JP2009210295A - 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103811386A (zh) * | 2012-11-13 | 2014-05-21 | Ap系统股份有限公司 | 基底传送设备和基底加工设备 |
| JP2017019054A (ja) * | 2015-07-10 | 2017-01-26 | 株式会社ディスコ | チャックテーブルおよびチャックテーブルの製造方法 |
| JP2020021085A (ja) * | 2010-09-07 | 2020-02-06 | 株式会社ニコン | 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03245932A (ja) * | 1990-02-21 | 1991-11-01 | Canon Inc | 移動案内装置 |
| JPH05106014A (ja) * | 1991-10-17 | 1993-04-27 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | セラミツク溶射皮膜の封孔処理法 |
| JPH07310163A (ja) * | 1994-05-16 | 1995-11-28 | Canon Inc | セラミック溶射膜およびその形成方法 |
| WO2000079574A1 (en) * | 1999-06-18 | 2000-12-28 | Nikon Corporation | Stage device and exposure system |
| JP2001198766A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-24 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 移動位置決め装置用部材およびその製造方法 |
| JP2007194393A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Taiheiyo Cement Corp | 静電チャック |
-
2008
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03245932A (ja) * | 1990-02-21 | 1991-11-01 | Canon Inc | 移動案内装置 |
| JPH05106014A (ja) * | 1991-10-17 | 1993-04-27 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | セラミツク溶射皮膜の封孔処理法 |
| JPH07310163A (ja) * | 1994-05-16 | 1995-11-28 | Canon Inc | セラミック溶射膜およびその形成方法 |
| WO2000079574A1 (en) * | 1999-06-18 | 2000-12-28 | Nikon Corporation | Stage device and exposure system |
| JP2001198766A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-24 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 移動位置決め装置用部材およびその製造方法 |
| JP2007194393A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Taiheiyo Cement Corp | 静電チャック |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020021085A (ja) * | 2010-09-07 | 2020-02-06 | 株式会社ニコン | 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| CN103811386A (zh) * | 2012-11-13 | 2014-05-21 | Ap系统股份有限公司 | 基底传送设备和基底加工设备 |
| JP2014099607A (ja) * | 2012-11-13 | 2014-05-29 | Ap Systems Inc | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
| JP2017019054A (ja) * | 2015-07-10 | 2017-01-26 | 株式会社ディスコ | チャックテーブルおよびチャックテーブルの製造方法 |
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