JP2009242658A - Polyhydroxy compound, epoxy resin, manufacturing method thereof, epoxy resin composition, and hardened product thereof - Google Patents

Polyhydroxy compound, epoxy resin, manufacturing method thereof, epoxy resin composition, and hardened product thereof Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin, a polyhydroxyl compound and a composition thereof, providing a hardened product excellent in flame retardant, humidity resistance, low elasticity and so on, and suitable for applications such as sealing for electronic components, and circuit substrate materials. <P>SOLUTION: An indene-modified polyhydroxy compound having a hydroxyl group equivalent of 200 to 400 g/eq., which is obtained by reacting 1 mol of a polyhydroxy compound such as a phenol aralkyl resin with 0.1 to 4.0 mol of indene in the presence of an acid catalyst, and an epoxy resin obtained by reacting the polyhydroxy compound with epichlorohydrin are provided. An epoxy resin composition comprises the polyhydroxy compound or the epoxy resin as an essential component. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、難燃性に優れるとともに、耐湿性、低弾性にも優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂、その中間体として適する多価ヒドロキシ化合物、それらの製造方法、これら用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物に関するものであり、半導体封止材、プリント配線板等の電気電子分野の絶縁材料等に好適に使用される。   The present invention provides an epoxy resin that is excellent in flame retardancy and also provides a cured product excellent in moisture resistance and low elasticity, a polyvalent hydroxy compound suitable as an intermediate thereof, a production method thereof, an epoxy resin composition used in these, and It relates to the cured product, and is suitably used for insulating materials in the electric and electronic fields such as semiconductor sealing materials and printed wiring boards.

エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ますます高度化している。例えば、エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物の代表的分野に半導体封止材料があるが、半導体素子の集積度の向上に伴い、パッケージサイズは大面積化、薄型化に向かうとともに、実装方式も表面実装化への移行が進展しており、半田耐熱性に優れた材料の開発が望まれている。従って、封止材料としては、低吸湿化に加え、リードフレーム、チップ等の異種材料界面での接着性・密着性の向上が強く求められている。回路基板材料においても同様に、半田耐熱性向上の観点から低吸湿性、高耐熱性、高密着性の向上に加え、誘電損失低減の観点から低誘電性に優れた材料の開発が望まれている。これらの要求に対応するため、様々な新規構造のエポキシ樹脂及び硬化剤が検討されている。更に最近では、環境負荷低減の観点から、ハロゲン系難燃剤排除の動きがあり、より難燃性に優れたエポキシ樹脂及び硬化剤が求められている。   Epoxy resins have been used in a wide range of industrial applications, but their required performance has become increasingly sophisticated in recent years. For example, there is a semiconductor sealing material in a typical field of a resin composition mainly composed of an epoxy resin, but as the integration degree of semiconductor elements is improved, the package size is becoming larger and thinner, and the mounting method is also increased. The transition to surface mounting is progressing, and the development of materials with excellent solder heat resistance is desired. Therefore, as a sealing material, in addition to reducing moisture absorption, improvement in adhesion and adhesion at the interface between different materials such as lead frames and chips is strongly demanded. Similarly, for circuit board materials, in addition to improving low heat absorption, high heat resistance, and high adhesion from the viewpoint of improving solder heat resistance, it is desirable to develop materials with excellent low dielectric properties from the viewpoint of reducing dielectric loss. Yes. In order to meet these requirements, various new structures of epoxy resins and curing agents have been studied. Furthermore, recently, from the viewpoint of reducing environmental impact, there has been a movement to eliminate halogen-based flame retardants, and epoxy resins and curing agents with more excellent flame retardancy have been demanded.

特開2005−344081号公報JP 2005-344081 A 特開平11−140166号公報JP-A-11-140166 特開2000−129092号公報JP 2000-129092 A 特開2004−59792号公報JP 2004-57992 A 特開平5−132544号公報JP-A-5-132544 特開平5−140265号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-140265 特開平9−208673号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-208673

従って、上記背景から種々のエポキシ樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤が検討されている。エポキシ樹脂硬化剤の一例として、ナフタレン系樹脂が知られており、特許文献1にはナフトールアラルキル樹脂を半導体封止材への応用が示されており、難燃性、低吸湿性、低熱膨張性等に優れることが記載されている。また、特許文献2にはビフェニル構造を有する硬化剤が提案され、難燃性向上に有効であることが記載されている。しかし、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂ともに、硬化性に劣る欠点があり、また、難燃性向上の効果についても十分ではない場合があった。   Therefore, various epoxy resins and epoxy resin curing agents have been studied from the above background. As an example of an epoxy resin curing agent, a naphthalene-based resin is known, and Patent Document 1 discloses an application of a naphthol aralkyl resin to a semiconductor sealing material. It is flame retardant, low moisture absorption, and low thermal expansion. It is described that it is excellent. Patent Document 2 proposes a curing agent having a biphenyl structure and describes that it is effective for improving flame retardancy. However, both naphthol aralkyl resins and biphenyl aralkyl resins have drawbacks that are inferior in curability, and there are cases where the effect of improving flame retardancy is not sufficient.

一方、エポキシ樹脂についても、これらの要求を満足するものは未だ知られていない。例えば、周知のビスフェノール型エポキシ樹脂は、常温で液状であり、作業性に優れていることや、硬化剤、添加剤等との混合が容易であることから広く使用されているが、耐熱性、耐湿性の点で問題がある。また、耐熱性を改良したものとして、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が知られているが、難燃性に関しては不十分である。   On the other hand, an epoxy resin that satisfies these requirements is not yet known. For example, the well-known bisphenol type epoxy resin is in a liquid state at room temperature and is widely used because it is excellent in workability and easy to mix with a curing agent, an additive, etc. There is a problem in terms of moisture resistance. In addition, an o-cresol novolac type epoxy resin is known as an improved heat resistance, but the flame retardancy is insufficient.

ハロゲン系難燃剤を用いることなく難燃性を向上させるための方策として、リン酸エステル系の難燃剤を添加する方法が開示されている。しかし、リン酸エステル系の難燃剤を用いる方法では、耐湿性が十分ではない。また、高温、多湿な環境下ではリン酸エステルが加水分解を起こし、絶縁材料としての信頼性を低下させる問題があった。   As a measure for improving flame retardancy without using a halogen flame retardant, a method of adding a phosphate ester flame retardant is disclosed. However, the method using a phosphate ester flame retardant does not have sufficient moisture resistance. In addition, the phosphoric acid ester is hydrolyzed under a high temperature and humidity environment, and there is a problem that the reliability as an insulating material is lowered.

リン原子やハロゲン原子を含むことなく、難燃性を向上させるものとして、特許文献2及び3ではビフェニル構造を有するアラルキル型エポキシ樹脂を半導体封止材へ応用した例が開示されている。特許文献4には、ナフタレン構造を有するアラルキル型エポキシ樹脂を使用する例が開示されている。しかしながら、これらのエポキシ樹脂は、難燃性、耐湿性又は耐熱性のいずれかにおいて性能が十分でない。なお、特許文献7及び8にはナフトール系アラルキル型エポキシ樹脂及びこれを含有する半導体封止材料が開示されているが、難燃性に着目したものはない。   Patent Documents 2 and 3 disclose an example in which an aralkyl epoxy resin having a biphenyl structure is applied to a semiconductor encapsulant as a material that improves flame retardancy without containing a phosphorus atom or a halogen atom. Patent Document 4 discloses an example in which an aralkyl type epoxy resin having a naphthalene structure is used. However, these epoxy resins have insufficient performance in any of flame retardancy, moisture resistance or heat resistance. Patent Documents 7 and 8 disclose a naphthol-based aralkyl epoxy resin and a semiconductor sealing material containing the naphthol-based aralkyl epoxy resin, but nothing focuses on flame retardancy.

一方、耐湿性、低応力性の向上に着目したエポキシ樹脂組成物の例として、特許文献5及び6にはスチレン化フェノールノボラック樹脂及びそのエポキシ樹脂を用いるエポキシ樹脂組成物が開示されているが、これらは難燃性に着目したものはない。 On the other hand, as an example of an epoxy resin composition focused on improving moisture resistance and low stress, Patent Documents 5 and 6 disclose a styrenated phenol novolac resin and an epoxy resin composition using the epoxy resin. None of these focus on flame retardancy.

また、特許文献7には、インデン変性多官能フェノール性化合物が開示されており、これを用いて得られる硬化物が低誘電性等に優れることが記載されているが、難燃性に着目したものではなく、更には官能基濃度と難燃性の関係に着目したものもなかった。   Patent Document 7 discloses an indene-modified polyfunctional phenolic compound, and it is described that a cured product obtained by using this compound is excellent in low dielectric constant, etc., but attention has been paid to flame retardancy. In addition, there was nothing that focused on the relationship between functional group concentration and flame retardancy.

本発明の目的は、積層、成形、注型、接着等の用途において、難燃性に優れるとともに、耐湿性、低弾性等にも優れた性能を有するエポキシ樹脂を提供すること、優れた難燃性を有するとともに、耐湿性、低弾性等にも優れた硬化物を与える電気・電子部品類の封止、回路基板材料等に有用なエポキシ樹脂組成物を提供すること、及びその硬化物を提供することにある。   The object of the present invention is to provide an epoxy resin having excellent performance in terms of moisture resistance, low elasticity, etc., as well as excellent flame resistance in applications such as lamination, molding, casting and adhesion, and excellent flame resistance Providing an epoxy resin composition useful for sealing electrical and electronic parts, circuit board materials, etc. that provide a cured product that has excellent properties such as moisture resistance and low elasticity, and also provides a cured product thereof There is to do.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)

Figure 2009242658
(Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、R1は下記式(a)で表される置換基を示し、p及びqは0〜2の数を示すが、p+qは1以上である。Xは下記式(c)又は式(d)で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜20の数を示す。
Figure 2009242658
Figure 2009242658
)で表され、水酸基当量が200〜400g/eq.の範囲であることを特徴とする多価ヒドロキシ化合物である。 That is, the present invention provides the following general formula (1)
Figure 2009242658
(A represents a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, R 1 represents a substituent represented by the following formula (a), p and q Represents a number of 0 to 2, but p + q is 1 or more, X is a bridging group represented by the following formula (c) or formula (d), and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are Independently, a hydrogen atom or a C1-C6 hydrocarbon group is shown, B shows the group which consists of a benzene ring, a biphenyl ring, or a naphthalene ring, n shows the number of 1-20.
Figure 2009242658
Figure 2009242658
) With a hydroxyl group equivalent of 200 to 400 g / eq. It is a polyhydric hydroxy compound characterized by being in the range.

上記多価ヒドロキシ化合物は、150℃における溶融粘度が0.02〜2.0Pa・sの範囲であることが好ましい。   The polyvalent hydroxy compound preferably has a melt viscosity at 150 ° C. in the range of 0.02 to 2.0 Pa · s.

また、本発明は、下記一般式(2)で表される多価ヒドロキシ化合物のヒドロキシ基1モルに対し、インデン0.1〜4.0モルを、酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする上記式(a)で表される置換基が多価ヒドロキシ化合物のベンゼン環又はナフタレン環に置換した構造を有する多価ヒドロキシ化合物の製造方法である。

Figure 2009242658
(式中、A、X及びnは、一般式(1)と同じ意味を有する。) Further, the present invention is characterized in that 0.1 mol to 4.0 mol of indene is reacted in the presence of an acid catalyst with respect to 1 mol of the hydroxy group of the polyvalent hydroxy compound represented by the following general formula (2). This is a method for producing a polyvalent hydroxy compound having a structure in which the substituent represented by the above formula (a) is substituted on the benzene ring or naphthalene ring of the polyvalent hydroxy compound.
Figure 2009242658
(In the formula, A, X and n have the same meaning as in the general formula (1).)

更に、本発明は、下記一般式(3)

Figure 2009242658
(Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくはグリシジルオキシ基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、Gはグリシジル基を示す。R1、p、q及びnは一般式(1)と同じ意味を有する。)
で表されるエポキシ当量が250〜500g/eq.の範囲であることを特徴とするエポキシ樹脂である。 Furthermore, the present invention provides the following general formula (3)
Figure 2009242658
(A represents a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a glycidyloxy group, and G represents a glycidyl group. R 1 , p, q and n represent general formulas. (It has the same meaning as (1).)
The epoxy equivalent represented by 250-500 g / eq. It is the epoxy resin characterized by being in the range.

上記エポキシ樹脂の150℃における溶融粘度が0.02〜2.0Pa・sの範囲にあることが好ましい。   The epoxy resin preferably has a melt viscosity at 150 ° C. in the range of 0.02 to 2.0 Pa · s.

また、本発明は、上記の多価ヒドロキシ化合物とエピクロルヒドリンを反応させることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法である。   Moreover, this invention is a manufacturing method of the epoxy resin characterized by making said polyhydric hydroxy compound and epichlorohydrin react.

更に、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、上記の多価ヒドロキシ化合物及び上記のエポキシ樹脂の一方又は両方を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物である。また、本発明は上記のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる難燃性のエポキシ樹脂硬化物である。   Furthermore, the present invention is an epoxy resin composition comprising one or both of the above polyvalent hydroxy compound and the above epoxy resin as an essential component in an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent. Moreover, this invention is a flame-retardant epoxy resin hardened | cured material formed by hardening | curing said epoxy resin composition.

本発明のエポキシ樹脂及び多価ヒドロキシ化合物は、エポキシ樹脂組成物に応用した場合、難燃性に優れるとともに、耐湿性及び低弾性にも優れた硬化物を与え、電気・電子部品類の封止、回路基板材料等の用途に好適に使用することが可能である。特に難燃性に優れ、環境負荷のある難燃剤の使用を不要とさせ又は減少させる。   When applied to an epoxy resin composition, the epoxy resin and the polyvalent hydroxy compound of the present invention give a cured product that is excellent in flame retardancy and also in moisture resistance and low elasticity, and seals electrical and electronic parts. It can be suitably used for applications such as circuit board materials. In particular, the use of a flame retardant having excellent flame retardancy and environmental impact is made unnecessary or reduced.

まず、本発明の多価ヒドロキシ化合物(以下、PINと略す)について説明する。本発明のPINは一般式(1)で表され、これは一般式(2)で表される多価ヒドロキシ化合物(PINと区別する場合は、多価ヒドロキシ化合物(2)ともいう)とインデンを反応させることにより得ることができる。   First, the polyvalent hydroxy compound (hereinafter abbreviated as PIN) of the present invention will be described. The PIN of the present invention is represented by the general formula (1), which includes a polyvalent hydroxy compound represented by the general formula (2) (also referred to as a polyvalent hydroxy compound (2) when distinguished from PIN) and indene. It can be obtained by reacting.

本発明のPINでは、先ず、多価ヒドロキシ化合物(2)の基本構造に対し、インデンを付加させることによって、水酸基当量を任意に調整することができる。つまり、エポキシ樹脂硬化物においては、エポキシ基と水酸基との反応により生成するヒドロキシプロピル基が燃え易いとされているが、水酸基当量を高当量化することで、エポキシ基由来の易燃成分の脂肪族炭素率は低くなり、高度な難燃性を発現させることができる。また、芳香族性に富んだインデンを付加させることにより、芳香族性はより一層向上し、難燃性に加え耐湿性の向上にも効果的である。   In the PIN of the present invention, first, the hydroxyl equivalent can be arbitrarily adjusted by adding indene to the basic structure of the polyvalent hydroxy compound (2). In other words, in the cured epoxy resin, the hydroxypropyl group produced by the reaction between the epoxy group and the hydroxyl group is said to be easily burned, but by increasing the hydroxyl equivalent, the flammable component fat derived from the epoxy group The group carbon ratio is lowered, and high flame retardancy can be exhibited. Moreover, by adding indene rich in aromaticity, the aromaticity is further improved, and it is effective in improving moisture resistance in addition to flame retardancy.

よって、これらを用いて高難燃性のエポキシ樹脂組成物、特に半導体封止用エポキシ樹脂組成物が得られる。すなわち、それらの組成物における高難燃性とともに、耐湿性や低弾性に優れた物性が発現され、この材料を用いて信頼性の高い半導体装置が得られる。   Therefore, a highly flame-retardant epoxy resin composition, especially an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation is obtained using these. That is, in addition to high flame retardancy in these compositions, physical properties excellent in moisture resistance and low elasticity are expressed, and a highly reliable semiconductor device can be obtained using this material.

次に、本発明のPINでは、インデンを付加することで、分子量は増加するが、半導体封止材等に適した溶融粘度範囲を維持できる。このことは半導体封止用材料として使用した場合、シリカ等の高充填化が可能であり、その結果、各種物性の向上、例えば、難燃性の向上や更なる低吸水化や熱膨張係数の減少等により信頼性に優れた材料が得られる。   Next, in the PIN of the present invention, by adding indene, the molecular weight increases, but the melt viscosity range suitable for a semiconductor encapsulant or the like can be maintained. When this is used as a semiconductor sealing material, it is possible to increase the filling of silica or the like. As a result, various physical properties are improved, for example, improved flame retardancy, further lower water absorption and thermal expansion coefficient. A material having excellent reliability can be obtained due to reduction or the like.

本発明のPINは、一般式(2)で表される多価ヒドロキシ化合物(2)とインデンとを付加反応させることにより得られる。この際、多価ヒドロキシ化合物(2)とインデンとの割合としては、得られる硬化物の難燃性と硬化性のバランスを考慮すると、フェノール成分(一般式(2)中のAで表される基をいう)1モルに対するインデンの使用割合が0.1から4.0モルの範囲が好ましく、より好ましくは1.0〜3.0モルの範囲である。別の観点からは、多価ヒドロキシ化合物(2)中のヒドロキシ基1モルに対するインデンの使用割合が0.1から4.0モルの範囲が好ましく、より好ましくは1.0〜3.0モルの範囲である。更に別の観点からは、多価ヒドロキシ化合物(2)1モルに対するインデンの使用割合が0.1から4.0モルの範囲が好ましく、より好ましくは1.0〜3.0モルの範囲である   The PIN of the present invention can be obtained by addition reaction of the polyvalent hydroxy compound (2) represented by the general formula (2) and indene. At this time, the ratio between the polyvalent hydroxy compound (2) and the indene is represented by a phenol component (A in the general formula (2) in consideration of the balance between flame retardancy and curability of the obtained cured product). The ratio of indene to 1 mol) is preferably in the range of 0.1 to 4.0 mol, more preferably in the range of 1.0 to 3.0 mol. From another point of view, the use ratio of indene with respect to 1 mol of the hydroxy group in the polyvalent hydroxy compound (2) is preferably in the range of 0.1 to 4.0 mol, more preferably 1.0 to 3.0 mol. It is a range. From another point of view, the use ratio of indene to 1 mol of polyvalent hydroxy compound (2) is preferably in the range of 0.1 to 4.0 mol, more preferably in the range of 1.0 to 3.0 mol.

この反応では、インデンが多価ヒドロキシ化合物(2)中のOH基を有する芳香族環を攻撃して上記式(a)で表わされるインデニル基が置換する。また、インデンの付加位置は、主として、多価ヒドロキシ化合物の空位のオルソ及び/又はパラ位である。   In this reaction, indene attacks the aromatic ring having an OH group in the polyvalent hydroxy compound (2) to replace the indenyl group represented by the above formula (a). The indene is added mainly at the vacant ortho and / or para position of the polyvalent hydroxy compound.

また、本発明のPINは、フェノール成分に対してインデンの使用割合が過剰の場合、インデンの付加反応割合が上昇し、分子量を容易に増大させることができる。   Further, in the PIN of the present invention, when the proportion of indene used is excessive with respect to the phenol component, the proportion of indene addition reaction increases, and the molecular weight can be easily increased.

このようにして得られる本発明のPINの水酸基当量は200〜400g/eq.の範囲にあり、より好ましくは200〜300g/eq.の範囲である。水酸基当量がこの範囲より低いと高度な難燃性は得られ難く、この範囲より高いと高度な難燃性は得られるが、硬化性に劣り、同用途での使用が困難になる傾向がある。   The hydroxyl equivalent of the PIN of the present invention thus obtained is 200 to 400 g / eq. And more preferably 200 to 300 g / eq. Range. If the hydroxyl equivalent is lower than this range, it is difficult to obtain high flame retardancy. .

また、本発明のPINの基本構造となる多価ヒドロキシ化合物(2)として、汎用のフェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等が挙げられる。より高度な難燃性を得るためには、アラルキル構造を有する多価ヒドロキシ化合物を用いることが好ましい。すなわち、一般式(2)において、Xが式(d)で表わされる構造を有する多価ヒドロキシ化合物が好ましい。   Examples of the polyvalent hydroxy compound (2) serving as the basic structure of the PIN of the present invention include general-purpose phenol resins, phenol aralkyl resins, biphenyl aralkyl resins, and naphthol aralkyl resins. In order to obtain higher flame retardancy, it is preferable to use a polyvalent hydroxy compound having an aralkyl structure. That is, in the general formula (2), a polyvalent hydroxy compound having a structure in which X is represented by the formula (d) is preferable.

また、本発明のPINの150℃における溶融粘度は0.02〜2.0Pa・sの範囲のものが好ましい。作業性の面から、溶融粘度は上記範囲において低い程好ましい。   The melt viscosity at 150 ° C. of the PIN of the present invention is preferably in the range of 0.02 to 2.0 Pa · s. From the viewpoint of workability, the melt viscosity is preferably as low as possible within the above range.

さらには、軟化点は40〜150℃であることがよく、好ましくは50〜100℃の範囲である。ここで、軟化点は、JIS−K−2207の環球法に基づき測定される軟化点を指す。これより低いと、これをエポキシ樹脂に配合したとき、硬化物の耐熱性が低下し、これより高いと成形時の流動性が低下する。   Further, the softening point is preferably 40 to 150 ° C, and preferably in the range of 50 to 100 ° C. Here, the softening point refers to a softening point measured based on the ring and ball method of JIS-K-2207. When lower than this, when this is mix | blended with an epoxy resin, the heat resistance of hardened | cured material falls, and when higher than this, the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding will fall.

一般式(1)、(2)及び(3)において、Aを除き、共通の記号は同じ意味を有すると理解される。これらの式において、独立に、Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示す。ただし、一般式(3)においては、Aは水酸基が置換することはなく、グリシジルオキシ基が置換する点で相違する。なお、一般式(3)において、Gはグリシジル基を示す。一般式(1)、(2)及び(3)において、Aにアルキル基が置換する場合、アルキル基としては炭素数1〜3のアルキル基が好ましい。水酸基が置換する場合、その数は1が好ましい。R1は上記式(a)で表されるインデニル基を示す。p及びqは0〜2の数を示すが、p+qは1以上である。有利には1個のAに対し、平均として0.2〜2個のインデニル基が置換することが好ましい。Xは式(c)又は式(d)で表される架橋基であり、好ましくは式(d)で表される架橋基である。R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜20の数を示す。好ましくは、平均として1.5〜3.0の範囲である。さらにn=2以上である成分がゲルパーミエーションクロマトグラフィーチャートの面積百分率値において30%以上であるものが好ましい。 In general formulas (1), (2) and (3), it is understood that common symbols have the same meaning except A. In these formulas, A independently represents a group comprising a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group. However, in the general formula (3), A is different in that a hydroxyl group is not substituted and a glycidyloxy group is substituted. In general formula (3), G represents a glycidyl group. In the general formulas (1), (2) and (3), when A is substituted with an alkyl group, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. When the hydroxyl group is substituted, the number is preferably 1. R 1 represents an indenyl group represented by the above formula (a). p and q represent a number of 0 to 2, but p + q is 1 or more. Preferably, an average of 0.2 to 2 indenyl groups are substituted for one A. X is a crosslinking group represented by the formula (c) or the formula (d), preferably a crosslinking group represented by the formula (d). R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, B represents a group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring, and n represents 1 to 1 The number of 20 is shown. Preferably, it is in the range of 1.5 to 3.0 as an average. Furthermore, it is preferable that the component in which n = 2 or more is 30% or more in the area percentage value of the gel permeation chromatography chart.

次に、本発明のPINの製造方法について説明する。本発明のPINを製造する方法で用いる多価ヒドロキシ化合物(2)として、汎用のフェノール樹脂が挙げられる。具体的には一般式(2)における連結基Xがアルデヒド又はケトン類から誘導されたもの、例えば、一般式(5)で表されるものがある。   Next, a method for manufacturing the PIN of the present invention will be described. As the polyvalent hydroxy compound (2) used in the method for producing the PIN of the present invention, a general-purpose phenol resin can be mentioned. Specifically, there are those in which the linking group X in the general formula (2) is derived from aldehydes or ketones, for example, those represented by the general formula (5).

Figure 2009242658
ここで、R7は水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基又は水酸基を示し、R2及びR3は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示す。nは通常1〜20の数を示す。
Figure 2009242658
Here, R 7 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, and R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. n shows the number of 1-20 normally.

また、フェノールアラルキル樹脂も同様に挙げられる。具体的には一般式(2)における連結基Xがキシリレングリコール類、キシリレングリコールジメチルエーテル類、キシリレンジクロライド類、ジビニルベンゼン類、ジイソプロペニルベンゼン類等から誘導されたもの、例えば、一般式(6)で表されるものである。   Moreover, a phenol aralkyl resin is also mentioned similarly. Specifically, the linking group X in the general formula (2) is derived from xylylene glycols, xylylene glycol dimethyl ethers, xylylene dichlorides, divinylbenzenes, diisopropenylbenzenes, etc. It is represented by (6).

Figure 2009242658
ここで、R7は水素原子、炭素数1〜8の炭化水素基又は水酸基を示し、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示す。nは通常1〜20の数を示す。
Figure 2009242658
Here, R 7 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, and R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. n shows the number of 1-20 normally.

さらには、ビフェニルアラルキル樹脂も同様に挙げられる。具体的には一般式(2)における連結基Xがジヒドロキシメチルビフェニル類、ジメトキシメチルビフェニル類、ジクロロメチルビフェニル類等から誘導されたもの、例えば、一般式(7)で表されるものである。   Furthermore, a biphenyl aralkyl resin is mentioned similarly. Specifically, the linking group X in the general formula (2) is derived from dihydroxymethylbiphenyls, dimethoxymethylbiphenyls, dichloromethylbiphenyls, etc., for example, represented by the general formula (7).

Figure 2009242658
一般式(7)において、R4、R5、R7及びnは一般式(6)と同じ意味を有する。
Figure 2009242658
In the general formula (7), R 4 , R 5 , R 7 and n have the same meaning as in the general formula (6).

さらには、ナフタレンアラルキル樹脂も同様に挙げられる。具体的には一般式(2)における連結基Xがジヒドロキシメチルナフタレン類、ジメトキシメチルナフタレン類、ジクロロメチルナフタレン類等から誘導されたもの、例えば、一般式(8)で表されるものである。

Figure 2009242658


一般式(8)において、R4、R5、R7及びnは一般式(6)と同じ意味を有する。 Furthermore, a naphthalene aralkyl resin is mentioned similarly. Specifically, the linking group X in the general formula (2) is derived from dihydroxymethylnaphthalenes, dimethoxymethylnaphthalenes, dichloromethylnaphthalenes, etc., for example, represented by the general formula (8).
Figure 2009242658


In the general formula (8), R 4 , R 5 , R 7 and n have the same meaning as in the general formula (6).

さらには、ナフトールアラルキル樹脂も同様に挙げられる。具体的には一般式(2)におけるAがナフタレン環を示し、連結基Xがキシリレングリコール類、キシリレングリコールジメチルエーテル類、キシリレンジクロライド類等から誘導されたもの、例えば、一般式(9)で表されるものである。   Furthermore, a naphthol aralkyl resin is mentioned similarly. Specifically, A in the general formula (2) represents a naphthalene ring, and the linking group X is derived from xylylene glycols, xylylene glycol dimethyl ethers, xylylene dichlorides, etc., for example, the general formula (9) It is represented by

Figure 2009242658
ここで、一般式(9)において、R4、R5、R7及びnは一般式(6)と同じ意味を有する。
Figure 2009242658
Here, in the general formula (9), R 4 , R 5 , R 7 and n have the same meaning as in the general formula (6).

これらの多価ヒドロキシ化合物(2)を得るために用いられるフェノール類又はナフトール類としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、エチルフェノール類、イソプロピルフェノール類、ターシャリーブチルフェノール類、アリルフェノール類、フェニルフェノール類、2,6−キシレノール、2,6−ジエチルフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、1−ナフトール、2−ナフトール、1,5−ナフタレンジオール、1,6−ナフタレンジオール、1,7−ナフタレンジオール、2,6−ナフタレンジオール、2,7−ナフタレンジオールなどが挙げられる。これらのフェノール類又はナフトール類は単独でもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of phenols or naphthols used to obtain these polyvalent hydroxy compounds (2) include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, ethylphenols, isopropylphenols, and tertiary butylphenol. , Allylphenols, phenylphenols, 2,6-xylenol, 2,6-diethylphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, 1-naphthol, 2-naphthol, 1,5-naphthalenediol, 1,6-naphthalenediol 1,7-naphthalenediol, 2,6-naphthalenediol, 2,7-naphthalenediol, and the like. These phenols or naphthols may be used alone or in combination of two or more.

反応に用いるインデン中には、他の反応成分として、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、クマロン、ベンゾチオフェン、インドール、ビニルナフタレン等の不飽和結合含有成分を含む場合、得られる多価ヒドロキシ化合物にはこれらから生ずる基が芳香環上に置換した化合物が含まれることになる。本発明の多価ヒドロキシ化合物の製造方法で得られるフェノール樹脂は、このような置換基を有する多価ヒドロキシ化合物を含み得る。同様に、本発明のエポキシ樹脂の製造方法で得られるエポキシ樹脂は、このような置換基を有するエポキシ樹脂を含み得る。   The indene used for the reaction contains a polyvalent hydroxy compound obtained when it contains an unsaturated bond-containing component such as styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene, coumarone, benzothiophene, indole, and vinylnaphthalene as other reaction components. These include compounds in which the groups resulting therefrom are substituted on the aromatic ring. The phenol resin obtained by the method for producing a polyvalent hydroxy compound of the present invention may contain a polyvalent hydroxy compound having such a substituent. Similarly, the epoxy resin obtained by the method for producing an epoxy resin of the present invention can include an epoxy resin having such a substituent.

インデンを多価ヒドロキシ化合物(2)に反応させる本発明の方法において、インデンの使用量は、多価ヒドロキシ化合物のフェノール成分1モルに対し、0.1〜4モルの範囲が好ましい。この範囲より少ない場合は、原料の多価ヒドロキシ化合物の性質が改良されないままの状態であり、この範囲より多い場合は、官能基密度が低くなり過ぎて硬化性が低下する傾向がある。本発明では、これらインデンの使用量により、PINの水酸基当量を200g/eq〜400g/eq.に調整することが可能である。この結果、エポキシ樹脂組成物の難燃性、耐湿性、低弾性等の優れた物性を発現し、半導体封止材料等の用途で難燃性及び信頼性等に優れた組成物を与える。それ故、インデンの使用割合は、原料の多価ヒドロキシ化合物自身の水酸基当量により、変更される。すなわち、フェノールノボラック樹脂のような水酸基当量の小さいものは、比較的インデンの使用割合が多くなり、アルキル置換フェノールノボラック類、フェノールアラルキル樹脂類、ビフェニルアラルキル樹脂類、ナフトールアラルキル樹脂類等では相対的に使用割合が少なくてもよい。   In the method of the present invention in which indene is reacted with polyvalent hydroxy compound (2), the amount of indene used is preferably in the range of 0.1 to 4 mol with respect to 1 mol of the phenol component of the polyvalent hydroxy compound. When the amount is less than this range, the properties of the starting polyvalent hydroxy compound are not improved. When the amount is more than this range, the functional group density tends to be too low and the curability tends to decrease. In the present invention, the hydroxyl equivalent of PIN is 200 g / eq to 400 g / eq. It is possible to adjust to. As a result, the epoxy resin composition exhibits excellent physical properties such as flame retardancy, moisture resistance, and low elasticity, and gives a composition excellent in flame retardancy and reliability in applications such as semiconductor sealing materials. Therefore, the use ratio of indene is changed by the hydroxyl equivalent of the polyvalent hydroxy compound itself. That is, those having a small hydroxyl equivalent, such as phenol novolac resins, have a relatively high indene usage ratio, and are relatively high in alkyl-substituted phenol novolacs, phenol aralkyl resins, biphenyl aralkyl resins, naphthol aralkyl resins, etc. The usage rate may be small.

この反応は酸触媒の存在下に行うことができる。この酸触媒としては、周知の無機酸、有機酸より適宜選択することができる。例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等の有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸あるいはイオン交換樹脂、活性白土、シリカ-アルミナ、ゼオライト等の固体酸等が挙げられる。   This reaction can be carried out in the presence of an acid catalyst. The acid catalyst can be appropriately selected from known inorganic acids and organic acids. For example, mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, organic acids such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, dimethyl sulfuric acid, diethyl sulfuric acid, zinc chloride, aluminum chloride, iron chloride, trifluoride. Examples thereof include Lewis acids such as boron fluoride or ion exchange resins, activated clay, silica-alumina, zeolite and other solid acids.

また、この反応は通常、10〜250℃で1〜20時間行われる。更に、反応の際には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物等を溶媒として使用することができる。   Moreover, this reaction is normally performed at 10-250 degreeC for 1 to 20 hours. Further, during the reaction, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, aromatic compounds such as benzene, toluene, chlorobenzene, and dichlorobenzene can be used as the solvent.

この反応を実施する具体的方法としては、全原料を一括装入し、そのまま所定の温度で反応させるか、又は、多価ヒドロキシ化合物と触媒を装入し、所定の温度に保ちつつ、インデンを滴下させながら反応させる方法が一般的である。この際、滴下時間は、5時間以下が好ましく、通常、1〜10時間である。反応後、溶媒を使用した場合は、必要により、触媒成分を取り除いた後、溶媒を留去させて本発明の樹脂を得ることができ、溶媒を使用しない場合は、直接熱時排出することによって目的物を得ることができる。   As a specific method for carrying out this reaction, all raw materials are charged together and reacted at a predetermined temperature as it is, or a polyvalent hydroxy compound and a catalyst are charged and maintained at a predetermined temperature while indene is added. The method of making it react, making it dripping is common. At this time, the dropping time is preferably 5 hours or less, and usually 1 to 10 hours. If a solvent is used after the reaction, the catalyst component can be removed if necessary, and then the solvent can be distilled off to obtain the resin of the present invention. If the solvent is not used, it can be discharged directly when heated. The object can be obtained.

次に、本発明のエポキシ樹脂について述べる。
本発明のエポキシ樹脂(PINEと略す)は一般式(3)で表される。また、多価ヒドロキシ化合物(PIN)は一般式(1)で表される。PINEは、PINをエポキシ化することにより得ることができる。
Next, the epoxy resin of the present invention will be described.
The epoxy resin (abbreviated as PINE) of the present invention is represented by the general formula (3). The polyvalent hydroxy compound (PIN) is represented by the general formula (1). PINE can be obtained by epoxidizing PIN.

一般式(3)において、R1は水素原子、炭素数1〜8のアルコキシ基、グリシジルオキシ基、ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を示す。ここで、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ビニルエーテル基、イソプロポキシ基、アリルオキシ基、プロパルギルエーテル基、プトキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基が挙げられ、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が例示される。また、炭化水素基としてはメチル基、エチル基、ビニル基、エチン基、n−プロピル基、イソプロピル基、アリル基、プロパルギル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−アミル基、sec−アミル基、tert−アミル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基等が挙げられる。 In general formula (3), R 1 represents a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, glycidyloxy group, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Here, examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a vinyl ether group, an isopropoxy group, an allyloxy group, a propargyl ether group, a putoxy group, a phenoxy group, and a benzyloxy group. The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, Examples include bromine atoms. The hydrocarbon groups include methyl, ethyl, vinyl, ethyne, n-propyl, isopropyl, allyl, propargyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n- Examples include amyl group, sec-amyl group, tert-amyl group, cyclohexyl group, phenyl group, benzyl group and the like.

Xは式(a)又は式(b)で表される架橋基であるが、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示す。なお、Bを構成するこれらの環は、炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよい。XはAを架橋するが、Xの置換位置は、特に限定するものではない。
本発明のPINEは、上記一般式(1)で表されるPINと、エピクロルヒドリンを反応させることより製造することが有利であるが、この反応に限らない。
X is a bridging group represented by formula (a) or formula (b), but R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. , B represents a group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring. In addition, these rings constituting B may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. X crosslinks A, but the substitution position of X is not particularly limited.
The pine of the present invention is advantageously produced by reacting the PIN represented by the general formula (1) with epichlorohydrin, but is not limited to this reaction.

PINをエピクロルヒドリンと反応させる反応の他、PINとハロゲン化アリルを反応させ、アリルエーテル化合物とした後、過酸化物と反応させる方法をとることもできる。上記PINをエピクロルヒドリンと反応させる反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。   In addition to the reaction of reacting PIN with epichlorohydrin, a method of reacting PIN with allyl halide to form an allyl ether compound and then reacting with peroxide can be employed. The reaction for reacting the PIN with epichlorohydrin can be carried out in the same manner as a normal epoxidation reaction.

例えば、上記PINを過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、20〜150℃、好ましくは、30〜80℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際のアルカリ金属水酸化物の使用量は、PSNの水酸基1モルに対して、0.8〜1.5モル、好ましくは、0.9〜1.2モルの範囲である。また、エピクロルヒドリンはPSN中の水酸基1モルに対して過剰に用いられるが、通常、PIN中の水酸基1モルに対して、1.5〜30モル、好ましくは、2〜15モルの範囲である。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のエポキシ樹脂を得ることができる。   For example, after dissolving the above PIN in excess epichlorohydrin, in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, 20 to 150 ° C., preferably 30 to 80 ° C. in the range of 1 to 10 The method of making it react for time is mentioned. The amount of alkali metal hydroxide used in this case is in the range of 0.8 to 1.5 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol, per mol of the PSN hydroxyl group. Epichlorohydrin is used in excess with respect to 1 mol of hydroxyl group in PSN, but is usually in the range of 1.5 to 30 mol, preferably 2 to 15 mol, with respect to 1 mol of hydroxyl group in PIN. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the target epoxy is removed by distilling off the solvent. A resin can be obtained.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、少なくともエポキシ樹脂及び硬化剤を含むものであるが、次の3種類がある。
1)エポキシ樹脂の一部又は全部として前記PINEを配合した組成物。
2)硬化剤の一部又は全部として前記PINを配合した組成物。
3)エポキシ樹脂及び硬化剤の一部又は全部として前記PINEとPINを配合した組成物。
The epoxy resin composition of the present invention contains at least an epoxy resin and a curing agent, and there are the following three types.
1) The composition which mix | blended the said PINE as a part or all of an epoxy resin.
2) A composition containing the PIN as part or all of the curing agent.
3) The composition which mix | blended the said PINE and PIN as a part or all of an epoxy resin and a hardening | curing agent.

上記2)及び3)の組成物の場合、PINの配合量は、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して2〜200重量部、好ましくは5〜80重量部の範囲である。これより少ないと難燃性及び耐湿性向上の効果が小さく、これより多いと成形性及び硬化物の強度が低下する問題がある。   In the case of the above compositions 2) and 3), the amount of PIN is usually in the range of 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. If it is less than this, the effect of improving flame retardancy and moisture resistance is small, and if it is more than this, there is a problem that the moldability and the strength of the cured product are lowered.

硬化剤の全量としてPINを用いる場合、通常、PINの配合量は、PINのOH基とエポキシ樹脂中のエポキシ基の当量バランスを考慮して配合する。エポキシ樹脂及び硬化剤の当量比は、通常、0.2〜5.0の範囲であり、好ましくは0.5〜2.0の範囲である。これより大きくても小さくても、エポキシ樹脂組成物の硬化性が低下するとともに、硬化物の耐熱性、力学強度等が低下する。   When PIN is used as the total amount of the curing agent, the amount of PIN is usually determined in consideration of the equivalent balance between the OH group of PIN and the epoxy group in the epoxy resin. The equivalent ratio of the epoxy resin and the curing agent is usually in the range of 0.2 to 5.0, preferably in the range of 0.5 to 2.0. If it is larger or smaller than this, the curability of the epoxy resin composition is lowered, and the heat resistance, mechanical strength and the like of the cured product are lowered.

硬化剤としてPIN以外の硬化剤を併用することができる。その他の硬化剤の配合量は、PINの配合量が、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して2〜200重量部、好ましくは5〜80重量部の範囲が保たれる範囲内で決定される。PINの配合量がこれより少ないと低吸湿性、密着性及び難燃性向上の効果が小さく、これより多いと成形性及び硬化物の強度が低下する問題がある。   A curing agent other than PIN can be used in combination as the curing agent. The blending amount of the other curing agent is determined so that the blending amount of PIN is usually 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. . If the amount of PIN is less than this, the effect of improving the low hygroscopicity, adhesion and flame retardancy is small, and if it is more than this, the moldability and the strength of the cured product are lowered.

PIN以外の硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として知られているものはすべて使用でき、ジシアンジアミド、酸無水物類、多価フェノール類、芳香族及び脂肪族アミン類等がある。これらの中でも、半導体封止材等の高い電気絶縁性が要求される分野においては、多価フェノール類を硬化剤として用いることが好ましい。以下に、硬化剤の具体例を示す。   As the curing agent other than PIN, all those generally known as epoxy resin curing agents can be used, and examples thereof include dicyandiamide, acid anhydrides, polyhydric phenols, aromatic and aliphatic amines. Among these, polyhydric phenols are preferably used as a curing agent in a field where high electrical insulation properties such as a semiconductor sealing material are required. Below, the specific example of a hardening | curing agent is shown.

酸無水物硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ドデシニルコハク酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。   Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, dodecynyl succinic anhydride, nadic anhydride, There are trimellitic anhydride and the like.

多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o-クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類がある。更には、フェノール類、ナフトール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’-ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、p-キシリレンジクロライド、ビスクロロメチルビフェニル等の縮合剤により合成される多価フェノール性化合物等がある。   Examples of the polyhydric phenols include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, or the like. , Tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolak, o-cresol novolak, naphthol novolak, polyvinylphenol, There are phenols. Furthermore, divalent phenols such as phenols, naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, There are polyhydric phenolic compounds synthesized by a condensing agent such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene dichloride, bischloromethylbiphenyl, and the like.

アミン類としては、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類がある。
上記組成物には、これら硬化剤の1種又は2種以上を混合して用いることができる。
Examples of amines include aromatic amines such as 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine, ethylenediamine, There are aliphatic amines such as hexamethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine.
One or more of these curing agents can be mixed and used in the composition.

上記組成物に使用されるエポキシ樹脂としては、1分子中にエポキシ基を2個以上有するもの中から選択される。例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’-ビフェノール、2,2’−ビフェノール、テトラブロモビスフェノールA、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンや、フェノール、クレゾール、ナフトール等のノボラック樹脂、フェノール、クレゾール、ナフトール等のアラルキル樹脂等の3価以上のフェノール性化合物のグルシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は1種又は2種以上を混合して用いることができる。   The epoxy resin used in the composition is selected from those having two or more epoxy groups in one molecule. For example, divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, tetrabromobisphenol A, hydroquinone, resorcin, or tris- (4 -Hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, novolak resins such as phenol, cresol and naphthol, and aralkyl resins such as phenol, cresol and naphthol There are glycidyl etherified compounds of the active compound. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

また、このエポキシ樹脂組成物中には、エポキシ樹脂成分として、PINE以外に別種のエポキシ樹脂を配合してもよい。この場合のエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂はすべて使用できる。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類、フェノール系アラルキル樹脂類、ビフェニルアラルキル樹脂類、ナフトール系アラルキル樹脂類又はテトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種又は2種以上を混合して用いることができる。そして、本発明のPINEを必須成分とする組成物の場合、PINEの配合量はエポキシ樹脂全体中、5〜100%、好ましくは60〜100%の範囲であることがよい。   Moreover, in this epoxy resin composition, you may mix | blend another kind of epoxy resin other than PINE as an epoxy resin component. As the epoxy resin in this case, all ordinary epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule can be used. Examples include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, or tris- (4-hydroxyphenyl) methane. , 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, o-cresol novolak and other trivalent or higher phenols, phenol-based aralkyl resins, biphenyl-aralkyl resins, naphthol-based aralkyl resins Alternatively, there are glycidyl ethers derived from halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. And in the case of the composition which uses PINE of this invention as an essential component, the compounding quantity of PINE is 5-100% in the whole epoxy resin, Preferably it is good to be the range of 60-100%.

本発明のエポキシ樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデン樹脂、インデン・クマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を他の改質剤等として適宜配合してもよい。添加量は、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、2〜30重量部の範囲である。   In the epoxy resin composition of the present invention, an oligomer or a polymer compound such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene resin, indene-coumarone resin, phenoxy resin, etc. is used as another modifier. You may mix | blend suitably. The addition amount is usually in the range of 2 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、無機充填剤、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤等の添加剤を配合できる。無機充填剤としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ等が挙げられ、半導体封止材に用いる場合の好ましい配合量は70重量%以上であり、更に好ましくは80重量%以上である。   In addition, the epoxy resin composition of the present invention can contain additives such as inorganic fillers, pigments, refractory agents, thixotropic agents, coupling agents, fluidity improvers and the like. Examples of inorganic fillers include silica powder such as spherical or crushed fused silica and crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina, and the like. A preferable blending amount when used for a stopper is 70% by weight or more, and more preferably 80% by weight or more.

顔料としては、有機系又は、無機系の体質顔料、鱗片状顔料等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系等を挙げることができる。   Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments and scaly pigments. Examples of the thixotropic agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, polyethylene oxide wax, and organic bentonite.

更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には必要に応じて硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2から5重量部の範囲である。   Furthermore, a curing accelerator can be used in the epoxy resin composition of the present invention as necessary. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc., specifically 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2- Imidazoles such as heptadecylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, and phenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenyl Tetraphenyl such as ruphosphonium / ethyltriphenylborate, tetrabutylphosphonium / tetrabutylborate, tetrasubstituted phosphonium / tetrasubstituted borate, 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, N-methylmorpholine / tetraphenylborate, etc. There is boron salt. The addition amount is usually in the range of 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

更に必要に応じて、本発明の樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。   Further, if necessary, the resin composition of the present invention includes a release agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a colorant such as carbon black, and trioxide. Flame retardants such as antimony, low stress agents such as silicone oil, lubricants such as calcium stearate, etc. can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤を溶解させたワニス状態とした後に、ガラスクロス、アラミド不織布、液晶ポリマー等のポリエステル不織布、等の繊維状物に含浸させた後に溶剤除去を行い、プリプレグとすることができる。また、場合により銅箔、ステンレス箔、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム等のシート状物上に塗布することにより積層物とすることができる。   The epoxy resin composition of the present invention is made into a varnish in which an organic solvent is dissolved, and then impregnated into a fibrous material such as glass cloth, aramid nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric such as liquid crystal polymer, and the like, and then the solvent is removed. It can be. Moreover, it can be set as a laminated body by apply | coating on sheet-like materials, such as copper foil, stainless steel foil, a polyimide film, and a polyester film depending on the case.

本発明のエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させれば、エポキシ樹脂硬化物とすることができ、この硬化物は低吸湿性、高耐熱性、密着性、難燃性等の点で優れたものとなる。この硬化物は、エポキシ樹脂組成物を注型、圧縮成形、トランスファー成形等の方法により、成形加工して得ることができる。この際の温度は通常、120〜220℃の範囲である。   If the epoxy resin composition of the present invention is cured by heating, an epoxy resin cured product can be obtained, and this cured product is excellent in terms of low hygroscopicity, high heat resistance, adhesion, flame retardancy, and the like. Become. This cured product can be obtained by molding the epoxy resin composition by a method such as casting, compression molding, transfer molding or the like. The temperature at this time is usually in the range of 120 to 220 ° C.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
ここで、粘度はB型粘度計を用い、軟化点はJIS−K−2207に従い環球法で測定した。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定条件は、装置;MODEL151(ウォーターズ(株)製)、カラム;TSK−GEL2000×3本及びTSK−GEL4000×1本(いずれも東ソー(株)製)、溶媒;テトラヒドロフラン、流量;1 ml/min、温度;38℃、検出器;RIであり、検量線にはポリスチレン標準液を使用した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
Here, the viscosity was measured using a B-type viscometer, and the softening point was measured by the ring and ball method according to JIS-K-2207. The gel permeation chromatography (GPC) measurement conditions were as follows: apparatus; MODEL 151 (manufactured by Waters), column; TSK-GEL 2000 × 3 and TSK-GEL 4000 × 1 (both manufactured by Tosoh Corporation), Solvent; tetrahydrofuran; flow rate; 1 ml / min; temperature; 38 ° C; detector; RI; polystyrene standard solution was used for the calibration curve.

実施例1
1LフラスコにビスフェノールF(本州化学製、4,4’体(31%)、2,4’体(49%)、2,2’体(20%))を200g(1.0モル)を仕込み175℃まで昇温させた。溶融後、撹拌しながらp−トルエンスルホン酸0.1gを仕込み、175℃においてインデン232g(2.0モル)を約3時間かけて滴下した。更に全還流下において3時間反応を継続した。その後、減圧下で低沸点成分を除去した。更にMIBK500gに溶解させ、80℃にて5回水洗を行った。続いて、MIBKを減圧留去した後、多価ヒドロキシ化合物413gを得た。その軟化点は78℃、150℃での溶融粘度は0.06Pa・s、水酸基当量は216g/eq.であった。この化合物をPIN−Aという。
Example 1
200 g (1.0 mol) of bisphenol F (4,4 ′ form (31%), 2,4 ′ form (49%), 2,2 ′ form (20%)) manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd.) is charged into a 1 L flask. The temperature was raised to 175 ° C. After melting, 0.1 g of p-toluenesulfonic acid was charged with stirring, and 232 g (2.0 mol) of indene was added dropwise at about 175 ° C. over about 3 hours. Further, the reaction was continued for 3 hours under total reflux. Thereafter, low-boiling components were removed under reduced pressure. Further, it was dissolved in 500 g of MIBK and washed with water at 80 ° C. five times. Subsequently, after MIBK was distilled off under reduced pressure, 413 g of a polyvalent hydroxy compound was obtained. Its softening point is 78 ° C., melt viscosity at 150 ° C. is 0.06 Pa · s, and hydroxyl equivalent is 216 g / eq. Met. This compound is referred to as PIN-A.

実施例2
1Lの4口フラスコに、多価ヒドロキシ化合物成分としてフェノールノボラック(GPC測定によるn=1の成分(38%)、n=2以上の成分(62%))を200g、酸触媒としてp−トルエンスルホン酸0.19gを仕込み150℃に昇温した。次に、150℃にて攪拌しながら、インデン177gを3時間かけて滴下し反応させた。さらに150℃にて1時間反応後、MIBK500gに溶解させ、80℃にて5回水洗を行った。続いて、MIBKを減圧留去した後、多価ヒドロキシ化合物365gを得た。その軟化点は93℃、150℃での溶融粘度は0.38Pa・s、水酸基当量は200g/eq.であった。この化合物をPIN−Bという。
Example 2
In a 1 L four-necked flask, phenol novolac (n = 1 component (38%) by GPC measurement (38%), n = 2 or more component (62%)) as a polyvalent hydroxy compound component, 200 g, p-toluenesulfone as an acid catalyst The acid 0.19g was prepared and it heated up at 150 degreeC. Next, with stirring at 150 ° C., 177 g of indene was added dropwise over 3 hours to be reacted. Furthermore, after reacting at 150 ° C. for 1 hour, it was dissolved in 500 g of MIBK and washed 5 times at 80 ° C. Subsequently, after MIBK was distilled off under reduced pressure, 365 g of a polyvalent hydroxy compound was obtained. Its softening point is 93 ° C., melt viscosity at 150 ° C. is 0.38 Pa · s, and hydroxyl equivalent is 200 g / eq. Met. This compound is referred to as PIN-B.

実施例3
多価ヒドロキシ化合物成分として、フェノールアラルキル樹脂(明和化成株式会社製;MEH−7800SS、水酸基当量175g/eq.、軟化点66℃、150℃での溶融粘度0.07Pa・s)を200g、酸触媒としてp−トルエンスルホン酸0.17gを仕込み150℃に昇温した。次に、150℃にて攪拌しながら、インデン133gを3時間かけて滴下し反応させた。その後、実施例1と同様な処理を行った後、多価ヒドロキシ化合物328gを得た。その軟化点は102℃、150℃での溶融粘度は1.67Pa・s、水酸基当量は291g/eq.であった。この化合物をPIN−Cという。PIN−Cの1H−NMRスペクトルを図1、赤外吸収スペクトルを図2、GPCチャートを図3に示す。
Example 3
200 g of phenol aralkyl resin (Maywa Kasei Co., Ltd .; MEH-7800SS, hydroxyl group equivalent 175 g / eq., Softening point 66 ° C., melt viscosity 0.050 Pa · s at 150 ° C.) as polyvalent hydroxy compound component, acid catalyst P-toluenesulfonic acid 0.17 g was charged and heated to 150 ° C. Next, 133 g of indene was added dropwise over 3 hours while stirring at 150 ° C. to cause the reaction. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was performed, and then 328 g of a polyvalent hydroxy compound was obtained. Its softening point is 102 ° C., melt viscosity at 150 ° C. is 1.67 Pa · s, and hydroxyl equivalent is 291 g / eq. Met. This compound is referred to as PIN-C. FIG. 1 shows the 1 H-NMR spectrum of PIN-C, FIG. 2 shows the infrared absorption spectrum, and FIG. 3 shows the GPC chart.

実施例4
多価ヒドロキシ化合物成分として、ビフェニルアラルキル樹脂(明和化成株式会社製;MEH−7851、水酸基当量206g/eq.、軟化点78℃、150℃での溶融粘度0.11Pa・s)を250g、酸触媒としてp−トルエンスルホン酸0.16gを仕込み150℃に昇温した。次に、150℃にて攪拌しながら、インデン70gを2時間かけて滴下し反応させた。その後、実施例1と同様な処理を行った後、多価ヒドロキシ化合物312gを得た。その軟化点は95℃、150℃での溶融粘度は0.66Pa・s、水酸基当量は264g/eq.であった。この化合物をPIN−Dという。
Example 4
As a polyvalent hydroxy compound component, 250 g of biphenyl aralkyl resin (Maywa Kasei Co., Ltd .; MEH-7851, hydroxyl group equivalent 206 g / eq., Softening point 78 ° C., melt viscosity 0.150 Pa at 150 ° C.), acid catalyst P-toluenesulfonic acid 0.16g was prepared and heated to 150 ° C. Next, with stirring at 150 ° C., 70 g of indene was added dropwise over 2 hours to be reacted. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was performed, and then 312 g of a polyvalent hydroxy compound was obtained. Its softening point is 95 ° C., melt viscosity at 150 ° C. is 0.66 Pa · s, and hydroxyl equivalent is 264 g / eq. Met. This compound is referred to as PIN-D.

実施例5
多価ヒドロキシ化合物成分として、1−ナフトールアラルキル樹脂(東都化成株式会社製;SN−475、水酸基当量210g/eq.、軟化点77℃、150℃での溶融粘度0.04Pa・s)を250g、酸触媒としてp−トルエンスルホン酸0.16gを仕込み150℃に昇温した。次に、150℃にて攪拌しながら、インデン69gを2時間かけて滴下し反応させた。その後、実施例1と同様な処理を行った後、多価ヒドロキシ化合物311gを得た。その軟化点は97℃、150℃での溶融粘度は0.34Pa・s、水酸基当量は268g/eq.であった。この化合物をPIN−Eという。
Example 5
250 g of 1-naphthol aralkyl resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd .; SN-475, hydroxyl group equivalent 210 g / eq., Softening point 77 ° C., melt viscosity 0.050 Pa · s at 150 ° C.) as a polyvalent hydroxy compound component As an acid catalyst, 0.16 g of p-toluenesulfonic acid was charged and the temperature was raised to 150 ° C. Next, with stirring at 150 ° C., 69 g of indene was dropped over 2 hours to be reacted. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was performed, and then 311 g of a polyvalent hydroxy compound was obtained. Its softening point is 97 ° C., melt viscosity at 150 ° C. is 0.34 Pa · s, and hydroxyl equivalent is 268 g / eq. Met. This compound is referred to as PIN-E.

実施例6
四つ口セパラブルフラスコに実施例1で得たPIN−A150g、エピクロルヒドリン286g、ジエチレングリコールジメチルエーテル43gを入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液43.0gを4時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂169gを得た(PINE−A)。得られた樹脂のエポキシ当量は278g/eq.、軟化点は58℃、150℃における溶融粘度は0.05Pa・sであった。
Example 6
In a four-necked separable flask, 150 g of PIN-A obtained in Example 1, 286 g of epichlorohydrin and 43 g of diethylene glycol dimethyl ether were added and dissolved by stirring. After being uniformly dissolved, 43.0 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 4 hours under a reduced pressure of 130 mmHg, and the refluxed water and epichlorohydrin were separated in a separation tank, and epichlorohydrin was The mixture was returned to the reaction vessel, and water was removed from the system to react. After completion of the reaction, the salt produced by filtration was removed, and after further washing with water, epichlorohydrin was distilled off to obtain 169 g of an epoxy resin (PINE-A). The epoxy equivalent of the obtained resin was 278 g / eq. The softening point was 58 ° C. and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.05 Pa · s.

実施例7
四つ口セパラブルフラスコに実施例2で得たPIN−B150g、エピクロルヒドリン286g、ジエチレングリコールジメチルエーテル43gを入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液43.0gを4時間かけて滴下した。その後、実施例6と同様な処理を行い、エポキシ樹脂169gを得た(PINE−B)。得られた樹脂のエポキシ当量は270g/eq.、軟化点は77℃、150℃における溶融粘度は0.16Pa・sであった。
Example 7
In a four-necked separable flask, 150 g of PIN-B obtained in Example 2, 286 g of epichlorohydrin and 43 g of diethylene glycol dimethyl ether were added and dissolved by stirring. After uniformly dissolving, 43.0 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 4 hours while maintaining the temperature at 65 ° C. under a reduced pressure of 130 mmHg. Then, the process similar to Example 6 was performed and the epoxy resin 169g was obtained (PINE-B). The epoxy equivalent of the obtained resin was 270 g / eq. The softening point was 77 ° C. and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.16 Pa · s.

実施例8
四つ口セパラブルフラスコに実施例3で得たPIN−C150g、エピクロルヒドリン286g、ジエチレングリコールジメチルエーテル43gを入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液43.0gを4時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂170gを得た(PINE−C)。得られた樹脂のエポキシ当量は350g/eq.、軟化点は95℃、150℃における溶融粘度は1.45Pa・sであった。PINE−Cの1H−NMRスペクトルを図4、赤外吸収スペクトルを図5、GPCチャートを図6に示す。
Example 8
In a four-necked separable flask, 150 g of PIN-C obtained in Example 3, 286 g of epichlorohydrin, and 43 g of diethylene glycol dimethyl ether were added and dissolved by stirring. After being uniformly dissolved, 43.0 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 4 hours under a reduced pressure of 130 mmHg, and the refluxed water and epichlorohydrin were separated in a separation tank, and epichlorohydrin was The mixture was returned to the reaction vessel, and water was removed from the system to react. After completion of the reaction, the salt produced by filtration was removed, and after further washing with water, epichlorohydrin was distilled off to obtain 170 g of an epoxy resin (PINE-C). The epoxy equivalent of the obtained resin was 350 g / eq. The softening point was 95 ° C. and the melt viscosity at 150 ° C. was 1.45 Pa · s. FIG. 4 shows the 1 H-NMR spectrum of PINE-C, FIG. 5 shows the infrared absorption spectrum, and FIG. 6 shows the GPC chart.

実施例9
実施例4で得たPIN−D150gを用い、実施例8と同様に反応させエポキシ樹脂173gを得た(PINE−D)。得られた樹脂のエポキシ当量は327g/eq.、軟化点は85℃、150℃における溶融粘度は0.55Pa・sであった。
Example 9
Using 150 g of PIN-D obtained in Example 4, it was reacted in the same manner as in Example 8 to obtain 173 g of epoxy resin (PINE-D). The epoxy equivalent of the obtained resin was 327 g / eq. The softening point was 85 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.55 Pa · s.

実施例10
実施例5で得たPIN−E150gを用い、実施例8と同様に反応させエポキシ樹脂170gを得た(PINE−E)。得られた樹脂のエポキシ当量は333g/eq.、軟化点は88℃、150℃における溶融粘度は0.28Pa・sであった。
Example 10
Using 150 g of PIN-E obtained in Example 5, the reaction was conducted in the same manner as in Example 8 to obtain 170 g of epoxy resin (PINE-E). The epoxy equivalent of the obtained resin was 333 g / eq. The softening point was 88 ° C. and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.28 Pa · s.

実施例11〜16及び比較例1〜2
エポキシ樹脂成分としてo-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(OCNE;エポキシ当量200、軟化点65℃)を使用し、硬化剤として実施例1、2、3、4、5で得たPIN−A、PIN−B、PIN−C,PIN−D、PIN−Eの他、フェノールノボラック(硬化剤A:群栄化学製、PSM−4261;OH当量103、軟化点 82℃)又はフェノールアラルキル樹脂(硬化剤B;明和化成製、MEH−7800SS、OH当量175、軟化点67℃)を使用した。充填剤としてシリカ(平均粒径18μm)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを表1及び表3に示す配合で混練しエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃にて成形し、175℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。
Examples 11-16 and Comparative Examples 1-2
PIN-A, PIN- obtained in Examples 1, 2, 3, 4, and 5 were used as curing agents, using o-cresol novolac type epoxy resin (OCNE; epoxy equivalent 200, softening point 65 ° C.) as an epoxy resin component. In addition to B, PIN-C, PIN-D and PIN-E, phenol novolak (curing agent A: manufactured by Gunei Chemical Co., PSM-4261; OH equivalent 103, softening point 82 ° C.) or phenol aralkyl resin (curing agent B; Meiwa Kasei Co., Ltd., MEH-7800SS, OH equivalent 175, softening point 67 ° C.) was used. Silica (average particle diameter of 18 μm) as a filler and triphenylphosphine as a curing accelerator were kneaded with the formulations shown in Tables 1 and 3 to obtain an epoxy resin composition. This epoxy resin composition was molded at 175 ° C. and post-cured at 175 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements.

ガラス転移点(Tg)及び線膨張係数(CTE)の測定は、熱機械測定装置を用いて10℃/分の昇温速度で求めた。また吸水率は、直径50mm、厚さ3mmの円形の試験片を用いて、85℃、85%RHの条件で100時間吸湿させた後の重量変化率とした。接着強度は、銅板2枚の間に25mm×12.5mm×0.5mmの成形物を圧縮成形機により175℃で成形し、180℃にて12時間ポストキュアを行った後、引張剪断強度を求めることにより評価した。難燃性は、厚さ1/16インチの試験片を成形し、UL94V-0規格によって評価し、5本の試験片での合計の燃焼時間で表した。結果を表2に示す。   The glass transition point (Tg) and linear expansion coefficient (CTE) were measured at a rate of temperature increase of 10 ° C./min using a thermomechanical measuring device. Further, the water absorption rate was defined as the rate of change in weight after absorbing moisture for 100 hours at 85 ° C. and 85% RH using a circular test piece having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm. The adhesive strength was obtained by molding a molded product of 25 mm × 12.5 mm × 0.5 mm between two copper plates at 175 ° C. with a compression molding machine, post-curing at 180 ° C. for 12 hours, and then adjusting the tensile shear strength. Evaluated by seeking. Flame retardance was measured by molding a 1/16 inch thick test piece, evaluated according to the UL94V-0 standard, and expressed as the total burning time of 5 test pieces. The results are shown in Table 2.

Figure 2009242658
Figure 2009242658

Figure 2009242658
Figure 2009242658

実施例17〜23及び比較例3〜4
エポキシ樹脂成分として、実施例5、6、7、8で得たPINE−A、PINE−B、PINE−C,PINE−D,PINE−E又はo-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(OCNE;エポキシ当量200、軟化点65℃)を用い、硬化剤成分として、実施例1で合成したPIN−A、フェノールノボラック(硬化剤A:群栄化学製、PSM−4261;OH当量103、軟化点 82℃)又はフェノールアラルキル樹脂(硬化剤B;明和化成製、MEH−7800SS、OH当量175、軟化点67℃)を用いた。更に、充填剤として球状シリカ(平均粒径 18μm)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを用い、表3に示す配合でエポキシ樹脂組成物を得た。表中の数値は配合における重量部を示す。
Examples 17-23 and Comparative Examples 3-4
As an epoxy resin component, PINE-A, PINE-B, PINE-C, PINE-D, PINE-E or o-cresol novolac type epoxy resin (OCNE; epoxy equivalent 200 obtained in Examples 5, 6, 7, and 8) PIN-A synthesized in Example 1 and phenol novolak (curing agent A: manufactured by Gunei Chemical Co., PSM-4261; OH equivalent 103, softening point 82 ° C.) Phenol aralkyl resin (curing agent B; manufactured by Meiwa Kasei, MEH-7800SS, OH equivalent 175, softening point 67 ° C.) was used. Furthermore, spherical silica (average particle size 18 μm) was used as a filler, triphenylphosphine was used as a curing accelerator, and an epoxy resin composition was obtained with the formulation shown in Table 3. The numerical value in a table | surface shows the weight part in a mixing | blending.

このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃で成形し、更に175℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。結果を表4に示す。   The epoxy resin composition was molded at 175 ° C. and further post-cured at 175 ° C. for 12 hours to obtain a cured product test piece, which was then subjected to various physical property measurements. The results are shown in Table 4.

Figure 2009242658
Figure 2009242658

Figure 2009242658
Figure 2009242658

本発明の多価ヒドロキシ化合物の1H−NMRスペクトル 1 H-NMR spectrum of the polyvalent hydroxy compound of the present invention 本発明の多価ヒドロキシ化合物の赤外吸収スペクトルInfrared absorption spectrum of the polyvalent hydroxy compound of the present invention 本発明の多価ヒドロキシ化合物のGPCチャートGPC chart of the polyvalent hydroxy compound of the present invention 本発明のエポキシ樹脂の1H−NMRスペクトル 1 H-NMR spectrum of the epoxy resin of the present invention 本発明のエポキシ樹脂の赤外吸収スペクトルInfrared absorption spectrum of the epoxy resin of the present invention 本発明のエポキシ樹脂のGPCチャートGPC chart of epoxy resin of the present invention

Claims (10)

下記一般式(1)
Figure 2009242658
(Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、R1は下記式(a)で表される置換基を示し、p及びqは0〜2の数を示すが、p+qは1以上である。Xは下記式(c)又は式(d)で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜20の数を示す。
Figure 2009242658
Figure 2009242658
)で表され、水酸基当量が200〜400g/eq.の範囲であることを特徴とする多価ヒドロキシ化合物。
The following general formula (1)
Figure 2009242658
(A represents a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, R 1 represents a substituent represented by the following formula (a), p and q Represents a number of 0 to 2, but p + q is 1 or more, X is a bridging group represented by the following formula (c) or formula (d), and R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are Independently, a hydrogen atom or a C1-C6 hydrocarbon group is shown, B shows the group which consists of a benzene ring, a biphenyl ring, or a naphthalene ring, n shows the number of 1-20.
Figure 2009242658
Figure 2009242658
) With a hydroxyl group equivalent of 200 to 400 g / eq. A polyvalent hydroxy compound characterized by being in the range of
150℃における溶融粘度が0.02〜2.0Pa・sの範囲である請求項1に記載の多価ヒドロキシ化合物。   The polyvalent hydroxy compound according to claim 1, wherein the melt viscosity at 150 ° C is in the range of 0.02 to 2.0 Pa · s. 下記一般式(2)で表される多価ヒドロキシ化合物のヒドロキシ基1モルに対し、インデン0.1〜4.0モルを、酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする式(a)で表される置換基が多価ヒドロキシ化合物のベンゼン環又はナフタレン環に置換した構造を有する多価ヒドロキシ化合物の製造方法。
Figure 2009242658
Figure 2009242658
Figure 2009242658
(Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくは水酸基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、Xは式(c)又は式(d)で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜20の数を示す。)
Formula (a), wherein 0.1 mol to 4.0 mol of indene is reacted in the presence of an acid catalyst with respect to 1 mol of a hydroxy group of a polyvalent hydroxy compound represented by the following general formula (2). The manufacturing method of the polyhydric hydroxy compound which has the structure where the substituent represented by these was substituted by the benzene ring or naphthalene ring of the polyhydric hydroxy compound.
Figure 2009242658
Figure 2009242658
Figure 2009242658
(A represents a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a hydroxyl group, and X is a bridging group represented by formula (c) or formula (d); R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, B represents a group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring, and n represents 1 to 1 20 number is shown.)
エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、硬化剤の一部又は全部として、請求項1又は2に記載の多価ヒドロキシ化合物を必須成分としてなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。   An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein the polyvalent hydroxy compound according to claim 1 or 2 is an essential component as part or all of the curing agent. 請求項4に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなることを特徴とする難燃性のエポキシ樹脂硬化物。   A flame retardant epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 4. 下記一般式(3)
Figure 2009242658
(Aは炭素数1〜8のアルキル基若しくはグリシジルオキシ基が置換してもよいベンゼン環又はナフタレン環からなる基を示し、Gはグリシジル基を示し、R1は下記式(a)で表される置換基を示し、p及びqは0〜2の数を示すが、p+qは1以上である。Xは下記式(c)又は式(d)で表される架橋基であり、R2、R3、R4及びR5は独立に、水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Bはベンゼン環、ビフェニル環又はナフタレン環からなる基を示し、nは1〜20の数を示す。
Figure 2009242658
Figure 2009242658
)で表されるエポキシ当量が250〜500g/eq.の範囲であることを特徴とするエポキシ樹脂。
The following general formula (3)
Figure 2009242658
(A represents a group consisting of a benzene ring or a naphthalene ring which may be substituted by an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a glycidyloxy group, G represents a glycidyl group, and R 1 is represented by the following formula (a). P and q represent a number of 0 to 2, but p + q is 1 or more, X is a cross-linking group represented by the following formula (c) or formula (d), R 2 , R 3 , R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, B represents a group consisting of a benzene ring, a biphenyl ring or a naphthalene ring, and n is a number from 1 to 20 Indicates.
Figure 2009242658
Figure 2009242658
) Represented by an epoxy equivalent of 250 to 500 g / eq. Epoxy resin characterized by being in the range.
150℃における溶融粘度が0.02〜2.0Pa・sの範囲である請求項6に記載のエポキシ樹脂。   The epoxy resin according to claim 6, wherein the melt viscosity at 150 ° C. is in the range of 0.02 to 2.0 Pa · s. 請求項1に記載の多価ヒドロキシ化合物とエピクロルヒドリンを反応させて、多価ヒドロキシ化合物のヒドロキシ基をグリシジルエーテル基とすることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法。   A method for producing an epoxy resin, comprising reacting the polyvalent hydroxy compound according to claim 1 with epichlorohydrin to convert the hydroxy group of the polyvalent hydroxy compound into a glycidyl ether group. エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、請求項6又は7に記載のエポキシ樹脂を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物。   In the epoxy resin composition which consists of an epoxy resin and a hardening | curing agent, the epoxy resin composition formed by mix | blending the epoxy resin of Claim 6 or 7 as an essential component. 請求項9に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる難燃性のエポキシ樹脂硬化物。   A flame-retardant epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 9.
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