moisture content is adjusted by moisture treatment of the cellulose acylate film. Prior to the water-containing treatment, the cellulose acylate film is preferably heat-dried for 3 seconds to 30 minutes under conditions of a temperature of 50 to 150 ° C. and a relative humidity of 0 to 30%. The heating temperature is more preferably 60 to 120 ° C, further preferably 70 to 110 ° C. The relative humidity is more preferably 0 to 25%, further preferably 0 to 20%. The heating time is more preferably 5 seconds to 10 minutes, and further preferably 10 seconds to 3 minutes.

第3過程のレターデーション値変化が本発明の条件を満足するためには、位相差板は、0.003乃至0.1質量%の水を含む溶剤中にポリマーが溶解しているポリマー溶液から形成されたポリマーフイルムからなることが好ましい。
ポリマー溶液に含まれる微量の水分が、レターデーションの温度変化を小さくしているようである。すなわち、製膜中に微量に存在する水分が、ポリマーの分子間に水素結合を形成する。その状態で、乾燥工程で熱がかかるため、より結晶化しやすい。この結晶が温度変化での分子の変化を抑制し、レターデーション変化が小さく抑えられるものと推測される。
従って、製膜後に水分が入っても効果は少なく、流延における乾燥前に微量の水分が存在することが必要である。
微量の水分を含む溶剤としては、回収溶剤の使用が最適である。回収溶剤は、流延製膜したフイルムを乾燥する工程で揮発した溶剤を、乾燥ゾーンから回収し、分留して得られる。乾燥工程で回収する際、少量の外気も取り込まれ、外気に水分が微量に混入する。そのため、回収溶剤は、一般に0.01乃至0.1質量%の水分を含む。全溶剤中に、回収溶剤は30質量%以上含まれることが好ましく、40質量%以上含まれることがより好ましく、50質量%以上含まれることがさらに好ましい。
In order for the retardation value change in the third step to satisfy the conditions of the present invention, the retardation plate is formed from a polymer solution in which a polymer is dissolved in a solvent containing 0.003 to 0.1% by mass of water. It is preferable to consist of the formed polymer film.
A small amount of water contained in the polymer solution seems to reduce the temperature change of the retardation. That is, a small amount of water in the film formation forms hydrogen bonds between the polymer molecules. In that state, since heat is applied in the drying process, crystallization is easier. It is presumed that this crystal suppresses the change of the molecule due to the temperature change, and the retardation change can be suppressed small.
Therefore, even if moisture enters after film formation, the effect is small, and it is necessary that a very small amount of moisture be present before drying in casting.
As the solvent containing a very small amount of water, it is optimal to use a recovered solvent. The recovered solvent is obtained by recovering the solvent volatilized in the step of drying the cast film from the drying zone and fractionating it. When collecting in the drying process, a small amount of outside air is also taken in, and a minute amount of moisture is mixed in the outside air. Therefore, the recovered solvent generally contains 0.01 to 0.1% by mass of water. The total amount of the recovered solvent is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and even more preferably 50% by mass or more.

第3過程のレターデーション値変化が本発明の条件を満足するためには、位相差板は、縦/横の延伸比が0.3乃至2となる条件で延伸されたポリマーフイルムからなることが好ましい。すなわち、延伸スパン間の距離とフイルムの幅の比(縦横比)を小さくすると、温度によるレターデーション変化を抑制できる。
延伸前のポリマーフイルムの幅をW、延伸間距離をLとしたときに、縦横比L/Wが0.3≦L/W≦2であることが好ましい。より好ましくは0.3≦L/W≦1.5であり、さらに好ましくは0.3≦L/W≦1である。通常の延伸は一般に、縦横比L/Wが2を越える値で実施している。通常の延伸における高い縦横比では、延伸中に分子が延伸方向に高度に配列するためレターデーションは発現しやすい。しかし、直交(幅)方向の絡み合いが減少するため分子が動きやすく、温度によるレターデーション変化が発現しやすい。すなわち、高縦横比では、延伸スパン間が長く、この間にネックインが発生するため、縦方向に分子が並びすぎる。従って、温度によるレターデーション変化を抑制するために、縦横比を小さくすることが有効である。低縦横比では、ネックインが発生しにくい。すなわち、低縦横比では、ネックインしようとするフイルムを横方向に応力を加えて阻止しているのと同じ効果が得られ、横方向にも分子が配列する。その結果、低縦横比では、縦、横に分子が絡み合い、温度変化にも安定な構造になるものと推定される。
ポリマーフイルムの延伸倍率は、1.1乃至2倍であることが好ましく、1.2乃至1.8倍であることがより好ましく、1.3乃至1.7倍であることがさらに好ましい。
In order for the retardation value change in the third step to satisfy the conditions of the present invention, the retardation plate may be composed of a polymer film stretched under a condition where the longitudinal / lateral stretching ratio is 0.3 to 2. preferable. That is, when the ratio between the distance between the stretched spans and the film width (aspect ratio) is reduced, the change in retardation due to temperature can be suppressed.
When the width of the polymer film before stretching is W and the distance between stretching is L, the aspect ratio L / W is preferably 0.3 ≦ L / W ≦ 2. More preferably, 0.3 ≦ L / W ≦ 1.5, and further preferably 0.3 ≦ L / W ≦ 1. Ordinary stretching is generally carried out with an aspect ratio L / W exceeding 2. With a high aspect ratio in normal stretching, retardation is easily developed because molecules are highly aligned in the stretching direction during stretching. However, since the entanglement in the orthogonal (width) direction is reduced, the molecules are likely to move, and retardation changes due to temperature are likely to occur. That is, at a high aspect ratio, the stretch span is long, and neck-in occurs between them, so that molecules are excessively arranged in the longitudinal direction. Therefore, it is effective to reduce the aspect ratio in order to suppress the change in retardation due to temperature. Neck-in is unlikely to occur at low aspect ratios. That is, at a low aspect ratio, the same effect as that obtained by blocking the film to be necked in by applying stress in the lateral direction is obtained, and molecules are arranged in the lateral direction. As a result, at low aspect ratios, it is presumed that the molecules are entangled vertically and horizontally, and the structure is stable against temperature changes.
The draw ratio of the polymer film is preferably 1.1 to 2 times, more preferably 1.2 to 1.8 times, and still more preferably 1.3 to 1.7 times.

低縦横比で延伸すると、NZ値=(nx−nz)/(nx−ny)を低い値に調整できる。具体的にNZ値は、1.1乃至3であることが好ましく、1.3乃至2.5がより好ましく、1.5乃至2がさらに好ましい。NZ値におけるnxは面内の遅相軸方向の屈折率、nyは面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率、そして、nzは厚み方向の屈折率である。NZ値は、面配向を示す指数に相当する。低縦横比の延伸では、前記のようにネックインを抑制する横方向の応力が加わるため、縦、横に延伸した場合と同じ効果が得られる。従って、より面配向が進みやすく、小さなNZ値となる。通常の高い縦横比の延伸では、一般にNZ値は4を越える値になる。
低縦横比の延伸では延伸に大きな応力を要し、擦り傷を発生しやすい。延伸は一般に、2対以上のニップロールの周速を変えて実施する。ニップロールのラップ角が大きく、フイルムとロールの接触面積が大きくなると、より擦り傷が発生しやすい。このため、ラップ角は30°未満が好ましく、20°未満がより好ましく、30°未満がさらに好ましい。
When the film is stretched at a low aspect ratio, the NZ value = (nx−nz) / (nx−ny) can be adjusted to a low value. Specifically, the NZ value is preferably 1.1 to 3, more preferably 1.3 to 2.5, and still more preferably 1.5 to 2. In the NZ value, nx is the refractive index in the in-plane slow axis direction, ny is the refractive index in the direction perpendicular to the in-plane slow axis, and nz is the refractive index in the thickness direction. The NZ value corresponds to an index indicating plane orientation. In the stretching with a low aspect ratio, since the stress in the transverse direction that suppresses the neck-in is applied as described above, the same effect as in the case of stretching in the longitudinal and lateral directions can be obtained. Therefore, the plane orientation is more likely to proceed, and the NZ value is small. In normal high aspect ratio stretching, the NZ value generally exceeds 4.
The stretching with a low aspect ratio requires a large stress for stretching and tends to cause scratches. Stretching is generally performed by changing the peripheral speed of two or more pairs of nip rolls. When the wrap angle of the nip roll is large and the contact area between the film and the roll is large, scratches are more likely to occur. For this reason, the wrap angle is preferably less than 30 °, more preferably less than 20 °, and even more preferably less than 30 °.

第4過程のレターデーション値変化が本発明の条件を満足するためには、偏光板から位相差板を除いた構造全体の透湿量を5g/m・日未満に抑制することが好ましい。透湿量は、0.01乃至4g/m・日であることが好ましく、0.05乃至3g/m・日であることがさらに好ましい。
上記の低透湿量は、偏光板に防湿層を設けることで達成できる。防湿層の詳細については、第2過程について説明した防湿層と同様である。
In order for the retardation value change in the fourth step to satisfy the conditions of the present invention, it is preferable to suppress the moisture permeation amount of the entire structure excluding the retardation plate from the polarizing plate to less than 5 g / m 2 · day. The moisture permeability is preferably 0.01 to 4 g / m 2 · day, and more preferably 0.05 to 3 g / m 2 · day.
The low moisture permeability can be achieved by providing a moisture-proof layer on the polarizing plate. The details of the moisture-proof layer are the same as those described for the second process.

[ポリマーフイルム]
位相差板、第1透明保護膜、第1透明保護膜兼位相差板および第2透明保護膜は、ポリマーフイルムからなる。位相差板または第1透明保護膜兼位相差板に用いるポリマーフイルムは、光学異方性を有する。第1透明保護膜または第2透明保護膜に用いるポリマーフイルムは、光学異方性は不要である(光学等方性である方が好ましい)。
光学異方性との観点を除けば、位相差板、第1透明保護膜、第1透明保護膜兼位相差板および第2透明保護膜に好ましく使用できるポリマーフイルムは、ほぼ同様である。
[Polymer film]
The retardation plate, the first transparent protective film, the first transparent protective film / retardation plate, and the second transparent protective film are made of a polymer film. The polymer film used for the phase difference plate or the first transparent protective film / phase difference plate has optical anisotropy. The polymer film used for the first transparent protective film or the second transparent protective film does not require optical anisotropy (it is preferably optically isotropic).
Except for the viewpoint of optical anisotropy, the polymer films that can be preferably used for the phase difference plate, the first transparent protective film, the first transparent protective film / phase difference plate, and the second transparent protective film are substantially the same.

ポリマーフイルムは、80%以上の光透過率を有することが好ましい。
ポリマーフイルムに用いるポリマーは、セルロースアシレートが好ましい。
セルロースアシレートは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、2(セルロースアセテート)、3(セルロースプロピオネート)または4(セルロースブチレート)であることが好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
セルロースアセテートは、55.0乃至62.5%の酢化度を有することが好ましい。酢化度は、57.0乃至62.0%であることがさらに好ましく、58.5乃至61.5%であることが最も好ましい。
酢化度は、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験法)におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
The polymer film preferably has a light transmittance of 80% or more.
The polymer used for the polymer film is preferably cellulose acylate.
The cellulose acylate is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. Lower fatty acid means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. The number of carbon atoms is preferably 2 (cellulose acetate), 3 (cellulose propionate) or 4 (cellulose butyrate). Cellulose acetate is particularly preferred. Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate may be used.
The cellulose acetate preferably has an acetylation degree of 55.0 to 62.5%. The acetylation degree is more preferably 57.0 to 62.0%, and most preferably 58.5 to 61.5%.
The degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation follows the measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like).

ポリマーフイルムに用いるポリマーの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることがさらに好ましい。
ポリマーフイルムに用いるポリマーは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0乃至1.7であることが好ましく、1.3乃至1.65であることがさらに好ましく、1.4乃至1.6であることが最も好ましい。
The viscosity average degree of polymerization (DP) of the polymer used for the polymer film is preferably 250 or more, and more preferably 290 or more.
The polymer used for the polymer film preferably has a narrow molecular weight distribution of Mw / Mn (Mw is a mass average molecular weight, Mn is a number average molecular weight) by gel permeation chromatography. The specific value of Mw / Mn is preferably 1.0 to 1.7, more preferably 1.3 to 1.65, and most preferably 1.4 to 1.6. preferable.

ソルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマーを有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を用いてフイルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が2乃至12のエーテル、炭素原子数が3乃至12のケトン、炭素原子数が2乃至12のエステルおよび炭素原子数が1乃至6のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基(すなわち、−O−、−CO−および−COO−)のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性ヒドロキシルのような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
It is preferable to produce a polymer film by a solvent casting method. In the solvent cast method, a film is produced using a solution (dope) in which a polymer is dissolved in an organic solvent.
The organic solvent is a solvent selected from ethers having 2 to 12 carbon atoms, ketones having 3 to 12 carbon atoms, esters having 2 to 12 carbon atoms, and halogenated hydrocarbons having 1 to 6 carbon atoms. It is preferable to contain.
The ether, ketone and ester may have a cyclic structure. A compound having two or more functional groups of ether, ketone and ester (that is, —O—, —CO— and —COO—) can also be used as the organic solvent.
The organic solvent may have other functional groups such as alcoholic hydroxyl. In the case of an organic solvent having two or more types of functional groups, the number of carbon atoms may be within the specified range of the compound having any functional group.

炭素原子数が3乃至12のエーテルの例には、ジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が3乃至12のケトンの例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が2乃至12のエステルの例には、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノールおよび2−ブトキシエタノールが含まれる。
Examples of the ether having 3 to 12 carbon atoms include dimethyl ether, diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole.
Examples of the ketone having 3 to 12 carbon atoms include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone.
Examples of the ester having 2 to 12 carbon atoms include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and pentyl acetate.
Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol.

ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、1または2であることが好ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素において、炭化水素の水素原子が、ハロゲン原子に置換されている割合は、25乃至75モル%であることが好ましく、30乃至70モル%であることがより好ましく、35乃至65モル%であることがさらに好ましく、40乃至60モル%であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
The number of carbon atoms of the halogenated hydrocarbon is preferably 1 or 2, and most preferably 1. The halogen of the halogenated hydrocarbon is preferably chlorine. In the halogenated hydrocarbon, the ratio of the hydrogen atom of the hydrocarbon substituted with the halogen atom is preferably 25 to 75 mol%, more preferably 30 to 70 mol%, and more preferably 35 to 65 mol%. % Is more preferable, and 40 to 60 mol% is most preferable. Methylene chloride is a representative halogenated hydrocarbon.
Two or more organic solvents may be mixed and used.

有機溶媒として、回収溶剤を用いることが好ましい。有機溶媒中に回収溶剤が30質量%以上含まれることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましく、50質量%以上であることがさらに好ましい。溶剤は、流延製膜工程の各工程(基板への流延工程、その後の乾燥工程)において、乾燥に用いる熱風のリターン風を、コンデンサーを通過させることで濃縮し、回収できる。
回収した溶剤は、分留塔を用いて各成分に分けてから利用できる。あるいは、回収溶剤の組成をガスクロマトグラフィーで定量した後、不足した成分を追添し利用しても良い。回収溶剤は、フレッシュな溶剤と異なり、外気の混入に伴う水分が必ず微量添加されているのが特徴である。
A recovery solvent is preferably used as the organic solvent. The organic solvent preferably contains 30% by mass or more of the recovered solvent, more preferably 40% by mass or more, and further preferably 50% by mass or more. The solvent can be concentrated and recovered by passing the return air of hot air used for drying in each step of the casting film forming step (casting step to substrate, and subsequent drying step) through a condenser.
The recovered solvent can be used after being separated into each component using a fractionation tower. Alternatively, after the composition of the recovered solvent is quantified by gas chromatography, the insufficient component may be added and used. Unlike the fresh solvent, the recovered solvent is characterized in that a small amount of water accompanying the mixing of outside air is always added.

一般的な方法でポリマー溶液を調製できる。一般的な方法とは、0℃以上の温度(常温または高温)で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素(特にメチレンクロリド)を用いることが好ましい。
ポリマーの量は、得られる溶液中に10乃至40質量%含まれるように調整する。ポリマーの量は、10乃至30質量%であることがさらに好ましい。有機溶媒(主溶媒)中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
A polymer solution can be prepared by a general method. The general method means that the treatment is performed at a temperature of 0 ° C. or higher (room temperature or high temperature). The solution can be prepared using a dope preparation method and apparatus in a normal solvent cast method. In the case of a general method, it is preferable to use a halogenated hydrocarbon (particularly methylene chloride) as the organic solvent.
The amount of the polymer is adjusted so that it is contained in an amount of 10 to 40% by mass in the resulting solution. The amount of polymer is more preferably 10 to 30% by mass. Arbitrary additives described later may be added to the organic solvent (main solvent).

溶液は、常温(0乃至40℃)でポリマーと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、ポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は40℃以上であり、好ましくは60乃至200℃であり、さらに好ましくは80乃至110℃である。   The solution can be prepared by stirring the polymer and the organic solvent at room temperature (0 to 40 ° C.). High concentration solutions may be stirred under pressure and heating conditions. Specifically, the polymer and the organic solvent are put in a pressure vessel and sealed, and stirred while heating to a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal temperature and in a range where the solvent does not boil. The heating temperature is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 to 200 ° C., more preferably 80 to 110 ° C.

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
Each component may be coarsely mixed in advance and then placed in a container. Moreover, you may put into a container sequentially. The container needs to be configured so that it can be stirred. The container can be pressurized by injecting an inert gas such as nitrogen gas. Moreover, you may utilize the raise of the vapor pressure of the solvent by heating. Or after sealing a container, you may add each component under pressure.
When heating, it is preferable to heat from the outside of the container. For example, a jacket type heating device can be used. The entire container can also be heated by providing a plate heater outside the container and piping to circulate the liquid.
It is preferable to provide a stirring blade inside the container and stir using this. The stirring blade preferably has a length that reaches the vicinity of the wall of the container. A scraping blade is preferably provided at the end of the stirring blade in order to renew the liquid film on the vessel wall.
Instruments such as a pressure gauge and a thermometer may be installed in the container. Each component is dissolved in a solvent in the container. The prepared dope is taken out of the container after cooling, or taken out and then cooled using a heat exchanger or the like.

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもポリマーを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でポリマーを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。
ポリマーの量は、この混合物中に10乃至40質量%含まれるように調整することが好ましく、10乃至30質量%であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
A solution can also be prepared by a cooling dissolution method. In the cooling dissolution method, the polymer can be dissolved in an organic solvent that is difficult to dissolve by a normal dissolution method. In addition, even if it is a solvent which can melt | dissolve a polymer with a normal melt | dissolution method, there exists an effect that a uniform solution can be obtained rapidly according to a cooling melt | dissolution method.
In the cooling dissolution method, first, a polymer is gradually added to an organic solvent with stirring at room temperature.
The amount of the polymer is preferably adjusted so as to be 10 to 40% by mass in the mixture, and more preferably 10 to 30% by mass. Furthermore, you may add the arbitrary additive mentioned later in a mixture.

次に、混合物を−100乃至−10℃(好ましくは−80乃至−10℃、さらに好ましくは−50乃至−20℃、最も好ましくは−50乃至−30℃)に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30乃至−20℃)中で実施できる。このように冷却すると、ポリマーと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
The mixture is then cooled to -100 to -10 ° C (preferably -80 to -10 ° C, more preferably -50 to -20 ° C, most preferably -50 to -30 ° C). The cooling can be performed, for example, in a dry ice / methanol bath (−75 ° C.) or a cooled diethylene glycol solution (−30 to −20 ° C.). Upon cooling in this way, the mixture of polymer and organic solvent solidifies.
The cooling rate is preferably 4 ° C./min or more, more preferably 8 ° C./min or more, and most preferably 12 ° C./min or more. The faster the cooling rate, the better. However, 10,000 ° C./second is the theoretical upper limit, 1000 ° C./second is the technical upper limit, and 100 ° C./second is the practical upper limit. The cooling rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of cooling and the final cooling temperature by the time from the start of cooling to the final cooling temperature.

さらに、これを0乃至200℃(好ましくは0乃至150℃、さらに好ましくは0乃至120℃、最も好ましくは0乃至50℃)に加温すると、有機溶媒中にポリマーが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
Further, when this is heated to 0 to 200 ° C. (preferably 0 to 150 ° C., more preferably 0 to 120 ° C., most preferably 0 to 50 ° C.), the polymer dissolves in the organic solvent. The temperature can be raised by simply leaving it at room temperature or in a warm bath.
The heating rate is preferably 4 ° C./min or more, more preferably 8 ° C./min or more, and most preferably 12 ° C./min or more. The higher the heating rate, the better. However, 10,000 ° C./second is the theoretical upper limit, 1000 ° C./second is the technical upper limit, and 100 ° C./second is the practical upper limit. The heating rate is the value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of heating and the final heating temperature by the time from the start of heating until the final heating temperature is reached. is there.

以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
A uniform solution is obtained as described above. If the dissolution is insufficient, the cooling and heating operations may be repeated. Whether or not the dissolution is sufficient can be determined by merely observing the appearance of the solution with the naked eye.
In the cooling dissolution method, it is desirable to use a sealed container in order to avoid moisture mixing due to condensation during cooling. In the cooling and heating operation, when the pressure is applied during cooling and the pressure is reduced during heating, the dissolution time can be shortened. In order to perform pressurization and decompression, it is desirable to use a pressure-resistant container.

調製したポリマー溶液(ドープ)から、ソルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が10乃至40%(好ましくは18乃至35%)となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許2336310号、同2367603号、同2492078号、同2492977号、同2492978号、同2607704号、同2739069号、同2739070号、英国特許640731号、同736892号の各明細書、特公昭45−4554号、同49−5614号、特開昭60−176834号、同60−203430号、同62−115035号の各公報に記載がある。
A polymer film is produced from the prepared polymer solution (dope) by a solvent cast method.
The dope is cast on a drum or band, and the solvent is evaporated to form a film. It is preferable to adjust the concentration of the dope before casting so that the solid content is 10 to 40% (preferably 18 to 35%). The surface of the drum or band is preferably finished in a mirror state. The casting and drying methods in the solvent casting method are described in U.S. Pat. No. 736892, JP-B Nos. 45-4554, 49-5614, JP-A-60-176834, No. 60-203430, and No. 62-1115035.

ドープは、表面温度が10℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから2秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに100から160℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平5−17844号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
剥取り時の残留溶剤量は、10乃至45質量%以下が好ましい。剥ぎ取ったフイルムは、100乃至160℃の乾燥ゾーンを10分乃至2時間かけて通し、残留揮発分を2質量%以下にする。フイルム両端は、トリミングし、ナーリング加工を行い巻き取る。
乾燥工程の後半において、スチームあるいは溶剤蒸気を吹きかけることで、フイルムをカールコントロールすることも好ましく行われる。
The dope is preferably cast on a drum or band having a surface temperature of 10 ° C. or less. After casting, it is preferable to dry it by applying air for 2 seconds or more. The obtained film can be peeled off from the drum or band, and further dried by high-temperature air whose temperature is successively changed from 100 to 160 ° C. to evaporate the residual solvent. The above method is described in Japanese Patent Publication No. 5-17844. According to this method, it is possible to shorten the time from casting to stripping. In order to carry out this method, it is necessary for the dope to gel at the surface temperature of the drum or band during casting.
The amount of residual solvent at the time of stripping is preferably 10 to 45% by mass or less. The stripped film is passed through a drying zone at 100 to 160 ° C. over 10 minutes to 2 hours to make the residual volatile content 2% by mass or less. Both ends of the film are trimmed, knurled and wound.
In the latter half of the drying process, it is also preferable to curl the film by spraying steam or solvent vapor.

複数のポリマー溶液(ドープ)を用いて、二層以上の共流延でフイルムを形成することもできる。複数のポリマー溶液は、同じ組成であってもよい。
支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口から、複数のポリマー溶液をそれぞれ流延し、積層させながらフイルムを作製する方法(特開昭61−158414号、特開平1−122419号、同11−198285号の各公報記載)が採用できる。2つの流延口からポリマー溶液を流延することにより、フイルムを形成する方法(特公昭60−27562号、特開昭61−94724号、同61−94725号、同61−104813号、同61−158413号、特開平6−134933号の各公報に記載)を実施してもよい。高粘度ポリマー溶液の流れを低粘度のポリマー溶液で包み込み、その高、低粘度のポリマー溶液を同時に押出すポリマーフイルム流延方法(特開昭56−162617号公報記載)を採用してもよい。
A film can also be formed by co-casting two or more layers using a plurality of polymer solutions (dope). The plurality of polymer solutions may have the same composition.
A method of producing a film while casting a plurality of polymer solutions from a plurality of casting openings provided at intervals in the direction of travel of the support and laminating them (Japanese Patent Laid-Open Nos. 61-158414 and 1) No. 122419 and 11-198285). A method for forming a film by casting a polymer solution from two casting ports (Japanese Patent Publication Nos. 60-27562, 61-94724, 61-94725, 61-104413, 61) -158413 and JP-A-6-134933). A polymer film casting method (described in JP-A-56-162617) in which a flow of a high-viscosity polymer solution is wrapped with a low-viscosity polymer solution and the high- and low-viscosity polymer solutions are simultaneously extruded may be employed.

2個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフイルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フイルムを作製する方法(特公昭44−20235号公報記載)も採用できる。
ポリマー溶液は、他の機能層(例、粘着剤層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、直線偏光膜、防湿層)と同時に流延することもできる。
単一層の流延では、一定のフイルム厚さを得るために高濃度で高粘度のポリマー溶液を押出す場合がある。高濃度で高粘度のポリマー溶液は、安定性が悪く、固形物が発生し、ブツ故障となり、平面性が不良である問題が生じることが多い。この問題の解決として、複数のポリマー溶液を流延口から流延すればよい。複数の高粘度溶液を同時に支持体上に押出すことにより、平面性が良化し優れた面状のフイルムが作製できる。また、濃厚なポリマー溶液を用いることで、乾燥負荷を低減し、フイルムの生産効率を高めることができる。
A method for producing a film by peeling off the film formed on the support by the first casting port using the two casting ports and performing the second casting on the side in contact with the support surface. (Described in Japanese Patent Publication No. 44-20235) can also be employed.
The polymer solution can be cast simultaneously with other functional layers (for example, an adhesive layer, a dye layer, an antistatic layer, an antihalation layer, a UV absorbing layer, a linearly polarizing film, and a moisture proof layer).
Single layer casting may extrude a highly concentrated and highly viscous polymer solution to obtain a constant film thickness. A polymer solution having a high concentration and a high viscosity often has a problem that the stability is poor, solid matter is generated, a failure occurs, and the flatness is poor. As a solution to this problem, a plurality of polymer solutions may be cast from the casting port. By extruding a plurality of high-viscosity solutions simultaneously onto the support, the planarity is improved and an excellent planar film can be produced. Further, by using a concentrated polymer solution, it is possible to reduce the drying load and increase the production efficiency of the film.

ポリマーフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート(TPP)およびトリクレジルホスフェート(TCP)が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DMP)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジフェニルフタレート(DPP)およびジエチルヘキシルフタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸エステルの例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACTE)およびO−アセチルクエン酸トリブチル(OACTB)が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤(DMP、DEP、DBP、DOP、DPP、DEHP)が好ましく用いられる。DEPおよびDPPが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、ポリマーの量の0.1乃至25質量%であることが好ましく、1乃至20質量%であることがさらに好ましく、3乃至15質量%であることが最も好ましい。
A plasticizer can be added to the polymer film in order to improve mechanical properties or increase the drying speed. As the plasticizer, phosphoric acid ester or carboxylic acid ester is used. Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate (TPP) and tricresyl phosphate (TCP). Representative examples of the carboxylic acid ester include phthalic acid esters and citric acid esters. Examples of phthalic acid esters include dimethyl phthalate (DMP), diethyl phthalate (DEP), dibutyl phthalate (DBP), dioctyl phthalate (DOP), diphenyl phthalate (DPP) and diethyl hexyl phthalate (DEHP). Examples of citrate esters include triethyl O-acetylcitrate (OACTE) and tributyl O-acetylcitrate (OACTB). Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters. Phthalate plasticizers (DMP, DEP, DBP, DOP, DPP, DEHP) are preferably used. DEP and DPP are particularly preferred.
The addition amount of the plasticizer is preferably 0.1 to 25% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, and most preferably 3 to 15% by mass of the amount of the polymer.

ポリマーフイルムには、劣化防止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平3−199201号、同5−190773号、同5−194789号、同5−271471号、同6−107854号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液(ドープ)の0.01乃至1質量%であることが好ましく、0.01乃至0.2質量%であることがさらに好ましい。添加量が0.01質量%未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が1質量%を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト(滲み出し)が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤は、ブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)およびトリベンジルアミン(TBA)である。   A degradation inhibitor (eg, antioxidant, peroxide decomposer, radical inhibitor, metal deactivator, acid scavenger, amine) may be added to the polymer film. The deterioration preventing agents are described in JP-A-3-199201, JP-A-5-190773, JP-A-5-194789, JP-A-5-271471, and JP-A-6-107854. The addition amount of the deterioration preventing agent is preferably 0.01 to 1% by mass of the solution (dope) to be prepared, and more preferably 0.01 to 0.2% by mass. When the addition amount is less than 0.01% by mass, the effect of the deterioration preventing agent is hardly recognized. When the added amount exceeds 1% by mass, bleeding-out (bleeding) of the deterioration preventing agent to the film surface may be observed. Particularly preferred degradation inhibitors are butylated hydroxytoluene (BHT) and tribenzylamine (TBA).

ポリマーフイルムに、表面処理を施してもよい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理を実施する。フイルムの平面性を保持する観点から、表面処理においてポリマーフイルムの温度をガラス転位温度(Tg)以下とすることが好ましい。
ポリマーフイルムを、偏光板の透明保護膜として機能させる場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理を実施することが好ましく、アルカリ処理がさらに好ましい。ポリマーがセルロースアシレートである場合、アルカリ処理は、アルカリケン化処理として機能する。
A surface treatment may be applied to the polymer film. Specifically, corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, acid treatment, alkali treatment, or ultraviolet irradiation treatment is performed. From the viewpoint of maintaining the flatness of the film, it is preferable that the temperature of the polymer film in the surface treatment is not more than the glass transition temperature (Tg).
When making a polymer film function as a transparent protective film of a polarizing plate, it is preferable to implement an acid treatment or an alkali treatment from an adhesive viewpoint with a polarizing film, and an alkali treatment is further more preferable. When the polymer is cellulose acylate, the alkali treatment functions as an alkali saponification treatment.

アルカリ処理は、フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリは、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムがさらに好ましい。溶液の溶媒は、水または有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、低級アルコールが好ましい。低級アルコールは、炭素原子数が1乃至5のアルコールまたはグリコールであることがさらに好ましい。低級アルコールの例には、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールが含まれる。イソプロパノールおよびプロピレングリコールが好ましい。二種類以上の溶媒を混合して用いてもよい。混合溶媒の例には、イソプロパノール/プロピレングリコール/水(容積比:70/15/15)、イソプロパノール/水(容積比:85/15)およびイソプロパノール/プロピレングリコール(容積比:85/15)が含まれる。
The alkali treatment is preferably performed in a cycle in which the film surface is immersed in an alkali solution, neutralized with an acidic solution, washed with water and dried.
The alkali is preferably an alkali metal hydroxide, more preferably potassium hydroxide or sodium hydroxide. The solvent of the solution is preferably water or an organic solvent. The organic solvent is preferably a lower alcohol. More preferably, the lower alcohol is an alcohol or glycol having 1 to 5 carbon atoms. Examples of lower alcohols include ethanol, propanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol. Isopropanol and propylene glycol are preferred. Two or more kinds of solvents may be mixed and used. Examples of the mixed solvent include isopropanol / propylene glycol / water (volume ratio: 70/15/15), isopropanol / water (volume ratio: 85/15) and isopropanol / propylene glycol (volume ratio: 85/15). It is.

溶液の規定濃度は、0.1乃至3.0Nであることが好ましく、0.5乃至2.0Nであることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至90℃の範囲が好ましく、40℃乃至70℃がさらに好ましい。アルカリ溶液に界面活性剤を添加してもよい。
ポリマーフイルムは、アルカリ溶液に浸漬することでアルカリ処理を実施できる。アルカリ溶液を、ポリマーフイルムに塗布(バー塗布、カーテン塗布)してもよい。
The specified concentration of the solution is preferably 0.1 to 3.0N, and more preferably 0.5 to 2.0N. The alkaline solution temperature is preferably in the range of room temperature to 90 ° C, more preferably 40 ° C to 70 ° C. A surfactant may be added to the alkaline solution.
The polymer film can be subjected to alkali treatment by being immersed in an alkali solution. The alkaline solution may be applied to the polymer film (bar coating, curtain coating).

ポリマーフイルムとその上に設けられる層(例、粘着剤層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、直線偏光膜、防湿層)との接着を改善するために、下塗り層(特開平7−333433号公報記載)を設けてもよい。下塗り層の厚みは0.1乃至2μmであることが好ましく、0.2乃至1μmであることがさらに好ましい。
ポリマーフイルムには、製造時のハンドリング性向上のために、マット層を設けてもよい。マット層は、ポリマーフイルムの両面に設けてもよい。マット層は、一般にマット剤とポリマーを含有する。マット剤およびポリマーについては、特開平10−44327号公報に記載がある。
In order to improve adhesion between a polymer film and a layer provided thereon (eg, an adhesive layer, a dye layer, an antistatic layer, an antihalation layer, a UV absorbing layer, a linearly polarizing film, a moisture proof layer), an undercoat layer ( JP-A-7-333433) may be provided. The thickness of the undercoat layer is preferably from 0.1 to 2 μm, and more preferably from 0.2 to 1 μm.
The polymer film may be provided with a matte layer in order to improve handling at the time of production. The mat layer may be provided on both sides of the polymer film. The mat layer generally contains a mat agent and a polymer. Matting agents and polymers are described in JP-A-10-44327.

[位相差板]
光学等方性のポリマーフイルムは、第1透明保護膜または第2透明保護膜として使用できるが、位相差板もしくは第1透明保護膜兼位相差板に用いるポリマーフイルムは、光学異方性が必要である。
位相差板の光学異方性は、偏光板の用途に応じて決定する。ただし、本発明は、厳密な光学異方性を要求する円偏光板のような用途において、特に有効である。円偏光板の用途においては、位相差板はλ/4板として機能させる。
[Phase difference plate]
The optically isotropic polymer film can be used as the first transparent protective film or the second transparent protective film, but the polymer film used for the phase difference plate or the first transparent protective film / phase difference plate needs optical anisotropy. It is.
The optical anisotropy of the retardation plate is determined according to the use of the polarizing plate. However, the present invention is particularly effective in applications such as a circularly polarizing plate that requires strict optical anisotropy. In the use of a circularly polarizing plate, the retardation plate functions as a λ / 4 plate.

位相差板は、波長550nmで測定したレターデーション値(Re550)が100nm<Re550<330nmであり、波長450nm、550nmおよび650nmで測定したレターデーション値(Re450、Re550、Re650)が、それぞれ0.5<Re450/Re550<0.98、1.01<Re650/Re550<1.35を満足することが好ましい。
Re550は、110nm<Re550<250nmを満足することがより好ましく、120nm<Re550<200nmを満足することがさらに好ましい。
The retardation value (Re550) measured at a wavelength of 550 nm is 100 nm <Re550 <330 nm, and the retardation values (Re450, Re550, Re650) measured at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm are 0.5 respectively. It is preferable that <Re450 / Re550 <0.98 and 1.01 <Re650 / Re550 <1.35 are satisfied.
Re550 preferably satisfies 110 nm <Re550 <250 nm, and more preferably satisfies 120 nm <Re550 <200 nm.

レターデーション値(Re)は、下記式に従って算出する。
レターデーション値(Re)=(nx−ny)×d
式中、nxは、ポリマーフイルムの面内の遅相軸方向の屈折率(面内の最大屈折率)であり、nyは遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、dは厚さ(nm)である。
The retardation value (Re) is calculated according to the following formula.
Retardation value (Re) = (nx−ny) × d
In the formula, nx is the refractive index in the slow axis direction in the plane of the polymer film (maximum refractive index in the plane), ny is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis, and d is the thickness ( nm).

位相差板は、面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈折率nzが、1.1<(nx−nz)/(nx−ny)<3を満足することが好ましい。(nx−nz)/(nx−ny)の値は、NZ値と称する場合もある。NZ値は、1.3<NZ<2.5を満足することがさらに好ましく、1.5<NZ<2を満足することが最も好ましい。
NZ値は、位相差板中の分子の面配向の指数を意味する。NZ値が大きいフイルムは、面配向が大きい。
位相差板に使用する光学異方性を有するポリマーフイルムは、レターデーション上昇剤の使用および延伸処理の実施により製造することができる。
In the retardation plate, the refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the in-plane slow axis, and the refractive index nz in the thickness direction are 1.1 <(nx−nz) / It is preferable to satisfy (nx−ny) <3. The value of (nx−nz) / (nx−ny) may be referred to as an NZ value. The NZ value more preferably satisfies 1.3 <NZ <2.5, and most preferably satisfies 1.5 <NZ <2.
The NZ value means the index of the plane orientation of molecules in the retardation plate. A film having a large NZ value has a large plane orientation.
The polymer film having optical anisotropy used for the phase difference plate can be produced by using a retardation increasing agent and performing a stretching treatment.

レターデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることが好ましい。芳香族環は、芳香族炭化水素環に加えて芳香族性ヘテロ環を含む。
レターデーション上昇剤は、ポリマー100質量部に対して、0.01乃至10質量部の範囲で用いることが好ましく、0.1乃至8質量部の範囲で用いることがさらに好ましく、0.1乃至6質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上のレターデーション上昇剤を併用してもよい。
レターデーション上昇剤は、230乃至360nmの波長領域に最大吸収波長を有することが好ましい。また、レターデーション上昇剤は、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
As the retardation increasing agent, it is preferable to use a compound having at least two aromatic rings. Aromatic rings include aromatic heterocycles in addition to aromatic hydrocarbon rings.
The retardation increasing agent is preferably used in the range of 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 8 parts by mass, and more preferably 0.1 to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer. Most preferably, it is used in the range of parts by mass. Two or more types of retardation increasing agents may be used in combination.
The retardation increasing agent preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 230 to 360 nm. The retardation increasing agent preferably has substantially no absorption in the visible region.

芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多数の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が含まれる。
芳香族環は、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が好ましい。
芳香族環の数は、2乃至20であることが好ましく、2乃至12であることがより好ましく、2乃至6であることが最も好ましい。
The aromatic hydrocarbon ring is particularly preferably a 6-membered ring (that is, a benzene ring).
The aromatic heterocycle is generally an unsaturated heterocycle. The heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the greatest number of double bonds. As the hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring.
The aromatic ring is preferably a benzene ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, triazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring.
The number of aromatic rings is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 12, and most preferably 2 to 6.

複数の芳香族環の結合関係は、(a)縮合環を形成する場合、(b)単結合で直結する場合および(c)連結基を介して結合する場合に分類できる(芳香族環のため、スピロ結合は形成できない)。3以上の芳香族環を有する場合、複数の結合関係を組み合わせてもよい。   The bonding relationship of a plurality of aromatic rings can be classified into (a) when forming a condensed ring, (b) when directly connecting with a single bond, and (c) when connecting via a linking group (for aromatic rings). , Spiro bonds cannot be formed). In the case of having three or more aromatic rings, a plurality of bonding relationships may be combined.

(a)の縮合環(二つ以上の芳香族環の縮合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。
(b)の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。
(c)の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O−、−NH−、−S−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
Examples of the condensed ring (a condensed ring of two or more aromatic rings) include an indene ring, a naphthalene ring, an azulene ring, a fluorene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, an acenaphthylene ring, a biphenylene ring, a naphthacene ring, Pyrene ring, indole ring, isoindole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, indolizine ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, purine ring, indazole ring, chromene ring, quinoline ring, isoquinoline Ring, quinolidine ring, quinazoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, phthalazine ring, pteridine ring, carbazole ring, acridine ring, phenanthridine ring, xanthene ring, phenazine ring, phenothiazine ring, phenoxathiin ring, phenoxazine ring and thiant It includes emissions ring. Naphthalene ring, azulene ring, indole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring and quinoline ring are preferred.
The single bond (b) is preferably a bond between carbon atoms of two aromatic rings. Two aromatic rings may be bonded with two or more single bonds to form an aliphatic ring or a non-aromatic heterocyclic ring between the two aromatic rings.
The linking group in (c) is also preferably bonded to carbon atoms of two aromatic rings. The linking group is preferably an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, —CO—, —O—, —NH—, —S—, or a combination thereof. Examples of linking groups composed of combinations are shown below. In addition, the relationship between the left and right in the following examples of the linking group may be reversed.

c1:−CO−O−
c2:−CO−NH−
c3:−アルキレン−O−
c4:−NH−CO−NH−
c5:−NH−CO−O−
c6:−O−CO−O−
c7:−O−アルキレン−O−
c8:−CO−アルケニレン−
c9:−CO−アルケニレン−NH−
c10:−CO−アルケニレン−O−
c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−
c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−O−
c13:−O−CO−アルキレン−CO−O−
c14:−NH−CO−アルケニレン−
c15:−O−CO−アルケニレン−
c1: -CO-O-
c2: —CO—NH—
c3: -alkylene-O-
c4: —NH—CO—NH—
c5: —NH—CO—O—
c6: —O—CO—O—
c7: -O-alkylene-O-
c8: -CO-alkenylene-
c9: -CO-alkenylene-NH-
c10: -CO-alkenylene-O-
c11: -alkylene-CO-O-alkylene-O-CO-alkylene-
c12: -O-alkylene-CO-O-alkylene-O-CO-alkylene-O-
c13: -O-CO-alkylene-CO-O-
c14: -NH-CO-alkenylene-
c15: -O-CO-alkenylene-

芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。
The aromatic ring and the linking group may have a substituent.
Examples of the substituent include halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxyl, carboxyl, cyano, amino, nitro, sulfo, carbamoyl, sulfamoyl, ureido, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aliphatic acyl group , Aliphatic acyloxy group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, aliphatic amide group, aliphatic sulfonamido group, aliphatic substituted amino group, aliphatic substituted carbamoyl group, aliphatic Substituted sulfamoyl groups, aliphatic substituted ureido groups and non-aromatic heterocyclic groups are included.

アルキル基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基(例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有していてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例には、メチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、2−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチル、2−メトキシエチルおよび2−ジエチルアミノエチルが含まれる。
アルケニル基の炭素原子数は、2乃至8であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび1−ヘキセニルが含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は、2乃至8であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、1−ブチニルおよび1−ヘキシニルが含まれる。
The alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. A chain alkyl group is preferable to a cyclic alkyl group, and a linear alkyl group is particularly preferable. The alkyl group may further have a substituent (eg, hydroxy, carboxy, alkoxy group, alkyl-substituted amino group). Examples of alkyl groups (including substituted alkyl groups) include methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, 2-hydroxyethyl, 4-carboxybutyl, 2-methoxyethyl and 2-diethylaminoethyl.
The alkenyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkenyl group is preferable to a cyclic alkenyl group, and a linear alkenyl group is particularly preferable. The alkenyl group may further have a substituent. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl and 1-hexenyl.
The alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkynyl group is preferable to a cyclic alkynyl group, and a linear alkynyl group is particularly preferable. The alkynyl group may further have a substituent. Examples of alkynyl groups include ethynyl, 1-butynyl and 1-hexynyl.

脂肪族アシル基の炭素原子数は、1乃至10であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1乃至10であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシが含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基(例、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコキシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキシ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含まれる。
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2乃至10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニルが含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2乃至10であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノおよびエトキシカルボニルアミノが含まれる。
The aliphatic acyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic acyl group include acetyl, propanoyl and butanoyl.
The aliphatic acyloxy group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic acyloxy group include acetoxy.
The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 8. The alkoxy group may further have a substituent (eg, alkoxy group). Examples of alkoxy groups (including substituted alkoxy groups) include methoxy, ethoxy, butoxy and methoxyethoxy.
The alkoxycarbonyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl.
The number of carbon atoms of the alkoxycarbonylamino group is preferably 2 to 10. Examples of the alkoxycarbonylamino group include methoxycarbonylamino and ethoxycarbonylamino.

アルキルチオ基の炭素原子数は、1乃至12であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。
脂肪族アミド基の炭素原子数は、1乃至10であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドおよびn−オクタンスルホンアミドが含まれる。
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、1乃至10であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよび2−カルボキシエチルアミノが含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、2乃至10であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチルカルバモイルが含まれる。
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、2乃至10であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイドが含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノおよびモルホリノが含まれる。
The alkylthio group preferably has 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylthio group include methylthio, ethylthio and octylthio.
The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include methanesulfonyl and ethanesulfonyl.
The aliphatic amide group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic amide group include acetamide.
The aliphatic sulfonamide group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the aliphatic sulfonamido group include methanesulfonamido, butanesulfonamido and n-octanesulfonamido.
The number of carbon atoms of the aliphatic substituted amino group is preferably 1 to 10. Examples of the aliphatic substituted amino group include dimethylamino, diethylamino and 2-carboxyethylamino.
The aliphatic substituted carbamoyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic substituted carbamoyl group include methylcarbamoyl and diethylcarbamoyl.
The aliphatic substituted sulfamoyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the aliphatic substituted sulfamoyl group include methylsulfamoyl and diethylsulfamoyl.
The number of carbon atoms in the aliphatic substituted ureido group is preferably 2 to 10. Examples of the aliphatic substituted ureido group include methylureido.
Examples of non-aromatic heterocyclic groups include piperidino and morpholino.

(c)の連結基により、複数の芳香族環を直線的に連結した(直線的な分子構造を有する)棒状化合物が特に好ましい。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト(例、WinMOPAC2000、富士通(株)製)を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造の角度が140度以上であることを意味する。
棒状芳香族化合物は、液晶性を示すことが好ましい。棒状芳香族化合物は、加熱により液晶性を示す(サーモトロピック液晶性を有する)ことがさらに好ましい。液晶相は、ネマチィク相またはスメクティック相が好ましい。
A rod-like compound in which a plurality of aromatic rings are linearly linked (having a linear molecular structure) by the linking group (c) is particularly preferred. The linear molecular structure means that the molecular structure of the rod-like compound is linear in the most thermodynamically stable structure. The most thermodynamically stable structure can be obtained by crystal structure analysis or molecular orbital calculation. For example, molecular orbital calculation can be performed using molecular orbital calculation software (eg, WinMOPAC2000, manufactured by Fujitsu Limited) to determine the molecular structure that minimizes the heat of formation of the compound. The molecular structure being linear means that the angle of the molecular structure is 140 degrees or more in the thermodynamically most stable structure obtained by calculation as described above.
The rod-like aromatic compound preferably exhibits liquid crystallinity. More preferably, the rod-like aromatic compound exhibits liquid crystallinity upon heating (has thermotropic liquid crystallinity). The liquid crystal phase is preferably a nematic phase or a smectic phase.

棒状芳香族化合物としては、下記式(I)で表されることが好ましい。
(I)Ar−L−Ar
式(I)において、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族基である。
芳香族基は、前述した芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を芳香族環として有する。芳香族基の置換基も、前述した芳香族環の置換基と同様である。
The rod-like aromatic compound is preferably represented by the following formula (I).
(I) Ar 1 -L 1 -Ar 2
In formula (I), Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group.
The aromatic group has the above-described aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle as an aromatic ring. The substituent of the aromatic group is the same as the substituent of the aromatic ring described above.

式(I)において、Lは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、二価の飽和ヘテロ環基、−O−、−CO−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、1,4−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ましく、1乃至15であることがより好ましく、1乃至10であることがさらに好ましく、1乃至8であることがさらにまた好ましく、1乃至6であることが最も好ましい。
In the formula (I), L 1 is a divalent linking group selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, a divalent saturated heterocyclic group, —O—, —CO—, and combinations thereof. is there.
The alkylene group may have a cyclic structure. As the cyclic alkylene group, cyclohexylene is preferable, and 1,4-cyclohexylene is particularly preferable. As the chain alkylene group, a linear alkylene group is more preferable than a branched alkylene group.
The alkylene group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, still more preferably 1 to 10 carbon atoms, still more preferably 1 to 8 carbon atoms. 6 is most preferred.

アルケニレン基およびアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルケニレン基およびアルキニレン基の炭素原子数は、2乃至10であることが好ましく、2乃至8であることがより好ましく、2乃至6であることがさらに好ましく、2乃至4であることがさらにまた好ましく、2(ビニレンまたはエチニレン)であることが最も好ましい。
二価の飽和ヘテロ環基は、3員乃至9員のヘテロ環を有することが好ましい。ヘテロ環のヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、ホウ素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子またはゲルマニウム原子が好ましい。飽和ヘテロ環の例には、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピロリジン環、イミダゾリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、1,3−ジオキサン環、1,4−ジオキサン環、テトラヒドロチオフェン環、1,3−チアゾリジン環、1,3−オキサゾリジン環、1,3−ジオキソラン環、1,3−ジチオラン環および1,3,2−ジオキサボロランが含まれる。特に好ましい二価の飽和ヘテロ環基は、ピペラジン−1,4−ジイレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイレンおよび1,3,2−ジオキサボロラン−2,5−ジイレンである。
The alkenylene group and the alkynylene group preferably have a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably have a linear structure rather than a branched chain structure.
The alkenylene group and the alkynylene group preferably have 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6, still more preferably 2 to 4. Most preferred is 2 (vinylene or ethynylene).
The divalent saturated heterocyclic group preferably has a 3- to 9-membered heterocyclic ring. The hetero atom of the hetero ring is preferably an oxygen atom, a nitrogen atom, a boron atom, a sulfur atom, a silicon atom, a phosphorus atom or a germanium atom. Examples of saturated heterocycles include piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, pyrrolidine ring, imidazolidine ring, tetrahydrofuran ring, tetrahydropyran ring, 1,3-dioxane ring, 1,4-dioxane ring, tetrahydrothiophene ring, 1 , 3-thiazolidine ring, 1,3-oxazolidine ring, 1,3-dioxolane ring, 1,3-dithiolane ring and 1,3,2-dioxaborolane. Particularly preferred divalent saturated heterocyclic groups are piperazine-1,4-diylene, 1,3-dioxane-2,5-diylene and 1,3,2-dioxaborolane-2,5-diylene.

組み合わせからなる二価の連結基の例を示す。
L−1:−O−CO−アルキレン基−CO−O−
L−2:−CO−O−アルキレン基−O−CO−
L−3:−O−CO−アルケニレン基−CO−O−
L−4:−CO−O−アルケニレン基−O−CO−
L−5:−O−CO−アルキニレン基−CO−O−
L−6:−CO−O−アルキニレン基−O−CO−
L−7:−O−CO−二価の飽和ヘテロ環基−CO−O−
L−8:−CO−O−二価の飽和ヘテロ環基−O−CO−
The example of the bivalent coupling group which consists of a combination is shown.
L-1: —O—CO-alkylene group —CO—O—
L-2: -CO-O-alkylene group -O-CO-
L-3: —O—CO—alkenylene group —CO—O—
L-4: -CO-O-alkenylene group -O-CO-
L-5: -O-CO-alkynylene group -CO-O-
L-6: -CO-O-alkynylene group -O-CO-
L-7: -O-CO-divalent saturated heterocyclic group -CO-O-
L-8: -CO-O-divalent saturated heterocyclic group -O-CO-

式(I)の分子構造において、Lを挟んで、ArとArとが形成する角度は、140度以上であることが好ましい。 In the molecular structure of the formula (I), the angle formed by Ar 1 and Ar 2 across L 1 is preferably 140 degrees or more.

棒状芳香族化合物は、下記式(II)で表されることがさらに好ましい。
(II)Ar−L−X−L−Ar
式(II)において、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族基である。
芳香族基は、前述した芳香族炭化水素環および芳香族性ヘテロ環を芳香族環おとして有する。芳香族基の置換基も、前述した芳香族環の置換基と同様である。
The rod-like aromatic compound is more preferably represented by the following formula (II).
(II) Ar 1 -L 2 -XL 3 -Ar 2
In the formula (II), Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group.
The aromatic group has the above-described aromatic hydrocarbon ring and aromatic heterocycle as an aromatic ring. The substituent of the aromatic group is the same as the substituent of the aromatic ring described above.

式(II)において、LおよびLは、それぞれ独立に、アルキレン基、−O−、−CO−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、1乃至10であることが好ましく、1乃至8であることがより好ましく、1乃至6であることがさらに好ましく、1乃至4であることがさらにまた好ましく、1または2(メチレンまたはエチレン)であることが最も好ましい。
およびLは、−O−CO−または−CO−O−であることが特に好ましい。
In the formula (II), L 2 and L 3 are each independently a divalent linking group selected from the group consisting of an alkylene group, —O—, —CO—, and combinations thereof.
The alkylene group preferably has a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably has a linear structure rather than a branched chain structure.
The alkylene group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6, still more preferably 1 to 4, and still more preferably 1 or Most preferred is 2 (methylene or ethylene).
L 2 and L 3 are particularly preferably —O—CO— or —CO—O—.

式(II)において、Xは、1,4−シクロへキシレン、ビニレンまたはエチニレンである。
以下に、式(I)で表される棒状芳香族化合物の例を示す。
In the formula (II), X is 1,4-cyclohexylene, vinylene or ethynylene.
Examples of the rod-like aromatic compound represented by the formula (I) are shown below.

Figure 2009244914
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具体例(1)〜(34)、(41)、(42)、(46)、(47)、(52)、(53)は、シクロヘキサン環の1位と4位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例(1)、(4)〜(34)、(41)、(42)、(46)、(47)、(52)、(53)は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体(光学活性)はなく、幾何異性体(トランス型とシス型)のみ存在する。具体例(1)のトランス型(1-trans)とシス型(1-cis)とを、以下に示す。   Specific examples (1) to (34), (41), (42), (46), (47), (52), (53) are two asymmetric carbons at the 1st and 4th positions of the cyclohexane ring. Has atoms. However, the specific examples (1), (4) to (34), (41), (42), (46), (47), (52), (53) have a symmetric meso type molecular structure. Therefore, there is no optical isomer (optical activity) and only geometric isomers (trans and cis forms) exist. The trans type (1-trans) and cis type (1-cis) of specific example (1) are shown below.

Figure 2009244914
Figure 2009244914

前述したように、レターデーション上昇剤として用いる棒状芳香族化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
具体例(2)および(3)は、幾何異性体に加えて光学異性体(合計4種の異性体)を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、D、Lあるいはラセミ体のいずれでもよい。
具体例(43)〜(45)では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
レターデーション上昇剤は、二種類以上の化合物を混合して用いてもよい。
As described above, it is preferable that the rod-shaped aromatic compound used as the retardation increasing agent has a linear molecular structure. Therefore, the trans type is preferable to the cis type.
Specific examples (2) and (3) have optical isomers (a total of four isomers) in addition to geometric isomers. As for geometric isomers, the trans type is similarly preferable to the cis type. The optical isomer is not particularly superior or inferior, and may be D, L, or a racemate.
In specific examples (43) to (45), the central vinylene bond includes a trans type and a cis type. For the same reason as above, the trans type is preferable to the cis type.
The retardation increasing agent may be used by mixing two or more kinds of compounds.

ポリマーフイルムの光学異方性を調整するため、延伸処理を実施することが好ましい。ポリマーフイルムは、少なくとも1方向に延伸を行う。本発明では、低縦横比で延伸することが好ましい。
延伸は2対以上のニップロールを用いて行う。出口側のニップロールのライン速度を調整する(一般に速くする)ことで、縦横を調整できる。ニップロールの間隔は、縦横比L/W(延伸前のポリマーフイルムの幅をWとニップロール間距離Lの比)が0.5≦L/W≦2であることが好ましく、0.7≦L/W≦1.8であることがより好ましく、0.9≦L/W≦1.6であることがさらに好ましい。なお、通常の延伸処理における縦横比は、3を越える値であることが普通である。
延伸は、2対以上、より好ましくは2対以上8対以下、さらに好ましくは2対以上6対以下のニップロールを用いて延伸する。2対のニップロールでの延伸は1段延伸であり、3対以上のニップロールを用いる場合は多段延伸となる。2段以上の多段延伸が好ましい。低縦横比の延伸では、1段で延伸しようとすると破断しやすく、多段で少しずつ延伸する方が好ましい。
ニップロールの幅は、延伸前のフイルム幅の1.01乃至1.5倍が好ましく、1.03乃至1.4倍がより好ましく、1.05乃至1.3倍がさらに好ましい。
In order to adjust the optical anisotropy of the polymer film, it is preferable to carry out a stretching treatment. The polymer film is stretched in at least one direction. In the present invention, it is preferable to stretch at a low aspect ratio.
Stretching is performed using two or more pairs of nip rolls. By adjusting the line speed of the nip roll on the outlet side (generally increasing it), the length and width can be adjusted. The gap between the nip rolls is preferably such that the aspect ratio L / W (ratio of the width of the polymer film before stretching W to the distance L between the nip rolls) is 0.5 ≦ L / W ≦ 2, and 0.7 ≦ L / W ≦ 1.8 is more preferable, and 0.9 ≦ L / W ≦ 1.6 is further more preferable. In general, the aspect ratio in the normal stretching process is a value exceeding 3.
The stretching is performed using nip rolls of 2 pairs or more, more preferably 2 pairs or more and 8 pairs or less, and further preferably 2 pairs or more and 6 pairs or less. Stretching with two pairs of nip rolls is one-stage stretching, and when three or more pairs of nip rolls are used, multi-stage stretching is performed. Two or more stages of stretching are preferred. In stretching with a low aspect ratio, it is easy to break when trying to stretch in one step, and it is preferable to stretch in multiple steps little by little.
The width of the nip roll is preferably 1.01 to 1.5 times the film width before stretching, more preferably 1.03 to 1.4 times, and even more preferably 1.05 to 1.3 times.

延伸に用いるニップロールとフイルムとのラップ角は、30°未満が好ましく、20°未満がより好ましく、10°未満がさらに好ましい。
多段延伸の場合、少なくとも1対のニップロールが上記のラップ角であることが好ましい。使用する全てのニップロールが、上記のラップ角であることがさらに好ましい。
ニップ力は、ニップロールの幅1mあたり50乃至800kgが好ましく、100乃至600kgがより好ましく、150乃至400kgがさらに好ましい。
延伸処理に要する時間は、1乃至30秒が好ましく、2乃至25秒がより好ましく、3乃至20秒がさらに好ましい。
幅方向の均一性を向上させるため、両端の温度を中央部より1℃乃至30℃高い温度条件で延伸することが好ましい。
温度分布は、幅方向に沿って設置した分割熱源を用いることで実現できる。具体的には、放射熱源(例、IRヒーター)を用いて端部を加熱するか、複数の分割吹き出し口を設け、端部の吹き出し温度を高くすればよい。
The wrap angle between the nip roll and the film used for stretching is preferably less than 30 °, more preferably less than 20 °, and even more preferably less than 10 °.
In the case of multistage stretching, it is preferable that at least one pair of nip rolls has the above wrap angle. More preferably, all nip rolls used have the wrap angle described above.
The nip force is preferably 50 to 800 kg, more preferably 100 to 600 kg, and further preferably 150 to 400 kg per 1 m of the width of the nip roll.
The time required for the stretching treatment is preferably 1 to 30 seconds, more preferably 2 to 25 seconds, and further preferably 3 to 20 seconds.
In order to improve the uniformity in the width direction, the temperature at both ends is preferably stretched under a temperature condition that is 1 ° C. to 30 ° C. higher than the center portion.
The temperature distribution can be realized by using a divided heat source installed along the width direction. Specifically, the end portion may be heated using a radiant heat source (for example, an IR heater), or a plurality of divided blowing ports may be provided to increase the blowing temperature at the end portion.

具体的な延伸処理条件は、ドライ延伸と含水延伸とに分類できる。
ドライ延伸は、加熱しながら乾燥雰囲気で行なわれる一般的な延伸方法である。
加熱温度は、100乃至160℃が好ましく、110乃至150℃がさらに好ましく、120乃至145℃であることが最も好ましい。
延伸倍率は、1.1乃至1.7倍が好ましく、1.2乃至1.6倍がさらに好ましく、1.3乃至1.5倍が最も好ましい。
ドライ延伸は、2対以上のニップロールを用い、入口側の送り速度より出口側の速度を大きくする条件で実施することが好ましい。ニップロールの数は、2対乃至8対がさらに好ましく、2対乃至6対が最も好ましい。
加熱は、一定温度に昇温したケーシング内で行う方法が好ましい。ケーシング内で延伸する方が、一般的な加熱手段(加熱ロールまたは放射熱源)を用いる方法よりも、幅方向の光学特性変化を小さくすることができる。
Specific stretching treatment conditions can be classified into dry stretching and hydrous stretching.
Dry stretching is a general stretching method performed in a dry atmosphere while heating.
The heating temperature is preferably 100 to 160 ° C, more preferably 110 to 150 ° C, and most preferably 120 to 145 ° C.
The draw ratio is preferably 1.1 to 1.7 times, more preferably 1.2 to 1.6 times, and most preferably 1.3 to 1.5 times.
The dry stretching is preferably performed using two or more pairs of nip rolls under the condition that the outlet side speed is larger than the inlet side feeding speed. The number of nip rolls is more preferably 2 to 8 pairs, and most preferably 2 to 6 pairs.
Heating is preferably performed in a casing that has been heated to a certain temperature. The stretching in the casing can reduce the change in optical characteristics in the width direction, compared with a method using a general heating means (a heating roll or a radiant heat source).

含水延伸は、ポリマーフイルムに水を含ませた状態で延伸する。含水延伸では、水分の可塑化効果により、よりスムースな延伸を行うことができる。それゆえ、ドライ延伸よりも、含水延伸の方が好ましい。
含水延伸の前に、ポリマーフイルムに予め含水させる処理を実施する。それよりも前に、フイルムを相対湿度0乃至30%の乾燥状態で、50乃至150℃に加熱する乾燥熱処理を実施することが好ましい。加熱温度は、60乃至120℃がより好ましく、70乃至110℃がさらに好ましい。相対湿度は、0乃至25%がより好ましく、0乃至20%がさらに好ましい。加熱時間は、3秒乃至30分が好ましく、5秒乃至10分がより好ましく、10秒乃至3分がさらに好ましい。加熱手段としては、ヒートロール、熱風あるいは放射熱源(例、IRヒーター)を使用できる。
In the hydrous stretching, the polymer film is stretched with water. In the hydrous stretching, smoother stretching can be performed due to the plasticizing effect of moisture. Therefore, water-containing stretching is preferable to dry stretching.
Before the water-containing stretching, a treatment for pre-hydrating the polymer film is performed. Prior to that, it is preferable to carry out a drying heat treatment in which the film is heated to 50 to 150 ° C. in a dry state with a relative humidity of 0 to 30%. The heating temperature is more preferably 60 to 120 ° C, further preferably 70 to 110 ° C. The relative humidity is more preferably 0 to 25%, further preferably 0 to 20%. The heating time is preferably 3 seconds to 30 minutes, more preferably 5 seconds to 10 minutes, and even more preferably 10 seconds to 3 minutes. As the heating means, a heat roll, hot air, or a radiant heat source (eg, IR heater) can be used.

延伸前のポリマーフイルムの含水率は、2乃至10質量%が好ましく、2.5乃至8%質量%がさらに好ましく、3乃至6質量%が最も好ましい。
ポリマーフイルムに水を含ませるためには、ポリマーフイルムを水に浸漬するか、ポリマーフイルムを水蒸気に曝す。
水に浸漬する場合、水温は、60乃至100℃が好ましく、70乃至100℃がさらに好ましく、80乃至100℃であることが最も好ましい。浸漬時間は、0.1乃至20分が好ましく、0.2乃至10分がさらに好ましく、0.5乃至5分が最も好ましい。ポリマーフイルムは、水槽に設置したロール間を搬送させることで、水を含ませることができる。
The water content of the polymer film before stretching is preferably 2 to 10% by mass, more preferably 2.5 to 8% by mass, and most preferably 3 to 6% by mass.
In order to include water in the polymer film, the polymer film is immersed in water or the polymer film is exposed to water vapor.
When immersed in water, the water temperature is preferably 60 to 100 ° C, more preferably 70 to 100 ° C, and most preferably 80 to 100 ° C. The immersion time is preferably 0.1 to 20 minutes, more preferably 0.2 to 10 minutes, and most preferably 0.5 to 5 minutes. The polymer film can contain water by being conveyed between rolls installed in the water tank.

水蒸気に曝す場合、処理温度は、60乃至150℃が好ましく、70乃至140℃がさらに好ましく、75乃至130℃がさらに好ましい。処理における相対湿度は、70乃至100%が好ましく、80乃至100%がさらに好ましく、85乃至100%が最も好ましい。処理時間は、0.1乃至20分が好ましく、0.2乃至10分がさらに好ましく、0.5乃至5分が最も好ましい。水蒸気を満たした部屋の中にロールを設置し、ポリマーフイルムを搬送することで水蒸気に曝すことができる。   When exposed to water vapor, the treatment temperature is preferably 60 to 150 ° C, more preferably 70 to 140 ° C, and further preferably 75 to 130 ° C. The relative humidity in the treatment is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%, and most preferably 85 to 100%. The treatment time is preferably 0.1 to 20 minutes, more preferably 0.2 to 10 minutes, and most preferably 0.5 to 5 minutes. It is possible to expose to water vapor by installing a roll in a room filled with water vapor and transporting the polymer film.

水(または水蒸気)は、水以外の成分を含んでもよい。他の成分の例には、有機溶剤、可塑剤および界面活性剤が含まれる。有機溶剤は、炭素原子数が1乃至10の水混和性の液体が好ましい。水と他の成分全体の60質量%以上が水であることが好ましく、80質量%以上が水であることがさらに好ましく、純水であることが最も好ましい。
水に浸漬する方法と、水蒸気に曝す方法とを組み合わせて実施してもよい。水蒸気に曝す方法を単独で実施することが特に好ましい。
Water (or water vapor) may contain components other than water. Examples of other components include organic solvents, plasticizers and surfactants. The organic solvent is preferably a water-miscible liquid having 1 to 10 carbon atoms. It is preferable that 60% by mass or more of water and all other components is water, more preferably 80% by mass or more is water, and most preferably pure water.
You may implement combining the method to immerse in water, and the method to expose to water vapor | steam. It is particularly preferred to carry out the method of exposing to water vapor alone.

含水延伸における延伸倍率は、1.1乃至2倍が好ましく、1.2乃至1.8倍がさらに好ましく、1.3乃至1.7倍が最も好ましい。
含水延伸の温度は、50乃至100℃が好ましく、60乃至95℃がさらに好ましく、70乃至95℃が最も好ましい。含水延伸における相対湿度は、60乃至100%が好ましく、70乃至100%がさらに好ましく、80乃至95%が最も好ましい。相対湿度が高い条件での延伸処理は、高湿度雰囲気下あるいは水中に浸漬しながら実施すればよい。高湿度雰囲気下で実施することが好ましい。
高湿度雰囲気下での延伸は、調湿したケーシング内に2対以上のニップロールを設置し、出口側のニップロールの線速度を速くすることで実施できる。水中での延伸は、加熱した水槽内に2対以上のニップロールを設置し、出口側のニップロールの線速度を速くすることで実施できる。
The draw ratio in the hydrous drawing is preferably 1.1 to 2 times, more preferably 1.2 to 1.8 times, and most preferably 1.3 to 1.7 times.
The temperature of the water-containing stretching is preferably 50 to 100 ° C, more preferably 60 to 95 ° C, and most preferably 70 to 95 ° C. The relative humidity in the hydrous stretching is preferably 60 to 100%, more preferably 70 to 100%, and most preferably 80 to 95%. The stretching treatment under a condition where the relative humidity is high may be performed in a high humidity atmosphere or while being immersed in water. It is preferable to carry out in a high humidity atmosphere.
Stretching in a high humidity atmosphere can be performed by installing two or more pairs of nip rolls in a humidity-controlled casing and increasing the linear velocity of the nip roll on the outlet side. Stretching in water can be carried out by installing two or more pairs of nip rolls in a heated water tank and increasing the linear velocity of the nip roll on the outlet side.

含水延伸では、延伸に引き続き、乾燥することが好ましい。
乾燥温度は、40乃至150℃が好ましく、50乃至130℃がさらに好ましく、60乃至120℃が最も好ましい。
乾燥時間は、10秒乃至20分が好ましく、20秒乃至10分がさらに好ましく、30秒乃至7分が最も好ましい。
乾燥後のポリマーフイルムの含水率は、2%未満であることが好ましい。
In the hydrous stretching, it is preferable to dry after the stretching.
The drying temperature is preferably 40 to 150 ° C, more preferably 50 to 130 ° C, and most preferably 60 to 120 ° C.
The drying time is preferably 10 seconds to 20 minutes, more preferably 20 seconds to 10 minutes, and most preferably 30 seconds to 7 minutes.
The water content of the polymer film after drying is preferably less than 2%.

延伸前のポリマーフイルムは、厚みが50乃至300μmであることが好ましく、60乃至280μmであることがさらに好ましく、70乃至250μmであることが最も好ましい。
延伸前のポリマーフイルムは、幅が60cm乃至3mであることが好ましく、70cm乃至2.5mであることがさらに好ましく、80cm乃至2mであることが最も好ましい。
延伸後のポリマーフイルムは、厚みが40乃至250μmであることが好ましく、50乃至230μmであることがさらに好ましく、60乃至200μmであることが最も好ましい。
延伸後のポリマーフイルムは、ヘイズ値が0乃至2%であることが好ましく、0乃至1.5%であることがさらに好ましく、0乃至1%であることが最も好ましい。
The polymer film before stretching preferably has a thickness of 50 to 300 μm, more preferably 60 to 280 μm, and most preferably 70 to 250 μm.
The polymer film before being stretched preferably has a width of 60 cm to 3 m, more preferably 70 cm to 2.5 m, and most preferably 80 cm to 2 m.
The stretched polymer film preferably has a thickness of 40 to 250 μm, more preferably 50 to 230 μm, and most preferably 60 to 200 μm.
The polymer film after stretching preferably has a haze value of 0 to 2%, more preferably 0 to 1.5%, and most preferably 0 to 1%.

位相差板に用いるポリマーフイルムは、さらに加熱処理を実施することが好ましい。
加熱温度は、50乃至150℃が好ましく、70乃至140℃がさらに好ましく、90乃至120℃が最も好ましい。
加熱時間は、0.5乃至200時間が好ましく、1乃至100時間がさらに好ましく、3乃至50時間が最も好ましい。
加熱処理は、ポリマーフイルムを加熱ゾーン内で搬送することにより実施できる。ポリマーフイルムは、ロールを用いて搬送することが好ましい。ロールでの加熱は、フイルム表面と内部とに温度差を生じやすい。温度差は、面状の低下(皺の発生)を起こす。温度差を解消するため、中空の巻心を用いてロール内部から加熱するか、あるいは、ゆっくりロールを回転しながら加熱することが好ましい。
加熱処理により、ポリマーフイルムに構造緩和を起こし、その結果、ポリマーのガラス転移温度(Tg)近傍の温度に、吸熱ピークを出現させることが好ましい。吸熱ピークは、0.1乃至2.0J/gであることが好ましく、0.3乃至1.8J/gであることがさらに好ましく、0.5乃至1.6J/gであることが最も好ましい。ポリマーフイルムに構造緩和を起こし、吸熱ピークを大きくすると、温度変化に伴う光学異方性(レターデーション値)の変化を小さくすることができる。
なお、偏光板(のポリマーフイルム)に防湿層(下記)を設ける場合、ポリマーフイルムに防湿層を設けてから、加熱処理を実施することが好ましい。
The polymer film used for the phase difference plate is preferably further subjected to a heat treatment.
The heating temperature is preferably 50 to 150 ° C, more preferably 70 to 140 ° C, and most preferably 90 to 120 ° C.
The heating time is preferably 0.5 to 200 hours, more preferably 1 to 100 hours, and most preferably 3 to 50 hours.
The heat treatment can be carried out by conveying the polymer film in the heating zone. The polymer film is preferably conveyed using a roll. Heating with a roll tends to cause a temperature difference between the film surface and the inside. The temperature difference causes a reduction in surface condition (generation of wrinkles). In order to eliminate the temperature difference, it is preferable to heat from the inside of the roll using a hollow core, or to heat while slowly rotating the roll.
It is preferable to cause structural relaxation in the polymer film by heat treatment, and as a result, an endothermic peak appears at a temperature near the glass transition temperature (Tg) of the polymer. The endothermic peak is preferably 0.1 to 2.0 J / g, more preferably 0.3 to 1.8 J / g, and most preferably 0.5 to 1.6 J / g. . When structural relaxation is caused in the polymer film and the endothermic peak is increased, the change in optical anisotropy (retardation value) accompanying a change in temperature can be reduced.
In addition, when providing a moisture-proof layer (below) in a polarizing plate (the polymer film), it is preferable to heat-process, after providing a moisture-proof layer in a polymer film.

[防湿層]
偏光板から位相差板を除いた構造全体の透湿量を5g/m・日未満に抑制することが好ましい。透湿量は、0.01乃至4g/m・日であることが好ましく、0.05乃至3g/m・日であることがさらに好ましい。
低透湿量を実現するため、偏光板に防湿層を設けることが好ましい。
前記基本構成(A)の偏光板では、製造工程の都合から、位相差板と第1透明保護膜との間に粘着剤層を設けることが普通である。すなわち、(A)の偏光板は、一般に、先に第1透明保護膜〜第2透明保護膜の構造を製造し、それを位相差板と粘着剤で貼り合わせる。
以上の理由から、前記基本構成(A)の偏光板に一層の防湿層を設ける場合、下記(A1)〜(A5)のいずれか一つの態様を採用することが好ましい。
[Dampproof layer]
It is preferable to suppress the moisture permeation amount of the entire structure excluding the retardation plate from the polarizing plate to less than 5 g / m 2 · day. The moisture permeability is preferably 0.01 to 4 g / m 2 · day, and more preferably 0.05 to 3 g / m 2 · day.
In order to realize a low moisture permeability, it is preferable to provide a moisture-proof layer on the polarizing plate.
In the polarizing plate having the basic structure (A), it is common to provide an adhesive layer between the retardation plate and the first transparent protective film for the convenience of the production process. That is, the polarizing plate (A) generally has a structure of a first transparent protective film to a second transparent protective film, and is bonded to the retardation plate with an adhesive.
For the above reasons, when a single moisture-proof layer is provided on the polarizing plate of the basic configuration (A), it is preferable to employ any one of the following (A1) to (A5).

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(A1) (A2) (A3) (A4) (A5)
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第2保護膜 第2保護膜 第2保護膜 第2保護膜 防湿層
直線偏光膜 直線偏光膜 直線偏光膜 防湿層 第2保護膜
第1保護膜 第1保護膜 防湿層 直線保護膜 直線偏光膜
粘着剤層 防湿層 第1保護膜 第1保護膜 第1保護膜
防湿層 粘着剤層 粘着剤層 粘着剤層 粘着剤層
位相差板 位相差板 位相差板 位相差板 位相差板
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
(A1) (A2) (A3) (A4) (A5)
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Second protective film Second protective film Second protective film Second protective film Moisture-proof layer Linear polarizing film Linear polarizing film Linear polarizing film Moisture-proof layer Second protective film First protective film First protective film Moisture-proof layer Linear protective film Linear polarizing film Adhesive Adhesive layer Moisture-proof layer 1st protective film 1st protective film 1st protective film Moisture-proof layer Adhesive layer Adhesive layer Adhesive layer Adhesive layer Retardation plate Retardation plate Retardation plate Retardation plate Retardation plate───── ───────────────────────────────

前記基本構成(B)の偏光板に一層の防湿層を設ける場合、下記(B1)〜(B3)のいずれか一つの態様を採用することが好ましい。   When a single moisture-proof layer is provided on the polarizing plate of the basic configuration (B), it is preferable to employ any one of the following (B1) to (B3).

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(B1) (B2) (B3)
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第2保護膜 第2保護膜 防湿層
直線偏光膜 防湿層 第2保護膜
防湿層 直線偏光膜 直線偏光膜
第1保護膜兼位相差板 第1保護膜兼位相差板 第1保護膜兼位相差板
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────────────────────────────────────
(B1) (B2) (B3)
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Second protective film Second protective film Moisture-proof layer Linear polarizing film Moisture-proof layer Second protective film Moisture-proof layer Linear polarizing film Linear polarizing film First protective film and phase difference plate First protective film and phase difference plate First protective film and phase difference Board ────────────────────────────────────

上記(A1)〜(A5)および(B1)〜(B3)に示すように、防湿層は、位相差板(A1)、第1透明保護膜(A2、A3)、第1透明保護膜兼位相差板(B1)または第2透明保護膜(A4、A5、B2、B3)に設けることができる。位相差板および透明保護膜は、一般にポリマーフイルムであって、防湿層はポリマーフイルムの上に形成できる。   As shown in the above (A1) to (A5) and (B1) to (B3), the moisture-proof layer is composed of the retardation film (A1), the first transparent protective film (A2, A3), and the first transparent protective film. It can be provided on the phase difference plate (B1) or the second transparent protective film (A4, A5, B2, B3). The retardation film and the transparent protective film are generally polymer films, and the moisture-proof layer can be formed on the polymer film.

偏光板に二層以上の防湿層を設けてもよい。一層の防湿層で、前記の低透湿量(5g/m・日未満)を実現することが困難である場合は、さらに防湿層を追加する。二層以上の防湿層は、同じ位置に重ねて設けても良い。二層以上の防湿層を異なる位置に設ける場合は、(A1)〜(A5)の態様または(B1)〜(B3)の態様を複数組み合わせればよい。位相差板よりも下側(画像表示面側)に、防湿層を設けることもできる。
ただし、一般には、防湿層を一層設けるだけで、前記の低透湿量を実現することができる。
Two or more moisture-proof layers may be provided on the polarizing plate. If it is difficult to achieve the low moisture permeability (less than 5 g / m 2 · day) with a single moisture-proof layer, a moisture-proof layer is further added. Two or more moisture barrier layers may be provided in the same position. When two or more moisture-proof layers are provided at different positions, a plurality of aspects (A1) to (A5) or aspects (B1) to (B3) may be combined. A moisture-proof layer can also be provided below the phase difference plate (image display surface side).
However, in general, the low moisture permeation amount can be realized only by providing one moisture barrier layer.

防湿層の水蒸気透過係数は、1×10−12乃至1×10−7(cm/cm・sec・cmHg)であることが好ましい。
防湿層は、有機材料または無機材料から形成できる。有機材料と無機材料とを組み合わせてもよい。
The moisture vapor transmission coefficient of the moisture-proof layer is preferably 1 × 10 −12 to 1 × 10 −7 (cm 3 / cm · sec · cmHg).
The moisture-proof layer can be formed from an organic material or an inorganic material. An organic material and an inorganic material may be combined.

有機材料は、ポリマーが好ましい。ポリマーの水蒸気透過係数は、10−12乃至10−7(cm/cm/s・cmHg)であることが好ましい。
防湿層は、前記の低透湿量を実現するために設ける。透湿量は、水蒸気透過係数に比例し、厚みに反比例する。従って、透湿量(g/m・日)は、水蒸気透過係数(cm/cm・sec・cmHg)および厚み(μm)から、下記式により計算できる。
透湿量=1010×水蒸気透過係数/厚み
The organic material is preferably a polymer. The water vapor transmission coefficient of the polymer is preferably 10 −12 to 10 −7 (cm 3 / cm / s · cmHg).
The moisture-proof layer is provided in order to realize the low moisture permeability. The moisture permeability is proportional to the water vapor transmission coefficient and inversely proportional to the thickness. Therefore, the moisture permeability (g / m 2 · day) can be calculated from the water vapor transmission coefficient (cm 3 / cm · sec · cmHg) and the thickness (μm) by the following formula.
Moisture permeability = 10 10 × water vapor permeability coefficient / thickness

防湿層に使用できるポリマーの例を、水蒸気透過係数(cm/cm・sec・cmHg)および1g/m・日未満の低透湿量を達成するために必要な厚さと共に以下に示す。 Examples of polymers that can be used in the moisture barrier are given below along with the water vapor transmission coefficient (cm 3 / cm · sec · cmHg) and the thickness required to achieve a low moisture permeability of less than 1 g / m 2 · day.

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ポリマー 水蒸気透過係数 必要な厚み
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#1エチレン/ビニルアルコールコポリマー 6×10−10 6μm
#2酢酸ビニル/エチレンコポリマー 8×10−10 8μm
#3ポリビニルアルコール 9×10−10 9μm
#4ポリ塩化ビニリデン 1×10−9 10μm
#5ポリ弗化ビニル 1×10−9 10μm
#6高密度ポリエチレン 1×10−9 10μm
#7塩酸ゴム 1×10−9 10μm
#8塩化ビニリデン/アクリル酸コポリマー 1×10−9 10μm
#9塩化ビニル/アクリロニトリルコポリマー 2×10−9 20μm
#10ポリエチレンナフタレート 5×10−9 50μm
#11ポリプロピレン 6×10−9 60μm
#12ブタジエン/アクリロニトリルコポリマー 8×10−9 80μm
#13四弗化エチレン/エチレンコポリマー 1×10−8 100μm
#14低密度ポリエチレン 1×10−8 100μm
#15ポリアミド(MXナイロン) 2×10−8 200μm
#16エチレン/プロピレンコポリマー 4×10−8 400μm
#17ポリプロピレン 6×10−9 60μm
#18ポリヘキサメチレンアジポアミド 8×10−8 800μm
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(註)ポリヘキサメチレンアジポアミド:6,6−ナイロン
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Polymer Water vapor transmission coefficient Required thickness ----------------------
# 1 ethylene / vinyl alcohol copolymer 6 × 10 −10 6 μm
# 2 Vinyl acetate / ethylene copolymer 8 × 10 −10 8 μm
# 3 Polyvinyl alcohol 9 × 10 −10 9 μm
# 4 Polyvinylidene chloride 1 × 10 −9 10 μm
# 5 Polyvinyl fluoride 1 × 10 −9 10 μm
# 6 High density polyethylene 1 × 10 −9 10 μm
# 7 Hydrochloric acid rubber 1 × 10 −9 10 μm
# 8 Vinylidene chloride / acrylic acid copolymer 1 × 10 −9 10 μm
# 9 Vinyl chloride / acrylonitrile copolymer 2 × 10 −9 20 μm
# 10 Polyethylene naphthalate 5 × 10 −9 50 μm
# 11 Polypropylene 6 × 10 −9 60 μm
# 12 Butadiene / acrylonitrile copolymer 8 × 10 −9 80 μm
# 13 Tetrafluoroethylene / ethylene copolymer 1 × 10 −8 100 μm
# 14 Low density polyethylene 1 × 10 −8 100 μm
# 15 Polyamide (MX nylon) 2 × 10 −8 200 μm
# 16 ethylene / propylene copolymer 4 × 10 −8 400 μm
# 17 Polypropylene 6 × 10 −9 60 μm
# 18 Polyhexamethylene adipamide 8 × 10 −8 800 μm
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(Ii) Polyhexamethylene adipamide: 6,6-nylon

ポリマーからなる防湿層は、塗布により設けることができる。
ポリマーからなる防湿層は、ポリマーを結晶化させることにより、防湿機能を高めることができる。ポリマーを結晶化するためには、ポリマーを含む塗布液(溶液、分散液、乳化液)を、塗布および乾燥後に熱処理することが好ましい。
熱処理温度は、100乃至200℃が好ましく、120乃至180℃がさらに好ましく、140乃至170℃が最も好ましい
熱処理時間は、0.5乃至60分が好ましく、1乃至20分がさらに好ましく、2乃至10分が最も好ましい。
The moisture-proof layer made of a polymer can be provided by coating.
The moisture-proof layer made of a polymer can enhance the moisture-proof function by crystallizing the polymer. In order to crystallize the polymer, it is preferable to heat-treat the coating solution containing the polymer (solution, dispersion, emulsion) after coating and drying.
The heat treatment temperature is preferably 100 to 200 ° C., more preferably 120 to 180 ° C., and most preferably 140 to 170 ° C. The heat treatment time is preferably 0.5 to 60 minutes, more preferably 1 to 20 minutes, and more preferably 2 to 10 Minutes are most preferred.

無機材料で防湿層を構成することもできる。
ガラス板のように、全く水蒸気を透過しない無機材料のみで防湿層を構成すれば、低い水蒸気透過係数を容易に達成できる。しかし、無機材料のみで構成される層は、一般に脆く厚くなるため、画像表示装置に取り付ける偏光板の構成層としては適切ではない。そのため、無機材料と有機材料とを組み合わせて防湿層を構成することが好ましい。
無機材料と有機材料とを組み合わせて防湿層を構成すると、柔軟な層でありながら、低い透湿係数を容易に達成できる。無機材料と有機材料とを組み合わせると、有機材料を単独で用いた場合に比べて、1/100程度にまで透湿係数を低下させることができる。
The moisture-proof layer can also be composed of an inorganic material.
If the moisture-proof layer is composed of only an inorganic material that does not transmit water vapor at all, such as a glass plate, a low water vapor transmission coefficient can be easily achieved. However, since a layer composed only of an inorganic material is generally brittle and thick, it is not suitable as a constituent layer of a polarizing plate attached to an image display device. Therefore, it is preferable to form the moisture-proof layer by combining an inorganic material and an organic material.
When a moisture-proof layer is formed by combining an inorganic material and an organic material, a low moisture permeability coefficient can be easily achieved while being a flexible layer. When an inorganic material and an organic material are combined, the moisture permeability coefficient can be reduced to about 1/100 compared to the case where the organic material is used alone.

無機材料と有機材料とを組み合わせる場合は、有機材料として前述した水蒸気透過係数が低いポリマーを使用し、それを無機材料のバインダーとして機能させることが好ましい。
無機材料は、酸化物が好ましい。無機材料の例には、二酸化珪素、アルミナ、タルク、雲母、珪藻土、酸化チタン、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライトおよびリン酸ジルコニウムが含まれる。
無機材料の形状は、層状であることが好ましい。層状の無機材料としては、雲母およびタルクが好ましい。
When combining an inorganic material and an organic material, it is preferable to use the above-mentioned polymer having a low water vapor transmission coefficient as the organic material and to make it function as a binder for the inorganic material.
The inorganic material is preferably an oxide. Examples of inorganic materials include silicon dioxide, alumina, talc, mica, diatomaceous earth, titanium oxide, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite and zirconium phosphate.
The shape of the inorganic material is preferably layered. As the layered inorganic material, mica and talc are preferable.

天然雲母および合成雲母のいずれも好ましく用いられる。天然雲母の例には、白雲母(アスペクト比:25)、ソーダ雲母(アスペクト比:50)、金雲母(アスペクト比:105)、黒雲母(アスペクト比:215)および鱗雲母(アスペクト比:525)が含まれる。合成雲母の例には、フッ素金雲母(アスペクト比:825)、カリ四ケイ素雲母(アスペクト比:950)、Naテトラシリシックマイカ(アスペクト比:3000)、Na又はLiテニオライト(アスペクト比:1万)、モンモリオナイト系のNa又はLiヘクトライト(アスペクト比:3万)が含まれる。フッ素金雲母およびカリ四ケイ素雲母は、非膨潤性雲母に分類され、他の合成雲母は、膨潤性雲母に分類される。合成スメクタイト(アスペクト比:8万)も、層状無機化合物として利用できる。合成雲母が好ましく、フッ素系の膨潤性雲母が特に特に好ましい。   Both natural mica and synthetic mica are preferably used. Examples of natural mica include muscovite (aspect ratio: 25), soda mica (aspect ratio: 50), phlogopite (aspect ratio: 105), biotite (aspect ratio: 215) and scale mica (aspect ratio: 525). ) Is included. Examples of synthetic mica include fluorine phlogopite (aspect ratio: 825), potassium tetrasilicon mica (aspect ratio: 950), Na tetralithic mica (aspect ratio: 3000), Na or Li teniolite (aspect ratio: 10,000). ), Montmorillonite Na or Li hectorite (aspect ratio: 30,000). Fluorophlogopite and Potassium tetrasilicon mica are classified as non-swellable mica, and other synthetic mica is classified as swellable mica. Synthetic smectite (aspect ratio: 80,000) can also be used as the layered inorganic compound. Synthetic mica is preferred, and fluorine-based swellable mica is particularly preferred.

無機層状化合物のアスペクト比は、20乃至10万が好ましく、100乃至5万がさらに好ましく、200乃至1万が最も好ましい。アスペクト比は、粒子の長径に対する厚さの比である。
無機層状化合物の平均長径は、0.3乃至20μmが好ましく、0.5乃至10μmがさらに好ましく、1乃至5μmが最も好ましい。無機層状化合物の平均厚さは、0.1μm未満が好ましく、0.05μm未満がさらに好ましく、0.01μm未満が最も好ましい。
The aspect ratio of the inorganic layered compound is preferably 200 to 100,000, more preferably 100 to 50,000, and most preferably 200 to 10,000. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particles.
The average major axis of the inorganic layered compound is preferably 0.3 to 20 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and most preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the inorganic layered compound is preferably less than 0.1 μm, more preferably less than 0.05 μm, and most preferably less than 0.01 μm.

無機材料と有機材料とを組み合わせて使用する場合、無機材料の量は有機材料の量に対して、1乃至50質量%であることが好ましく、3乃至40質量%であることがさらに好ましく、6乃至30質量%であることが最も好ましい。
無機材料と有機材料とを組み合わせた防湿層は、溶液分散法または溶融分散法により形成できる。
When the inorganic material and the organic material are used in combination, the amount of the inorganic material is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 3 to 40% by mass, based on the amount of the organic material. Most preferred is 30 to 30% by mass.
A moisture-proof layer combining an inorganic material and an organic material can be formed by a solution dispersion method or a melt dispersion method.

溶液分散法では、下記(1)〜(5)の手順で、防湿層を形成する。
(1)有機材料を溶媒に溶解または乳化して、溶液またはラテックスを調製する。溶液またはラテックスの濃度は、0.3乃至30質量%が好ましく、0.5乃至20質量%がさらに好ましく、1乃至10質量%が最も好ましい。溶剤は、無機化合物の分散性を考慮して、極性溶剤が好ましい。極性溶媒は、水、アルコールまたはそれらの混合物が好ましい。
(2)無機材料を、水、アルコールまたはそれらの混合物に分散する。
(3)無機材料の分散液を、有機材料の溶液またはラテックスに、ゆっくり滴下して、撹拌する。
(4)得られた塗布液を、ポリマーフイルム(位相差板、第1透明保護膜、第1透明保護膜兼位相差板または第2透明保護膜)に塗布する。
(5)塗布層を乾燥する。
In the solution dispersion method, the moisture-proof layer is formed by the following procedures (1) to (5).
(1) An organic material is dissolved or emulsified in a solvent to prepare a solution or latex. The concentration of the solution or latex is preferably 0.3 to 30% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass, and most preferably 1 to 10% by mass. The solvent is preferably a polar solvent considering the dispersibility of the inorganic compound. The polar solvent is preferably water, alcohol or a mixture thereof.
(2) Disperse the inorganic material in water, alcohol or a mixture thereof.
(3) The inorganic material dispersion is slowly dropped into the organic material solution or latex and stirred.
(4) The obtained coating solution is applied to a polymer film (retardation plate, first transparent protective film, first transparent protective film / retardation plate or second transparent protective film).
(5) Dry the coating layer.

溶融分散法では、下記(1)〜(3)の手順で、防湿層を形成する。
(1)有機材料を加熱して、溶融する。
(2)無機材料を、溶融した有機材料に添加して、撹拌する。攪拌は、ニーダーを用いることが好ましい。
(3)ポリマーフイルム(位相差板、第1透明保護膜、第1透明保護膜兼位相差板または第2透明保護膜)を構成するポリマーと、上記混合物とを共押出しを行い、ポリマーフイルムと防湿層とを同時に形成する。
あるいは、上記混合物のみで押出しを行い形成したフイルムを、ポリマーフイルム上に粘着層を介して貼り合わせて、防湿層とする。
In the melt dispersion method, the moisture-proof layer is formed by the following procedures (1) to (3).
(1) The organic material is heated and melted.
(2) The inorganic material is added to the molten organic material and stirred. It is preferable to use a kneader for the stirring.
(3) The polymer constituting the polymer film (retardation plate, first transparent protective film, first transparent protective film / retardation plate or second transparent protective film) and the above mixture are coextruded, and the polymer film A moisture-proof layer is formed at the same time.
Alternatively, the film formed by extrusion only with the above mixture is bonded onto the polymer film via an adhesive layer to form a moisture-proof layer.

溶融分散法よりも、溶液分散法の方が好ましい。
無機材料がポリマー(有機材料)中に分散している防湿層は、ポリマーを結晶化させることにより、防湿機能を高めることができる。ポリマーを結晶化するためには、防湿層を形成後に熱処理することが好ましい。
熱処理温度は、100乃至200℃が好ましく、120乃至180℃がさらに好ましく、140乃至170℃が最も好ましい。
熱処理時間は、0.5乃至60分が好ましく、1乃至20分がさらに好ましく、2乃至10分が最も好ましい。
The solution dispersion method is preferable to the melt dispersion method.
The moisture-proof layer in which the inorganic material is dispersed in the polymer (organic material) can enhance the moisture-proof function by crystallizing the polymer. In order to crystallize the polymer, it is preferable to heat-treat after forming the moisture-proof layer.
The heat treatment temperature is preferably 100 to 200 ° C, more preferably 120 to 180 ° C, and most preferably 140 to 170 ° C.
The heat treatment time is preferably 0.5 to 60 minutes, more preferably 1 to 20 minutes, and most preferably 2 to 10 minutes.

有機材料と無機材料との組み合わせを、水蒸気透過係数(cm/cm・sec・cmHg)および1g/m・日未満の低透湿量を達成するために必要な厚さと共に以下に示す。 Combinations of organic and inorganic materials are shown below along with the water vapor transmission coefficient (cm 3 / cm · sec · cmHg) and the thickness required to achieve a low moisture permeability of less than 1 g / m 2 · day.

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ポリマー 無機材料 添加量 水蒸気透過係数 必要な厚み
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#1 膨潤性雲母 3質量% 3×10−10 3μm
#1 膨潤性雲母 10質量% 6×10−11 0.6μm
#1 膨潤性雲母 20質量% 6×10−12 0.06μm
#1 モンモリオナイト 15質量% 5×10−11 0.5μm
#1 スメクタイト 7質量% 2×10−10 2μm
────────────────────────────────────
(註)#1:エチレン/ビニルアルコールコポリマー
────────────────────────────────────
Polymer Inorganic material Addition amount Water vapor permeability coefficient Necessary thickness ----------------------
# 1 Swellable mica 3% by mass 3 × 10 −10 3 μm
# 1 Swellable mica 10% by mass 6 × 10 −11 0.6 μm
# 1 Swellable mica 20% by mass 6 × 10 −12 0.06 μm
# 1 Montmorillonite 15% by mass 5 × 10 −11 0.5 μm
# 1 Smectite 7% by mass 2 × 10 −10 2 μm
────────────────────────────────────
(Ii) # 1: Ethylene / vinyl alcohol copolymer

────────────────────────────────────
ポリマー 無機材料 添加量 水蒸気透過係数 必要な厚み
────────────────────────────────────
#2 膨潤性雲母 3質量% 4×10−10 4μm
#2 膨潤性雲母 10質量% 8×10−11 0.8μm
#2 膨潤性雲母 20質量% 8×10−12 0.08μm
#2 モンモリオナイト 15質量% 7×10−11 0.7μm
#2 スメクタイト 7質量% 2×10−10 2μm
────────────────────────────────────
(註)#2:酢酸ビニル/エチレンコポリマー
────────────────────────────────────
Polymer Inorganic material Addition amount Water vapor permeability coefficient Necessary thickness ----------------------
# 2 Swellable mica 3% by mass 4 × 10 −10 4 μm
# 2 Swellable mica 10% by mass 8 × 10 −11 0.8 μm
# 2 Swellable mica 20% by mass 8 × 10 −12 0.08 μm
# 2 Montmorillonite 15% by mass 7 × 10 −11 0.7 μm
# 2 Smectite 7% by mass 2 × 10 −10 2 μm
────────────────────────────────────
(Ii) # 2: Vinyl acetate / ethylene copolymer

────────────────────────────────────
ポリマー 無機材料 添加量 水蒸気透過係数 必要な厚み
────────────────────────────────────
#3 膨潤性雲母 3質量% 2×10−10 2μm
#3 膨潤性雲母 10質量% 4×10−11 0.4μm
#3 膨潤性雲母 20質量% 3×10−12 0.03μm
#3 モンモリオナイト 15質量% 6×10−11 0.6μm
#3 スメクタイト 7質量% 1×10−10 1μm
────────────────────────────────────
(註)#3:ポリビニルアルコール
────────────────────────────────────
Polymer Inorganic material Addition amount Water vapor permeability coefficient Necessary thickness ----------------------
# 3 Swellable mica 3% by mass 2 × 10 −10 2 μm
# 3 Swellable mica 10% by mass 4 × 10 −11 0.4 μm
# 3 Swellable mica 20% by mass 3 × 10 −12 0.03 μm
# 3 Montmorillonite 15% by mass 6 × 10 −11 0.6 μm
# 3 Smectite 7% by mass 1 × 10 −10 1 μm
────────────────────────────────────
(Ii) # 3: Polyvinyl alcohol

────────────────────────────────────
ポリマー 無機材料 添加量 水蒸気透過係数 必要な厚み
────────────────────────────────────
#4 膨潤性雲母 3質量% 2×10−9 20μm
#4 膨潤性雲母 10質量% 3×10−10 3μm
#4 膨潤性雲母 20質量% 4×10−11 0.4μm
#4 モンモリオナイト 15質量% 3×10−10 3μm
#4 スメクタイト 7質量% 9×10−10 9μm
────────────────────────────────────
(註)#4:ポリ塩化ビニリデン
────────────────────────────────────
Polymer Inorganic material Addition amount Water vapor permeability coefficient Necessary thickness ----------------------
# 4 Swellable mica 3% by mass 2 × 10 −9 20 μm
# 4 Swellable mica 10% by mass 3 × 10 −10 3 μm
# 4 Swellable mica 20% by mass 4 × 10 −11 0.4 μm
# 4 Montmorillonite 15% by mass 3 × 10 −10 3 μm
# 4 Smectite 7% by mass 9 × 10 −10 9 μm
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(Ii) # 4: Polyvinylidene chloride

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ポリマー 無機材料 添加量 水蒸気透過係数 必要な厚み
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#16 膨潤性雲母 3質量% 2×10−8 200μm
#16 膨潤性雲母 10質量% 4×10−9 40μm
#16 膨潤性雲母 20質量% 3×10−10 3μm
#16 モンモリオナイト 15質量% 3×10−9 30μm
#16 スメクタイト 7質量% 1×10−8 100μm
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(註)#16:エチレン/プロピレンコポリマー
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Polymer Inorganic material Addition amount Water vapor permeability coefficient Necessary thickness ----------------------
# 16 Swellable mica 3% by mass 2 × 10 −8 200 μm
# 16 Swellable mica 10% by mass 4 × 10 −9 40 μm
# 16 Swellable mica 20% by mass 3 × 10 −10 3 μm
# 16 Montmorillonite 15% by mass 3 × 10 −9 30 μm
# 16 Smectite 7% by mass 1 × 10 −8 100 μm
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(Ii) # 16: Ethylene / propylene copolymer

防湿層の厚さは、前述したように使用する有機材料、無機材料あるいはそれらの組み合わせの防湿機能(水蒸気透過係数)に応じて決定する。一般には、防湿層の厚さは、1乃至50μm(1μm以上、50μm未満)であることが好ましく、1.2乃至35μmであることがさらに好ましく、1.5乃至10μmであることが最も好ましい。複数の防湿層を設ける場合は、厚さの合計を意味する。
複数の防湿層を積層する場合は、ポリマーフイルム側から、有機材料と無機材料とを含む防湿層、そして有機材料のみからなる防湿層の順序で積層することが好ましい。有機材料と無機材料とを含む防湿層は、無機材料により表面に凹凸が発生し、表面ヘイズが上昇しやすい。その上に、有機材料のみからなる防湿層を設けると、表面凹凸を緩和し、ヘイズを下げることができる。
複数の防湿層の屈折率は、近い値であることが好ましい。そのためには、複数の防湿層に、同じ有機材料を用いることが好ましい。
The thickness of the moisture-proof layer is determined according to the moisture-proof function (water vapor transmission coefficient) of the organic material, inorganic material, or combination thereof used as described above. In general, the thickness of the moisture-proof layer is preferably 1 to 50 μm (1 μm or more and less than 50 μm), more preferably 1.2 to 35 μm, and most preferably 1.5 to 10 μm. In the case of providing a plurality of moisture-proof layers, it means the total thickness.
When laminating a plurality of moisture-proof layers, it is preferable to laminate them in the order of a moisture-proof layer containing an organic material and an inorganic material and a moisture-proof layer consisting only of an organic material from the polymer film side. In the moisture-proof layer containing an organic material and an inorganic material, irregularities are generated on the surface by the inorganic material, and the surface haze tends to increase. If a moisture-proof layer made of only an organic material is provided thereon, surface irregularities can be relaxed and haze can be reduced.
The refractive indexes of the plurality of moisture-proof layers are preferably close to each other. For this purpose, it is preferable to use the same organic material for the plurality of moisture-proof layers.

防湿層は、無機材料をポリマーフイルム上に蒸着させて形成することもできる。そのための無機材料は、シリカ、アルミナ、ITO(インジウム・錫の酸化物)、アルカリ土類金属の弗化物(特開平8−224795号公報記載)やマグネシウム酸化物が好ましい。二種類以上の無機材料を併用してもよい。
具体的な蒸着手段としては、真空蒸着法、スパッタリング法やイオンプレーティング法が採用できる。真空蒸着法が好ましい。二層以上の蒸着層を形成してもよい。
蒸着防湿層の厚さは、10乃至1000nm(10nm以上、1000nm未満)が好ましく、20乃至800nmがさらに好ましく、30乃至500nmが最も好ましい。
The moisture-proof layer can also be formed by depositing an inorganic material on the polymer film. As the inorganic material, silica, alumina, ITO (indium / tin oxide), alkaline earth metal fluoride (described in JP-A-8-224955) and magnesium oxide are preferable. Two or more kinds of inorganic materials may be used in combination.
As a specific vapor deposition means, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method or an ion plating method can be employed. Vacuum deposition is preferred. Two or more deposited layers may be formed.
The thickness of the vapor-deposited moisture-proof layer is preferably 10 to 1000 nm (10 nm or more and less than 1000 nm), more preferably 20 to 800 nm, and most preferably 30 to 500 nm.

[直線偏光膜]
直線偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコールフイルムを用いて製造する。
ポリビニルアルコールフイルムをヨウ素含有水溶液に含浸した後、25乃至100℃で2乃至7倍以下延伸することで、ヨウ素系の直線偏光膜を製造できる。
延伸は、ポリビニルアルコールフイルムの幅方向に直角に行ってもよい。直交方向の延伸は、特開平7−333425号、同9−274108号、特開2000−141926号、同2000−147251号、同2001−290026号の各公報に記載がある。
[Linear polarizing film]
Examples of the linear polarizing film include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. The iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film are generally produced using a polyvinyl alcohol film.
After impregnating the polyvinyl alcohol film in an iodine-containing aqueous solution, the iodine-based linearly polarizing film can be produced by stretching 2 to 7 times or less at 25 to 100 ° C.
Stretching may be performed at right angles to the width direction of the polyvinyl alcohol film. The stretching in the orthogonal direction is described in JP-A-7-333425, JP-A-9-274108, JP-A-2000-141926, JP-A-2000-147251, and JP-A-2001-290026.

ポリビニルアルコールフイルムを、45°方向に斜め延伸することもできる。
斜め方向の延伸は、テンターをフイルムの幅方向に取り付けて実施できる。左右のテンタークリップの長さを変えることで、斜め延伸が実現できる。具体的には、“く”字型に屈曲したテンターを用い、左右の周長差を利用して延伸する。
延伸フイルムにおける配向軸の傾斜角度は、テンター出口(保持解除点)幅Wと、実質的左右保持手段の行程差|L1−L2|の比率で制御、調整することができる。45°に近い配向角を得るためには、0.9W<|L1−L2|<1.1Wであることが好ましく、0.97W<|L1−L2|<1.03Wであることがさらに好ましい。
一方端のテンター保持開始点から保持解除点までの長さ(L1)、他端のテンターの保持開始点から保持解除点までの長さ(L2)、そして、保持解除点間の幅(W)が、|L2−L1|>0.4Wの関係を満足することが好ましい。また、揮発分率が5%以上の状態を存在させて延伸したのち、収縮させながら揮発分率を低下させることも好ましい。
斜め延伸法については、米国特許公開2002−8840A1号明細書の記載を参照できる。
The polyvinyl alcohol film can also be stretched obliquely in the 45 ° direction.
Stretching in an oblique direction can be carried out by attaching a tenter in the width direction of the film. Diagonal stretching can be realized by changing the length of the left and right tenter clips. Specifically, a tenter bent in a “<” shape is used and stretched by utilizing the difference between the left and right circumferences.
The inclination angle of the orientation axis in the stretched film can be controlled and adjusted by the ratio of the tenter outlet (holding release point) width W and the stroke difference | L1-L2 | In order to obtain an orientation angle close to 45 °, 0.9W <| L1-L2 | <1.1W is preferable, and 0.97W <| L1-L2 | <1.03W is more preferable. .
The length from the tenter holding start point at one end to the holding release point (L1), the length from the holding start point to the holding release point at the other end (L2), and the width (W) between the holding release points However, it is preferable that the relationship | L2-L1 |> 0.4W is satisfied. It is also preferable to reduce the volatile content rate while shrinking after stretching in a state where the volatile content rate is 5% or more.
Regarding the oblique stretching method, the description of US Patent Publication No. 2002-8840A1 can be referred to.

位相差板の遅相軸と直線偏光膜の透過軸の関係は、偏光板の用途に応じて決定する。偏光板を円偏光板として使用する場合は、λ/4板(位相差板)の遅相軸と直線偏光膜の透過軸とを、実質的に45°となるように配置する。実質的に45°とは、45°±5°の範囲内を意味する。遅相軸と透過軸との角度は、45°±4°の範囲内が好ましく、45°±3°の範囲内がより好ましく、45°±2°の範囲内がさらに好ましく、45°±1°の範囲内が最も好ましい。
透過軸が長手方向に対して実質的に45°であるロール状直線偏光膜を用いると、それをロール状位相差板とロール・ツー・ロールで貼り合わせるだけで、円偏光板を製造できる。
The relationship between the slow axis of the retardation plate and the transmission axis of the linear polarizing film is determined according to the application of the polarizing plate. When the polarizing plate is used as a circularly polarizing plate, the slow axis of the λ / 4 plate (retardation plate) and the transmission axis of the linear polarizing film are arranged to be substantially 45 °. Substantially 45 ° means within a range of 45 ° ± 5 °. The angle between the slow axis and the transmission axis is preferably within the range of 45 ° ± 4 °, more preferably within the range of 45 ° ± 3 °, even more preferably within the range of 45 ° ± 2 °, and 45 ° ± 1. The range of ° is most preferable.
When a roll-shaped linearly polarizing film having a transmission axis of substantially 45 ° with respect to the longitudinal direction is used, a circularly polarizing plate can be produced simply by bonding it with a roll-shaped retardation plate and roll-to-roll.

[画像表示装置]
偏光板(特に円偏光板)は、様々な画像表示装置に用いることができる。画像表示装置には、液晶表示装置、タッチパネルおよび有機EL素子が含まれる。タッチパネルは、特開平5−127822号公報に記載がある。有機EL素子は、特開平11−305729号、同11−307250号、特開2000−267097号の各公報に記載がある。
本発明に従う偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。液晶表示装置は、反射型、半透過型および透過型に分類できる。本発明に従う偏光板は、反射型または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。反射型の液晶表示装置が特に好ましい。
[Image display device]
A polarizing plate (especially a circularly polarizing plate) can be used for various image display devices. The image display device includes a liquid crystal display device, a touch panel, and an organic EL element. A touch panel is described in JP-A-5-127822. Organic EL elements are described in JP-A-11-305729, JP-A-11-307250, and JP-A-2000-267097.
The polarizing plate according to the present invention is advantageously used in a liquid crystal display device. Liquid crystal display devices can be classified into a reflective type, a transflective type, and a transmissive type. The polarizing plate according to the present invention can be preferably used for a reflective or transflective liquid crystal display device. A reflective liquid crystal display device is particularly preferable.

反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、そして偏光板の構成からなる。
下基板と反射電極が反射板を構成する。下配向膜〜上配向膜が液晶セルを構成する。上記偏光板を、本発明に従う構成にする。位相差板をλ/4板として、偏光板を円偏光板として機能させることが好ましい。
カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を設ける。カラーフィルター層は、反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。
反射電極の代わりに透明電極を用いて、別に反射板を取り付けてもよい。透明電極と組み合わせて用いる反射板としては、金属板が好ましい。反射板の表面が平滑であると、正反射成分のみが反射されて視野角が狭くなる場合がある。そのため、反射板の表面に凹凸構造(特許275620号公報記載)を導入することが好ましい。反射板の表面が平坦である場合は(表面に凹凸構造を導入する代わりに)、偏光膜の片側(セル側あるいは外側)に光拡散フイルムを取り付けてもよい。
The reflective liquid crystal display device includes, in order from the bottom, a lower substrate, a reflective electrode, a lower alignment film, a liquid crystal layer, an upper alignment film, a transparent electrode, an upper substrate, and a polarizing plate.
The lower substrate and the reflective electrode constitute a reflective plate. The lower alignment film to the upper alignment film constitute a liquid crystal cell. The polarizing plate is configured according to the present invention. It is preferable that the retardation plate functions as a λ / 4 plate and the polarizing plate functions as a circularly polarizing plate.
In the case of color display, a color filter layer is further provided. The color filter layer is preferably provided between the reflective electrode and the lower alignment film, or between the upper alignment film and the transparent electrode.
A reflective plate may be attached separately using a transparent electrode instead of the reflective electrode. As the reflection plate used in combination with the transparent electrode, a metal plate is preferable. If the surface of the reflecting plate is smooth, only the regular reflection component is reflected and the viewing angle may be narrowed. Therefore, it is preferable to introduce an uneven structure (described in Japanese Patent No. 275620) on the surface of the reflector. When the surface of the reflecting plate is flat (instead of introducing a concavo-convex structure on the surface), a light diffusion film may be attached to one side (cell side or outside) of the polarizing film.

液晶セルは、TN(Twisted Nematic)型、STN(Supper Twisted Nematic)型またはHAN(Hybrid Aligned Nematic)型、VA(Vertically Alignment)型、ECB型(Electrically Controlled Birefringence) 、OCB型(Optically Compensatory Bend)、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)型であることが好ましい。
TN型液晶セルのツイスト角は、40乃至100°であることが好ましく、50乃至90°であることがさらに好ましく、60乃至80°であることが最も好ましい。液晶層の屈折率異方性(Δn)と液晶層の厚み(d)との積(Δnd)の値は、0.1乃至0.5μmであることが好ましく、0.2乃至0.4μmであることがさらに好ましい。
STN型液晶セルのツイスト角は、180乃至360°であることが好ましく、220乃至270°であることがさらに好ましい。液晶層の屈折率異方性(Δn)と液晶層の厚み(d)との積(Δnd)の値は、0.3乃至1.2μmであることが好ましく、0.5乃至1.0μmであることがさらに好ましい。
HAN型液晶セルは、片方の基板上では液晶が実質的に垂直に配向しており、他方の基板上のプレチルト角が0乃至45°であることが好ましい。液晶層の屈折率異方性(Δn)と液晶層の厚み(d)との積(Δnd)の値は、0.1乃至1.0μmであることが好ましく、0.3乃至0.8μmであることがさらに好ましい。液晶を垂直配向させる側の基板は、反射板側の基板であってもよいし、透明電極側の基板であってもよい。
The liquid crystal cell includes TN (Twisted Nematic) type, STN (Supper Twisted Nematic) type or HAN (Hybrid Aligned Nematic) type, VA (Vertically Alignment) type, ECB type (Electrically Controlled Birefringence), OCB type (Optically Compensatory Bend), A CPA (Continuous Pinwheel Alignment) type is preferable.
The twist angle of the TN liquid crystal cell is preferably 40 to 100 °, more preferably 50 to 90 °, and most preferably 60 to 80 °. The product (Δnd) of the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal layer and the thickness (d) of the liquid crystal layer is preferably 0.1 to 0.5 μm, preferably 0.2 to 0.4 μm. More preferably it is.
The twist angle of the STN type liquid crystal cell is preferably 180 to 360 °, and more preferably 220 to 270 °. The product (Δnd) of the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal layer and the thickness (d) of the liquid crystal layer is preferably 0.3 to 1.2 μm, and preferably 0.5 to 1.0 μm. More preferably it is.
In the HAN type liquid crystal cell, it is preferable that the liquid crystal is aligned substantially vertically on one substrate and the pretilt angle on the other substrate is 0 to 45 °. The product (Δnd) of the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal layer and the thickness (d) of the liquid crystal layer is preferably 0.1 to 1.0 μm, preferably 0.3 to 0.8 μm. More preferably it is. The substrate on the side on which the liquid crystal is vertically aligned may be a reflector side substrate or a transparent electrode side substrate.

VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625および特公平7−69536号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した液晶セルが含まれる。具体的には、MVA(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845、SID99、Digest of tech. Papers(予稿集)30(1999)206及び特開平11−258605号公報記載)、SURVAIVAL(月刊ディスプレイ、第6巻、第3号(1999)14記載)、PVA(Asia Display98、Proc. of the 18th Inter. Display res. Conf.(予稿集)(1998)383記載)、Para-A(LCD/PDP International‘99で発表)、DDVA(SID98、Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)838記載)、EOC(SID98、Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)319記載)、PSHA(SID98、Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)1081記載)、RFFMH(Asia Display98、Proc. of the 18th Inter. Display res. Conf.(予稿集)(1998)375記載)、HMD(SID98、Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)702記載)が含まれる。その他に(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(IWD’98、Proc. of the 5th Inter. Display Workshop.(予稿集)(1998)143記載))も含まれる。
OCBモードでは棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させる配向モードの液晶セルを用いたものである。この結果自己光学補償能を有する。OCBモードの液晶セルは、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に記載されている。
ECBモードでは水平に液晶を配向させていることが特徴であり、特開平5−203946号に詳細が記載されている。
In a VA mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied. The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). 176625 and Japanese Examined Patent Publication No. 7-69536), and (2) a liquid crystal cell in which the VA mode is multi-domained for widening the viewing angle. Specifically, MVA (described in SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 28 (1997) 845, SID99, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 30 (1999) 206 and JP-A-11-258605. , SURVAIVAL (Monthly Display, Vol. 6, No. 3 (1999) 14), PVA (Asia Display 98, Proc. Of the 18th Inter. Display res. Conf. (Preliminary Collection) (1998) 383), Para- A (announced at LCD / PDP International '99), DDVA (SID98, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 29 (1998) 838), EOC (SID98, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 29 (1998) 319), PSHA (SID98, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 29 (1998) 1081), RFFMH (A Sia Display 98, Proc. of the 18th Inter. Display res. Conf. (Preliminary Collection) (1998) 375), HMD (SID98, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 29 (1998) 702). In addition, (3) a mode (n-ASM mode) liquid crystal cell (IWD'98, Proc. Of the 5th Inter) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied. Display Workshop. (Proceedings) (1998) 143))) is also included.
The OCB mode uses an alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. As a result, it has a self-optical compensation capability. The OCB mode liquid crystal cell is described in US Pat. Nos. 4,583,825 and 5,410,422.
The ECB mode is characterized in that liquid crystals are aligned horizontally, and details are described in JP-A-5-203946.

反射型液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。ノーマリーホワイトモードの方が好ましい。
タッチパネルについては、特開平5−127822号、特開2002−048913号の各公報に記載がある。
The reflective liquid crystal display device can be used in a normally white mode that is bright when the applied voltage is low and dark when the applied voltage is high, or in a normally black mode that is dark when the applied voltage is low and bright when the applied voltage is high. . Normally white mode is preferred.
The touch panel is described in JP-A-5-127822 and JP-A-2002-048913.

[実施例1]
(水蒸気透過係数の測定方法)
サンプルフイルムで隔てた2つの容器を真空にし、一次側に、相対湿度92%の水蒸気を導入する。フイルムを透過し二次側に出てきた水蒸気量を、25℃において真空計を用いて計測する。これを経時で測定し、縦軸に二次側水蒸気圧(cmHg)、横軸に時間(秒)をとり透過曲線を作製する。この透過曲線の直線部の勾配から下記式に従い水蒸気透過係数を求める。
水蒸気透過係数(cm(STP)・cm−1・sec−1・cmHg−1)=(Δp/Δt)×(V/760)×(l/p・a)
Δp/Δt:透過曲線の直線部の勾配
V: 二次側の容積(cm
l: フイルムの厚み(cm)
p: 一次側の水上気圧(cmHg)
a: フイルムの厚さ(cm)
[Example 1]
(Measurement method of water vapor transmission coefficient)
The two containers separated by the sample film are evacuated and water vapor with a relative humidity of 92% is introduced on the primary side. The amount of water vapor that has passed through the film and has come out to the secondary side is measured at 25 ° C. using a vacuum gauge. This is measured over time, and a transmission curve is prepared by taking the secondary water vapor pressure (cmHg) on the vertical axis and time (seconds) on the horizontal axis. The water vapor transmission coefficient is determined from the slope of the straight line portion of this permeation curve according to the following formula.
Water vapor transmission coefficient (cm 3 (STP) · cm −1 · sec −1 · cmHg −1 ) = (Δp / Δt) × (V / 760) × (l / p · a)
Δp / Δt: slope of the linear part of the transmission curve V: volume on the secondary side (cm 3 )
l: Film thickness (cm)
p: Primary water pressure (cmHg)
a: Film thickness (cm)

(透湿量の測定方法)
外径82mm、高さ15mmのステンレス製の円筒であり、一方に直径6cmの穴のあいた容器を用意する。
乾燥剤(無水塩化カルシウム)を20g坪量し、容器に入れる。
容器の穴の周囲に(穴を塞がないように)両面テープを貼り付け、この上に直径82mmのサンプルフイルムを貼り付ける。
サンプルフイルムの外周5mmにマイラー粘着テープを巻き付け、ステンレス容器とくっつける。
これを、精密天秤を用いて坪量する。この値をW(0)(g)とする。ここまでの操作は、全て温度25℃、相対湿度10%で実施する。
これを温度25℃、相対湿度60%の環境に移し放置する。
24時間後に、温度25℃、相対湿度60%の環境下で坪量する。この質量をW(1)gとする。下記式から透湿量を求める。
透湿量(g/m・日)=354×(W(1)−W(0))
(Measurement method of moisture permeability)
A stainless steel cylinder having an outer diameter of 82 mm and a height of 15 mm, and a container having a hole with a diameter of 6 cm on one side is prepared.
Weigh 20 g of desiccant (anhydrous calcium chloride) and place in a container.
A double-sided tape is affixed around the hole of the container (so as not to block the hole), and a sample film having a diameter of 82 mm is affixed thereon.
Wrap Mylar adhesive tape around the outer periphery of the sample film 5mm and attach it to the stainless steel container.
This is weighed using a precision balance. This value is defined as W (0) (g). All the operations so far are performed at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 10%.
This is transferred to an environment with a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% and left to stand.
After 24 hours, the basis weight is measured in an environment of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. Let this mass be W (1) g. The moisture permeability is obtained from the following formula.
Moisture permeability (g / m 2 · day) = 354 × (W (1) −W (0))

(Re450、Re550およびRe650の測定方法)
サンプルフイルムを温度25℃、相対湿度60%に3時間以上調湿後、自動複屈折計(KOBRA−21ADH/PR:王子計測器(株)製)を用いて、温度25℃、相対湿度60%において、サンプルフイルム表面に対し垂直方向から波長450nm、550nmおよび650nmにおけるレターデーション値を測定し、Re450、Re550およびRe650の値とする。
(Measurement method of Re450, Re550 and Re650)
After adjusting the sample film to a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 3 hours or more, using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH / PR: manufactured by Oji Scientific Instruments), the temperature is 25 ° C. and the relative humidity is 60%. , The retardation values at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm are measured from the direction perpendicular to the surface of the sample film to obtain values of Re450, Re550 and Re650.

(NZ値の測定方法)
エリプソメーター(KOBRA−21ADH/PR、王子計測器(株)製)を用い、遅相軸方向の屈折率nx、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈折率nzを求める。そいて、NZ値として、(nx−nz)/(nx−ny)の値を計算する。
(Measurement method of NZ value)
Using an ellipsometer (KOBRA-21ADH / PR, manufactured by Oji Scientific Instruments), the refractive index nx in the slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the in-plane slow axis, and the refractive index nz in the thickness direction Ask for. Then, the value of (nx−nz) / (nx−ny) is calculated as the NZ value.

(偏光赤外法による赤外2色比の測定方法)
サンプルフイルムを温度25℃、相対湿度60%および温度25℃、相対湿度10%で2時間以上調温調湿する。
同じ雰囲気下で、ATR結晶板(KRS−5、入射角60度、5cm×1cm)の両側にサンプルフイルムを挟みこむ。
赤外分光器に、入射光側から偏光子、ATR測定器の順にセットし、偏光角90度(フイルム面に垂直な偏光)、0度(フイルム面に平行な偏光)で各々200回積算測定を行なう。
アセチル基の伸縮振動に起因するピーク(1700cm−1〜1800cm−1に現れるピーク)の吸光度を測定する。即ち、ピークの最高部の吸光部と、ピーク両脇のバックグランドとの差を求める。
90度偏光の吸光度をA(90°)、0度偏光の吸光度をA(0°)とし、B=A(90°)/A(0°)を赤外2色比とする。これを、温度25℃、相対湿度60%で調湿した時の値(B(相対湿度60%))と、温度25℃相対湿度10%で調湿した時の値(B(相対湿度10%))を求め、B(相対湿度60%)−B(相対湿度10%)をカルボニル基の伸縮振動の2色比の減少量とする。
(Measurement method of infrared dichroic ratio by polarization infrared method)
The sample film is conditioned for 2 hours or more at a temperature of 25 ° C., a relative humidity of 60%, a temperature of 25 ° C., and a relative humidity of 10%.
Under the same atmosphere, a sample film is sandwiched between both sides of an ATR crystal plate (KRS-5, incident angle 60 degrees, 5 cm × 1 cm).
Set in the infrared spectrometer from the incident light side in the order of the polarizer and ATR measuring instrument, and integrate and measure 200 times each at a polarization angle of 90 degrees (polarized light perpendicular to the film surface) and 0 degrees (polarized light parallel to the film surface). To do.
The absorbance of the peak due to the stretching vibration of the acetyl group (peak appearing at 1700 cm-1 to 1800 cm-1) is measured. That is, the difference between the light absorption part at the highest part of the peak and the background on both sides of the peak is obtained.
The absorbance of 90-degree polarized light is A (90 °), the absorbance of 0-degree polarized light is A (0 °), and B = A (90 °) / A (0 °) is the infrared dichroic ratio. A value when the humidity is adjusted at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% (B (relative humidity 60%)) and a value when the humidity is adjusted at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 10% (B (relative humidity 10%) )), And B (relative humidity 60%)-B (relative humidity 10%) is defined as the amount of decrease in the two-color ratio of the stretching vibration of the carbonyl group.

(緩和熱量の測定方法)
フイルムを約20mgサンプリングし、これを精秤した後、アルミパンに入れる。
30℃から250℃まで20℃/分で昇温しながらDSC(走査型示差熱分析計)で測定を行う。
Tgでは、ベースラインが不連続に平行移動するが、この点を挟んで現れる吸熱ピークの熱量を求める。即ちTgに対し低温側のベースラインから吸熱ピークが立ち上がる点と、吸熱ピークが高温側のベースラインに合一する点を結び、この上に形成されるピークの面積から吸熱量を求める。これをサンプルフイルムの質量で割った値を、緩和熱量とする。
(Measurement method of relaxation heat)
About 20 mg of the film is sampled, weighed precisely, and put in an aluminum pan.
Measurement is performed by DSC (scanning differential thermal analyzer) while increasing the temperature from 30 ° C. to 250 ° C. at a rate of 20 ° C./min.
At Tg, the baseline moves discontinuously, but the amount of heat of the endothermic peak that appears across this point is determined. That is, a point where an endothermic peak rises from the low-temperature side baseline with respect to Tg and a point where the endothermic peak merges with the high-temperature side base line are connected, and the endothermic amount is obtained from the area of the peak formed thereon. The value obtained by dividing this by the mass of the sample film is taken as the amount of relaxation heat.

(アスペクト比の測定方法)
無機化合物サンプルを平滑な基板(ガラス板、金属板)の上に分散し、この上から導電性物質(金、銀、カーボン)を蒸着する。これを走査型電子顕微鏡(S−900、日立製作所(株)製)を用いて観察する。
基板の正面(真上)から観察し、無機化合物粒子50点を撮影し、この表面積を計測する。これと同じ面積を有する円の直径を求めDとする。この50点の平均値をDaとする。
基板を90度回転させ真横から無機化合物の断面50点を撮影し、この短辺側を厚みTとする。この50点の平均値をTaとする。
Da/Taを、この無機化合物のアスペクト比とする。
(Aspect ratio measurement method)
An inorganic compound sample is dispersed on a smooth substrate (glass plate, metal plate), and a conductive material (gold, silver, carbon) is deposited thereon. This is observed using a scanning electron microscope (S-900, manufactured by Hitachi, Ltd.).
Observation is made from the front (directly above) the substrate, 50 inorganic compound particles are photographed, and the surface area is measured. The diameter of a circle having the same area is determined as D. Let the average value of these 50 points be Da.
The substrate is rotated 90 degrees, 50 cross sections of the inorganic compound are photographed from the side, and the short side is defined as a thickness T. Let the average value of these 50 points be Ta.
Let Da / Ta be the aspect ratio of this inorganic compound.

(含水率の測定方法)
カールフィッシャー法にて、下記のように測定する。
(1)0.9m×4.5cmのサンプルを2枚秤量する。サンプルが濡れている場合は、表面の水分を良く拭う。サンプリング後、直ちにり栓の付いたガラス瓶に入れ水分計のところまで運び、サンプリング後3分以内に測定する。
(2)気化器(VA−05型、三菱化学(株)製)を用い、150℃にてサンプル中の水分を揮発させ、水分計に導入する。カールフィッシャー水分計(CA−03型、三菱化学(株)製)を用い、測定する。
(3)水分計の示した水分量(μg)をWとし、秤量したサンプル量をF(mg)として、含水率(%)=0.1×(W/F)を計算する。
(Method of measuring moisture content)
Measured by the Karl Fischer method as follows.
(1) Two samples of 0.9 m × 4.5 cm are weighed. If the sample is wet, wipe away any moisture on the surface. Immediately after sampling, place it in a glass bottle with a stopper and carry it to the moisture meter, and measure within 3 minutes after sampling.
(2) Using a vaporizer (VA-05 type, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), the water in the sample is volatilized at 150 ° C. and introduced into a moisture meter. Measurement is performed using a Karl Fischer moisture meter (CA-03 type, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
(3) Moisture content (%) = 0.1 × (W / F) is calculated assuming that the moisture content (μg) indicated by the moisture meter is W and the weighed sample amount is F (mg).

(アセチル置換度の方法)
ポリマー・ジャーナル(Polymer Journal vol17. 1065−1069(1985))に記載の方法で、13C−NMRスペクトルから測定する。
(Method of acetyl substitution degree)
It is measured from 13C-NMR spectrum by the method described in Polymer Journal (Polymer Journal vol. 17.1065-1069 (1985)).

1.防湿層付き位相差板の作製
1−1.位相差板の作製
(1)組成
下記組成のセルロースアセテートドープ(高濃度溶液)を作製した。なお、レターデーション上昇剤は、下記の化合物である。
1. 1. Production of retardation plate with moisture-proof layer 1-1. Production of Retardation Plate (1) Composition A cellulose acetate dope (high concentration solution) having the following composition was produced. The retardation increasing agent is the following compound.

Figure 2009244914
Figure 2009244914

────────────────────────────────────
メチレンクロリド(MC)系ドープ組成
────────────────────────────────────
セルロースアセテート(酢化度は第1表に記載) 100質量部
トリフェニルホスフェート 10.0質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート 5.0質量部
メチレンクロリド 565.6質量部
メタノール 49.2質量部
レターデーション上昇剤 第1表に記載
シリカ微粒子(粒径:20nm) 0.05質量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Methylene chloride (MC) dope composition ─────────────────────────────────────
Cellulose acetate (degree of acetylation is listed in Table 1) 100 parts by weight Triphenyl phosphate 10.0 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate 5.0 parts by weight Methylene chloride 565.6 parts by weight Methanol 49.2 parts by weight Retardation increasing agent Listed in Table 1 Silica fine particles (particle size: 20 nm) 0.05 parts by mass ───────────────────────────────── ───

────────────────────────────────────
酢酸メチル(MA)系ドープ組成
────────────────────────────────────
セルロースアセテート(酢化度は第1表に記載) 118質量部
トリフェニルホスフェート 9.19質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート 4.60質量部
トリベンジルアミン 2.36質量部
酢酸メチル 530質量部
エタノール 99.4質量部
ブタノール 33.1質量部
レターデーション上昇剤 第1表に記載
シリカ微粒子(粒径:20nm) 0.05質量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
Methyl acetate (MA) dope composition ────────────────────────────────────
Cellulose acetate (degree of acetylation is listed in Table 1) 118 parts by weight Triphenyl phosphate 9.19 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate 4.60 parts by weight Tribenzylamine 2.36 parts by weight Methyl acetate 530 parts by weight Ethanol 99.4 parts by weight Part Butanol 33.1 parts by mass Retardation increasing agent listed in Table 1 Silica fine particles (particle size: 20 nm) 0.05 parts by mass ───────────────────── ───────────────

(2)溶解
MC系は常温溶解法、MA系は冷却溶解法を用いて溶解し、ドープを作製した。なお、いずれの方法も、セルロースアセテートは、後述の製膜屑から回収したものを20質量%添加した。これらのセルロースアセテートはいずれも含水率が1質量%以下となるように120℃で2時間以上乾燥したものを用いた。
(2) Dissolution The MC system was dissolved using a room temperature dissolution method, and the MA system was dissolved using a cooling dissolution method to prepare a dope. In any method, 20% by mass of cellulose acetate collected from the film-forming scraps described later was added. All of these cellulose acetates were dried at 120 ° C. for 2 hours or more so that the water content was 1% by mass or less.

(2a)常温溶解法
溶媒中に、よく攪拌しつつ上記の化合物を徐々に添加し、室温(25℃)にて3時間放置し膨潤させた。得られた膨潤混合物を、還流冷却機を有する混合タンク中で50℃において撹拌しながら溶解した。
(2a) Room temperature dissolution method The above compound was gradually added to a solvent while stirring well, and allowed to swell for 3 hours at room temperature (25 ° C). The resulting swollen mixture was dissolved in a mixing tank with a reflux condenser at 50 ° C. with stirring.

(2b)冷却溶解法
溶媒中に、よく攪拌しつつ上記の化合物を徐々に添加し、室温(25℃)にて3時間放置し膨潤させた。得られた膨潤混合物をゆっくり撹拌しながら、−8℃/分で−30℃まで冷却、その後第1表記載の温度まで冷却し6時間経過した後、+8℃/分で昇温し、内容物のゾル化がある程度進んだ段階で、内容物の撹拌を開始した。50℃まで加温しドープを得た。
(2b) Cooling / dissolving method The above compound was gradually added to the solvent while stirring well, and allowed to swell for 3 hours at room temperature (25 ° C.). The obtained swollen mixture was slowly stirred at −8 ° C./min to −30 ° C., then cooled to the temperature shown in Table 1, and after 6 hours, the temperature was raised at + 8 ° C./min. At the stage where the sol-solation progressed to some extent, stirring of the contents was started. The dope was obtained by heating to 50 ° C.

(3)製膜
下記2方式から選択し製膜し、第1表に記載した。いずれの方法も、製膜乾燥後巻取り前に、これらの両端15cmずつトリミングし、両端に高さ50μm幅1cmのナーリング(厚みだし加工)を行い、幅1.5m、長さ3000mの未延伸セルロースアセテートフイルムを得た。なお、ここでトリミングしたセルロースアセテートフイルム屑(製膜屑)からセルロースアセテートを単離し、上述のようにドープ原料として混合し、再使用される。
(3) Film formation The film was selected from the following two methods and listed in Table 1. In either method, after film-forming and before winding, trimming 15 cm at both ends, and knurling (thickening processing) with a height of 50 μm and a width of 1 cm at both ends, unstretched with a width of 1.5 m and a length of 3000 m A cellulose acetate film was obtained. In addition, a cellulose acetate is isolated from the cellulose acetate film waste (film formation waste) trimmed here, is mixed as a dope raw material as mentioned above, and is reused.

(3a)単層製膜
上記方法により得られた溶液(ドープ)を、濾紙(安積濾紙(株)製No.244)およびネル製の濾布で濾過した後、定量ギアポンプで加圧ダイに送液し、有効長6mのバンド流延機を用いて、乾燥、延伸後の最終膜厚が第2表に記載の厚みになるように流延した。バンド温度は0℃とした。乾燥のため2秒間風に当て、フイルム中の揮発分が50質量%になったときに、フイルムをバンドから剥ぎ取り、さらに100℃で3分、130℃で5分、そして160℃で5分、フイルムを固定せず自由に収縮させて段階的に乾燥して、残りの溶剤を蒸発させ1質量%以下にした後、巻き取った。
(3a) Single-layer film formation The solution (dope) obtained by the above method is filtered through a filter paper (No. 244 manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) and a filter cloth manufactured by Nell, and then sent to a pressure die with a quantitative gear pump. Liquid was cast using a band casting machine having an effective length of 6 m so that the final film thickness after drying and stretching was as shown in Table 2. The band temperature was 0 ° C. When it is blown for 2 seconds to dry and the volatile content in the film reaches 50% by weight, the film is peeled off from the band, and further 3 minutes at 100 ° C, 5 minutes at 130 ° C, and 5 minutes at 160 ° C. The film was shrunk freely without being fixed, and dried stepwise to evaporate the remaining solvent to 1% by mass or less, and then wound up.

(3b)積層製膜
三層共流延ダイを用い、内層から上記組成のドープを、両側に10%に溶剤量を増加し希釈したドープを、金属支持体上に同時に吐出させて重層流延した後、流延膜を支持体から剥ぎ取り、乾燥して、本発明の三層構造のセルロースアセテートフイルム積層体(内層の厚さ:各表面層の厚さ=8:1)を製造した。乾燥は70℃で3分、130℃で5分した後、ガラス板からフイルムを剥ぎ取り、そして160℃、30分で段階的に乾燥して溶剤を蒸発させ1質量%以下にした後、巻き取った。
(3b) Multilayer casting Using a three-layer co-casting die, the dope having the above composition from the inner layer, and the dope diluted by increasing the amount of solvent to 10% on both sides are simultaneously ejected onto the metal support to form a multilayer casting. Thereafter, the cast film was peeled off from the support and dried to produce a three-layer cellulose acetate film laminate (inner layer thickness: each surface layer thickness = 8: 1) of the present invention. After drying at 70 ° C. for 3 minutes and at 130 ° C. for 5 minutes, the film was peeled off from the glass plate and dried stepwise at 160 ° C. for 30 minutes to evaporate the solvent to 1% by mass or less. I took it.

(4)延伸
第1表に記載の条件で延伸を行い、位相差板を得た。
延伸前の含水は、浸漬法あるいは水蒸気法から選択した。前者は90℃の温水浸漬し、後者は120℃の水蒸気に曝し、第1表記載の含水率とした。含水処理前に、第1表に記載の条件で乾燥加熱処理した。
延伸はニップロールを用い長手(MD)方向に実施し、その倍率は第1表に記載した。1段延伸の場合ニップロールを2対用い、多段延伸の場合はタンデムに配置した3対以上のニップロールを用いて連続して行った。多段延伸の場合、総延伸倍率は、格段の各延伸倍率の積となる。なお、各段の延伸の縦横比(ニップロールの中心軸間距離/延伸前の原反の幅)は、第1表に記載した。第1表に記載したラップ角は、いずれのニップロールも同じになるように調整した。
延伸時間(延伸開始から終了までに要した延伸時間)は、20秒となるように実施した。なお、多段延伸の場合は、第1段開始から最終段終了までが延伸時間である。
延伸温度は、両端の温度が中央部より20℃高くなるように調整した。
延伸後のフイルムは、両端3cmずつトリミングしてから、巻き取った。このようにして、幅1.3m、長さ3000mの延伸フイルムを得た。
得られた位相差板の光学物性を、前述した方法で評価した。結果を第2表に記載する。第2表に記載の擦り傷は、100Wのタングステンランプの下でフイルム表面の反射光を10cm四方観察し、星状の輝点の数を数え、単位面積あたりに換算した値で表した。
(4) Stretching Stretched under the conditions described in Table 1 to obtain a retardation plate.
The water content before stretching was selected from a dipping method or a water vapor method. The former was immersed in warm water at 90 ° C., and the latter was exposed to water vapor at 120 ° C. to obtain the moisture content described in Table 1. Prior to the hydrous treatment, it was dried and heat-treated under the conditions shown in Table 1.
Stretching was performed in the longitudinal (MD) direction using nip rolls, and the magnifications are listed in Table 1. In the case of single-stage stretching, two pairs of nip rolls were used, and in the case of multi-stage stretching, three or more pairs of nip rolls arranged in tandem were used continuously. In the case of multi-stage stretching, the total draw ratio is a product of the respective draw ratios. In addition, the aspect ratio of the stretching in each stage (distance between center axes of nip rolls / width of original fabric before stretching) is shown in Table 1. The wrap angles listed in Table 1 were adjusted so that all nip rolls were the same.
The stretching time (stretching time required from the start to the end of stretching) was 20 seconds. In the case of multi-stage stretching, the stretching time is from the start of the first stage to the end of the final stage.
The stretching temperature was adjusted so that the temperature at both ends was 20 ° C. higher than the central portion.
The stretched film was trimmed by 3 cm at both ends and then wound up. In this way, a stretched film having a width of 1.3 m and a length of 3000 m was obtained.
The optical properties of the obtained retardation plate were evaluated by the methods described above. The results are listed in Table 2. The scratches shown in Table 2 were expressed as a value converted per unit area by observing 10 cm square of reflected light on the film surface under a 100 W tungsten lamp, counting the number of star-like bright spots.

Figure 2009244914
Figure 2009244914

Figure 2009244914
Figure 2009244914

1−2.防湿層の形成
位相差板または透明保護膜に、第3表に記載の防湿層を、第4表に示すように塗布により設けた。
防湿層の透湿量の測定は、密着の悪い基板(ポリフッ化ビニリデンフイルム)上に塗布した後、剥離し、この透湿量を前記の方法で測定して求めた。
また、防湿層を付与する前に下記方法のいずれかを選択し(第4表に記載)、位相差板または透明保護膜の表面をケン化した。
1-2. Formation of moisture-proof layer The moisture-proof layer shown in Table 3 was provided on the retardation plate or transparent protective film by coating as shown in Table 4.
The moisture permeation amount of the moisture-proof layer was determined by coating the substrate (polyvinylidene fluoride film) with poor adhesion and then peeling off and measuring the moisture permeation amount by the above method.
Further, before applying the moisture-proof layer, one of the following methods was selected (described in Table 4) to saponify the surface of the retardation plate or transparent protective film.

(イ)塗布法
位相差板または透明保護膜の片面に60℃において#3バーで塗布し、30秒後に水洗、60℃で乾燥した。
ケン化液は、イソプロパノール/プロピレングリコール/水(容積比:70/15/15)に水酸化カリウムを溶解した1.5規定濃度の溶液を用いた。
(Ii) Coating method The coating was applied to one side of a retardation plate or transparent protective film with a # 3 bar at 60 ° C, washed with water after 30 seconds, and dried at 60 ° C.
The saponification solution used was a 1.5 N concentration solution in which potassium hydroxide was dissolved in isopropanol / propylene glycol / water (volume ratio: 70/15/15).

(ロ)浸漬法
位相差板または透明保護膜を、水酸化ナトリウムの1N水溶液に、40℃で3分間浸漬した後、水洗し、60℃で3分乾燥した。
(B) Immersion method The phase difference plate or transparent protective film was immersed in a 1N aqueous solution of sodium hydroxide at 40 ° C for 3 minutes, washed with water, and dried at 60 ° C for 3 minutes.

Figure 2009244914
Figure 2009244914

Figure 2009244914
Figure 2009244914

1−3.熱処理
防湿層を設けた位相差板を、第1表に記載の温度および時間で熱処理した(相対湿度:10〜20%)。表裏の防湿層を剃刀で削り落とした後、前記の方法でDSC測定を行い、緩和熱量を測定し、第2表に示す結果を得た。
1-3. Heat treatment The retardation plate provided with the moisture-proof layer was heat-treated at the temperature and time described in Table 1 (relative humidity: 10 to 20%). After the moisture barrier layers on the front and back sides were shaved off with a razor, DSC measurement was performed by the above-described method, the relaxation heat quantity was measured, and the results shown in Table 2 were obtained.

2.円偏光板の作製
位相差板、直線偏光膜、第3表記載の防湿層を、第4表の記載の順に積層し、円偏光板を作製した。透明保護膜に設ける防湿層は、透明保護膜に用いるセルローストリアセテートフイルムを、下記方法から選択した方法でケン化し、その上に塗布により設けた。
2. Preparation of circularly polarizing plate A retardation plate, a linearly polarizing film, and a moisture-proof layer described in Table 3 were laminated in the order described in Table 4 to prepare a circularly polarizing plate. For the moisture-proof layer provided on the transparent protective film, the cellulose triacetate film used for the transparent protective film was saponified by a method selected from the following methods, and provided thereon by coating.

(イ)塗布法
位相差板の片面に60℃において#3バーで塗布し、30秒後に水洗、60℃で乾燥した。
ケン化液は、イソプロパノール/プロピレングリコール/水(容積比:70/15/15)に水酸化カリウムを溶解した1.5規定濃度の溶液を用いた。
(A) Coating method The coating was applied to one side of a retardation plate at # 3 bar at 60 ° C., washed with water after 30 seconds, and dried at 60 ° C.
The saponification solution used was a 1.5 N concentration solution in which potassium hydroxide was dissolved in isopropanol / propylene glycol / water (volume ratio: 70/15/15).

(ロ)浸漬法
水酸化ナトリウムの1N水溶液に、40℃で3分間浸漬した後、水洗し、60℃で3分乾燥した。
(B) Immersion method After immersing in a 1N aqueous solution of sodium hydroxide at 40 ° C. for 3 minutes, it was washed with water and dried at 60 ° C. for 3 minutes.

直線偏光膜の透過軸(吸収軸)と位相差板の遅相軸(延伸軸)とは45度になるように積層した。これらの積層は、温度25℃、相対湿度60%に調湿後、位相差板をそのまま(スリットせず全幅)で行った。
得られた円偏光板の光学的性質を調べたところ、いずれも60℃経時中、経時後も広い波長領域(450〜590nm)において、レターデーション値は殆ど変化せず、ほぼ完全な円偏光が達成されていた。
The linear polarizing film was laminated so that the transmission axis (absorption axis) of the linear polarizing film and the slow axis (stretching axis) of the phase difference plate were 45 degrees. These laminations were carried out with the retardation plate as it was (full width without slitting) after adjusting the humidity to a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%.
When the optical properties of the obtained circularly polarizing plate were examined, the retardation value hardly changed in a wide wavelength region (450 to 590 nm) during and after 60 ° C., and almost perfect circularly polarized light was observed. Has been achieved.

なお、直線偏光膜は、以下の方法で製造した。
(1)ポリビニルアルコール流延
平均重合度4000、ケン化度99.8モル%のポリビニールアルコール(PVA)を水に溶解し、4.0%の水溶液を得た。この溶液をバンド流延、乾燥し、バンドから剥ぎ取り、未延伸ポリビニルアルコールフイルムを得た。
(2)ヨウ素含浸
未延伸ポリビニルアルコールフイルムをヨウ素2.0g/リットル、ヨウ化カリウム4.0g/リットルの水溶液に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10g/リットルの水溶液に25℃にて60秒浸漬した後、水洗槽にて20℃で、10秒間水洗した。
The linear polarizing film was manufactured by the following method.
(1) Polyvinyl alcohol casting Polyvinyl alcohol (PVA) having an average polymerization degree of 4000 and a saponification degree of 99.8 mol% was dissolved in water to obtain a 4.0% aqueous solution. This solution was cast and dried, peeled off from the band, and an unstretched polyvinyl alcohol film was obtained.
(2) Iodine impregnation An unstretched polyvinyl alcohol film was immersed in an aqueous solution of 2.0 g / liter of iodine and 4.0 g / liter of potassium iodide at 25 ° C. for 240 seconds, and further at 25 ° C. in an aqueous solution of boric acid 10 g / liter. For 60 seconds, and then in a water washing tank at 20 ° C. for 10 seconds.

(3)延伸
ヨウ素含浸フイルムを未乾燥のまま80℃において5.3倍に延伸した。このとき原反(未延伸ポリビニルアルコールフイルム)の長手方向に平行に延伸したものを「平行」延伸、原反長手方向に45度に延伸したものを「斜め」延伸として、第3表に記載した。なお、平行延伸は一対のニップロールを用い出口側ニップロールの速度を速く回転することで達成した。斜め延伸は、“く”字状に45度屈曲させたテンターを用い、屈曲部までに5.3倍に延伸した後、平行に保ちながら搬送することで斜め方向に延伸した。このとき左右両テンタークリップの速度は同速とした。
延伸後、80℃で5分間乾燥して長尺上の直線偏光膜を得た。これらはいずれも幅は1290mm、厚みは20μmであった。
(3) Stretching The iodine-impregnated film was stretched 5.3 times at 80 ° C. without being dried. At this time, those stretched in parallel to the longitudinal direction of the original fabric (unstretched polyvinyl alcohol film) are described as “parallel” stretching, and those stretched at 45 degrees in the longitudinal direction of the original fabric are referred to as “oblique” stretching. . Parallel stretching was accomplished by using a pair of nip rolls and rotating the outlet nip roll at a high speed. Diagonal stretching was performed by using a tenter bent in a "<" shape at 45 degrees, stretching 5.3 times up to the bent portion, and then stretching in the oblique direction by carrying it while keeping it parallel. At this time, the speeds of the left and right tenter clips were the same.
After stretching, the film was dried at 80 ° C. for 5 minutes to obtain a long linear polarizing film. All of these had a width of 1290 mm and a thickness of 20 μm.

(4)透明保護膜の取り付け
直線偏光膜を、ポリビニルアルコール(PVA−117H、(株)クラレ製)の3質量%水溶液を接着剤として、2枚の透明保護膜(フジタック、富士写真フイルム(株)製)の間に挟みこみ、透明保護膜を取り付けた。なお、透明保護膜のレターデーション(Re550)は、3.0nmである。透明保護膜の直線偏光膜と接する面は、あらかじめ上記浸漬法でケン化しておいた。
(4) Attaching the transparent protective film Two transparent protective films (Fujitac, Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a linear polarizing film as an adhesive with a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-117H, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). )), And a transparent protective film was attached. The retardation (Re550) of the transparent protective film is 3.0 nm. The surface of the transparent protective film in contact with the linearly polarizing film was previously saponified by the above immersion method.

位相差板、直線偏光膜、透明保護膜、防湿層の積層は、温度25℃、相対湿度60%に調湿後、位相差板をそのまま(スリットせず全幅)で行った。
これを温度25℃、相対湿度60%中で波長550nmのレターデーションを測定し(第1測定)、これをRe(0)とした。
これを温度60℃、相対湿度10%の空気恒温槽の中に入れ、3時間後に温度25℃、相対湿度60%中に取りだし、30分放置した後、この環境中で波長550nmのレターデーション測定を行った(第2測定)。これをRe(1)とする。Re(0)からRe(1)を差し引いた値が温度60℃、相対湿度10%で3時間のレターデーション変化であり、前述した第1過程に相当する。第4表には「60℃3hr」と表記した。
Lamination of the retardation plate, the linear polarizing film, the transparent protective film, and the moisture-proof layer was performed with the retardation plate as it was (full width without slitting) after adjusting the humidity to a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%.
The retardation at a wavelength of 550 nm was measured at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% (first measurement), and this was designated as Re (0).
This was put in an air thermostat having a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%, taken out in a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% after 3 hours, and allowed to stand for 30 minutes, and then measured for retardation at a wavelength of 550 nm in this environment. (Second measurement). This is Re (1). A value obtained by subtracting Re (1) from Re (0) is a change in retardation for 3 hours at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%, which corresponds to the first process described above. In Table 4, “60 ° C. 3 hr” is shown.

温度60℃、相対湿度10%の空気恒温槽の中に入れ、50時間後に温度25℃、相対湿度60%中に取りだし、30分放置した後、この環境中で波長550nmのレターデーション測定を行った(第3測定)。これをRe(2)とする。Re(2)からRe(1)を差し引いた値が温度60℃、相対湿度10%で3時間から50時間のレターデーション変化であり、前述した第2過程に相当する。第4表には「60℃3−50hr」と表記した。
温度60℃、相対湿度10%の空気恒温槽に50時間入れた後に温度25℃、相対湿度60%中に取りだし、24時間放置した後、この環境中で波長550nmのレターデーション測定を行った(第4測定)。これをRe(3)とする。Re(3)からRe(3)を差し引いた値が、温度60℃、相対湿度10%で50時間から温度25℃、相対湿度60%で24時間のレターデーション変化であり、前述した第3過程に相当する。第4表には「60℃50hr−25℃60%24hr」と表記した。
Place in an air constant temperature bath with a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%, and after 50 hours, take out in a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, leave it for 30 minutes, and measure the retardation at a wavelength of 550 nm in this environment. (Third measurement). This is Re (2). A value obtained by subtracting Re (1) from Re (2) is a retardation change from 3 hours to 50 hours at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%, which corresponds to the second process described above. In Table 4, “60 ° C. 3-50 hr” is shown.
After putting it in an air thermostat having a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10% for 50 hours, it was taken out in a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% and allowed to stand for 24 hours, and then retardation measurement at a wavelength of 550 nm was performed in this environment ( Fourth measurement). This is Re (3). The value obtained by subtracting Re (3) from Re (3) is the retardation change from 50 hours at a temperature of 60 ° C. and 10% relative humidity to 24 hours at a temperature of 25 ° C. and 60% relative humidity. It corresponds to. In Table 4, “60 ° C. 50 hr-25 ° C. 60% 24 hr” is shown.

温度60℃、相対湿度10%の空気恒温槽に50時間入れた後に温度25℃、相対湿度60%中に取りだし、240時間放置した後、この環境中で波長550nmのレターデーション測定を行った(第5測定)。これをRe(4)とする。Re(3)からRe(4)を差し引いた値が温度60℃、相対湿度10%で50時間後、温度25℃、相対湿度60%で24時間から240時間経時した時のレターデーション変化であり、前述した第4過程に相当する。第4表には「25℃60%24hr−240hr」と表記した。
これらのレターデーション変化は、延伸フイルムの中央と幅方向端部で同様の値が得られた。
次に、第4表記載の円偏光板から位相差板のみを除外した積層体を温度25℃、相対湿度10%で作製し、これを用いて上記方法で透湿量を計測し、第4表に示す結果を得た。これにより、位相差板に到達する水分量を求めた。なお、試料番号22の透湿量が、防湿層の透湿係数と厚みから上記(A)式を用い求めた値より小さいのは、積層した偏光板の防湿性に起因している。
After putting it in an air thermostat having a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10% for 50 hours, it was taken out in a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% and allowed to stand for 240 hours, and then retardation measurement at a wavelength of 550 nm was performed in this environment ( 5th measurement). This is Re (4). The value obtained by subtracting Re (4) from Re (3) is the retardation change after 24 hours to 240 hours at 25 ° C and 60% relative humidity after 50 hours at 60 ° C and 10% relative humidity. This corresponds to the aforementioned fourth process. In Table 4, “25 ° C. 60% 24 hr-240 hr” is shown.
As for these retardation changes, similar values were obtained at the center of the stretched film and the end in the width direction.
Next, a laminate obtained by excluding only the retardation plate from the circularly polarizing plate described in Table 4 was prepared at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 10%, and the moisture permeability was measured by the above method using this. The results shown in the table were obtained. Thereby, the amount of moisture reaching the retardation plate was determined. The reason why the moisture permeability of Sample No. 22 is smaller than the value obtained by using the above equation (A) from the moisture permeability coefficient and thickness of the moisture barrier layer is due to the moisture resistance of the laminated polarizing plates.

3.画像表示装置の作製
(1)TN型反射型液晶表示装置の作製
ITO透明電極を設けたガラス基板と、微細な凹凸が形成されたアルミニウム反射電極を設けたガラス基板とを用意した。二枚のガラス基板の電極側に、それぞれポリイミド配向膜(SE−7992、日産化学(株)製)を形成し、ラビング処理を行った。3.4μmのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、110°の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の間隙に、液晶(MLC−6252、メルク社製)を注入し、液晶層を形成した。このようにして、ツイスト角が70°、Δndの値が269nmのTN型液晶セル(対角12インチ)を作製した。
ITO透明電極を設けたガラス基板の側に、作製した円偏光板を温度25℃、相対湿度60%で調湿後、偏光層の反対側から貼り付けた。
作製した反射型液晶表示装置に、1kHzの矩形波電圧を印加した。白表示1.5V、黒表示4.5Vとして目視で評価を行ったところ、白表示においても、黒表示においても、色味がなく、ニュートラルグレイが表示されていることが確認できた。
次に、測定機(EZcontrast160D、Eldim社製)を用いて反射輝度のコントラスト比を測定し、正面からのコントラスト比、コントラスト比3となる視野角を測定した。
試料番号1〜3、5〜10、12〜21では、上記液晶表示装置作製直後も、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中においても、正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下130°、左右130°であった。また、位相差板の幅方向中央部、端部も同様の結果となった。
試料番号4、11、22は、作製直後は正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°、左右120°であったが、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中に、正面からのコントラスト比が最大12にまで低下し、コントラスト比10となる視野角は、いずれも最大上下60°、左右60°に低下していた。
3. Production of Image Display Device (1) Production of TN-type Reflective Liquid Crystal Display Device A glass substrate provided with an ITO transparent electrode and a glass substrate provided with an aluminum reflective electrode formed with fine irregularities were prepared. A polyimide alignment film (SE-7992, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was formed on each of the electrode sides of the two glass substrates, and a rubbing treatment was performed. The two substrates were stacked with the alignment film facing each other through a 3.4 μm spacer. The orientation of the substrate was adjusted so that the rubbing directions of the two alignment films intersected at an angle of 110 °. Liquid crystal (MLC-6252, manufactured by Merck) was injected into the gap between the substrates to form a liquid crystal layer. In this way, a TN liquid crystal cell (12 inches diagonal) having a twist angle of 70 ° and a value of Δnd of 269 nm was manufactured.
The prepared circularly polarizing plate was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% on the side of the glass substrate provided with the ITO transparent electrode, and then pasted from the opposite side of the polarizing layer.
A rectangular wave voltage of 1 kHz was applied to the manufactured reflective liquid crystal display device. As a result of visual evaluation with white display of 1.5 V and black display of 4.5 V, it was confirmed that neutral gray was displayed with no color in both white display and black display.
Next, the contrast ratio of the reflected luminance was measured using a measuring machine (EZcontrast 160D, manufactured by Eldim), and the contrast ratio from the front and the viewing angle at which the contrast ratio was 3 were measured.
In sample numbers 1 to 3, 5 to 10, and 12 to 21, the contrast ratio from the front is immediately after the liquid crystal display device is manufactured, during 60 ° C., and thereafter at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. The viewing angle at which the contrast ratio was 3 was 130 ° up and down and 130 ° left and right. Further, the same result was obtained at the center and the end in the width direction of the retardation plate.
Sample Nos. 4, 11, and 22 had a contrast ratio of 25 from the front immediately after fabrication, and the viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° vertically and 120 ° horizontally, After that, the contrast ratio from the front is reduced to a maximum of 12 over time at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and the viewing angles at which the contrast ratio becomes 10 are both reduced to a maximum of 60 ° up and down and 60 ° to the left and right. Was.

(2)STN型反射型液晶表示装置の作製
ITO透明電極を設けたガラス板と、平坦なアルミニウム反射電極を設けたガラス基板とを用意した。二枚のガラス基板の電極側に、それぞれポリイミド配向膜(SE−150、日産化学(株)製)を形成し、ラビング処理を行った。6.0μmのスペーサーを介して二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、60°の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の隙間に、液晶(ZLI−2977、メルク社製)を注入し、液晶層を形成した。このようにしてツイスト角が240°、Δndの値が791nmのSTN型液晶セル(対角12インチ)を作製した。
ITO透明電極を設けたガラス基板の側に、内部拡散シート(IDS、大日本印刷(株)製)と、上述の円偏光板を温度25℃、相対湿度60%で調湿後、この順序でそれぞれ粘着を介して、偏光板が最外層となるように貼り付けた。
作製した反射型液晶表示装置に、55Hzの矩形波電圧を印加した。黒表示2.0V、白表示2.5Vとして目視で評価を行ったところ、白表示においても黒表示においても、色味がなく、ニュートラルグレイが表示されていることが確認できた。
次に、測定機(EZcontrast160D、Eldim社製)を用いて反射輝度のコントラスト比を測定し、正面からのコントラスト比、コントラスト比3となる視野角を測定した。
試料番号1〜3、5〜10、12〜21では上記液晶表示装置作製直後も、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中においても、正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下130°、左右130°であった。また、位相差板の幅方向中央部、端部も同様の結果となった。
試料番号4、11、22は、作製直後は正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°、左右120°であったが、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中に、正面からのコントラスト比が最大12に低下し、コントラスト比10となる視野角は、いずれも最大上下60°、左右60°に低下していた。
(2) Production of STN type reflective liquid crystal display device A glass plate provided with an ITO transparent electrode and a glass substrate provided with a flat aluminum reflective electrode were prepared. A polyimide alignment film (SE-150, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was formed on the electrode sides of the two glass substrates, respectively, and a rubbing treatment was performed. The two substrates were stacked with a 6.0 μm spacer so that the alignment films face each other. The orientation of the substrate was adjusted so that the rubbing directions of the two alignment films intersected at an angle of 60 °. Liquid crystal (ZLI-2777, manufactured by Merck & Co., Inc.) was injected into the gap between the substrates to form a liquid crystal layer. In this way, an STN type liquid crystal cell (12 inches diagonal) having a twist angle of 240 ° and a Δnd value of 791 nm was manufactured.
On the side of the glass substrate provided with the ITO transparent electrode, the internal diffusion sheet (IDS, manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.) and the circular polarizing plate described above were conditioned at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. Each of them was pasted through an adhesive so that the polarizing plate was the outermost layer.
A rectangular wave voltage of 55 Hz was applied to the produced reflective liquid crystal display device. As a result of visual evaluation with a black display of 2.0 V and a white display of 2.5 V, it was confirmed that neutral gray was displayed with no color in both the white display and the black display.
Next, the contrast ratio of the reflected luminance was measured using a measuring device (EZcontrast 160D, manufactured by Eldim), and the contrast ratio from the front and the viewing angle at which the contrast ratio was 3 were measured.
In sample numbers 1 to 3, 5 to 10, and 12 to 21, the contrast ratio from the front is high immediately after the liquid crystal display device is manufactured, even during the aging at 60 ° C., and thereafter at the temperature of 25 ° C. and the relative humidity of 60%. The viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 130 ° up and down and 130 ° left and right. Further, the same result was obtained at the center and the end in the width direction of the retardation plate.
Sample Nos. 4, 11, and 22 had a contrast ratio of 25 from the front immediately after fabrication, and the viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° vertically and 120 ° horizontally, After this, the contrast ratio from the front is reduced to a maximum of 12 over time at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and the viewing angles at which the contrast ratio is 10 are both reduced to a maximum of 60 ° up and down and 60 ° to the left and right. It was.

(3)VA型液晶表示装置
VA型液晶表示装置は下から順に、下側ガラス基板、絶縁膜、薄膜トランジスタ、反射板、下側配向膜、液晶、上側配向膜、ITO透明電極、オーバーコート層、カラーフィルター、上側ガラス基板からなる。
ITO透明電極を設けたガラス基板と、微細な凹凸が形成されたアルミニウム反射電極を設けたガラス基板とを用意した。上側配向膜、下側配向膜にはそれぞれ垂直配向膜(RN783、日産化学(株)製)を用意し、ラビング処理を行った。1.7μmのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、110°の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の間隙に、Δn=0.08、Δε=−4の液晶(メルク社製)を真空注入法により注入し、液晶層を形成した。このようにして、ツイスト角が45°、Δndの値が135nmのVA型液晶セルを作製した。
ITO透明電極を設けたガラス基板の側に、ガラス基板側から、上記防湿層を設けた位相差板、市販の偏光板(HLC2−5618HCS、(株)サンリッツ製)をこの順で粘着剤を介して積層した。防湿層を設けた位相差板と偏光膜を貼り合わせる際、偏光膜の吸収軸と位相差板の遅相軸とが45°になるように貼り合わせた。
試料番号1〜3、5〜10、12〜21では上記液晶表示装置作製直後も、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中においても正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であった。また、位相差板の幅方向中央部、端部も同様の結果となった。
試料番号4、11、22は、作製直後は正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であったが、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中に、正面からのコントラスト比が最大12に低下し、コントラスト比10となる視野角は、いずれも最大上下60°、左右60°に低下していた。
(3) VA-type liquid crystal display device The VA-type liquid crystal display device is, in order from the bottom, a lower glass substrate, an insulating film, a thin film transistor, a reflector, a lower alignment film, a liquid crystal, an upper alignment film, an ITO transparent electrode, an overcoat layer, It consists of a color filter and an upper glass substrate.
A glass substrate provided with an ITO transparent electrode and a glass substrate provided with an aluminum reflective electrode formed with fine irregularities were prepared. Vertical alignment films (RN783, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) were prepared for the upper alignment film and the lower alignment film, respectively, and subjected to rubbing treatment. Two substrates were stacked with a 1.7 μm spacer so that the alignment films face each other. The orientation of the substrate was adjusted so that the rubbing directions of the two alignment films intersected at an angle of 110 °. A liquid crystal layer having a Δn = 0.08 and Δε = −4 (manufactured by Merck) was injected into the gap between the substrates by a vacuum injection method. In this way, a VA liquid crystal cell having a twist angle of 45 ° and a Δnd value of 135 nm was produced.
From the glass substrate side on the side of the glass substrate provided with the ITO transparent electrode, the retardation plate provided with the moisture proof layer and the commercially available polarizing plate (HLC2-5618HCS, manufactured by Sanlitz Co., Ltd.) in this order via the adhesive And laminated. When the retardation film provided with the moisture-proof layer and the polarizing film were bonded together, they were bonded so that the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the retardation film were 45 °.
In Sample Nos. 1-3, 5-10, and 12-21, the contrast ratio from the front is 25 immediately after the production of the liquid crystal display device, during 60 ° C., and thereafter at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. The viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more vertically and 120 ° or more horizontally. Further, the same result was obtained at the center and the end in the width direction of the retardation plate.
Sample Nos. 4, 11, and 22 had a contrast ratio of 25 from the front immediately after fabrication, and the viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more in the vertical direction and 120 ° or more in the horizontal direction. During and after this, at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, the contrast ratio from the front decreases to a maximum of 12, and the viewing angle at which the contrast ratio becomes 10 is 60 ° at the maximum and 60 ° at the left and right. It was falling.

(4)ECB型液晶表示装置
特開平11−316378の実施例1に従い、第2透明支持体を、上記防湿層を設けた位相差板とした。但し、これと偏光膜を貼り合わせる際、偏光膜の吸収軸と位相差板の遅相軸とが45度になるように貼り合わせた。これを用いて特開平11−316378の実施例6に従いECB型液晶表示素子を作製した。
試料番号1〜3、5〜10、12〜21では上記液晶表示装置作製直後も、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中においても正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であった。また、位相差板の幅方向中央部、端部も同様の結果となった。
試料番号4、11、22は、作製直後は正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であったが、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中に、正面からのコントラスト比が最大12に低下し、コントラスト比10となる視野角は、いずれも最大上下60°、左右60°に低下していた。
(4) ECB type liquid crystal display device According to Example 1 of JP-A-11-316378, the second transparent support was a retardation plate provided with the moisture-proof layer. However, when this was bonded to the polarizing film, the polarizing film was bonded so that the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the retardation plate were 45 degrees. Using this, an ECB type liquid crystal display element was produced according to Example 6 of JP-A-11-316378.
In Sample Nos. 1-3, 5-10, and 12-21, the contrast ratio from the front is 25 immediately after the production of the liquid crystal display device, during 60 ° C., and thereafter at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. The viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more vertically and 120 ° or more horizontally. Further, the same result was obtained at the center and the end in the width direction of the retardation plate.
Sample Nos. 4, 11, and 22 had a contrast ratio of 25 from the front immediately after fabrication, and the viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more in the vertical direction and 120 ° or more in the horizontal direction. During and after this, at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, the contrast ratio from the front decreases to a maximum of 12, and the viewing angle at which the contrast ratio becomes 10 is 60 ° at the maximum and 60 ° at the left and right. It was falling.

(5)半透過型製品への実装
サイバーショット(SONY社製)の液晶表示部の液晶セルの上側部分の偏光板、λ/2板、λ/4板を剥がし、ガラス基板側から、上記防湿層を設けた位相差板(λ/4板)、市販の偏光板(HLC2−5618HCS、(株)サンリッツ製)をこの順で粘着剤を介して積層した。位相差板と偏光膜を貼り合わせる際、偏光膜の吸収軸と位相差板の遅相軸とが45°になるように貼り合わせた。
試料番号1〜3、5〜10、12〜21では上記液晶表示装置作製直後も、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中においても、正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であった。また、位相差板の幅方向中央部、端部も同様の結果となった。
試料番号4、11、22は、作製直後は正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であったが、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中に、正面からのコントラスト比が最大12にまで低下し、コントラスト比10となる視野角は、いずれも最大上下60°、左右60°に低下していた。
(5) Mounting on a transflective product The polarizing plate, λ / 2 plate, λ / 4 plate on the upper part of the liquid crystal cell of the liquid crystal display part of Cybershot (manufactured by SONY) is peeled off, and the above moisture-proof layer is formed from the glass substrate side. And a commercially available polarizing plate (HLC2-5618HCS, manufactured by Sanritz Co., Ltd.) were laminated in this order via an adhesive. When the retardation film and the polarizing film were bonded together, the polarizing film was bonded so that the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the retardation film were 45 °.
In sample numbers 1 to 3, 5 to 10, and 12 to 21, the contrast ratio from the front is high immediately after the liquid crystal display device is manufactured, even during the aging at 60 ° C., and thereafter at the temperature of 25 ° C. and the relative humidity of 60%. The viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more in the vertical direction and 120 ° or more in the left and right directions. Further, the same result was obtained at the center and the end in the width direction of the retardation plate.
Sample Nos. 4, 11, and 22 had a contrast ratio of 25 from the front immediately after fabrication, and the viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more in the vertical direction and 120 ° or more in the horizontal direction. During and after this, the contrast ratio from the front decreases to a maximum of 12 over time at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. It had fallen to.

(6)反射型液晶表示装置への実装
タッチパネル付き反射型液晶表示装置(シャープ社製、ザウルス)でタッチパネル/偏光板/位相差板/液晶セルの偏光板と位相差板を剥がして、上記防湿層を設けた位相差板、市販の偏光板(HLC2−5618HCS、(株)サンリッツ製)に置き換えた。この際、偏光膜の吸収軸と位相差板の遅相軸とが45°になるように貼り合わせ、コントラストが最大となるように貼り合わせた。
試料番号1〜3、5〜10、12〜21では上記液晶表示装置作製直後も、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中においても、正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であった。また、位相差板の幅方向中央部、端部も同様の結果となった。
試料番号4、11、22は、作製直後は正面からのコントラスト比が25であり、コントラスト比3となる視野角は、いずれも上下120°以上、左右120°以上であったが、60℃経時中、およびこの後温度25℃、相対湿度60%で経時中に、正面からのコントラスト比が最大12にまで低下し、コントラスト比10となる視野角は、いずれも最大上下60°、左右60°に低下していた。
(6) Mounting on a reflective liquid crystal display device The reflective liquid crystal display device with a touch panel (Sharp Corp., Zaurus) is used to peel off the touch panel / polarizing plate / retardation plate / polarizing plate and retardation plate of the liquid crystal cell, and the above moisture-proofing It replaced with the phase difference plate which provided the layer, and the commercially available polarizing plate (HLC2-5618HCS, the Sanritz Co., Ltd. product). At this time, the polarizing film was bonded so that the absorption axis of the polarizing film and the slow axis of the retardation plate were 45 °, and were bonded so that the contrast was maximized.
In sample numbers 1 to 3, 5 to 10, and 12 to 21, the contrast ratio from the front is high immediately after the liquid crystal display device is manufactured, even during the aging at 60 ° C., and thereafter at the temperature of 25 ° C. and the relative humidity of 60%. The viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more in the vertical direction and 120 ° or more in the left and right directions. Further, the same result was obtained at the center and the end in the width direction of the retardation plate.
Sample Nos. 4, 11, and 22 had a contrast ratio of 25 from the front immediately after fabrication, and the viewing angles at which the contrast ratio was 3 were 120 ° or more in the vertical direction and 120 ° or more in the horizontal direction. During and after this, the contrast ratio from the front decreases to a maximum of 12 over time at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%. It had fallen to.

Claims (3)

0.003乃至0.1質量%の水を含む溶剤中にセルロースアシレートが溶解しているセルロースアシレート溶液からセルロースアシレートフイルムを形成する工程;形成したセルロースアシレートフイルムを温度50乃至150℃、相対湿度0乃至10%の条件で0.5乃至200時間熱処理する工程;熱処理したセルロースアシレートフイルムを縦/横の延伸比が0.3乃至2となる条件で延伸する工程;そして、延伸したセルロースアシレートフイルムからなる位相差板、第1透明保護膜、直線偏光膜、第2透明保護膜、および防湿層を、位相差板、第1透明保護膜、直線偏光膜、そして第2透明保護膜の順序で、かつ位相差板と直線偏光膜との間に防湿層が存在するように積層するか、あるいは、延伸したセルロースアシレートフイルムからなる第1透明保護膜兼位相差板、防湿層、直線偏光膜、そして第2透明保護膜をこの順序で積層する工程により偏光板を製造することを特徴とする偏光板の製造方法。   A step of forming a cellulose acylate film from a cellulose acylate solution in which cellulose acylate is dissolved in a solvent containing 0.003 to 0.1% by mass of water; the temperature of the formed cellulose acylate film is 50 to 150 ° C. A step of heat-treating for 0.5 to 200 hours at a relative humidity of 0 to 10%; a step of stretching the heat-treated cellulose acylate film under a condition where the longitudinal / lateral stretch ratio is 0.3 to 2; A retardation plate made of a cellulose acylate film, a first transparent protective film, a linearly polarizing film, a second transparent protective film, and a moisture-proof layer, the retardation film, the first transparent protective film, the linearly polarizing film, and the second transparent film Laminated or stretched cellulose acylate films in the order of the protective film and with a moisture-proof layer between the retardation plate and the linear polarizing film The first transparent protective film and a phase difference plate made of beam, moisture barrier, linear polarizing film and method for manufacturing a polarizing plate, characterized by producing a polarizing plate by the process of the second transparent protective film laminated in this order. 製造された偏光板を温度25℃、相対湿度60%の条件で調温調湿して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値から、さらに偏光板を温度60℃、相対湿度10%の条件で3時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値の変化が15nm未満である請求項1に記載の偏光板の製造方法。   From the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after adjusting the temperature of the produced polarizing plate at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, the polarizing plate was further heated at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%. The method for producing a polarizing plate according to claim 1, wherein the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after being stored for 3 hours under conditions is less than 15 nm. 製造された偏光板を温度60℃、相対湿度10%の条件で3時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値から、さらに偏光板を温度60℃、相対湿度10%の条件で47時間保存して波長550nmで測定した位相差板のレターデーション値の変化が15nm未満である請求項1に記載の偏光板の製造方法。   The produced polarizing plate was stored for 3 hours at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%, and from the retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm, the polarizing plate was further subjected to a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 10%. The method for producing a polarizing plate according to claim 1, wherein a change in retardation value of the retardation plate measured at a wavelength of 550 nm after being stored for 47 hours is less than 15 nm.
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