JP2009222517A - Magnetic position detection device - Google Patents

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文浩 鈴木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic position detection device for detecting a position while maintaining high reliability even if the position of a subject to be detected is detected by a magnetic resistance effect sensor. <P>SOLUTION: This magnetic position detection device includes: a magnetic resistance effect sensor 120 consisting of a first magnetic detection part made of magnetic resistant elements M11-M14, M21-M24 consisting of a fine magnetic resistant film having a narrow wire width and a second magnetic detection part made of magnetic resistant elements M31-M34, M41-M44 consisting of a magnetic resistant film having a large wire width; and a magnet for applying a magnetic field to this sensor 120. The magnetic position detection device detects the position in the direction along the central axis m of the magnet based on the ratio value of the respective values of the sensor sensitivity of the first and the second magnetic detection parts, and the position in the rotating direction centered around the central axis m of the magnet is detected based on an output signal from the first magnetic detection part. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、磁気抵抗素子からなる磁気抵抗効果センサを利用して被検出体の位置を検出する磁気式位置検出装置に関する。   The present invention relates to a magnetic position detection device that detects a position of a detection object using a magnetoresistive sensor composed of a magnetoresistive element.

この種の磁気式位置検出装置を利用したものとしては、例えば特許文献1に記載のバイワイヤ式のシフト装置が知られている。このシフト装置は、互いに直交する第1及び第2の軸方向の2つの軸方向にそれぞれ操作可能なシフトレバーと、このシフトレバーの第1及び第2の軸方向の操作位置をそれぞれ検出するための磁気式位置検出装置とを有している。ここで、この磁気式位置検出装置には、シフトレバーの第1の軸方向の操作に伴って所定の回転軸を中心に回転する第1の磁石と、シフトレバーの第2の軸方向の操作に伴って同第1の磁石の回転軸の方向に沿って往復動するヨークと、このヨークの往復動に伴って同ヨークが当接したり、あるいは離間したりする第2の磁石とが設けられている。また、この磁気式位置検出装置には、第1の磁石により形成される磁界の磁気ベクトルの変化を検出するとともに、検出される磁気ベクトルに応じて出力される電圧信号の変化する磁気抵抗効果センサ(MREセンサ)が設けられている。さらに、この磁気式位置検出装置には、第2の磁石により形成される磁界の磁束密度の変化を検出するとともに、検出される磁束密度の大きさに応じて出力される電圧信号の変化するホールセンサも設けられている。   As a device using this type of magnetic position detection device, for example, a by-wire shift device described in Patent Document 1 is known. The shift device detects a shift lever that can be operated in two axial directions, ie, a first axial direction and a second axial direction orthogonal to each other, and an operation position of the shift lever in the first and second axial directions, respectively. And a magnetic position detecting device. Here, the magnetic position detection device includes a first magnet that rotates around a predetermined rotation axis in accordance with an operation of the shift lever in the first axial direction, and an operation of the shift lever in the second axial direction. Accordingly, a yoke that reciprocates along the direction of the rotation axis of the first magnet and a second magnet that abuts on or separates from the yoke as the yoke reciprocates are provided. ing. In addition, the magnetic position detecting device detects a change in the magnetic vector of the magnetic field formed by the first magnet, and changes a voltage signal output according to the detected magnetic vector. (MRE sensor) is provided. Further, the magnetic position detecting device detects a change in the magnetic flux density of the magnetic field formed by the second magnet, and changes the voltage signal output according to the magnitude of the detected magnetic flux density. A sensor is also provided.

シフト装置としてのこうした構成によれば、例えばシフトレバーが第1の軸方向に操作されたとすると、第1の磁石がその回転軸を中心に回転して同第1の磁石により形成される磁界の磁気ベクトルが変化するため、この磁気ベクトルの変化に伴いMREセンサの出力信号が変化する。したがって、このMREセンサの出力信号の変化に基づいてシフトレバーの第1の軸方向の操作を検出することができるようになる。また、例えばシフトレバーが第2の軸方向に操作されたとすると、ヨークが第2の磁石に当接したり、あるいは第2の磁石から離間したりして第2の磁石により形成される磁界の磁束密度が変化するため、この磁束密度の変化に伴いホールセンサの出力信号が変化する。したがって、このホールセンサの出力信号の変化に基づいて上記ヨークの位置を検出することができるようになるとともに、このヨークの位置からシフトレバーの第2の軸方向の操作も検出することができるようになる。   According to such a configuration as the shift device, for example, if the shift lever is operated in the first axial direction, the first magnet rotates about its rotation axis, and the magnetic field formed by the first magnet is reduced. Since the magnetic vector changes, the output signal of the MRE sensor changes with the change of the magnetic vector. Therefore, the operation of the shift lever in the first axial direction can be detected based on the change in the output signal of the MRE sensor. For example, if the shift lever is operated in the second axial direction, the magnetic flux generated by the second magnet when the yoke abuts on the second magnet or moves away from the second magnet. Since the density changes, the output signal of the Hall sensor changes with the change of the magnetic flux density. Therefore, the position of the yoke can be detected based on the change in the output signal of the Hall sensor, and the operation of the shift lever in the second axial direction can also be detected from the position of the yoke. become.

なお、この特許文献1には、第2の磁石により形成される磁界の磁束密度の変化を検出するためのセンサとして、上記ホールセンサに代えて、MREセンサを採用するようにしてもよい旨が記載されている。
特開2007−62664号公報
It should be noted that this Patent Document 1 may adopt an MRE sensor instead of the Hall sensor as a sensor for detecting a change in the magnetic flux density of the magnetic field formed by the second magnet. Are listed.
JP 2007-62664 A

このように、第2の磁石により形成される磁界の磁束密度の変化を検出するためのセンサとしてMREセンサを採用するようにしたとしても、確かに上記ヨークの位置を検出することはできるようにはなる。ただし、MREセンサを構成する磁気抵抗素子は一般に、自身の有する温度等の影響を受けてその抵抗値が変化するといった物性を有するため、MREセンサの温度の変化に伴って同センサの出力信号も変化する。このため、MREセンサの出力信号に変化が生じた場合に、その変化が実際には同センサの有する温度等の変化に起因するものであるにもかかわらず、第2の磁石により形成される磁界の磁束密度の変化に起因するものであると誤判定するおそれがあり、ひいては上記ヨークの位置を誤検出するおそれがある。   As described above, even if the MRE sensor is adopted as a sensor for detecting the change in the magnetic flux density of the magnetic field formed by the second magnet, the position of the yoke can be surely detected. It becomes. However, since the magnetoresistive element constituting the MRE sensor generally has physical properties such that its resistance value changes due to the influence of its own temperature, the output signal of the MRE sensor also changes as the temperature of the MRE sensor changes. Change. For this reason, when a change occurs in the output signal of the MRE sensor, the magnetic field formed by the second magnet even though the change is actually caused by a change in temperature or the like of the sensor. May be erroneously determined to be caused by a change in the magnetic flux density, and as a result, the position of the yoke may be erroneously detected.

なお、こうした問題は、バイワイヤ式のシフト装置に搭載されて上記ヨークの位置を検出する磁気式位置検出装置に限らず、ヨークに相当するものを被検出体として、同被検出体の位置を磁気抵抗効果センサを利用して検出する磁気式位置検出装置に共通する課題である。   This problem is not limited to the magnetic position detection device that is mounted on a by-wire type shift device and detects the position of the yoke, and the position corresponding to the yoke is set as the detection target, and the position of the detection target is magnetically detected. This is a problem common to magnetic position detection devices that detect using a resistance effect sensor.

本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、被検出体の位置を磁気抵抗効果センサにより検出する場合であれ、高い信頼性を維持しつつその位置を検出することのできる磁気式位置検出装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and its purpose is to detect the position of the detection object while maintaining high reliability even when the position of the detection object is detected by a magnetoresistive sensor. Another object is to provide a magnetic position detecting device.

上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、印加される磁界の磁束密度の大きさに対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子によりそれぞれ構成される2つの磁気検出部を有する磁気抵抗効果センサと、磁石からなり前記磁気抵抗効果センサに磁界を印加するとともに、前記磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動可能な被検出体とを備え、前記被検出体と前記磁気抵抗効果センサとの間の距離は、前記被検出体の移動に伴い前記磁気抵抗効果センサに印加される磁界の磁束密度の大きさに変化が生じた際に、前記2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部を構成する1種類の磁気抵抗素子の抵抗値が飽和した状態を維持するとともに、他方の磁気検出部を構成する1種類の磁気抵抗素子の抵抗値に変化が生じる距離に設定され、印加される磁界の磁束密度の大きさに応じた出力電圧の大きさを示す値であるセンサ感度を前記2つの磁気検出部についてそれぞれ検出した上で、これら検出されたセンサ感度の値の比の値を算出し、この算出された比の値に基づいて前記被検出体の移動方向の位置を検出することを要旨としている。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention described in claim 1 includes two magnetic detection units each composed of two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnitude of the magnetic flux density of the applied magnetic field. A magnetoresistive sensor having a magnet, and a detected object that is made of a magnet and that can move in the direction of approaching and separating from the magnetoresistive sensor while applying a magnetic field to the magnetoresistive sensor. The distance between the magnetoresistive sensor and the magnetoresistive sensor is determined when the magnitude of the magnetic flux density of the magnetic field applied to the magnetoresistive sensor changes with the movement of the detected object. While maintaining the state where the resistance value of one type of magnetoresistive element constituting one of the magnetic sensing units is saturated, the resistance value of one type of magnetoresistive element constituting the other magnetic sensing unit is changed. The sensor sensitivity, which is a value indicating the magnitude of the output voltage in accordance with the magnitude of the magnetic flux density of the applied magnetic field, is detected for each of the two magnetic detection units, and the detected sensors The gist is to calculate a ratio value of the sensitivity values and detect the position of the detected object in the moving direction based on the calculated ratio value.

前述のように、磁気抵抗効果センサを構成する磁気抵抗素子は一般に、自身の有する温度等の影響を受けてその抵抗値が変化するといった物性を有するため、印加される磁界の磁束密度の大きさに応じた出力電圧の大きさを示すセンサ感度の値も、同センサの温度等の変化に伴って変化する。ただし、印加される磁界の磁束密度の大きさに対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子によりそれぞれ構成される2つの磁気検出部を磁気抵抗効果センサに設けた上で、これら2つの磁気検出部のセンサ感度の値を各々検出するとともに、検出された各々のセンサ感度の値の比の値を算出するようにすれば、磁気抵抗素子の有する温度等の影響が相殺された値を得ることができるようになる。一方、被検出体が磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動したとすると、2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部を構成する1種類の磁気抵抗素子の抵抗値はほとんど変化することはないが、他方の磁気検出部を構成する1種類の磁気抵抗素子の抵抗値には変化が生じる。すなわち、一方の磁気検出部のセンサ感度の値は飽和した状態に維持されるとともに、他方の磁気検出部のセンサ感度の値は変化する。したがって、上記2つの磁気検出部のセンサ感度の値の比の値は被検出体の移動方向の位置に応じて変化するため、このセンサ感度の値の比の値に基づいて被検出体の移動方向の位置を検出することができる。このため、同構成によれば、上記磁気抵抗素子の有する温度等の影響が軽減され、高い信頼性を維持しつつ被検出体の位置を検出することができるようになる。   As described above, the magnetoresistive element constituting the magnetoresistive effect sensor generally has physical properties such that its resistance value changes under the influence of its own temperature or the like, and therefore the magnitude of the magnetic flux density of the applied magnetic field. The value of the sensor sensitivity indicating the magnitude of the output voltage according to the value also changes with changes in the temperature of the sensor. However, the magnetic resistance sensor is provided with two magnetic detectors each composed of two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnitude of the magnetic flux density of the applied magnetic field. If the sensor sensitivity value of each part is detected and the ratio value of each detected sensor sensitivity value is calculated, a value in which the influence of the temperature etc. of the magnetoresistive element is offset can be obtained. Will be able to. On the other hand, if the detected object moves in the direction of approaching and separating from the magnetoresistive sensor, the resistance value of one type of magnetoresistive element constituting one of the two magnetic detectors is Almost no change is made, but a change occurs in the resistance value of one type of magnetoresistive element constituting the other magnetic detector. That is, the value of the sensor sensitivity of one magnetic detection unit is maintained in a saturated state, and the value of the sensor sensitivity of the other magnetic detection unit changes. Therefore, the value of the ratio of the sensor sensitivity values of the two magnetic detection units changes according to the position of the detected object in the moving direction. Therefore, the movement of the detected object is based on the ratio value of the sensor sensitivity values. The direction position can be detected. For this reason, according to the configuration, the influence of the temperature or the like of the magnetoresistive element is reduced, and the position of the detection object can be detected while maintaining high reliability.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の磁気式位置検出装置において、前記被検出体が、前記磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動可能であるとともに、その移動軸を回転軸として更に回転可能なものであって、前記被検出体の移動に伴い前記磁気抵抗効果センサに印加される磁界の磁束密度に変化が生じた際に抵抗値が飽和した状態に維持される1種類の磁気抵抗素子から構成される一方の磁気検出部から出力される電圧信号に基づいて前記被検出体の回転方向の位置を検出することを要旨としている。   According to a second aspect of the present invention, in the magnetic position detecting device according to the first aspect, the detected object is movable in the direction of approaching and separating from the magnetoresistive sensor, and the movement thereof. The shaft is further rotatable with the shaft as a rotating shaft, and the resistance value is maintained saturated when the magnetic flux density of the magnetic field applied to the magnetoresistive effect sensor changes as the detected object moves. The gist is to detect the position of the detected body in the rotational direction based on a voltage signal output from one of the magnetic detection units constituted by one type of magnetoresistive element.

磁気抵抗効果センサにあっては、例えば磁石により形成されて所定の回転軸を中心に回転する被検出体の回転方向の位置を検出することも可能であるが、この場合には、磁気抵抗素子の抵抗値が飽和する程度の大きさの磁束密度が磁気抵抗効果センサに印加されるように被検出体と磁気抵抗効果センサとの間の距離を予め調整する必要がある。この点、同構成によるように、被検出体の磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向への移動に伴い磁気抵抗効果センサに印加される磁界の磁束密度に変化が生じた際に抵抗値が飽和した状態に維持される1種類の磁気抵抗素子から構成される一方の磁気検出部から出力される電圧信号を利用して被検出体の回転方向の位置を検出するようにすれば、1つの磁気抵抗効果センサにより被検出体の移動方向の位置及びその回転方向の位置を共に検出することができるようになる。   In the magnetoresistive effect sensor, for example, it is possible to detect the position in the rotation direction of the detected object that is formed of a magnet and rotates around a predetermined rotation axis. In this case, in this case, the magnetoresistive element It is necessary to adjust in advance the distance between the object to be detected and the magnetoresistive effect sensor so that the magnetic flux density of a magnitude that saturates the resistance value is applied to the magnetoresistive effect sensor. In this respect, as in the same configuration, the resistance is detected when the magnetic flux density of the magnetic field applied to the magnetoresistive sensor changes as the object to be detected moves in the direction toward and away from the magnetoresistive sensor. If the position in the rotational direction of the detected object is detected using a voltage signal output from one magnetic detection unit composed of one type of magnetoresistive element that is maintained in a saturated state, One magnetoresistive sensor can detect both the position of the detected object in the moving direction and the position in the rotating direction thereof.

請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の磁気式位置検出装置において、前記印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子が、線幅の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成され、前記2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部が、線幅の太い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなり、前記他方の磁気検出部が、線幅の細い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなることを要旨としている。   According to a third aspect of the present invention, in the magnetic position detection device according to the first or second aspect, two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field have different line widths. Each of the two magnetic detectors is formed of a magnetoresistive element formed by a magnetoresistive film having a large line width, and the other magnetic detector is formed of two types of magnetoresistive films. Is composed of a magnetoresistive element formed by a magnetoresistive film having a narrow line width.

磁気抵抗素子は、一般に、同素子を形成する磁気抵抗膜の線幅が太いほど、印加される磁界の磁束密度が小さくてもその抵抗値が飽和し易くなり、また、磁気抵抗膜の線幅が細いほど、印加される磁界の磁束密度が大きくなければその抵抗値が飽和しなくなるといった物性を有する。このため、具体的には、同構成によるように、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子が、線幅の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成されるとともに、2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部が、線幅の太い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなり、他方の磁気検出部が、線幅の細い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなるといった構成を採用することができる。また、このように印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子を線幅の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成するようにすれば、これら2種類の磁気抵抗膜の膜厚を同じ厚さとすることができる。このため、磁気抵抗効果センサの製造の際に、磁気抵抗膜を形成する工程を基本的には1つの工程とすることができるため、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子を容易に製造することができるようになる。   In general, in a magnetoresistive element, as the line width of the magnetoresistive film forming the element increases, the resistance value is more likely to be saturated even if the magnetic flux density of the applied magnetic field is small. The smaller the thickness is, the more the physical property that the resistance value is not saturated unless the magnetic flux density of the applied magnetic field is large. For this reason, specifically, as in the same configuration, two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are respectively formed by two types of magnetoresistive films having different line widths. In addition, one of the two magnetic detectors is composed of a magnetoresistive element formed by a magnetoresistive film having a large line width, and the other magnetic sensor is formed by a magnetoresistive film having a thin line width. The structure which consists of a magnetoresistive element made can be employ | adopted. If two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are formed by two types of magnetoresistive films having different line widths, these two types of magnetoresistive elements are used. The film thickness can be the same. For this reason, when the magnetoresistive effect sensor is manufactured, the process of forming the magnetoresistive film can be basically performed as one process, so that two types of resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are different. The magnetoresistive element can be easily manufactured.

請求項4に記載の発明は、請求項1又は2に記載の磁気式位置検出装置において、前記印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子が、膜厚の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成され、前記2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部が、膜厚の厚い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなり、前記他方の磁気検出部が、膜厚の薄い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなることを要旨としている。   According to a fourth aspect of the present invention, in the magnetic position detection device according to the first or second aspect, the two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are different in film thickness. Each of the two magnetic detectors is formed of a magnetoresistive element formed of a thick magnetoresistive film, and the other magnetic detector is formed of two types of magnetoresistive films. However, the gist of the invention is that it is composed of a magnetoresistive element formed by a thin magnetoresistive film.

磁気抵抗素子は、一般に、同素子を形成する磁気抵抗膜の膜厚が薄いほど、印加される磁界の磁束密度が小さくてもその抵抗値が飽和し易くなり、また、磁気抵抗膜の膜厚が厚いほど、印加される磁界の磁束密度が大きくなければその抵抗値が飽和しなくなるとともに、抵抗値の変化量が大きくなるといった物性を有する。このため、具体的には、同構成によるように、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子が、膜厚の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成され、2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部が、膜厚の厚い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなり、他方の磁気検出部が、膜厚の薄い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなるといった構成を採用することができる。また、このように印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子を膜厚の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成するようにすれば、磁気抵抗効果センサに印加される磁界の磁束密度に変化が生じた際に、上記2つの磁気検出部のセンサ感度の値の比の値が大きく変化するようになるため、被検出体の位置の検出が容易となり、ひいては被検出体の位置を、より高い精度で検出することができるようになる。   In general, in a magnetoresistive element, the thinner the magnetoresistive film forming the element, the easier it is to saturate even if the magnetic flux density of the applied magnetic field is small. As the thickness increases, the resistance value does not saturate unless the magnetic flux density of the applied magnetic field is large, and the amount of change in the resistance value increases. Therefore, specifically, as in the same configuration, two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are respectively formed by two types of magnetoresistive films having different thicknesses, One of the two magnetic detectors is composed of a magnetoresistive element formed by a thick magnetoresistive film, and the other magnetic detector is formed by a thin magnetoresistive film. A configuration including a magnetoresistive element can be employed. Further, if two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are formed by two types of magnetoresistive films having different film thicknesses, the magnetoresistive effect sensor is applied When a change occurs in the magnetic flux density of the magnetic field generated, the value of the ratio of the sensor sensitivity values of the two magnetic detectors greatly changes. The position of the detection object can be detected with higher accuracy.

そしてこの場合、具体的には、請求項5に記載の発明によるように、前記印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子のうちの一方の磁気抵抗素子が、前記磁気抵抗効果センサの半導体基板上に45°ずつ傾くかたちで環状に8つ配置されるとともに、他方の磁気抵抗素子が、この一方の磁気抵抗素子の外側に位置して、同じく45°ずつ傾くかたちで同心円上に環状に8つ配置され、前記2つの磁気検出部の各々が、それぞれ4つの磁気抵抗素子により構成されるフルブリッジ回路を2つずつ有するといった構成を採用することができる。   In this case, specifically, according to the invention described in claim 5, one of the two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field is: Eight annular elements are arranged on the semiconductor substrate of the magnetoresistive sensor in an inclined manner by 45 °, and the other magnetoresistive element is located outside the one magnetoresistive element and is also inclined by 45 °. It is possible to adopt a configuration in which eight circularly arranged concentric circles are provided, and each of the two magnetic detection units has two full bridge circuits each composed of four magnetoresistive elements.

本発明にかかる磁気式位置検出装置によれば、被検出体の位置を磁気抵抗効果センサにより検出する場合であれ、高い信頼性を維持しつつその位置を検出することのできる磁気式位置検出装置を提供することができるようになる。   According to the magnetic position detection device of the present invention, a magnetic position detection device capable of detecting the position while maintaining high reliability even when the position of the detection object is detected by a magnetoresistive sensor. Will be able to provide.

(第1の実施形態)
以下、本発明にかかる磁気式位置検出装置の第1の実施形態について図1〜図16を参照して説明する。ここで、図1は、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置の適用対象となるレバースイッチ装置が設けられた車両内部の斜視構造を示したものである。
(First embodiment)
A magnetic position detection device according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. Here, FIG. 1 shows a perspective structure inside a vehicle provided with a lever switch device to which the magnetic position detection device according to the present embodiment is applied.

同図1に示されるように、このレバースイッチ装置10は、車両の運転席のステアリング装置1の近傍の位置に固定配設されて、運転者自身によって操作される。そして、図2は、こうしたレバースイッチ装置10についてその斜視構造を示したものである。同図2に示されるように、このレバースイッチ装置10は、その本体として車両に固定されるレバーユニット本体11と、このレバーユニット本体11に片持ち支持されて車載機器のスイッチング操作に供される操作レバー12とを基本的に備える構成となっている。ここで、この操作レバー12は、例えば運転者による外力が印加された際に、レバーユニット本体11に支持された部分を基端として図中の矢印x1,x2で示す方向に傾動するとともに、図中の矢印y1,y2で示す方向にも傾動する。また、この操作レバー12の先端部には、同レバー12の長手方向に延びる中心軸mを中心に回動、すなわち図中の矢印a1,a2で示す方向に回動するロータリスイッチ13が設けられている。さらに、このロータリスイッチ13の先端部には、上記中心軸mに沿った方向、すなわち図中の矢印z1,z2で示す方向に移動するプッシュボタン14が設けられている。そして、このレバースイッチ装置10では、ロータリスイッチ13及びプッシュボタン14の操作を通じて、車両に搭載されるヘッドライト、スモールライト、及びフォグランプのスイッチングをそれぞれ操作する。一方、操作レバー12の内部には、ロータリスイッチ13及びプッシュボタン14の各操作位置を検出するための装置として、磁気抵抗効果センサ(MREセンサ)からなる磁気式位置検出装置が設けられている。次に、図3を参照して、この磁気式位置検出装置の構造について説明する。図3は、操作レバー12の分解斜視構造を示したものである。   As shown in FIG. 1, the lever switch device 10 is fixedly disposed at a position near the steering device 1 in the driver's seat of the vehicle and is operated by the driver himself. FIG. 2 shows a perspective structure of the lever switch device 10. As shown in FIG. 2, the lever switch device 10 has a lever unit main body 11 fixed to the vehicle as its main body, and is cantilevered by the lever unit main body 11 to be used for a switching operation of in-vehicle equipment. The operation lever 12 is basically provided. Here, for example, when an external force is applied by the driver, the operation lever 12 tilts in the direction indicated by the arrows x1 and x2 with the portion supported by the lever unit body 11 as the base end. It also tilts in the direction indicated by the arrows y1 and y2 inside. A rotary switch 13 is provided at the distal end of the operating lever 12 so as to rotate about a central axis m extending in the longitudinal direction of the lever 12, that is, to rotate in the directions indicated by arrows a1 and a2 in the drawing. ing. Further, a push button 14 that moves in the direction along the central axis m, that is, the direction indicated by the arrows z1 and z2 in the drawing, is provided at the tip of the rotary switch 13. And in this lever switch apparatus 10, switching of the headlight mounted in a vehicle, a small light, and a fog lamp is each operated through operation of the rotary switch 13 and the push button 14. FIG. On the other hand, a magnetic position detection device including a magnetoresistive effect sensor (MRE sensor) is provided inside the operation lever 12 as a device for detecting each operation position of the rotary switch 13 and the push button 14. Next, with reference to FIG. 3, the structure of the magnetic position detection device will be described. FIG. 3 shows an exploded perspective structure of the operation lever 12.

同図3に示されるように、この磁気式位置検出装置100は、略円柱状に形成されたロータリスイッチ13の底面から上記中心軸mに沿って突設される可動シャフト101と、この可動シャフト101の先端部に取り付けられる直方体状の磁石102とを備えている。ここで、可動シャフト101は、ロータリスイッチ13に一体回転可能に取り付けられるとともに、プッシュボタン14の操作に連動してロータリスイッチ13に対し中心軸mの方向に相対移動する。また、この磁石102は、その中心が上記中心軸m上に位置するように可動シャフト101に取り付けられるとともに、上記中心軸mに直交する方向にN極とS極とが並ぶようにして着磁されている。一方、この操作レバー12では、運転者が同レバー12を操作する際に把持する部分となる円筒状のカバー15の内部にプリント基板110が固定されている。そして、上記可動シャフト101及び磁石102をカバー15内に挿入しつつロータリスイッチ13をカバー15に取り付けた際には、プリント基板110と磁石102とが中心軸mに沿った方向に所定間隔だけ離間して互いに対向するかたちで配置されることとなる。そして、このプリント基板110には、磁石102に対向する側の面にMREセンサ120が配設され、磁石102からMREセンサ120に磁界が印加されている。   As shown in FIG. 3, the magnetic position detecting device 100 includes a movable shaft 101 projecting from the bottom surface of the rotary switch 13 formed in a substantially cylindrical shape along the central axis m, and the movable shaft. And a rectangular parallelepiped magnet 102 attached to the tip of 101. Here, the movable shaft 101 is attached to the rotary switch 13 so as to be integrally rotatable, and moves relative to the rotary switch 13 in the direction of the central axis m in conjunction with the operation of the push button 14. The magnet 102 is attached to the movable shaft 101 so that the center thereof is located on the central axis m, and is magnetized so that the N pole and the S pole are aligned in a direction perpendicular to the central axis m. Has been. On the other hand, in the operation lever 12, the printed circuit board 110 is fixed inside a cylindrical cover 15 that is a part to be gripped when the driver operates the lever 12. When the rotary switch 13 is attached to the cover 15 while the movable shaft 101 and the magnet 102 are inserted into the cover 15, the printed circuit board 110 and the magnet 102 are separated by a predetermined distance in the direction along the central axis m. Thus, they will be arranged in the form of facing each other. The printed circuit board 110 is provided with an MRE sensor 120 on the surface facing the magnet 102, and a magnetic field is applied from the magnet 102 to the MRE sensor 120.

続いて、図4及び図5を参照して、ロータリスイッチ13の操作に伴う磁石102とMREセンサ120との間の相対的な位置関係の変化、並びに磁界の変化について説明する。ここで、図4は、ロータリスイッチ13の側面構造を、また、図5(a)〜(c)は、先の図3のA−A線に沿った断面構造をそれぞれ示したものである。なお、図4及び図5では、中心軸mを通る軸線m10を基準として、軸線m10から矢印a1で示す方向へ所定角度だけ回動した状態(位置)を軸線m11にて、また、軸線m11から矢印a1で示す方向へさらに所定角度だけ回動した状態(位置)を軸線m12にてそれぞれ示している。   Next, with reference to FIGS. 4 and 5, changes in the relative positional relationship between the magnet 102 and the MRE sensor 120 due to the operation of the rotary switch 13 and changes in the magnetic field will be described. Here, FIG. 4 shows a side structure of the rotary switch 13, and FIGS. 5A to 5C show a cross-sectional structure taken along line AA of FIG. 4 and 5, a state (position) rotated by a predetermined angle from the axis m10 in the direction indicated by the arrow a1 with respect to the axis m10 passing through the central axis m is indicated by the axis m11 and from the axis m11. A state (position) of further rotation by a predetermined angle in the direction indicated by the arrow a1 is indicated by an axis m12.

図4に示されるように、このロータリスイッチ13は、その中心軸mを通る基準線mrが軸線m10と一致する位置を基準位置Pa0とし、通常はこの位置で保持されている。また、このロータリスイッチ13は、このように基準位置Pa0に保持されている状態から矢印a1で示す方向に外力が印加されると、上記基準線mrが軸線m11と一致する位置である第1の操作位置Pa1まで回動し、その位置が保持される。さらに、ロータリスイッチ13は、このように第1の操作位置Pa1に保持されている状態から矢印a1で示す方向に外力が印加されると、上記基準線mrが軸線m12と一致する位置である第2の操作位置Pa2までさらに回動し、その位置が保持される。ちなみに、ロータリスイッチ13は、第2の操作位置Pa2に保持されている状態から矢印a2で示す方向に外力が印加されると、第1の操作位置Pa1、あるいは基準位置Pa0まで復帰する。そして、ロータリスイッチ13が基準位置Pa0に位置している状態から第1の操作位置Pa1を経て第2の操作位置Pa2まで操作されたとすると、磁石102の位置が図5(a)〜(c)に示す態様にて変化する。   As shown in FIG. 4, in the rotary switch 13, a position where the reference line mr passing through the central axis m coincides with the axis m10 is set as a reference position Pa0, and is normally held at this position. In addition, when an external force is applied in the direction indicated by the arrow a1 from the state where the rotary switch 13 is held at the reference position Pa0 in this way, the reference line mr is a position where the reference line mr coincides with the axis m11. It rotates to the operation position Pa1, and that position is maintained. Further, when an external force is applied in the direction indicated by the arrow a1 from the state where the rotary switch 13 is held at the first operation position Pa1, the reference line mr is a position where the reference line mr coincides with the axis m12. Further rotation to the second operation position Pa2 is maintained. By the way, the rotary switch 13 returns to the first operation position Pa1 or the reference position Pa0 when an external force is applied in the direction indicated by the arrow a2 from the state held at the second operation position Pa2. Then, assuming that the rotary switch 13 is operated from the state where the rotary switch 13 is located at the reference position Pa0 to the second operation position Pa2 via the first operation position Pa1, the position of the magnet 102 is as shown in FIGS. It changes in the mode shown in.

すなわち、磁石102は、可動シャフト101と一体となって中心軸mを中心に矢印a1で示す方向に回動し、その中心軸mを通る基準線mjが軸線m10と一致する基準位置Pα0から、同基準線mjが軸線m11と一致する第1の回転位置Pα1を経て、同基準線mjが軸線m12と一致する第2の回転位置Pα2まで回動する。そしてこのとき、MREセンサ120に対する磁石102の中心軸mを中心とした回転方向の相対的な位置が変化し、MREセンサ120に印加される磁界の磁気ベクトルが変化する。   That is, the magnet 102 rotates integrally with the movable shaft 101 in the direction indicated by the arrow a1 around the central axis m, and from the reference position Pα0 where the reference line mj passing through the central axis m coincides with the axis m10. The reference line mj rotates through a first rotation position Pα1 that coincides with the axis m11, and then turns to a second rotation position Pα2 that coincides with the axis m12. At this time, the relative position in the rotation direction about the central axis m of the magnet 102 with respect to the MRE sensor 120 changes, and the magnetic vector of the magnetic field applied to the MRE sensor 120 changes.

次に、図6及び図7を参照して、プッシュボタン14の操作に伴う磁石102とMREセンサ120との間の相対的な位置関係の変化、並びに磁界の変化について説明する。ここで、図6は、プッシュボタン14の正面構造を、また、図7は、磁気式位置検出装置100の正面構造をそれぞれ示したものである。なお、同図6では、上記中心軸mに交わる軸線m20を基準として、同軸線m20から矢印z1で示す方向へ所定距離だけ変位した状態(位置)を軸線m21にて示している。   Next, a change in the relative positional relationship between the magnet 102 and the MRE sensor 120 and a change in the magnetic field due to the operation of the push button 14 will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 6 shows the front structure of the push button 14, and FIG. 7 shows the front structure of the magnetic position detection device 100. In FIG. 6, a state (position) displaced by a predetermined distance from the coaxial line m20 in the direction indicated by the arrow z1 with respect to the axis m20 intersecting the central axis m is indicated by an axis m21.

図6に示されるように、このプッシュボタン14は、その端面の位置mpが軸線m20と一致する位置を基準位置Pz0とし、通常はこの位置で保持されている。また、このプッシュボタン14は、このように基準位置Pz0に保持されている状態から矢印z1で示す方向に外力が印加されると、その端面の位置mpが軸線m21と一致する第1の操作位置Pz1まで移動し、その位置が保持される。なお、このプッシュボタン14は、このように第1の操作位置Pz1に保持されている状態から矢印z1で示す方向にさらに外力が印加されると、矢印z1で示す方向に一旦移動した後に、その位置が基準位置Pz0まで復帰する。そして、プッシュボタン14が基準位置Pz0に位置している状態から第1の操作位置Pz1まで操作されたとすると、磁石102の位置が図7に示す態様にて変化する。   As shown in FIG. 6, the push button 14 has a position where the position mp of the end face coincides with the axis m20 as a reference position Pz0, and is normally held at this position. In addition, when an external force is applied to the push button 14 in the direction indicated by the arrow z1 from the state where the push button 14 is held at the reference position Pz0, the first operation position where the position mp of the end face coincides with the axis m21. It moves to Pz1 and its position is maintained. When an external force is further applied in the direction indicated by the arrow z1 from the state where the push button 14 is held at the first operation position Pz1, the push button 14 is moved once in the direction indicated by the arrow z1, The position returns to the reference position Pz0. If the push button 14 is operated from the state where the push button 14 is located at the reference position Pz0 to the first operation position Pz1, the position of the magnet 102 changes in the manner shown in FIG.

すなわち、磁石102は、可動シャフト101と一体となって矢印z1で示す方向に移動し、MREセンサ120から離間した位置である図中の実線で示す第1の操作位置d0から、MREセンサ120に近接した位置である図中の破線で示す第2の操作位置d1まで移動する。そしてこのとき、MREセンサ120に対する磁石102の中心軸mに沿った方向の相対的な位置が変化し、磁石102が第2の操作位置d1に位置しているときの方がより大きな磁束密度がMREセンサ120に印加されるようになる。   That is, the magnet 102 moves together with the movable shaft 101 in the direction indicated by the arrow z1, and moves from the first operation position d0 indicated by the solid line in the figure, which is a position away from the MRE sensor 120, to the MRE sensor 120. It moves to the second operation position d1 indicated by a broken line in the drawing, which is a close position. At this time, the relative position of the MRE sensor 120 in the direction along the central axis m of the magnet 102 changes, and the magnetic flux density is larger when the magnet 102 is located at the second operation position d1. Applied to the MRE sensor 120.

次に、図8を参照して、こうした磁気ベクトル及び磁束密度の変化を検出するMREセンサ120の構造について説明する。図8は、MREセンサ120の平面構造を示したものである。   Next, the structure of the MRE sensor 120 that detects such changes in magnetic vector and magnetic flux density will be described with reference to FIG. FIG. 8 shows a planar structure of the MRE sensor 120.

同図8に示されるように、このMREセンサ120には、上記磁石102により形成される磁界の変化を感知する磁気感知面が各々45°ずつ傾くかたちで同一の半導体基板上にて上記中心軸mを中心として環状に配置される8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24が設けられている。また、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24の外側には、同じく45°ずつ傾くかたちで上記中心軸mを中心として環状に配置される8つの磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44が設けられている。ここで、これら磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24,M31〜M34,M41〜M44は、強磁性金属を主成分とする磁気抵抗膜からなり、印加される磁界に応じてその抵抗値が変化するとともに、所定の大きさを超える磁束密度が印加されることでその抵抗値が飽和するといった物性を有している。そして、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24,M31〜M34,M41〜M44が、外側に向かうほど長く形成された複数の直線状の膜の端部が交互に接続されることでジグザグ状のパターンに形成されている。そして、このMREセンサ120では、これら磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24,M31〜M34,M41〜M44を形成する磁気抵抗膜の膜厚をそれぞれ一定の厚さに設定するとともに、外側に配置された8つの磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44を形成する磁気抵抗膜の線幅を、内側に配置された8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24を形成する磁気抵抗膜の線幅よりも太く設定するようにしている。これにより、このMREセンサ120では、内側に配置された8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24と外側に配置された8つの磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44とで、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率が互いに異なったものとなっている。そして、このMREセンサ120では、磁界の磁気ベクトル及び磁束密度の変化を検出する磁気検出部が、内側に配置された8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24からなる第1の磁気検出部と、外側に配置された8つの磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44からなる第2の磁気検出部との2つの磁気検出部によって構成されている。   As shown in FIG. 8, the MRE sensor 120 includes a magnetic sensing surface that senses a change in the magnetic field formed by the magnet 102, and the central axis on the same semiconductor substrate in such a manner that the magnetic sensing surface is inclined by 45 °. Eight magnetoresistive elements M11 to M14, M21 to M24 are arranged in a ring shape with m as the center. In addition, eight magnetoresistive elements M31 to M34 and M41 to M44 are provided outside the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24, and are arranged in an annular shape around the central axis m in a manner that is inclined by 45 °. It has been. Here, these magnetoresistive elements M11 to M14, M21 to M24, M31 to M34, and M41 to M44 are made of a magnetoresistive film mainly composed of a ferromagnetic metal, and the resistance value thereof changes according to the applied magnetic field. In addition, when the magnetic flux density exceeding a predetermined size is applied, the resistance value is saturated. The magnetoresistive elements M11 to M14, M21 to M24, M31 to M34, and M41 to M44 are alternately connected at the ends of a plurality of linear films formed longer toward the outside. It is formed in a pattern. In the MRE sensor 120, the thicknesses of the magnetoresistive films forming the magnetoresistive elements M11 to M14, M21 to M24, M31 to M34, and M41 to M44 are set to constant thicknesses and arranged on the outside. The line width of the magnetoresistive film forming the eight magnetoresistive elements M31 to M34, M41 to M44 is set to the line of the magnetoresistive film forming the eight magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 disposed inside. It is set to be thicker than the width. Thereby, in this MRE sensor 120, it applies with eight magnetoresistive elements M11-M14, M21-M24 arrange | positioned inside, and eight magnetoresistive elements M31-M34, M41-M44 arrange | positioned outside. The resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the magnetic field are different from each other. In the MRE sensor 120, a magnetic detection unit that detects a change in the magnetic vector and magnetic flux density of the magnetic field is a first magnetic detection unit including eight magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 arranged inside. And two magnetic detection units including a second magnetic detection unit including eight magnetoresistive elements M31 to M34 and M41 to M44 arranged on the outside.

図9(a)は、MREセンサ120の第1の磁気検出部からなる電気的な構成について、また、図9(b)はその第2の磁気検出部からなる電気的な構成について、それぞれの等価回路を示したものである。   FIG. 9A shows an electrical configuration including the first magnetic detection unit of the MRE sensor 120, and FIG. 9B illustrates an electrical configuration including the second magnetic detection unit. An equivalent circuit is shown.

同図9(a)に示されるように、MREセンサ120の第1の磁気検出部121からなる回路では、上記4つの磁気抵抗素子M11〜M14により1つのフルブリッジ回路が構成されるとともに、上記4つの磁気抵抗素子M21〜M24によりもう1つのフルブリッジ回路が構成されている。ここで、この回路では、磁気抵抗素子M11,M13の間、及び磁気抵抗素子M21,M23の間に定電圧Vccがそれぞれ印加されるとともに、磁気抵抗素子M12,M14の間、及び磁気抵抗素子M22,M24の間が各々接地されている。そして、この回路には、磁気抵抗素子M11,M12の間の中点電位と、磁気抵抗素子M13,M14の間の中点電位とをそれぞれ取り込んで差動増幅を行う差動増幅器140が設けられている。また、磁気抵抗素子M21,M22の間の中点電位と、磁気抵抗素子M23,M24の間の中点電位とをそれぞれと取り込んで差動増幅を行う差動増幅器141も設けられている。そして、この回路では、差動増幅器140,141による各差動増幅出力として、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24に印加される磁界の変化に応じて連続的に変化する第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12がそれぞれ出力される。なお、以下ではこれら第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12を第1の出力信号V11,V12と略記する。   As shown in FIG. 9A, in the circuit composed of the first magnetic detection unit 121 of the MRE sensor 120, the four magnetoresistive elements M11 to M14 constitute one full bridge circuit, and Another full bridge circuit is configured by the four magnetoresistive elements M21 to M24. In this circuit, a constant voltage Vcc is applied between the magnetoresistive elements M11 and M13 and between the magnetoresistive elements M21 and M23, and between the magnetoresistive elements M12 and M14, and the magnetoresistive element M22. , M24 are grounded. The circuit is provided with a differential amplifier 140 that takes in the midpoint potential between the magnetoresistive elements M11 and M12 and the midpoint potential between the magnetoresistive elements M13 and M14 and performs differential amplification. ing. Also provided is a differential amplifier 141 that takes in the midpoint potential between the magnetoresistive elements M21 and M22 and the midpoint potential between the magnetoresistive elements M23 and M24 and performs differential amplification. In this circuit, as each differential amplification output by the differential amplifiers 140 and 141, a first sine signal that continuously changes in accordance with changes in the magnetic field applied to the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24. V11 and the first cosine signal V12 are output, respectively. In the following, the first sine signal V11 and the first cosine signal V12 are abbreviated as first output signals V11 and V12.

一方、図9(b)に示されるように、MREセンサ120の第2の磁気検出部122からなる回路も、基本的には第1の磁気検出部121と同様の回路構成を有している。すなわち、この第2の磁気検出部122からなる回路でも、上記4つの磁気抵抗素子M31〜M34により1つのフルブリッジ回路が構成されるとともに、上記4つの磁気抵抗素子M41〜M44によりもう一つのフルブリッジ回路が構成されている。また、この回路でも、磁気抵抗素子M31,M33の間、及び磁気抵抗素子M41,M43の間に定電圧Vccがそれぞれ印加されるとともに、磁気抵抗素子M32,M34の間、及び磁気抵抗素子M42,M44の間が各々接地されている。そして、この回路にも、磁気抵抗素子M31,M32の間の中点電位と、磁気抵抗素子M33,M34の間の中点電位とをそれぞれ取り込んで差動増幅を行う差動増幅器142が設けられている。また、磁気抵抗素子M41,M42の間の中点電位と、磁気抵抗素子M43,M44の間の中点電位とをそれぞれ取り込んで差動増幅を行う差動増幅器143も設けられている。そして、この回路では、差動増幅器142,143による各差動増幅出力として、磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44に印加される磁界の変化に応じて連続的に変化する第2の正弦信号V21及び第2の余弦信号V22がそれぞれ出力される。なお、以下ではこれら第2の正弦信号V21及び第2の余弦信号V22を第2の出力信号V21,V22と略記する。   On the other hand, as shown in FIG. 9B, the circuit composed of the second magnetic detection unit 122 of the MRE sensor 120 basically has the same circuit configuration as the first magnetic detection unit 121. . That is, also in the circuit including the second magnetic detection unit 122, one full bridge circuit is configured by the four magnetoresistive elements M31 to M34, and another full circuit is configured by the four magnetoresistive elements M41 to M44. A bridge circuit is configured. Also in this circuit, a constant voltage Vcc is applied between the magnetoresistive elements M31 and M33 and between the magnetoresistive elements M41 and M43, and between the magnetoresistive elements M32 and M34, and between the magnetoresistive elements M42 and M42, Between M44, each is grounded. This circuit is also provided with a differential amplifier 142 that takes in the midpoint potential between the magnetoresistive elements M31 and M32 and the midpoint potential between the magnetoresistive elements M33 and M34 and performs differential amplification. ing. Also provided is a differential amplifier 143 that takes in the midpoint potential between the magnetoresistive elements M41 and M42 and the midpoint potential between the magnetoresistive elements M43 and M44 and performs differential amplification. In this circuit, the second sine signal that continuously changes in accordance with the change in the magnetic field applied to the magnetoresistive elements M31 to M34 and M41 to M44 as the differential amplification outputs by the differential amplifiers 142 and 143. V21 and the second cosine signal V22 are output, respectively. Hereinafter, the second sine signal V21 and the second cosine signal V22 are abbreviated as second output signals V21 and V22.

そして、図10に示すように、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100では、MREセンサ120から出力されるこれら第1の出力信号V11,V12及び第2の出力信号V21,V22が車両の各種制御を統括する車両側制御装置200に取り込まれる。そして、同制御装置200は、第1の出力信号V11,V12及び第2の出力信号V21,V22に基づいて上記ロータリスイッチ13及びプッシュボタン14のそれぞれの操作位置を検出し、検出された上記ロータリスイッチ13及びプッシュボタン14のそれぞれの操作位置に基づいて車両のヘッドライト201、スモールライト202、及びフォグランプ203のスイッチングをそれぞれ制御する。   As shown in FIG. 10, in the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, the first output signals V11 and V12 and the second output signals V21 and V22 output from the MRE sensor 120 are It is taken into the vehicle-side control device 200 that controls various controls. The control device 200 detects the operation positions of the rotary switch 13 and the push button 14 based on the first output signals V11 and V12 and the second output signals V21 and V22, and detects the detected rotary. Based on the operation positions of the switch 13 and the push button 14, the switching of the vehicle headlight 201, small light 202, and fog lamp 203 is controlled.

次に、第1の出力信号V11,V12及び第2の出力信号V21,V22に基づくプッシュボタン14の操作位置の検出方法について説明する。
まず、第1の磁気検出部121から出力される第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12はそれぞれ以下の(1),(2)で表すことができる。なお、これら(1),(2)において、V1は第1の磁気検出部121のセンサ感度(出力電圧の大きさ)を、また、θは磁石102の上記矢印a1,a2で示す方向の回転角度をそれぞれ示す。
Next, a method for detecting the operation position of the push button 14 based on the first output signals V11 and V12 and the second output signals V21 and V22 will be described.
First, the first sine signal V11 and the first cosine signal V12 output from the first magnetic detection unit 121 can be expressed by the following (1) and (2), respectively. In these (1) and (2), V1 is the sensor sensitivity (the magnitude of the output voltage) of the first magnetic detector 121, and θ is the rotation of the magnet 102 in the directions indicated by the arrows a1 and a2. Each angle is shown.

V11=V1sinθ・・・(1)
V12=V1cosθ・・・(2)
一方、第2の磁気検出部122から出力される第2の正弦信号V21及び第2の余弦信号V22はそれぞれ以下の(3),(4)で表すことができる。なお、これら(3),(4)において、V2は第2の磁気検出部122のセンサ感度(出力電圧の大きさ)を示す。
V11 = V1sin θ (1)
V12 = V1 cos θ (2)
On the other hand, the second sine signal V21 and the second cosine signal V22 output from the second magnetic detection unit 122 can be expressed by the following (3) and (4), respectively. In these (3) and (4), V2 indicates the sensor sensitivity (the magnitude of the output voltage) of the second magnetic detection unit 122.

V21=V2sinθ・・・(3)
V22=V2cosθ・・・(4)
ちなみに、第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2は、第1及び第2の磁気検出部121,122をそれぞれ構成する磁気抵抗素子の抵抗値の大きさに基づいて変化する値である。ここで、前述のように、第1及び第2の磁気検出部121,122をそれぞれ構成する磁気抵抗素子は、印加される磁界に応じてその抵抗値が変化するとともに、所定の大きさを超える磁束密度が印加されるとその値が飽和するといった物性を有している。すなわち、これらセンサ感度の値V1,V2は、第1及び第2の磁気検出部121,122に印加される磁界の磁束密度の大きさに応じて変化するとともに、所定の大きさを超える磁束密度が第1及び第2の磁気検出部121,122に印加されると飽和する値である。
V21 = V2sin θ (3)
V22 = V2 cos θ (4)
Incidentally, the sensor sensitivity values V1 and V2 of the first and second magnetic detectors 121 and 122 are respectively the magnitudes of the resistance values of the magnetoresistive elements constituting the first and second magnetic detectors 121 and 122, respectively. It is a value that changes based on the length. Here, as described above, the resistance values of the magnetoresistive elements constituting the first and second magnetic detectors 121 and 122 change in accordance with the applied magnetic field and exceed a predetermined size. When the magnetic flux density is applied, the value is saturated. That is, the sensor sensitivity values V1 and V2 change according to the magnitude of the magnetic flux density of the magnetic field applied to the first and second magnetic detectors 121 and 122, and the magnetic flux density exceeds a predetermined magnitude. Is a value that saturates when applied to the first and second magnetic detectors 121 and 122.

ところで、前述のように、第1及び第2の磁気検出部121,122は、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子によりそれぞれ構成されているため、それぞれ同様の回路構成を有してはいるものの、MREセンサ120に印加される磁界の磁束密度の変化に伴うセンサ感度の値V1,V2の変化態様はそれぞれ若干異なる。   As described above, the first and second magnetic detectors 121 and 122 are each composed of two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field. However, the sensor sensitivity values V1 and V2 change slightly with the change in magnetic flux density of the magnetic field applied to the MRE sensor 120.

そこで、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100では、まず、第1の出力信号V11,V12から以下の(5)式に基づいて第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1を算出するとともに、第2の出力信号V21,V22から以下の(6)式に基づいて第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2を算出するようにしている。   Therefore, in the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, first, the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 is calculated from the first output signals V11 and V12 based on the following equation (5). In addition, the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 is calculated from the second output signals V21 and V22 based on the following equation (6).

V1=√(V11+V12)・・・(5)
V2=√(V21+V22)・・・(6)
そして、第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2の変化態様の違いを利用して磁石102の上記矢印z1,z2で示す方向の位置を検出し、これによりプッシュボタン14の操作位置を検出するようにしている。
V1 = √ (V11 2 + V12 2 ) (5)
V2 = √ (V21 2 + V22 2 ) (6)
Then, the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 is detected by using the difference in change mode of the sensor sensitivity values V1 and V2 of the first and second magnetic detectors 121 and 122, Thereby, the operation position of the push button 14 is detected.

続いて、図11を参照して、MREセンサ120に印加される磁界の磁束密度の変化に伴う第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2の変化の様子について説明する。   Subsequently, referring to FIG. 11, changes in sensor sensitivity values V1 and V2 of the first and second magnetic detectors 121 and 122 accompanying changes in the magnetic flux density of the magnetic field applied to the MRE sensor 120 are described. The situation will be described.

ここで、図11は、磁石102の上記矢印z1,z2で示す方向の位置と第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2とについて、それぞれ横軸と縦軸とにとって両者の関係を示したグラフである。なお、図11のグラフにおいて、実線は第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1の変化傾向を、また一点鎖線は第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2の変化傾向をそれぞれ示している。   Here, FIG. 11 shows the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 and the values V1 and V2 of the sensor sensitivities of the first and second magnetic detectors 121 and 122, respectively. It is the graph which showed the relationship between both with respect to the vertical axis | shaft. In the graph of FIG. 11, the solid line indicates the change tendency of the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121, and the alternate long and short dash line indicates the change tendency of the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122. Show.

例えばいま、先の図7に示すように、磁石102が、基準位置Pz0よりも矢印z2で示す方向に離間した位置d2から、すなわちMREセンサ120から十分に離間した位置から、矢印z1で示す方向に移動してMREセンサ120に徐々に近接したとする。このとき、MREセンサ120に印加される磁界の磁束密度は徐々に大きくなる態様にて変化し、図11に示されるように、第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2は共に徐々に大きくなるとともに、次第に飽和して一定値に達する。ここで、これらセンサ感度のそれぞれの値V1,V2の変化態様を比較すると、まずは第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1が飽和した後、これに続くかたちで第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2が飽和する。   For example, as shown in FIG. 7 above, the direction in which the magnet 102 is indicated by the arrow z1 from the position d2 separated from the reference position Pz0 in the direction indicated by the arrow z2, that is, from the position sufficiently separated from the MRE sensor 120. , And gradually approach the MRE sensor 120. At this time, the magnetic flux density of the magnetic field applied to the MRE sensor 120 changes in such a manner that it gradually increases. As shown in FIG. 11, the sensor sensitivities of the first and second magnetic detectors 121 and 122 are changed. Both values V1 and V2 gradually increase and gradually saturate to reach a constant value. Here, when the change modes of the values V1 and V2 of the sensor sensitivities are compared, first, the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 is saturated, and then the second magnetic detection unit is followed. The sensor sensitivity value V2 of 122 is saturated.

そして、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100では、磁石102とMREセンサ120との間の距離を以下のように調整するようにしている。すなわち、磁石102が第1の操作位置d0から第2の操作位置d1まで移動してMREセンサ120に印加される磁界の磁束密度に変化が生じた際に、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1が飽和した状態を維持するとともに、第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2に変化が生じる距離に設定するようにしている。換言すれば、第1の磁気検出部121を構成する磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24の抵抗値が飽和した状態に維持されるとともに、第2の磁気検出部122を構成する磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44の抵抗値に変化が生じる距離に設定するようにしている。これにより、図12に示すように、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第1の操作位置d0から第2の操作位置d1へ変化した際には、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1は一定値V1maxを示し、第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2は、V2(d0)からV2(d1)まで増加するようになる。   In the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, the distance between the magnet 102 and the MRE sensor 120 is adjusted as follows. That is, when the magnet 102 moves from the first operation position d0 to the second operation position d1 and the magnetic flux density of the magnetic field applied to the MRE sensor 120 changes, the sensor of the first magnetic detection unit 121 While maintaining the state in which the sensitivity value V1 is saturated, the distance is set such that the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 changes. In other words, the resistance values of the magnetoresistive elements M <b> 11 to M <b> 14 and M <b> 21 to M <b> 24 that constitute the first magnetic detection unit 121 are maintained in a saturated state, and the magnetoresistive element that constitutes the second magnetic detection unit 122. The distances at which the resistance values of M31 to M34 and M41 to M44 change are set. As a result, as shown in FIG. 12, when the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 changes from the first operation position d0 to the second operation position d1, the first magnetic detection unit 121. The sensor sensitivity value V1 indicates a constant value V1max, and the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 increases from V2 (d0) to V2 (d1).

ところで、磁石102の位置が第1の操作位置d0と第2の操作位置d1の間で変化する際には、磁石102の位置に応じて第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2が変化することから、例えばこのセンサ感度の値V2に基づいて磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置を検出することが可能であるとも考えられる。   By the way, when the position of the magnet 102 changes between the first operation position d0 and the second operation position d1, the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 depends on the position of the magnet 102. For example, it is considered that the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 can be detected based on the sensor sensitivity value V2.

しかしながら、前述のように、第1の磁気検出部121を構成する磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24も含め、第2の磁気検出部122を構成する磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44は、一般に、自身の有する温度等の影響を受けてその抵抗値が変化するため、第2の磁気検出部122の温度の変化に伴ってそのセンサ感度の値V2も変化する。具体的には、例えば、図13に二点鎖線で併せ示すように、MREセンサ120の温度の低下に伴い第2の磁気検出部122の温度が低下した場合には、そのセンサ感度の値V2が全体的に大きくなる方向にシフトする。したがって、センサ感度の値V2に変化が生じた場合に、その変化が同磁気抵抗素子の温度変化等に起因するものであるか、あるいは磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置の変化に起因するものであるかを区別することが困難であり、センサ感度の値V2に基づいた磁石102の位置の検出は困難なものとなる。   However, as described above, the magnetoresistive elements M31 to M34 and M41 to M44 constituting the second magnetic detector 122, including the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 constituting the first magnetic detector 121, are included. In general, since its resistance value changes under the influence of its own temperature or the like, its sensor sensitivity value V2 also changes as the temperature of the second magnetic detection unit 122 changes. Specifically, for example, as indicated by a two-dot chain line in FIG. 13, when the temperature of the second magnetic detection unit 122 decreases as the temperature of the MRE sensor 120 decreases, the sensor sensitivity value V <b> 2. Shift in the direction of increasing overall. Therefore, when a change occurs in the sensor sensitivity value V2, the change is caused by a temperature change of the magnetoresistive element or the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2. It is difficult to distinguish whether it is caused or not, and it is difficult to detect the position of the magnet 102 based on the sensor sensitivity value V2.

そこで、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100では、こうした磁気抵抗素子の温度変化等の影響が第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2に反映されることに着目して、これらの比の値を算出することで磁気抵抗素子の温度変化等の影響が相殺された値を得るようにしている。具体的には、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1を第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2で除算した値Vr12(=V1/V2)を算出した上で、この算出されたセンサ感度比の値Vr12に基づいて磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置、換言すればプッシュボタン14の操作位置を検出するようにしている。   Therefore, in the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, the influence of such a temperature change of the magnetoresistive element is reflected in the sensor sensitivity values V1 and V2 of the first and second magnetic detection units 121 and 122, respectively. Focusing on this, by calculating the value of these ratios, a value in which the influence of the temperature change of the magnetoresistive element is offset is obtained. Specifically, a value Vr12 (= V1 / V2) obtained by dividing the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 by the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 is calculated. Based on the calculated sensor sensitivity ratio value Vr12, the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2, in other words, the operation position of the push button 14 is detected.

図14は、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置とセンサ感度比の値Vr12とについて、それぞれ横軸と縦軸とにとって両者の関係を示したものである。
同図14に示されるように、センサ感度比の値Vr12は、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第1の操作位置d0から第2の操作位置d1へ変化したとすると、徐々に減少する態様で変化する。ここで、この磁気式位置検出装置100では、このセンサ感度比の値Vr12に対し、磁石102が第1の操作位置d0に位置しているときのセンサ感度比の値Vr12(d0)及び第2の操作位置d1に位置しているときのセンサ感度比の値Vr12(d1)の中間値Vrd(=(Vr12(d0)+Vr12(d1))/2)が閾値として設定されている。そして、同装置100では、第1の出力信号V11,V12及び第2の出力信号V21,V22からセンサ感度比の値Vr12を算出した上で、このセンサ感度比の値Vr12に基づいて以下のようにしてプッシュボタン14の操作位置を検出するようにしている。
FIG. 14 shows the relationship between the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 and the sensor sensitivity ratio value Vr12 with respect to the horizontal axis and the vertical axis, respectively.
As shown in FIG. 14, the sensor sensitivity ratio value Vr12 is gradually increased if the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 changes from the first operation position d0 to the second operation position d1. Change in a decreasing manner. Here, in the magnetic position detection device 100, the sensor sensitivity ratio value Vr12 (d0) and the second value when the magnet 102 is positioned at the first operation position d0 with respect to the sensor sensitivity ratio value Vr12. An intermediate value Vrd (= (Vr12 (d0) + Vr12 (d1)) / 2) of the sensor sensitivity ratio value Vr12 (d1) at the operation position d1 is set as a threshold value. In the apparatus 100, the sensor sensitivity ratio value Vr12 is calculated from the first output signals V11 and V12 and the second output signals V21 and V22, and the following is based on the sensor sensitivity ratio value Vr12. Thus, the operation position of the push button 14 is detected.

a1.センサ感度比の値Vr12が閾値Vrd以上の値である旨が判断された場合。この場合には、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第1の操作位置d0であり、プッシュボタン14の操作位置は基準位置Pz0である旨が検出される。   a1. When it is determined that the sensor sensitivity ratio value Vr12 is greater than or equal to the threshold value Vrd. In this case, it is detected that the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 is the first operation position d0, and the operation position of the push button 14 is the reference position Pz0.

a2.センサ感度比の値Vr12が閾値Vrdより小さい値である旨が判断された場合。この場合には、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第2の操作位置d1であり、プッシュボタン14の操作位置は第1の操作位置Pz1である旨が検出される。   a2. When it is determined that the sensor sensitivity ratio value Vr12 is smaller than the threshold value Vrd. In this case, it is detected that the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 is the second operation position d1, and the operation position of the push button 14 is the first operation position Pz1.

続いて、ロータリスイッチ13の操作位置の検出方法について説明する。
本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100では、前述のように、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第1の操作位置d0と第2の操作位置d1との間で変化した際に、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1は飽和した状態を維持する。すなわち、この第1の磁気検出部121から出力される第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12には、磁石102からMREセンサ120に印加される磁界の磁束密度の大きさの変化の影響、換言すればプッシュボタン14の操作位置の影響が及ぶことはない。そこで、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100では、第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12に基づいて同磁石102の上記矢印a1,a2で示す方向の回転位置を検出し、これによりロータリスイッチ13の操作位置を検出するようにしている。
Next, a method for detecting the operation position of the rotary switch 13 will be described.
In the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, as described above, the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 has changed between the first operation position d0 and the second operation position d1. At this time, the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 is kept saturated. In other words, the first sine signal V11 and the first cosine signal V12 output from the first magnetic detection unit 121 indicate changes in the magnetic flux density of the magnetic field applied from the magnet 102 to the MRE sensor 120. The influence, in other words, the operation position of the push button 14 is not affected. Therefore, in the magnetic position detection device 100 according to the present embodiment, the rotational position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 is detected based on the first sine signal V11 and the first cosine signal V12, Thereby, the operation position of the rotary switch 13 is detected.

図15は、磁石102の上記矢印a1,a2で示す方向への回転角度θと第1の出力信号V11,V12とについて、それぞれ横軸と縦軸とにとって両者の関係を示したグラフである。   FIG. 15 is a graph showing the relationship between the rotation angle θ of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 and the first output signals V11 and V12 with respect to the horizontal axis and the vertical axis, respectively.

同図15に示されるように、第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12は、磁石102の上記矢印a1,a2で示す方向への回転角度θに応じて、それぞれ正弦波状及び余弦波状に変化する。そして、図16は、これら第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12に基づき算出される逆正接値Vat(=arctan(V12/V11))の変化傾向を示したグラフである。   As shown in FIG. 15, the first sine signal V11 and the first cosine signal V12 are a sine wave shape and a cosine wave shape according to the rotation angle θ of the magnet 102 in the directions indicated by the arrows a1 and a2, respectively. To change. FIG. 16 is a graph showing a change tendency of the arctangent value Vat (= arctan (V12 / V11)) calculated based on the first sine signal V11 and the first cosine signal V12.

同図16に示されるように、この逆正接値Vatは、回転角度θに応じて正の値から負の値へと直線状に緩やかに減少するとともに、所定の周期で正の値となって再び減少するといった変化を繰り返し、その値がジグザグ状に変化する。そして、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100では、磁石102とMREセンサ120との間の上記矢印a1,a2で示す方向の相対的な位置が以下のように調整されている。すなわち、磁石102が、先の図5(a)〜(c)に示した基準位置Pα0に位置している状態から第1の回転位置Pα1を経て第2の回転位置Pα2まで回動した際に、逆正接値Vatが正の値Vat1から「0」の値を経て負の値Vat2へと直線状に変化するように、それらの間の相対的な位置が調整されている。ここで、この磁気式位置検出装置100では、この逆正接値Vatに対し、正の値Vat1の半分の値(Vat1/2)と負の値Vat2の半分の値(Vat2/2)とが閾値としてそれぞれ設定されている。そして、同装置100では、第1の正弦信号V11及び第1の余弦信号V12から逆正接値Vatを算出した上で、この逆正接値Vatに基づいて以下のようにしてロータリスイッチ13の操作位置を検出するようにしている。   As shown in FIG. 16, the arctangent value Vat gradually decreases linearly from a positive value to a negative value according to the rotation angle θ, and becomes a positive value at a predetermined period. Repeated changes such as decreasing again, the value changes in a zigzag shape. In the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, the relative position between the magnet 102 and the MRE sensor 120 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 is adjusted as follows. That is, when the magnet 102 is rotated from the state at the reference position Pα0 shown in FIGS. 5A to 5C to the second rotational position Pα2 through the first rotational position Pα1. The relative position between them is adjusted so that the arc tangent value Vat linearly changes from the positive value Vat1 to the negative value Vat2 through the value “0”. Here, in this magnetic position detection device 100, the half value (Vat1 / 2) of the positive value Vat1 and the half value (Vat2 / 2) of the negative value Vat2 are threshold values for the arctangent value Vat. As each. The apparatus 100 calculates the arctangent value Vat from the first sine signal V11 and the first cosine signal V12, and then operates the rotary switch 13 based on the arctangent value Vat as follows. To detect.

b1.逆正接値Vatが閾値(Vat1/2)以上の値である旨が判断された場合。この場合には、磁石102の矢印a1,a2で示す方向の回転位置が基準位置Pα0であり、ロータリスイッチ13の操作位置が基準位置Pa0である旨が検出される。   b1. When it is determined that the arctangent value Vat is equal to or greater than the threshold value (Vat1 / 2). In this case, it is detected that the rotational position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 is the reference position Pα0, and the operation position of the rotary switch 13 is the reference position Pa0.

b2.逆正接値Vatが閾値(Vat1/2)よりも小さい値であり、且つ閾値(Vat2/2)以上の値である旨が判断された場合。この場合には、磁石102の矢印a1,a2で示す方向の回転位置が第1の回転位置Pα1であり、ロータリスイッチ13の操作位置が第1の操作位置Pa1である旨が検出される。   b2. When it is determined that the arctangent value Vat is a value smaller than the threshold value (Vat1 / 2) and a value equal to or larger than the threshold value (Vat2 / 2). In this case, it is detected that the rotation position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 is the first rotation position Pα1, and the operation position of the rotary switch 13 is the first operation position Pa1.

b3.逆正接値Vatが閾値(Vat2/2)よりも小さい値である旨が判断された場合。この場合には、磁石102の矢印a1,a2で示す方向の回転位置が第2の回転位置Pα2であり、ロータリスイッチ13の操作位置が第2の操作位置Pa2である旨が検出される。   b3. When it is determined that the arctangent value Vat is smaller than the threshold value (Vat2 / 2). In this case, it is detected that the rotation position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 is the second rotation position Pα2, and the operation position of the rotary switch 13 is the second operation position Pa2.

磁気式位置検出装置としてのこのような構成によれば、MREセンサ120の温度等の影響によって磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24,M31〜M34,M41〜M44の抵抗値が変化した場合であっても、同磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置を検出することができるようになる。また、同時に、同磁石102の矢印a1,a2で示す方向の回転位置も検出することができるようにもなる。   According to such a configuration as the magnetic position detecting device, when the resistance values of the magnetoresistive elements M11 to M14, M21 to M24, M31 to M34, and M41 to M44 are changed by the influence of the temperature of the MRE sensor 120 or the like. Even in this case, the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 can be detected. At the same time, the rotational position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 can be detected.

以上説明したように、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置によれば、以下のような効果が得られるようになる。
(1)印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる磁気抵抗素子からなる第1及び第2の磁気検出部121,122をMREセンサ120に設けた上で、磁石102によりMREセンサ120に磁界を印加するようにした。そして、MREセンサ120と磁石102との間の距離を、磁石102の位置が矢印z1,z2で示す方向に変化した際に、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1が飽和した状態を維持するとともに、第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2に変化が生じる距離に設定するようにした。換言すれば、第1の磁気検出部121を構成する磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24の抵抗値が飽和した状態に維持されるとともに、第2の磁気検出部122を構成する磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44の抵抗値に変化が生じる距離に設定するようにした。さらに、第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2の比の値であるセンサ感度比の値Vr12を算出し、算出されたセンサ感度比の値Vr12に基づいて磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置を検出するようにした。これにより、MREセンサ120の温度等の影響が軽減されるようになり、ひいては高い信頼性を維持しつつ磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置を検出することができるようになる。また、同時に、磁石102の矢印a1,a2で示す方向の回転位置も検出することができるようにもなる。
As described above, according to the magnetic position detection apparatus according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(1) The MRE sensor 120 is provided with the first and second magnetic detection units 121 and 122 made of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field. A magnetic field was applied. Then, when the distance between the MRE sensor 120 and the magnet 102 changes in the direction indicated by the arrows z1 and z2, the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 is saturated. And the distance at which the change in the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 changes is set. In other words, the resistance values of the magnetoresistive elements M <b> 11 to M <b> 14 and M <b> 21 to M <b> 24 that constitute the first magnetic detection unit 121 are maintained in a saturated state, and the magnetoresistive element that constitutes the second magnetic detection unit 122. The distances at which the resistance values of M31 to M34 and M41 to M44 change are set. Further, a sensor sensitivity ratio value Vr12 that is a ratio of the sensor sensitivity values V1 and V2 of the first and second magnetic detectors 121 and 122 is calculated, and the calculated sensor sensitivity ratio value Vr12 is obtained. Based on this, the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 is detected. As a result, the influence of the temperature or the like of the MRE sensor 120 is reduced, and as a result, the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 can be detected while maintaining high reliability. At the same time, the rotational position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2 can be detected.

(2)印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子を、線幅の細い磁気抵抗膜からなる磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24と、線幅の太い磁気抵抗膜からなる磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44とにより形成するようにした。これにより、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24,M31〜M34,M41〜M44の膜厚についてはこれを同じ厚さに設定することができるようになるため、MREセンサ120の製造の際に、磁気抵抗膜を形成する工程を基本的には1つの工程とすることができようになる。したがって、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子を容易に形成することができるようになる。
(第2の実施形態)
続いて、本発明にかかる磁気式位置検出装置の第2の実施形態について図17〜図21を参照して説明する。なお、この第2の実施形態にかかる磁気式位置検出装置、及び同装置の適用対象となるレバースイッチ装置の基本構造は、先の図2〜図10等に示した構造に準ずるものであり、ここでは先の図8に対応する図としてMREセンサ120の平面構造を図17に示す。なお、以下では、先の図2〜図10に示した要素と同一の要素にはそれぞれ同一の符号を付すことにより重複する説明を割愛し、以下では、両者の相違点を中心に説明する。
(2) Two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are magnetoresistive elements M11 to M14, M21 to M24 made of a magnetoresistive film having a thin line width, and a magnet having a wide line width. The magnetoresistive elements M31 to M34 and M41 to M44 made of a resistance film are used. As a result, the magnetoresistive elements M11 to M14, M21 to M24, M31 to M34, and M41 to M44 can be set to the same thickness, so that the MRE sensor 120 can be manufactured. The process of forming the magnetoresistive film can be basically made one process. Therefore, two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field can be easily formed.
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the magnetic position detection device according to the present invention will be described with reference to FIGS. The basic structure of the magnetic position detection device according to the second embodiment and the lever switch device to which the device is applied conforms to the structure shown in FIGS. Here, FIG. 17 shows a planar structure of the MRE sensor 120 as a diagram corresponding to FIG. In the following description, the same elements as those shown in FIGS. 2 to 10 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Hereinafter, differences between the elements will be mainly described.

同図17に示されるように、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100に設けられるMREセンサ120には、上記磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24がそのまま設けられるとともに、上記磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44に代えて、磁気抵抗素子M51〜M54,M61〜M64が設けられている。ここで、このMREセンサ120では、これら磁気抵抗素子M51〜M54,M61〜M64を形成する磁気抵抗膜の線幅が、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24を形成する磁気抵抗膜の線幅と同じ長さに設定されている。ただし、同図のB−B線に沿った断面構造を図18に示すように、磁気抵抗素子M51〜M54,M61〜M64を形成する磁気抵抗膜の膜厚が、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24を形成する磁気抵抗膜の膜厚よりも厚く設定されている。これにより、このMREセンサ120でも、内側に配置された8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24と外側に配置された8つの磁気抵抗素子M51〜M54,M61〜M64とで、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率が互いに異なったものとなっている。そして、このMREセンサ120でも、内側に配置された8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24により第1の磁気検出部121が構成されている。そして、外側に配置された8つの磁気抵抗素子M51〜M54,M61〜M64により、上記第2の磁気検出部122に代えて第3の磁気検出部123が構成されている。   As shown in FIG. 17, the MRE sensor 120 provided in the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment is provided with the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 as they are, and the magnetoresistive element. In place of M31 to M34 and M41 to M44, magnetoresistive elements M51 to M54, M61 to M64 are provided. Here, in the MRE sensor 120, the line widths of the magnetoresistive films forming the magnetoresistive elements M51 to M54 and M61 to M64 are the line widths of the magnetoresistive films forming the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24. Is set to the same length. However, as shown in FIG. 18 with a cross-sectional structure taken along line BB in FIG. 18, the film thicknesses of the magnetoresistive films forming the magnetoresistive elements M51 to M54 and M61 to M64 are the magnetoresistive elements M11 to M14, It is set to be thicker than the thickness of the magnetoresistive film forming M21 to M24. Thereby, also in this MRE sensor 120, it applies with eight magnetoresistive elements M11-M14, M21-M24 arrange | positioned inside, and eight magnetoresistive elements M51-M54, M61-M64 arrange | positioned outside. The resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the magnetic field are different from each other. Also in the MRE sensor 120, the first magnetic detection unit 121 is configured by eight magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 arranged on the inner side. The eight magnetic resistance elements M51 to M54 and M61 to M64 arranged on the outside constitute a third magnetic detection unit 123 instead of the second magnetic detection unit 122.

図19は、先の図11に対応する図として、こうした第1及び第3の磁気検出部121,123のセンサ感度のそれぞれの値V1,V3と磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置とについて、それぞれ縦軸と横軸とにとって両者の関係を示したグラフである。なお、この図19に示すグラフにおいて、実線は第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1の変化傾向を、また一点鎖線は第3の磁気検出部123のセンサ感度の値V3の変化傾向を示している。   FIG. 19 is a diagram corresponding to FIG. 11 described above, and the sensor sensitivity values V1, V3 of the first and third magnetic detectors 121, 123 and the positions of the magnets 102 in the directions indicated by the arrows z1, z2. Is a graph showing the relationship between the vertical axis and the horizontal axis. In the graph shown in FIG. 19, the solid line indicates the change tendency of the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121, and the alternate long and short dash line indicates the change tendency of the sensor sensitivity value V3 of the third magnetic detection unit 123. Is shown.

例えばいま、先の図7に示すように、磁石102が、基準位置Pz0よりも矢印z2で示す方向に離間した位置d2から、すなわちMREセンサ120から十分に離間した位置から、矢印z1で示す方向に移動してMREセンサ120に徐々に近接したとする。このとき、MREセンサ120に印加される磁界の磁束密度は徐々に大きくなる態様にて変化し、図19に示されるように、第1及び第3の磁気検出部121,123のセンサ感度のそれぞれの値V1,V3は共に徐々に大きくなるとともに、次第に飽和してそれぞれ一定の値に達する。ここで、これらセンサ感度のそれぞれの値V1,V3の変化態様を比較すると、まずは第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1が飽和した後、これに続くかたちで第3の磁気検出部123のセンサ感度の値V3が飽和することとなるが、飽和したときの値については、センサ感度の値V1よりもセンサ感度の値V3の方が大きくなる。このため、先の図11を参照しつつ、センサ感度の値V2の変化態様とセンサ感度の値V3の変化態様とを比較すると、飽和したときの値については、センサ感度の値V2よりもセンサ感度の値V3の方が大きくなる。   For example, as shown in FIG. 7 above, the direction in which the magnet 102 is indicated by the arrow z1 from the position d2 separated from the reference position Pz0 in the direction indicated by the arrow z2, that is, from the position sufficiently separated from the MRE sensor 120. , And gradually approach the MRE sensor 120. At this time, the magnetic flux density of the magnetic field applied to the MRE sensor 120 changes in such a manner that it gradually increases, and as shown in FIG. 19, the sensor sensitivities of the first and third magnetic detectors 121 and 123, respectively. Both values V1 and V3 gradually increase and gradually saturate to reach a certain value. Here, when the change modes of the values V1 and V3 of the sensor sensitivities are compared, first, the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 is saturated, and then the third magnetic detection unit is followed. The sensor sensitivity value V3 of 123 is saturated, and the sensor sensitivity value V3 is larger than the sensor sensitivity value V1 when the value is saturated. Therefore, referring to the previous FIG. 11, when the change mode of the sensor sensitivity value V2 and the change mode of the sensor sensitivity value V3 are compared, the value at the time of saturation is higher than the sensor sensitivity value V2. The sensitivity value V3 is larger.

そして、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100でも、同磁石102とMREセンサ120との間の距離が以下のように調整されている。すなわち、磁石102が第1の操作位置d0から第2の操作位置d1まで移動してMREセンサ120に印加される磁界の磁束密度に変化が生じた際に、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1が飽和した状態を維持するとともに、第3の磁気検出部123のセンサ感度の値V3に変化が生じる距離に設定されている。具体的には、図20に示すように、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第1の操作位置d0から第2の操作位置d1へ変化した際には、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1は一定値V1maxを示し、第3の磁気検出部123のセンサ感度の値V3は、V3(d0)からV3(d1)まで増加する。   In the magnetic position detection apparatus 100 according to this embodiment, the distance between the magnet 102 and the MRE sensor 120 is adjusted as follows. That is, when the magnet 102 moves from the first operation position d0 to the second operation position d1 and the magnetic flux density of the magnetic field applied to the MRE sensor 120 changes, the sensor of the first magnetic detection unit 121 While maintaining the state where the sensitivity value V1 is saturated, the distance is set such that the sensor sensitivity value V3 of the third magnetic detection unit 123 changes. Specifically, as shown in FIG. 20, when the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 changes from the first operation position d0 to the second operation position d1, the first magnetic detection is performed. The sensor sensitivity value V1 of the unit 121 indicates a constant value V1max, and the sensor sensitivity value V3 of the third magnetic detection unit 123 increases from V3 (d0) to V3 (d1).

そして、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100でも、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1を第3の磁気検出部123のセンサ感度の値V3で除算した値Vr13(=V1/V3)を算出した上で、この算出されたセンサ感度比の値Vr13に基づいて磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置、換言すればプッシュボタン14の操作位置を検出するようにしている。   In the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, the value Vr13 (= V1) obtained by dividing the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 by the sensor sensitivity value V3 of the third magnetic detection unit 123. / V3) is calculated, and the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2, that is, the operation position of the push button 14 is detected based on the calculated sensor sensitivity ratio value Vr13. Yes.

図21は、先の図14に対応する図として、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置とセンサ感度比の値Vr13とについて、それぞれ横軸と縦軸とにとって両者の関係を示したものである。   FIG. 21 shows the relationship between the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 and the value Vr13 of the sensor sensitivity ratio with respect to the horizontal axis and the vertical axis, respectively, corresponding to FIG. Is.

同図21に示されるように、センサ感度比の値Vr13も、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第1の操作位置d0から第2の操作位置d1へ変化したとすると、徐々に減少する態様で変化する。そして、本実施形態にかかる磁気式位置検出装置100でも、このセンサ感度比の値Vr13に対し、磁石102が第1の操作位置d0に位置しているときのセンサ感度比の値Vr13(d0)及び第2の操作位置d1に位置しているときのセンサ感度比の値Vr13(d1)の中間値Vrd(=(Vr13(d0)+Vr13(d1))/2)が閾値として設定されている。そして、同装置100では、このセンサ感度比の値Vr13に基づいて以下のようにしてプッシュボタン14の操作位置を検出するようにしている。   As shown in FIG. 21, the sensor sensitivity ratio value Vr13 also gradually changes when the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 changes from the first operation position d0 to the second operation position d1. Change in a decreasing manner. In the magnetic position detection apparatus 100 according to the present embodiment, the sensor sensitivity ratio value Vr13 (d0) when the magnet 102 is located at the first operation position d0 with respect to the sensor sensitivity ratio value Vr13. Also, an intermediate value Vrd (= (Vr13 (d0) + Vr13 (d1)) / 2) of the sensor sensitivity ratio value Vr13 (d1) at the second operation position d1 is set as a threshold value. In the apparatus 100, the operation position of the push button 14 is detected as follows based on the sensor sensitivity ratio value Vr13.

c1.センサ感度比の値Vr13が閾値Vrd以上の値である旨が判断された場合。この場合には、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第1の操作位置d0であり、プッシュボタン14の操作位置は基準位置Pz0である旨が検出される。   c1. When it is determined that the sensor sensitivity ratio value Vr13 is greater than or equal to the threshold value Vrd. In this case, it is detected that the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 is the first operation position d0, and the operation position of the push button 14 is the reference position Pz0.

c2.センサ感度比の値Vr13が閾値Vrdより小さい値である旨が判断された場合。この場合には、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が第2の操作位置d1であり、プッシュボタン14の操作位置は第1の操作位置Pz1である旨が検出される。   c2. When it is determined that the sensor sensitivity ratio value Vr13 is smaller than the threshold value Vrd. In this case, it is detected that the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 is the second operation position d1, and the operation position of the push button 14 is the first operation position Pz1.

磁気式位置検出装置としてのこのような構成によれば、運転者によってプッシュボタン14が操作されて磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置が変化した際に、センサ感度比の値Vr13が大きく変化するようになる。したがって、磁石102の位置の検出が容易となるため、ひいては磁石102の矢印z1,z2で示す方向の操作位置、換言すればプッシュボタン14の操作位置を、より高い精度で検出することができるようになる。   According to such a configuration as the magnetic position detection device, when the push button 14 is operated by the driver and the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 changes, the sensor sensitivity ratio value Vr13 is obtained. It will change greatly. Therefore, since the position of the magnet 102 can be easily detected, the operation position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2, in other words, the operation position of the push button 14 can be detected with higher accuracy. become.

以上説明したように、本実施形態によれば、先の第1の実施形態による上記(2)の効果に代わる効果として以下の効果が得られるようになる。
(3)印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子を、膜厚の薄い磁気抵抗膜からなる磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24と、膜厚の厚い磁気抵抗膜からなる磁気抵抗素子M51〜M54,M61〜M64とによりそれぞれ形成するようにした。これにより、第1及び第3の磁気検出部121,123のセンサ感度のそれぞれの値V1,V3の比の値Vr13が大きく変化するようになるため、このセンサ感度比の値Vr13に基づいて磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置を検出するようにすれば、その位置の検出が容易となり、ひいては磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置を、より高い精度で検出することができるようになる。
As described above, according to the present embodiment, the following effects can be obtained as an effect in place of the effect (2) according to the first embodiment.
(3) Two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 made of thin magnetoresistive films, and thick magnetic films. The magnetoresistive elements M51 to M54 and M61 to M64 each made of a resistance film are formed. As a result, the value Vr13 of the ratios V1 and V3 of the sensor sensitivities of the first and third magnetic detectors 121 and 123 changes greatly, so that the magnet is based on the sensor sensitivity ratio value Vr13. If the position of the direction indicated by the arrows z1 and z2 of 102 is detected, the position can be easily detected, and the position of the magnet 102 indicated by the arrows z1 and z2 can be detected with higher accuracy. become able to.

(他の実施の形態)
なお、上記各実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
・上記第1の実施形態では、線幅の細い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24の外側に線幅の太い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44を配置するようにした。これに代えて、例えば線幅の太い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子の外側に線幅の細い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子を配置するようにしてもよい。
(Other embodiments)
In addition, each said embodiment can also be changed and implemented as follows.
In the first embodiment, eight magnetoresistive elements M31 to M34 made of a magnetoresistive film having a large line width outside the eight magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 made of a magnetoresistive film having a thin line width. , M41 to M44 are arranged. Instead of this, for example, eight magnetoresistive elements composed of a magnetoresistive film having a narrow line width may be arranged outside the eight magnetoresistive elements composed of a magnetoresistive film having a large line width.

・上記第2の実施形態では、膜厚の薄い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24の外側に膜厚の厚い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44を配置するようにした。これに代えて、例えば膜厚の厚い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子の外側に膜厚の薄い磁気抵抗膜からなる8つの磁気抵抗素子を配置するようにしてもよい。   In the second embodiment, eight magnetoresistive elements M31 to M34 made of a thick magnetoresistive film outside the eight magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 made of a thin magnetoresistive film. , M41 to M44 are arranged. Instead of this, for example, eight magnetoresistive elements composed of thin magnetoresistive films may be arranged outside the eight magnetoresistive elements composed of thick magnetoresistive films.

・印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子を、上記第1の実施形態では線幅の異なる2種類の磁気抵抗膜により、また、上記第2の実施形態では膜厚の異なる2種類の磁気抵抗膜により形成するようにした。これに代えて、例えば線幅及び膜厚の両者が異なる2種類の磁気抵抗膜により形成するようにしてもよい。要は、印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子により2つの磁気検出部が構成されていればよい。   The two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are replaced with two types of magnetoresistive films having different line widths in the first embodiment, and in the second embodiment. It was formed by two types of magnetoresistive films having different film thicknesses. Instead of this, for example, two types of magnetoresistive films having different line widths and film thicknesses may be used. In short, it is only necessary that the two magnetic detection units are composed of two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field.

・例えば第1の実施形態では、第1及び第2の磁気検出部121,122のセンサ感度のそれぞれの値V1,V2の比の値として、第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1を第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2で除算した値Vr12(=V1/V2)を採用するようにした。これに代えて、例えば第2の磁気検出部122のセンサ感度の値V2を第1の磁気検出部121のセンサ感度の値V1で除算した値(V2/V1)を採用するようにしてもよい。   For example, in the first embodiment, the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 is used as the ratio value of the sensor sensitivity values V1 and V2 of the first and second magnetic detection units 121 and 122, respectively. The value Vr12 (= V1 / V2) obtained by dividing the value by the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 is adopted. Instead of this, for example, a value (V2 / V1) obtained by dividing the sensor sensitivity value V2 of the second magnetic detection unit 122 by the sensor sensitivity value V1 of the first magnetic detection unit 121 may be employed. .

・上記第1の磁気検出部121は、磁石102の矢印a1,a2で示す方向の回転位置を検出する部分として機能するため、これを構成する磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24を中心軸mを中心として環状に配置することが望ましい。一方、上記第2の磁気検出部122は、磁石102の矢印a1,a2で示す方向の位置を検出する部分としては機能しないため、これを構成する磁気抵抗素子M31〜M34,M41〜M44を中心軸mを中心として環状に配置する必要はない。このため、例えば図22に示すように、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24を中心軸mを中心として環状に配置するとともに、磁気抵抗素子M11〜M14,M21〜M24を、中心軸mとは別の中心軸nを中心として環状に配置するようにしてもよい。   The first magnetic detection unit 121 functions as a portion that detects the rotational position of the magnet 102 in the directions indicated by the arrows a1 and a2, and therefore the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 constituting the first magnetic detection unit 121 are center axes. It is desirable to arrange in an annular shape centering on m. On the other hand, the second magnetic detection unit 122 does not function as a part for detecting the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows a1 and a2. Therefore, the magnetoresistive elements M31 to M34 and M41 to M44 constituting the second magnetic detection unit 122 are mainly used. There is no need to arrange the ring around the axis m. For this reason, for example, as shown in FIG. 22, the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 are arranged in a ring shape around the central axis m, and the magnetoresistive elements M11 to M14 and M21 to M24 are arranged as the central axis m. May be arranged annularly around another central axis n.

・上記各実施形態では、本発明にかかる磁気式位置検出装置をレバースイッチ装置10に適用して、操作レバーのロータリスイッチ13及びプッシュボタン14のそれぞれの操作に連動して動く磁石102の位置を検出することでこれらロータリスイッチ13及びプッシュボタン14の操作位置を検出するようにした。これに代えて、例えばカーナビゲーションシステムに適用して、同システムを操作するための操作レバーの回転操作及びプッシュ操作に連動して動く磁石を設けた上で、この磁石の位置を検出することで操作レバーの回転操作及びプッシュ操作を検出するようにしてもよい。要は、磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動可能であるととも、その移動軸を回転軸として回転可能な被検出体を備え、この被検出体の移動方向及び回転方向の位置を検出するものであればよい。   In each of the above embodiments, the magnetic position detection device according to the present invention is applied to the lever switch device 10 to determine the position of the magnet 102 that moves in conjunction with the operation of the rotary switch 13 and the push button 14 of the operation lever. By detecting, the operation positions of the rotary switch 13 and the push button 14 are detected. Instead of this, for example, it is applied to a car navigation system, and a magnet that moves in conjunction with a rotation operation and a push operation of an operation lever for operating the system is provided, and then the position of this magnet is detected. You may make it detect the rotation operation and push operation of an operation lever. In short, it is possible to move in the direction of approaching and moving away from the magnetoresistive effect sensor, and to include a detected body that can rotate about its moving axis as a rotation axis. What is necessary is just to detect a position.

・上記各実施形態では、磁石102の矢印z1,z2で示す方向の位置、及び矢印a1,a2で示す方向の位置をそれぞれ検出するようにしたが、例えばロータリスイッチ13の設けられていないレバースイッチ装置にあっては、矢印z1,z2で示す方向の位置のみを検出するようにしてもよい。要は、磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動可能な被検出体を備え、この被検出体の移動方向の位置を検出するものであればよい。
(付記)
次に、上記実施形態及びその変形例から把握できる技術的思想について追記する。
In each of the above embodiments, the position of the magnet 102 in the direction indicated by the arrows z1 and z2 and the position in the direction indicated by the arrows a1 and a2 are detected. However, for example, a lever switch not provided with the rotary switch 13 In the apparatus, only the position in the direction indicated by the arrows z1 and z2 may be detected. In short, any object may be used as long as it includes a detected object that can move in the direction of approaching and separating from the magnetoresistive sensor and detects the position of the detected object in the moving direction.
(Appendix)
Next, a technical idea that can be grasped from the above embodiment and its modifications will be additionally described.

(イ)車両に設けられた操作レバーの操作を通じて車載機器のスイッチングを操作するレバースイッチ装置であって、前記操作レバーには、押圧操作されるプッシュボタンと回転操作されるロータリスイッチとが設けられ、前記被検出体が、前記プッシュボタンの押圧操作に伴って前記磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動するとともに、前記ロータリスイッチの回転操作に伴ってその移動軸を中心に回転するものであり、前記2つの磁気検出部のセンサ感度の値の比の値に基づいて前記プッシュボタンの押圧操作を検出するとともに、前記被検出体の同センサに対して近接及び離間する方向への移動に伴い前記印加される磁界の磁束密度に変化が生じた際に抵抗値が飽和した状態に維持される1種類の磁気抵抗素子から構成される一方の磁気検出部から出力される電圧信号に基づいて前記ロータリスイッチの回転操作を検出することを特徴とする請求項2に記載の磁気式位置検出装置。近年、例えば車両に設けられて車載機器のスイッチングを操作するための操作レバーにあっては、その多機能化の要求の高まりとともに、同レバーの傾動操作による車載機器のスイッチング操作のみならず、新たにロータリスイッチやプッシュボタンを設けた上で、これらロータリスイッチの回転操作やプッシュボタンの押圧操作を通じて車載機器のスイッチングを操作するようにしたものがある。このため、こうしたロータリスイッチの回転操作やプッシュボタンの押圧操作を検出するための装置として上述した磁気式位置検出装置が採用されることの意義は大きい。   (A) A lever switch device that operates switching of in-vehicle devices through operation of an operation lever provided on the vehicle, wherein the operation lever is provided with a push button that is pressed and a rotary switch that is rotated. The object to be detected moves in a direction approaching and separating from the magnetoresistive sensor as the push button is pressed, and rotates around the moving axis as the rotary switch is rotated. And detecting a push operation of the push button based on a ratio value of sensor sensitivities of the two magnetic detection units, and moving the detected object toward and away from the sensor. When the magnetic flux density of the applied magnetic field changes as the magnetic field moves, the resistance value is maintained in a saturated state. Magnetic position detector according to claim 2, characterized in that for detecting the rotational operation of the rotary switch on the basis of the voltage signal output from one of the magnetic detection unit is made. In recent years, for example, an operation lever provided in a vehicle for operating switching of an in-vehicle device has not only increased switching functions of the in-vehicle device by tilting operation of the lever, but also a new In addition, a rotary switch and a push button are provided, and switching of the in-vehicle device is operated through a rotary operation of the rotary switch and a push operation of the push button. For this reason, it is significant that the magnetic position detection device described above is adopted as a device for detecting such rotary switch rotation operation and push button press operation.

本発明にかかる磁気式位置検出装置の第1の実施形態についてその適用対象となるレバースイッチ装置が設けられた車両内部の斜視構造を示す斜視図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view illustrating a perspective structure inside a vehicle provided with a lever switch device to which the first embodiment of a magnetic position detection device according to the present invention is applied. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置の適用対象となるレバースイッチ装置についてその斜視構造を示す斜視図。The perspective view which shows the perspective structure about the lever switch apparatus used as the application object of the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置の適用対象となるレバースイッチ装置の操作レバーについてその分解斜視構造を示す斜視図。The perspective view which shows the disassembled perspective structure about the operation lever of the lever switch apparatus used as the application object of the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置の適用対象となるレバースイッチ装置についてその操作レバーに設けられるロータリスイッチの側面構造を示す側面図。The side view which shows the side structure of the rotary switch provided in the operation lever about the lever switch apparatus used as the application object of the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. (a)〜(c)は、ロータリスイッチの操作位置が基準位置Pa0,第1の操作位置Pa1,及び第2の操作位置Pa2であるときの図3のA−A線に沿った断面構造をそれぞれ示す断面図。(A)-(c) shows the cross-sectional structure along the AA line of FIG. 3 when the operation position of the rotary switch is the reference position Pa0, the first operation position Pa1, and the second operation position Pa2. FIG. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置の適用対象となるレバースイッチ装置についてその操作レバーに設けられるプッシュボタンの正面構造を示す正面図。The front view which shows the front structure of the push button provided in the operating lever about the lever switch apparatus used as the application object of the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置についてその正面構造を示す正面図。The front view which shows the front structure about the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁気抵抗効果センサの平面構造を示す平面図。The top view which shows the planar structure of the magnetoresistive effect sensor about the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. (a),(b)は、同第1の実施形態の磁気式位置検出装置の磁気抵抗効果センサについてその第1及び第2の磁気検出部の等価回路をそれぞれ示す回路図。(A), (b) is a circuit diagram which respectively shows the equivalent circuit of the 1st and 2nd magnetic detection part about the magnetoresistive effect sensor of the magnetic-type position detection apparatus of the 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置の適用対象となるレバースイッチ装置のスイッチング操作系についてそのシステム構成を示すブロック図。The block diagram which shows the system structure about the switching operation system of the lever switch apparatus used as the application object of the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の軸方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1及び第2の磁気検出部のセンサ感度のそれぞれの値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the position of the axial direction of the magnet, and each value of the sensor sensitivity of the 1st and 2nd magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor about the magnetic-type position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の軸方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1及び第2の磁気検出部のセンサ感度のそれぞれの値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the position of the axial direction of the magnet, and each value of the sensor sensitivity of the 1st and 2nd magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor about the magnetic-type position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 磁石の軸方向の位置に応じた磁気抵抗効果センサの第2の磁気検出部のセンサ感度の値の変化について磁気抵抗効果センサの温度変化の影響を示すグラフ。The graph which shows the influence of the temperature change of a magnetoresistive effect sensor about the change of the value of the sensor sensitivity of the 2nd magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor according to the position of the axial direction of a magnet. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の軸方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1及び第2の磁気検出部のセンサ感度比の値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the position of the axial direction of the magnet and the value of the sensor sensitivity ratio of the 1st and 2nd magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor about the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の回転方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1の磁気検出部からの出力信号である正弦信号及び余弦信号との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the position of the rotation direction of the magnet and the sine signal and cosine signal which are the output signals from the 1st magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor about the magnetic position detection apparatus of the said 1st Embodiment. 同第1の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の回転方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1の磁気検出部からの出力信号である正弦信号及び余弦信号に基づき算出される逆正接値との関係を示すグラフ。The arc tangent calculated based on the position of the magnet in the rotational direction of the first embodiment and the sine signal and cosine signal that are output signals from the first magnetic detector of the magnetoresistive sensor. A graph showing the relationship between values. 本発明にかかる磁気式位置検出装置の第2の実施形態についてその磁気抵抗効果センサの平面構造を示す平面図。The top view which shows the planar structure of the magnetoresistive effect sensor about 2nd Embodiment of the magnetic position detection apparatus concerning this invention. 図16のB−B線に沿った断面構造を示す断面図。FIG. 17 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line BB in FIG. 16. 同第2の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の軸方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1及び第3の磁気検出部のセンサ感度のそれぞれの値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the position of the axial direction of the magnet, and each value of the sensor sensitivity of the 1st and 3rd magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor about the magnetic position detection apparatus of the said 2nd Embodiment. 同第2の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の軸方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1及び第3の磁気検出部のセンサ感度のそれぞれの値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the position of the axial direction of the magnet, and each value of the sensor sensitivity of the 1st and 3rd magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor about the magnetic position detection apparatus of the said 2nd Embodiment. 同第2の実施形態の磁気式位置検出装置についてその磁石の軸方向の位置と磁気抵抗効果センサの第1及び第3の磁気検出部のセンサ感度比の値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the position of the axial direction of the magnet and the value of the sensor sensitivity ratio of the 1st and 3rd magnetic detection part of a magnetoresistive effect sensor about the magnetic position detection apparatus of the said 2nd Embodiment. 同実施形態の磁気式位置検出装置における磁気抵抗効果センサの変形例を示す平面図。The top view which shows the modification of the magnetoresistive effect sensor in the magnetic position detection apparatus of the embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

M11〜M14,M21〜M24,M31〜M34,M41〜M44,M51〜M54,M61〜M64…磁気抵抗素子、1…ステアリング装置、10…レバースイッチ装置、11…レバーユニット本体、12…操作レバー、13…ロータリスイッチ、14…プッシュボタン、15…カバー、100…磁気式位置検出装置、101…可動シャフト、102…磁石、110…プリント基板、120…磁気抵抗効果センサ(MREセンサ)、121…第1の磁気検出部、122…第2の磁気検出部、123…第3の磁気検出部、140〜143…差動増幅器、200…車両側制御装置、200…制御装置、201…ヘッドライト、202…スモールライト、203…フォグランプ。   M11 to M14, M21 to M24, M31 to M34, M41 to M44, M51 to M54, M61 to M64 ... magnetoresistive elements, 1 ... steering device, 10 ... lever switch device, 11 ... lever unit body, 12 ... operation lever, DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 ... Rotary switch, 14 ... Push button, 15 ... Cover, 100 ... Magnetic position detection apparatus, 101 ... Movable shaft, 102 ... Magnet, 110 ... Printed circuit board, 120 ... Magnetoresistive effect sensor (MRE sensor), 121 ... First DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 magnetic detection part, 122 ... 2nd magnetic detection part, 123 ... 3rd magnetic detection part, 140-143 ... Differential amplifier, 200 ... Vehicle side control apparatus, 200 ... Control apparatus, 201 ... Headlight, 202 ... Small light, 203 ... Fog light.

Claims (5)

印加される磁界の磁束密度の大きさに対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子によりそれぞれ構成される2つの磁気検出部を有する磁気抵抗効果センサと、磁石からなり前記磁気抵抗効果センサに磁界を印加するとともに、前記磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動可能な被検出体とを備え、
前記被検出体と前記磁気抵抗効果センサとの間の距離は、前記被検出体の移動に伴い前記磁気抵抗効果センサに印加される磁界の磁束密度の大きさに変化が生じた際に、前記2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部を構成する1種類の磁気抵抗素子の抵抗値が飽和した状態を維持するとともに、他方の磁気検出部を構成する1種類の磁気抵抗素子の抵抗値に変化が生じる距離に設定され、
印加される磁界の磁束密度の大きさに応じた出力電圧の大きさを示す値であるセンサ感度を前記2つの磁気検出部についてそれぞれ検出した上で、これら検出されたセンサ感度の値の比の値を算出し、この算出された比の値に基づいて前記被検出体の移動方向の位置を検出する
ことを特徴とする磁気式位置検出装置。
A magnetoresistive sensor having two magnetic detectors each composed of two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnitude of the magnetic flux density of the applied magnetic field, and a magnetoresistive sensor composed of magnets. And an object to be detected that is movable in the direction of approaching and separating from the magnetoresistive sensor,
The distance between the detected object and the magnetoresistive effect sensor is determined when the magnitude of the magnetic flux density of the magnetic field applied to the magnetoresistive effect sensor changes as the detected object moves. The resistance value of one type of magnetoresistive element constituting the other magnetic detector is maintained while the resistance value of one type of magnetoresistive element constituting one of the two magnetic detectors is maintained saturated. Set to the distance where the value changes,
The sensor sensitivity, which is a value indicating the magnitude of the output voltage corresponding to the magnitude of the magnetic flux density of the applied magnetic field, is detected for each of the two magnetic detectors, and the ratio of the detected sensor sensitivity values is calculated. A magnetic position detection device that calculates a value and detects the position of the detected object in the moving direction based on the calculated ratio value.
前記被検出体が、前記磁気抵抗効果センサに対して近接及び離間する方向に移動可能であるとともに、その移動軸を回転軸として更に回転可能なものであって、前記被検出体の移動に伴い前記磁気抵抗効果センサに印加される磁界の磁束密度に変化が生じた際に抵抗値が飽和した状態に維持される1種類の磁気抵抗素子から構成される一方の磁気検出部から出力される電圧信号に基づいて前記被検出体の回転方向の位置を検出する
請求項1に記載の磁気式位置検出装置。
The object to be detected is movable in the direction of approaching and separating from the magnetoresistive effect sensor, and further rotatable with the movement axis as a rotation axis, and with the movement of the object to be detected A voltage output from one magnetic detection unit composed of one type of magnetoresistive element that maintains a saturated resistance value when a change occurs in the magnetic flux density of the magnetic field applied to the magnetoresistive sensor. The magnetic position detection device according to claim 1, wherein the position of the detection target in the rotation direction is detected based on a signal.
前記印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子が、線幅の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成され、前記2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部が、線幅の太い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなり、前記他方の磁気検出部が、線幅の細い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなる
請求項1又は2に記載の磁気式位置検出装置。
Two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are respectively formed by two types of magnetoresistive films having different line widths, and one of the two magnetic detection units is magnetically detected. The part is made of a magnetoresistive element formed by a magnetoresistive film having a large line width, and the other magnetic detecting part is made of a magnetoresistive element formed by a magnetoresistive film having a thin line width. The magnetic position detection device described.
前記印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子が、膜厚の異なる2種類の磁気抵抗膜によりそれぞれ形成され、前記2つの磁気検出部のうちの一方の磁気検出部が、膜厚の厚い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなり、前記他方の磁気検出部が、膜厚の薄い磁気抵抗膜により形成される磁気抵抗素子からなる
請求項1又は2に記載の磁気式位置検出装置。
Two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field are respectively formed by two types of magnetoresistive films having different film thicknesses, and one of the two magnetic detectors detects the magnetic field. The part comprises a magnetoresistive element formed by a thick magnetoresistive film, and the other magnetic sensing part comprises a magnetoresistive element formed by a thin magnetoresistive film. The magnetic position detection device described.
前記印加される磁界の磁束密度に対する抵抗変化率の異なる2種類の磁気抵抗素子のうちの一方の磁気抵抗素子が、前記磁気抵抗効果センサの半導体基板上に45°ずつ傾くかたちで環状に8つ配置されるとともに、他方の磁気抵抗素子が、この一方の磁気抵抗素子の外側に位置して、同じく45°ずつ傾くかたちで同心円上に環状に8つ配置され、前記2つの磁気検出部の各々が、それぞれ4つの磁気抵抗素子により構成されるフルブリッジ回路を2つずつ有してなる
請求項1〜4のいずれか一項に記載の磁気式位置検出装置。
One of the two types of magnetoresistive elements having different resistance change rates with respect to the magnetic flux density of the applied magnetic field is annularly tilted by 45 ° on the semiconductor substrate of the magnetoresistive effect sensor. The other magnetoresistive elements are arranged on the outer side of the one magnetoresistive element, and are arranged in an annular manner on a concentric circle in a manner inclined by 45 °. The magnetic position detecting device according to any one of claims 1 to 4, comprising two full bridge circuits each including four magnetoresistive elements.
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