JP2009242864A - クランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 ディスクトランス（カレントトランス）の幅寸法を小さくすることなく、ピン部の幅方向の中央箇所とこのピン部に隣り合うジャーナル部の幅方向の中央箇所との距離（中心間ピッチ）が狭い（３０ｍｍ〜６０ｍｍ程度）クランクシャフトのピン部及びジャーナル部を同時に高周波誘導加熱することができるクランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置を提供する。
【解決手段】 クランクシャフト２のピン部３を、上部から吊り下げられた吊り下げ型ディスクトランス４から高周波誘導加熱コイル７に高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱し、クランクシャフト２のジャーナル部５を、吊り下げ型ディスクトランス４とは干渉しない位置に横置きされた横置き型ディスクトランス６から高周波誘導加熱コイル９に高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、クランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置に関し、特に、クランクシャフトのピン部とジャーナル部の中心間ピッチ（ピン部の幅方向の中央箇所とこのピン部に隣り合うジャーナル部の幅方向の中央箇所との間の幅）が、３０ｍｍ〜６０ｍｍ程度と狭いクランクシャフトを高周波誘導加熱するのに用いて好適なクランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置に関するものである。

図７及び図８は、従来のクランクシャフトの高周波誘導加熱装置３０を概略的に示すものであって、この高周波誘導加熱装置３０は、追従機構部３１とクランクシャフト回転部３２とを備えている。追従機構３１は、支持板３３に並置状態で取付けられた複数のＬ字形支持フレーム３４と、各支持フレーム３４に旋回軸３５を中心に旋回自在に片持ち支持された追従アーム３６と、各支持フレーム３４と各追従アーム３６との間に揺動可能にそれぞれ介在されたバランススプリング３７（バランスシリンダであってもよい）と、各追従アーム３６の自由端側に旋回軸３８を介して吊り下げられたディスクトランス（カレントトランス）３９と、このディスクトランス３９の下部に取付けられたコイル部４０とで構成されている。しかして、ディスクトランス３９とコイル部４０とから成る組合体が揺動自在に上部から吊り下げられている。なお、図示を省略したが、上述のコイル部４０の下端開口部４０ａ（図８参照）には、半開放鞍型高周波誘導加熱コイルが組み込まれると共に、この半開放鞍型高周波誘導加熱コイルをクランクシャフト４１のジャーナル部４２及びピン部４３上にそれぞれ一定の隙間を隔てて載置するために例えば３つのガイドチップが配設されている。

また、クランクシャフト４１のジャーナル部４２及びピン部４３を高周波誘導加熱する際には、加工物（ワーク）であるクランクシャフト４１は、クランクシャフト回転部３２においてチャッキングされた状態でその軸線を中心に回転されるように構成されている。かくして、コイル部４０の半開放鞍型高周波誘導加熱コイル（図７では図示せず）にディスクトランス３９から高周波電流が供給され、クランクシャフトのジャーナル部４１及びピン部４２にコイル部４０の半開放鞍型高周波誘導加熱コイルが僅かな隙間を隔てて載置された状態の下で上述のジャーナル部４２及びピン部４３に追従しながらそれらの外周面が高周波誘導加熱されるようになっている。

一方、その他の従来の高周波誘導加熱装置としては、クランクシャフトのジャーナル部又はピン部に対向配置された加熱導体部と、この加熱導体部に供給すべき電流を出力するカレントトランス（ディスクトランス）と、前記加熱導体部と前記カレントトランスとの間を連結すると共に電気的に接続する給電導体部とを具備しており、前記加熱導体部、給電導体部及びカレントトランスが中空支持された状態で前記加熱導体部によりクランクシャフトのジャーナル部又はピン部に対して高周波誘導加熱を行うようにしたものがある（例えば、特許文献１，２及び３参照）。

また、隣り合うカレントトランスとの接触を避けるために、カレントトランスを加熱導体部の鉛直線上から位置ずれさせて配置するようにしたクランクシャフトの誘導加熱装置も提案されている（例えば、特許文献４参照）。

特開平２０００−１７８６５１号公報 特開平２０００−１２９３６０号公報 特開平２０００−１０９９３２号公報 特開平２００４−２８５３７５号公報

ところで、クランクシャフトのピン部やジャーナル部の焼入加工に要する時間（サイクルタイム）について短縮の要望が強くなっており、また、高周波誘導加熱装置を含む加工機械の小型化が要求されている。一方、クランクシャフトのなかには、互いに隣り合うピン部とジャーナル部との間の中心間ピッチが狭いクランクシャフトがある。なお、ここで言う「中心間ピッチが狭いクランクシャフト」とは、ピン部とジャーナル部との間の中心間ピッチが、３０ｍｍ〜６０ｍｍ程度のクランクシャフトである（この場合、クランクシャフトのピン部及びジャーナル部の幅は、約１７ｍｍ〜２２ｍｍ程度）。このようなピン部とジャーナル部との間の中心間ピッチが狭いクランクシャフトを図７に示す高周波誘導加熱装置３０や特許文献１，２，又は３に記載の誘導加熱装置を用いて高周波誘導加熱する場合には、幅狭のピン部の幅方向の中央箇所とこのピン部に隣り合う幅狭のジャーナル部の幅方向の中央箇所との間のピッチ間隔（図９に示す如き狭いピッチ間隔（中心間ピッチ）Ｐ；例えば、４０ｍｍ程度）に合わせて、前記高周波誘導加熱コイル若しくは加熱導体部、給電導体部及びディスクトランスを並置する必要がある。このため、前記高周波誘導加熱コイル若しくは加熱導体部、給電導体部及びディスクトランスの幅寸法（図７に示す厚さ寸法Ｌ）を幅狭の前記ジャーナル部又はピン部の寸法に合わせて小さくする必要がある。

しかしながら、高周波誘導加熱コイル若しくは加熱導体部、並びに、給電導体部の幅寸法を、ピン部の幅方向の中央箇所とこのピン部に隣り合うジャーナル部の幅方向の中央箇所との間のピッチ間隔Ｐ（図９参照）に合わせて小さくすることができるものの、ディスクトランスの幅寸法（厚さ寸法）を小さくすることは、構造上、困難であるのが実状である。すなわち、ディスクトランス（カレントトランス）の最小幅（最小厚さ）は、４２ｍｍ程度であり、それ以上の薄さには構成できないのが実状である。このため、図９に示すように、ピン部の幅方向の中央箇所とこのピン部に隣り合うジャーナル部の幅方向の中央箇所との間の幅狭のピッチ間隔（中心間ピッチ）Ｐに合わせてディスクトランスを配置しようとすると、互いに隣り合うコイルユニットＩ，ＩＩが図９において斜線α，βで示す箇所において干渉を生じると共に、バランススプリング３７，３７同士で干渉を生じ、装置自体として成立しなくなることとなる。なお、これを解消するためにコイルユニットＩ，ＩＩの幅を狭く設定したとしても、互いに隣り合うディスクトランス３９，３９同士が接触してしまうという問題がある。すなわち、図７に示すようにジャーナル部４２の幅方向の中央箇所とこれに隣り合うピン部の幅方向の中央箇所との間の距離Ｐ（図９参照）が比較的大きい場合には、互いに隣り合うディスクトランス３９，３９同士が接触してしまうことはないのであるが、上述の距離Ｐが小さくなるのに応じてコイルユニットＩ，ＩＩの幅を小さくしても、互いに隣り合うディスクトランス３９，３９同士が接触してしまうという問題を生じる。

また、図１０に示すように、ディスクトランス３９を互いに接触しないような間隔で配置（２ピッチ幅で並列配置）しておき、クランクシャフト４１をその軸線に沿って移動させてジャーナル部４２及びピン部４３の各部を順次に高周波誘導加熱することも可能であるが、その場合、設備（装置）が大きくなる上に、ワーク（クランクシャフト）移動時間が加工時間に加算されるため、生産効率がその分だけ低下することが問題となる。

また、特許文献４に記載されているようにカレントトランス（ディスクトランス）の軸心をワーク鉛直線上からずらす方法もあるが、この場合は、クランクシャフトの回転時に高周波誘導加熱コイルの側板とワーク（クランクシャフト）とがこすれてワークに傷が発生したり、ワークを高周波誘導加熱コイルに装着する時に干渉を起しやすい等の問題がある。

本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、ディスクトランス（カレントトランス）の幅寸法を小さくすることなく、ピン部の幅方向の中央箇所とこのピン部に隣り合うジャーナル部の幅方向の中央箇所との距離（中心間ピッチ）が狭い（３０ｍｍ〜６０ｍｍ程度）クランクシャフトのピン部及びジャーナル部を同時に高周波誘導加熱することができるクランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置を提供することにある。

上述の目的を達成するために、本発明に係るクランクシャフトの高周波誘導加熱方法では、クランクシャフトのピン部を、上部から吊り下げられた吊り下げ型ディスクトランスからこの吊り下げ型ディスクトランスの下部に取付けられた高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱し、前記クランクシャフトのジャーナル部を、前記吊り下げ型ディスクトランスとは干渉しない位置に横置きされた横置き型ディスクトランスからこの横置き型ディスクトランスの横部に取付けられた高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱するようにしている。
また、本発明に係るクランクシャフトの高周波誘導加熱装置では、
（ａ） 揺動自在に上部から吊り下げられた吊り下げ型ディスクトランスと、
（ｂ） 前記吊り下げ型ディスクトランスの下部に取付けられて前記吊り下げ型ディスクトランスから高周波電流が供給される高周波誘導加熱コイルであって、クランクシャフトの軸線を中心とする前記クランクシャフトの回転に伴なう前記クランクシャフトのピン部の回動に追従して前記ピン部を高周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイルと、
（ｃ） 前記吊り下げ型ディスクトランスとは干渉しない位置において揺動自在に横置きされた横置き型ディスクトランスと、
（ｄ） 横置き型ディスクトランスの横部に取付けられて横置き型ディスクトランスから高周波電流が供給される高周波誘導加熱コイルであって、前記クランクシャフトの軸線を中心とする前記クランクシャフトの回転に伴なう前記クランクシャフトのジャーナル部の回動に追従して前記ジャーナル部を高周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイルと、
を備えるようにしている。

請求項１に記載の本発明は、クランクシャフトのピン部を、上部から吊り下げられた吊り下げ型ディスクトランスからこの吊り下げ型ディスクトランスの下部に取付けられた高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱し、クランクシャフトのジャーナル部を、吊り下げ型ディスクトランスとは干渉しない位置に横置きされた横置き型ディスクトランスからこの横置き型ディスクトランスの横部に取付けられた高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱するようにしたものであるから、クランクシャフトのピン部とジャーナル部の中心間ピッチが狭くとも（例えば、中心間ピッチが、３０ｍｍ〜６０ｍｍ程度と狭くとも）、クランクシャフトの軸線方向に沿って交互に配置しようとするジャーナル部加熱用のディスクトランス（カレントトランス）とピン部加熱用のディスクトランス（カレントトランス）とが互いに干渉しない位置に配置されることとなり（この場合、吊り下げ型のディスクトランス同士は互いに干渉せず、かつ、横置き型のディスクトランス同士は互いに干渉しない）、従って、ディスクトランスの幅寸法を小さくすることなく、クランクシャフトの幅狭のジャーナル部及びピン部を同時に効率良く高周波誘導加熱することが可能となる。

また、請求項２に記載の本発明によれば、
（ａ） 揺動自在に上部から吊り下げられた吊り下げ型ディスクトランスと、
（ｂ） 前記吊り下げ型ディスクトランスの下部に取付けられて前記吊り下げ型ディスクトランスから高周波電流が供給される高周波誘導加熱コイルであって、クランクシャフトの軸線を中心とする前記クランクシャフトの回転に伴なう前記クランクシャフトのピン部の回動に追従して前記ピン部を高周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイルと、
（ｃ） 前記吊り下げ型ディスクトランスとは干渉しない位置において揺動自在に横置きされた横置き型ディスクトランスと、
（ｄ） 横置き型ディスクトランスの横部に取付けられて横置き型ディスクトランスから高周波電流が供給される高周波誘導加熱コイルであって、前記クランクシャフトの軸線を中心とする前記クランクシャフトの回転に伴なう前記クランクシャフトのジャーナル部の回動に追従して前記ジャーナル部を高周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイルと、
を備えるようにしたものであるから、請求項１に記載の方法を施行することができ、クランクシャフトのピン部とジャーナル部の中心間ピッチ（ピッチ間隔）が狭くとも、ディスクトランスの幅寸法を小さくすることなく、ジャーナル部及びピン部を同時に効率良く高周波誘導加熱することができる。

以下、本発明の一実施形態に係るクランクシャフトの高周波誘導加熱方法及び装置について図１〜図６を参照して説明する。なお、本実施形態においては、ピン部とジャーナル部の中心間ピッチが３０ｍｍ〜６０ｍｍ程度の狭いクランクシャフト（ワーク）を高周波誘導加熱する場合について述べることとする。

図１及び図２は、本発明のクランクシャフトの高周波誘導加熱方法を施行する高周波誘導加熱装置１を示すものであって、本装置１は、クランクシャフト２の複数の（例えば４つの）ピン部３にそれぞれ対応するように配置された複数の吊り下げ型ディスクトランス（吊り下げ型カレントトランス）４と、クランクシャフト２の複数の（例えば５つの）ジャーナル部５にそれぞれ対応するように配置された複数の横置き型ディスクトランス（横置き型カレントトランス）６とを具備している。なお、吊り下げ型ディスクトランス４の幅若しくは厚さは４２ｍｍであり、横置き型ディスクトランス６の幅若しくは厚さは、５５ｍｍである。そして、複数の吊り下げ型ディスクトランス４の下部４ａには、ピン部加熱用の高周波誘導加熱コイル７（図３参照）が組み込まれたコイル体８がそれぞれ一体に取付けられており、複数の横置き型ディスクトランス６の横部６ａには、ジャーナル部加熱用の高周波誘導加熱コイル９（図４参照）が組み込まれたコイル体１０がそれぞれ一体に取付けられている。なお、図３及び図４において、Ｔ_１，Ｔ_２は、高周波誘導加熱コイル７，９とピン部３及びジャーナル部５との間の間隔を一定に維持するための各３つのガイド用チップである。

上述の吊り下げ型ディスクトランス４及びコイル体８の組合体は、図２（Ａ）及び図３に示すように追従機構１１により揺動自在に支持されており、クランクシャフト２の軸線を中心とする回転に伴なうピン部３の回動に高周波誘導加熱コイル７が追従するように構成されている。具体的には、図外の基台にＬ字形状の支持フレーム１２が固着されており、この支持フレーム１２の垂直部１２ａの下端に設けられた旋回軸１３に追従アーム１４の一端が回動自在に取付けられている。そして、支持フレーム１２の水平部１２ｂと追従アーム１４との間にはバランススプリング（引っ張りバネ）１５が架け渡されており、バランススプリング１５の上下両端は旋回軸１６，１７によって回動自在に支持されている。さらに、追従アーム１４の自由端側には、既述の吊り下げ型ディスクトランス４及びコイル体８の組合体が旋回軸１８を中心に回動自在に吊り下げ状で支持されている。かくして、支持フレーム１２、追従アーム１４、バランススプリング１５、旋回軸１３，１６，１７，１８、吊り下げ型ディスクトランス４、及びコイル体７によって追従機構１１が構成されており、このような追従機構１１が、複数個、図１に示すようにクランクシャフト２の軸線方向に沿って複数のピン部３の位置にそれぞれ合致するように並置されている。なお、この場合、複数のディスクトランス４，６が互いに並置されることなくディスクトランス６がディスクトランス４の横位置において横置きになされて吊り下げ型ディスクトランス配設箇所から除かれているため、ピン部３の幅が狭くても、互いに隣り合う吊り下げ型ディスクトランス４，４同士が干渉することがなく、これらの間に隙間が存在している（図１参照）。

また、上述の横置き型ディスクトランス６及びコイル体１０の組合体は、図２（Ｂ）及び図４（Ａ），（Ｂ）に示されるように追従機構２０により揺動自在に支持されており、クランクシャフト２の軸線を中心とする回転に伴なうジャーナル部５の回動（僅かであるが回動する）に高周波誘導加熱コイル９が追従するように構成されている。具体的には、図４（Ａ），（Ｂ）に明示するように、基台２１に固着されたガイドレール２２に前後動ガイド２３が摺動自在に取付けられており、この前後動ガイド２３に設けられたガイドレール２４に左右動ガイド２５が取付けられている。さらに、上述の左右動ガイド２５に設けられた軸支部材２６に、横置き型ディスクトランス６に支持部材６ｂを介して一体に取付けられた旋回軸２７が回転自在に軸支されている。かくして、前後動ガイド２３、左右動ガイド２５、旋回軸２７（上下方向ガイド）、横置き型ディスクトランス６、及びコイル体１０によって追従機構２０が構成されており、このような追従機構２０が、複数個、クランクシャフト２の軸線方向に沿って複数のジャーナル部５の位置に合致するように並置されている。なお、この場合、複数のディスクトランス４，６が互いに並置されることなく複数のディスクトランス６が複数のディスクトランス４の並置箇所から外れて横置きになされているため、ジャーナル部５の幅が狭くても、互いに隣り合う横置き型ディスクトランス６同士が干渉することがなく、これらの間に隙間が存在している（図１参照）。

上述の高周波誘導加熱装置１を用いてクランクシャフト２の複数のピン部３及びジャーナル部５を同時に高周波誘導加熱するに際しては、まず、複数の吊り下げ型ディスクトランス４にそれぞれ組み付けられた複数の高周波誘導加熱コイル７をクランクシャフト２の複数のピン部３上に例えば３つのガイドチップＴ_１（図３参照）を介してそれぞれ載置すると共に、複数の横置き型のディスクトランス６にそれぞれ組み付けられた複数の高周波誘導加熱コイル９をクランクシャフト２の複数のジャーナル部５上に例えば３つのガイドチップＴ_２（図４参照）を介してそれぞれ載置し、この状態の下でクランクシャフト２を図外の回転機構によりその軸線を中心に回転駆動する。これに伴い、高周波誘導加熱コイル７を追従機構１１により図５（Ａ）〜（Ｄ）に示すようにクランクシャフト２のピン部３に追従させると共に、高周波誘導加熱コイル９を追従機構２０により図６（Ａ）〜（Ｄ）に示すようにクランクシャフト２のジャーナル部５に追従させる。そして、クランクシャフト２のピン部３を、上部から吊り下げられた複数の吊り下げ型ディスクトランス４から複数の高周波誘導加熱コイル７に高周波電流をそれぞれ供給することにより高周波誘導加熱すると共に、クランクシャフト２のジャーナル部５を、吊り下げ型ディスクトランス４とは干渉しない位置に横置きされた複数の横置き型ディスクトランス６から複数の高周波誘導加熱コイル９に高周波電流をそれぞれ供給することにより高周波誘導加熱する。

このような高周波誘導加熱装置１及びこの装置を用いた高周波誘導加熱方法によれば、複数のピン部加熱用の吊り下げ型ディスクトランス４の並置箇所から複数のジャーナル部加熱用の横置きディスクトランス６が吊り下げ型ディスクトランス４とは干渉しない箇所に移されることとなるため、ピン部の幅方向の中央箇所とこのピン部に隣り合うジャーナル部の幅方向の中央箇所との間の距離（ピッチ間隔Ｐ）が狭い場合であっても、ディスクトランスの幅寸法（厚さ寸法Ｌ）を小さくすることなく、互いに隣り合う吊り下げ型ディスクトランス４，４の間に隙間を設けることができ、従って、互いに隣り合う吊り下げ型ディスクトランス４，４同士の干渉をなくすことができる（図１参照）。一方、複数のジャーナル部加熱用の横置き型ディスクトランス６についても、吊り下げ型ディスクトランス４とは干渉しない横置きとすることにより、ピン部とジャーナル部との間のピッチ間隔Ｐ（図９参照）が狭い場合であっても、ディスクトランスの幅寸法を小さくすることなく、互いに隣り合う横置き型ディスクトランス６，６の間に隙間を設けることができ、従って、互いに隣り合う横置き型ディスクトランス６，６同士の干渉をなくすことができる。かくして、上述の距離（ピッチ間隔Ｐ）が狭くても、クランクシャフトのピン部及びジャーナル部を同時に（１回の加熱操作で）高周波誘導加熱することができ、加熱処理効率を良好にすることができる。

以上、本発明の一実施形態について述べたが、本発明はこの実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。例えば、吊り下げ型ディスクトランス４及び横置き型ディスクトランス６の追従機構１１，２０の構成は、既述の実施形態に限定されることなく、ピン部３又はジャーナル部５に追従し得る構造であればどのような構造を採用しても良い。また、既述の実施形態では、４気筒エンジン用のクランクシャフト２のピン部３及びジャーナル部５を高周波誘導加熱するようにしたが、６気筒用エンジン用や８気筒エンジン用などのクランクシャフトについても本発明を適用することができることは言う迄もない。

本発明の一実施形態に係る高周波誘導加熱方法を実施する高周波誘導加熱装置の正面図である。 図１（Ａ）及び（Ｂ）は図１の高周波誘導加熱装置の側面図である。 吊り下げ型ディスクトランスの取付状態を示す側面図である。 横置き型ディスクトランスの取付状態を示す図であって、図３（Ａ）は横置き型ディスクトランスの取付状態を示す正面図、図３（Ｂ）は横置き型ディスクトランスの取付状態を示す側面図である。 図５（Ａ）〜（Ｄ）はクランクシャフトの回転に伴う吊り下げ型ディスクトランスのピン部への追従動作を示す側面図である。 図６（Ａ）〜（Ｄ）はクランクシャフトのジャーナル部の回転に伴う横置き型ディスクトランスのジャーナル部への追従動作を示す側面図である。 従来の高周波誘導加熱装置を概念的に示す斜視図である。 図７の高周波誘導加熱装置における吊り下げ型ディスクトランス及びコイル体の取付状態を示す側面図である。 幅狭のジャーナル部及びピン部を有するクランクシャフトを吊り下げ型ディスクトランスを用いて高周波誘導加熱しようとした場合にコイルユニットに干渉箇所が生じることを説明するための説明図である。 間隔を置いて配置した吊り下げ型ディスクトランスおよびコイル体をクランクシャフトの軸線方向に移動させて複数のジャーナル部及びピン部を高周波誘導加熱する動作を説明するための説明図である。

符号の説明

１ 高周波誘導加熱装置
２ クランクシャフト
３ ピン部
４ 吊り下げ型ディスクトランス（吊り下げ型カレントトランス）
４ａ 下部
５ ジャーナル部
６ 横置き型ディスクトランス（横置き型カレントトランス）
６ａ 横部
７，９ 高周波誘導加熱コイル
８，１０ コイル体
１１，２０ 追従機構
１４ 追従アーム
２３ 前後動ガイド
２５ 左右動ガイド
２７ 旋回軸

Claims (2)

1. クランクシャフトのピン部を、上部から吊り下げられた吊り下げ型ディスクトランスからこの吊り下げ型ディスクトランスの下部に取付けられた高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱し、前記クランクシャフトのジャーナル部を、前記吊り下げ型ディスクトランスとは干渉しない位置に横置きされた横置き型ディスクトランスからこの横置き型ディスクトランスの横部に取付けられた高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給することにより高周波誘導加熱するようにしたことを特徴とするクランクシャフトの高周波誘導加熱方法。
2. （ａ） 揺動自在に上部から吊り下げられた吊り下げ型ディスクトランスと、
   （ｂ） 前記吊り下げ型ディスクトランスの下部に取付けられて前記吊り下げ型ディスクトランスから高周波電流が供給される高周波誘導加熱コイルであって、クランクシャフトの軸線を中心とする前記クランクシャフトの回転に伴なう前記クランクシャフトのピン部の回動に追従して前記ピン部を高周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイルと、
   （ｃ） 前記吊り下げ型ディスクトランスとは干渉しない位置において揺動自在に横置きされた横置き型ディスクトランスと、
   （ｄ） 横置き型ディスクトランスの横部に取付けられて横置き型ディスクトランスから高周波電流が供給される高周波誘導加熱コイルであって、前記クランクシャフトの軸線を中心とする前記クランクシャフトの回転に伴なう前記クランクシャフトのジャーナル部の回動に追従して前記ジャーナル部を高周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイルと、
   を備えることを特徴とするクランクシャフトの高周波誘導加熱装置。

Images