JP2009215263A - メタノール合成方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】低エネルギーで二酸化炭素と水素からメタノールを合成することが可能な、メタノール合成法を提供する。
【解決手段】マイクロ波照射により、触媒存在下に二酸化炭素と水素を反応させてメタノールを合成する方法であって、前記触媒が銅酸化物、亜鉛酸化物およびランタン酸化物からなり、該ランタンの量が全触媒金属を基準として金属として0.5〜10質量%である。このメタノール合成法では、前記触媒を充填した触媒充填層に二酸化炭素と水素からなるガスを導入し、該触媒充填層にマイクロ波を照射して反応させることによりメタノールを合成できる。
【選択図】なし

Description

本発明は、二酸化炭素(CO)および水素(H)からメタノールを合成するメタノール合成方法に関する。
メタノールは主要化学品の一つであり、古くからメタノール合成触媒の開発研究が行われており、酸化銅−酸化亜鉛を含む三元または四元系触媒が、一酸化炭素と水素の混合ガス(合成ガス)からのメタノール合成において高い活性を有していることが知られている(特許文献1〜3等参照)。
メタノールは、メチルターシャリーブチルエーテル(MTBE)、石油化学中間製品などの原料として、また燃料としての需要も増えることが期待されている。
一方、発電所、工場、自動車等の人間の社会的活動に伴って大気中に排出される二酸化炭素は地球温暖化の主たる原因であることが知られており、近年、この二酸化炭素の排出量を削減することが地球環境の保護の大きな課題となっていること。そのため、発電所等の排煙や大気中の二酸化炭素を固定化し除去する方法が種々検討されている。
しかしながら、二酸化炭素と水素からのメタノール合成法に関しては報告例も少なく、生物的あるいは物理的に二酸化炭素を固定化する方法に比べると、エネルギーの低減が図れる可能性があるが、基礎研究の段階である。
例えば、特許文献4には、担体として酸化ランタン等の金属酸化物を使用し、銅と酸化亜鉛を担体に担持した触媒を用いて、二酸化炭素と水素からメタノールを合成する方法が提案されているが、ランタン含有量が多いと却ってメタノール生成量が少なくなる傾向にある(本願明細書の実施例1参照)。
特許文献5には、銅、亜鉛、アルミニウムおよびガリウムの各酸化物と、アルカリ土類金属元素およびランタンの金属酸化物の一種以上とを含有するメタノール合成触媒を用いて、二酸化炭素と水素の混合ガスからメタノールを合成する方法が提案されている。このメタノール合成触媒は従来触媒に比べてメタノール合成活性が高いと報告されているが、反応温度(実施例5によれば210℃)などの点で解決すべき課題もある。
さらに特許文献6には、二酸化炭素と水素の混合物に、触媒存在下でマイクロ波を照射することにより、メタノールが合成されることが報告されているが、メタノール転化率のなどの点において課題を有している。
特開昭47−9560号公報 特開昭54−26983号公報 特開昭59−29037号公報 特開平4−122444号公報 特開平10−277392号公報 特開2006−169095号公報
触媒化学的な方法は反応速度が遅く、気相還元法を用いれば火力発電所の煙道等から排出される大量の二酸化炭素を短時間で処理可能とも考えられているが、メタノール等の液状炭化水素に直接転化するためには、高圧下での反応が必要であるため、短時間での処理が難しい。二酸化炭素と水素を用いて気相還元する方法としては、常圧下で反応が進行する反応として、下記の反応が知られている。
CO + H → CO+ H
この反応は吸熱反応であるため、一般には高温になればなるほど平衡が右側にシフトして、二酸化炭素が一酸化炭素に転化する比率(転化率)は増加するが、高温を維持するにはエネルギーを投入する必要があり、このエネルギー源として化石燃料を使用すれば二酸化炭素の排出量を低減したことにはならなくなる。
従って、できるだけ低エネルギーで、化学平衡状態の転化率に近い転化特性を得られるか否かが、二酸化炭素からのメタノール合成における重要な課題である。
本発明は、上記事情に鑑み、低エネルギー(すなわち、低温)で二酸化炭素と水素からメタノールを合成することが可能な、メタノール合成法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するため、本発明者らは鋭意検討した。そして、従来のCuO−ZnO系触媒に付加する金属元素としてランタンに着目し、ランタン含有量を種々検討した結果最適含有量が存在すること、さらに、触媒反応をマイクロ波による加熱状態で行わせることによりより少ないエネルギーで合成できること、を見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明は以下の通りである。
(1)マイクロ波を照射し、触媒存在下に二酸化炭素と水素を反応させてメタノールを合成する方法であって、前記触媒が銅酸化物、亜鉛酸化物およびランタン酸化物からなり、該ランタンの量が全触媒金属を基準として金属として0.5〜10質量%であることを特徴とするメタノール合成方法。
(2)前記触媒における銅元素と亜鉛元素の比率が、98:2〜30:70である前記(1)に記載のメタノール合成方法。
(3)前記触媒を充填した触媒充填層に、二酸化炭素と水素からなるガスを導入し、該触媒充填層にマイクロ波を照射して反応させる前記(1)または(2)に記載のメタノール合成方法。
本発明のメタノール合成方法によれば、触媒存在下でマイクロ波を照射し、触媒反応をマイクロ波による加熱状態で行わせることにより、マイクロ波と触媒との相乗効果によって、従来の触媒を使用したときよりも低温で二酸化炭素と水素からメタノールを合成できるので、より少ないエネルギーで二酸化炭素をメタノールに転化することができる。
本発明の合成方法に用いるメタノール合成触媒は、銅酸化物、亜鉛酸化物およびランタン酸化物からなり、該ランタンの量が全触媒金属を基準として金属として0.5〜10質量%である。ランタン含有量がこの範囲内にあると、メタノール転化率が高くなる。その理由は明らかではないが、触媒の塩基性が上がり、COの吸着量が増えたためと推察される。ランタン含有量は、好ましくは0.5〜5質量%、特に好ましくは0.7〜3質量%である。銅酸化物と亜鉛酸化物の比率は、両元素比で、銅:亜鉛=98:2〜30:70であることが好ましく、より好ましくは90:10〜30:70、特に好ましくは80:20〜60:40である。
上記のメタノール合成触媒は、アルミニウムおよびガリウム、さらには銅、亜鉛の焼結防止のためのマグネシウム、バリウムストロンチウム、カルシウム等の添加は不要である。その理由は、本発明はより低温でより安価にメタノール合成することを目的としているため、焼結温度のような高温での反応は行わないためである。
本発明のメタノール合成方法に用いるメタノール合成触媒は、既知の方法に準じて製造することができるが、より高活性な触媒が得られ易いという点から、銅、亜鉛およびランタンの塩の水溶液から共沈法により製造することが好ましい。銅、亜鉛およびランタンの原料には、触媒毒を含まない硝酸塩、酢酸塩等の塩を使用するのが好ましく、特に硝酸塩が好ましい。前記の原料塩を水に溶かして、濃度0.01〜1.0モル/Lの水溶液として用いる。
沈澱剤としては、沈澱率が高く高活性な触媒が得られることから、炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウムが好ましく、特に炭酸ナトリウムが好ましい。沈澱剤は水に溶かして、濃度0.01〜1.0モル/Lの水溶液として用いる。
例えば、沈澱剤水溶液を50〜90℃に加熱した後、保温し、撹拌しながら、沈澱剤水溶液に亜鉛硝酸塩の水溶液を滴下して懸濁液を得、次に銅硝酸塩の水溶液を懸濁液に滴下し、さらにランタン硝酸塩を滴下して沈殿物を生成する。これらの金属の硝酸塩を混合した水溶液を沈澱剤水溶液に滴下してもよい。滴下は連続して1分間〜4時間程度行い、その後、1時間〜4時間程度、撹拌、熟成する。沈澱物を濾過等により分離した後、Naを除去するために十分水洗し、300〜500℃で焼成する。その後、N、H混合ガスにて還元して触媒を製造する。
本発明のメタノール合成方法においては、原料ガスとして、二酸化炭素と水素からなるガスを用いることが好ましいが、二酸化炭素は少なくとも二酸化炭素が含まれているガスであればよい。石炭、石油、LNG、プラスチックの燃焼により生じた燃焼排ガスや、熱風炉排ガス、高炉排ガス、転炉排ガス、燃焼排ガス等の製鉄所副生ガスのような、二酸化炭素を1〜40容量%含有する排ガス等も使用することができる。原料ガスには、窒素ガスなどの不活性ガスが含まれていてもよい。
二酸化炭素と水素の比率は、50/50〜5/95(モル比)が好ましく、より好ましくは30/70〜8/92(モル比)、特に好ましくは20/80〜10/90(モル比)である。二酸化炭素に対する水素の比率が高いほど、メタノール生成量が多くなるが、二酸化炭素の利用効率を考慮するとこの範囲が好ましい。
本発明のメタノール合成反応における反応温度は、100〜300℃が好ましく、特に好ましくは150〜250℃である。
反応圧力は、常圧、加圧の何れでも良いが、通常、0.1MPa(常圧)〜30MPaである。反応ガスの流速は任意であるが、空間速度(SV)として2000〜50000hr−1が好ましい。
反応時間は、触媒量と反応温度に左右されて一定しないが、通常は反応進行状況を見ながら適宜に決定すればよい。
照射するマイクロ波の出力や周波数、照射方法は、特に限定されるものではなく、反応温度が所定の範囲に保持できるよう電気的に制御すればよい。出力が低すぎる場合は反応の進行が遅くなり、出力が高すぎる場合はマイクロ波の利用率が悪くなる。マイクロ波の周波数は、通常、1GHz〜300GHzである。1GHz未満又は300GHzを超える周波数範囲では、反応促進効果が不十分となる。
マイクロ波の照射は連続照射、間欠照射のいずれの方法であってもよく、照射時間および照射停止時間は、反応用原料ガスあるいは反応触媒等に応じて適宜に決定すればよい。
本発明のメタノール合成方法では、触媒存在下において、触媒と二酸化炭素と水素とを接触させ、触媒にマイクロ波を照射することが好ましく、触媒が存在しない状態で該混合物にマイクロ波を照射しても、反応系の温度上昇が期待できず、また、反応速度は著しく遅くなる。中でも、二酸化炭素、水素及び触媒が十分接触するように、触媒を充填した触媒充填層を形成した触媒充填装置内に二酸化炭素及び水素からなるガスを導入し、二酸化炭素および水素を含む該触媒充填層へマイクロ波を照射する方法が、エネルギー効率的に最も好ましい。この方法によれば、ヒーター等の加熱手段と異なり、マイクロ波が触媒に当ることによって触媒表面が優先的に活性化されるので、エネルギー利用効率を著しく高めることが可能となる。
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。
(触媒製造例1)
1000mlの水に、85.41gの試薬特級硝酸銅・3水和物、43.57gの試薬特級硝酸亜鉛・6水和物、および2.28gの試薬特級硝酸ランタン・6水和物を溶解させた金属塩水溶液を調製し80℃に加温した。別に、1000mlの純水に53.48gの試薬特級炭酸ナトリウムを含む水溶液を調製し60℃に加温した。上記の金属塩水溶液を撹拌しながら該水溶液中に、上記の炭酸ナトリウム水溶液を10ml/minで滴下し沈澱を生成させた。pHが9.0になった時点で、炭酸ナトリウム水溶液の滴下をやめ、その後、撹拌下に液温を80℃に2時間保った後、さらに80℃のまま2時間静置し熟成させた。その後沈澱を濾過、洗浄し、80℃で一晩乾燥してから、乾燥物を乳鉢にて粉砕し、2wt%のグラファイト粉末(バインダー)を添加し、1時間混和した。
上記混合物を圧力5kNにて一軸加圧成型器を用いて成型した後、成型物をマッフル炉(電気炉)を用いて、350℃で3時間空気を流通させながら焼成した。昇温速度は3℃/minとした。
焼成した触媒は、窒素雰囲気下で230℃まで昇温(昇温速度3℃/min)し、ついで水素:窒素=1:9のガスにて230℃、3時間還元した。
この触媒を触媒Aとした。
(触媒製造例2)
試薬特級硝酸亜鉛・6水和物を40.57g、試薬特級硝酸ランタン・6水和物を6.84g用い、目標pHを8.85とした以外は、触媒製造例1と同様の方法にて触媒Bを製造した。
(触媒製造例3)
試薬特級硝酸亜鉛・6水和物を37.58g、試薬特級硝酸ランタン・6水和物を11.40g用い、目標pHを8.77とした以外は、触媒製造例1と同様の方法にて触媒Cを製造した。
(触媒製造例4)
試薬特級硝酸亜鉛・6水和物を30.05g、試薬特級硝酸ランタン・6水和物を22.79g用い、目標pHを8.67とした以外は、触媒製造例1と同様の方法にて触媒Dを製造した。
(比較製造例1)
試薬特級硝酸亜鉛・6水和物を45.07g用い、試薬特級硝酸ランタン・6水和物は用いず、目標pHを7.71としたこと以外は、触媒製造例1と同様の方法にて触媒Eを製造した。
(実施例1)
特願2007−059322明細書に記載の固定床流通式の触媒活性評価装置を用いて試験した。図1に系統図を示す。
反応は外径75mmΦ、高さ120mmの円筒型ステンレス(SUS)製反応容器3を使用し、反応容器3内には、高さ50mmの原料ガスバッファー部35を設け、ステンレスのクラッドを3ヶ所削り、内径10mmΦ、高さ約50mm、内容量約4cmの触媒設置部31を均等に3個配置した。触媒設置部31の中に、1mm〜2mmに調整した触媒約1gを充填した。反応容器の周囲をマントルヒーター32にて覆い、温度コントローラを用いて加熱温度を制御した。反応容器3は、密閉式であり、底面に温度測定座を設けた。
また、原料ガス又はパージ用ガスを収容したボンベと、反応容器3は、内径6mmのステンレス(SUS)製チューブを用いて接続した。なお、テフロン(登録商標)またはガラス製のチューブを用いて接続することも可能である。
原料ガス及びパージ用ガスの流量制御は圧力調整弁1にて行い、途中に、パージガス用
仕切弁2と、水素還元用ガス切替用の三方弁6を設置した。反応容器の後流には、反応容
器から導出されたガスの流量調整弁5、流量計10を設け、評価時に触媒設置部における
原料ガスの空間速度を統一するようにした。触媒ごとに導出された生成ガスに含まれるメ
タノール濃度を、ガスクロマトグラフにて測定した。
水素還元用ガスは、評価触媒の前処理用として使用できるように収容パック14に収容
し、そのガスを循環ポンプ15にて循環させた。触媒の前処理時は、水素還元用ガス切替
用の三方弁6、7、8及びパージ用仕切弁16を操作し、評価触媒にのみ水素還元用ガス
を循環させ、途中に触媒調整時に発生する水のトラップ13を設けた。
上記装置より反応容器を取り外し、触媒製造例で作製したCuO−ZnO−La系触媒(触媒A〜D,E)約1gを反応容器内にセットし、反応容器を装置にセットした。
10Lテドラーパック14に、水素還元用ガス(H+N)を封入し、装置にセットした。三方弁(水素還元切替)6及び7を水素還元ラインに切り替え、ガス循環ポンプ15をONにした。各ラインの流量調整弁5にて流量計10を所定流量に調整した。温度制御装置を水素還元温度にセットし、加熱を開始した。設定還元温度となってから、所定時間保持した。
温度制御装置スイッチをOFFにし、ある程度温度が下がったところで、三方弁(パージ切替)8をガス排気ラインに切り替え、パージ用仕切弁16を開けて(H+N)混合ガスを排気した。全量排気が終了したら、ガス循環ポンプ15を停止した。三方弁(水素還元切替)6を活性試験ラインに切り替えた。パージガス用仕切弁2を開けて、窒素ボンベからガスを反応系内に導入し、約10min、窒素で反応系内をパージした。
パージガス用仕切弁2を閉じ、窒素ボンベの元栓を閉めた。CO+H混合ガス(CO/H=20/80)のボンベを開放し、原料ガスを導入した。圧力調整弁1で反応圧力条件(0.3MPa)に合わせた。温度制御装置を反応温度にセットし、加熱を開始した。原料ガスをサンプリング口(反応前)11よりマイクロシリンジで採取し、ガスクロマトグラフィーにて反応前のガス組成を確認した。設定温度到達後、三方弁(水素還元切替)7をサンプリング座側に切替え、ガスを流し一定時間ごとに反応ガスをサンプリング口12よりマイクロシリンジで採取し、ガスクロマトグラフにて反応後のガス組成を確認した。
温度制御装置のスイッチをOFFにし、CO+H混合ガスボンベの元栓を閉じた。窒素ボンベの元栓を開けて、反応系内を窒素でパージした。温度が下がったら、窒素ボンベの元栓、パージ用仕切弁16を閉じた。
生成したメタノール量から、下記式よりメタノール空時収量を求めた。その結果を表1に示した。
メタノール空時収量(g/kg-cat・h)=メタノール生成量/(触媒設置重量×反応時間)
表1に示すように、本発明のメタノール合成触媒は、La1%組成での活性が最も良かった。
(実施例2)
触媒として、CuO−ZnO−La触媒(触媒A、C、D)を用い、相対圧を0.02〜1.00まで変化させて触媒への二酸化炭素(CO)の吸着実験を行った。その結果を表2に示した。なお、実験は定容吸着法に準じて実施し、高速・比表面積・細孔分布測定装置(Quantachrome社製、Nova1200e)を用いて、CO吸着量の測定を実施した。表2に示すように、圧力が高くなるほど二酸化炭素(CO)の吸着量も増えるが、La1%組成での吸着量が最も高かった。
(実施例3)
触媒としてCuO−ZnO−La触媒(触媒A)60gを用い、反応温度を150℃、160℃、170℃、180℃、200℃、反応圧力0.8MPa、ガス(CO/H=20/80)、流量3L/min、反応時間2時間にて、2段式マイクロ波反応装置によりメタノール合成反応を行った。このときのSV値は3300h−1であった。反応中のマイクロ波の電力量は0.44kWhであった。
反応後、実施例1同様、生成ガスと液体を分析し同定・定量した後、生成したメタノール量から下記式よりメタノール転化率を求めた。
メタノール転化率(%)=メタノール生成量(mol)/CO(mol)×100
結果を表3に示した。
(比較例1)
触媒としてCuO−ZnO触媒(日揮化学N211、CuO:ZnO=52:48)80gを用い、反応温度を180℃、200℃、210℃、220℃、230℃にした以外は、実施例3と同様な方法によりメタノール合成反応を行った。なお、触媒重量は実施例3での触媒AにおけるSV値(SV=3300h−1)と合わせた。反応中のマイクロ波の電力量は0.61kWhであった。
反応後、実施例1同様、生成ガスと液体を分析し同定・定量した後、生成したメタノール量からメタノール転化率を求めた。その結果を表3に示した。
表3に示すように、本発明の触媒は従来の触媒に比べてメタノールへの転化率が高く、また、160℃付近で最適な反応温度となり、反応が低温側にシフトしたことがわかった。
本発明の実施例で用いた反応装置の系統図である。
符号の説明
1 圧力調整弁
2 パージガス用仕切弁
3 反応容器
31 触媒設置部
32 ヒーター
33 原料ガス導入部
34 反応ガス導出部
35 バッファー部
4 ガス検知管
5 流量調整弁
6 三方弁(水素還元切替)
7 三方弁(水素還元切替)
8 三方弁(パージ切替)
9 圧力計
10 流量計
11 サンプリング口(反応前)
12 サンプリング口(反応後)
13 水トラップ
14 水素還元用バッファーガス
15 ガス循環ポンプ
16 パージ用仕切弁

Claims (3)

  1. マイクロ波照射により、触媒存在下に二酸化炭素と水素を反応させてメタノールを合成する方法であって、前記触媒が銅酸化物、亜鉛酸化物およびランタン酸化物からなり、該ランタンの量が全触媒金属を基準として金属として0.5〜10質量%であることを特徴とするメタノール合成方法。
  2. 前記触媒における銅元素と亜鉛元素の比率が、98:2〜30:70である請求項1に記載のメタノール合成方法。
  3. 前記触媒を充填した触媒充填層に、二酸化炭素と水素からなるガスを導入し、該触媒充填層にマイクロ波を照射して反応させる請求項1または2に記載のメタノール合成方法。
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