JP2009208429A - ディスプレイ用耐湿熱性フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ディスプレイ用フィルムにおいて、透明基材フィルムの両面に、プラズマCVD法によって酸化珪素蒸着膜を積層することを特徴とする。前記酸化珪素蒸着膜の上に、ガスバリア性層をさらに積層することが好ましい。
【選択図】なし
Description
また、フィルムの白濁が起こる上記のようなフィルム使用条件においては、フィルムの収縮も同時に発生し、このことも同時に問題となった。
さらに近年、上記前面パネルは、軽量化や耐衝撃性などの理由から可撓性を有するプラスチックフィルム化が求められている。
そこで、本発明の目的は、高温高湿度環境でのポリエステルフィルムからのオリゴマー析出、および易接着層中からの有機物溶出によるヘイズ増加、およびフィルム収縮を抑制することができ、また、ガラスと保護フィルムとからなるガラスパネルの代替品として使用可能な、前面パネルとしてのディスプレイ用フィルムを提供することにある。
1.本発明のディスプレイ用フィルムの構造
本発明に係るディスプレイ用フィルムは、ポリエステルフィルム基板の両面にプラズマCVD法により酸化珪素薄膜を蒸着した3層を基本構造とするものである。
本発明において、ポリエステルフィルム基板の片面に易接着処理を施すことができる。また、易接着層と接していない2つの酸化珪素蒸着膜のいずれか一方の上に、または易接着層と接している側の酸化珪素蒸着膜の上に、ガスバリア性層をさらに積層することができる。
本発明において、基材フィルムとして、化学的ないし物理的強度に優れ、酸化珪素の蒸着膜を形成する条件等に耐え、それら酸化珪素の蒸着膜等の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる二軸延伸ポリエステルフィルムを使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン2,6−ナフタレート(PEN)等である。フィルムの厚さは12〜150μmが好ましい。
ポリエステルには、製膜時のフィルムの巻取り性や、粘着剤等を塗設する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて滑剤としての有機または無機の微粒子で処理し、易接着層としてもよい。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が例示される。また、微粒子以外にも着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン−ポリマー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂等も透明性を損なわない範囲で任意に用いることができる。
被膜物質はSiOxCy[式中、0<x≦2.2]で表される炭素含有酸化珪素である。
xが1.5〜2.2の範囲内にあって、yが0.15〜0.80の範囲内にあるのが好ましく、そしてxが1.7〜2.1の範囲内にあって、yが0.39〜0.47の範囲内にあるのがさらに好ましい。
本発明においては、具体的には、基材フィルムの両面に、酸化珪素の蒸着用モノマーガスを原料とし、キャリヤーガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて、酸化珪素からなる蒸着膜を形成する。
上記において、低温プラズマ発生装置として、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用するが、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るために、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
本発明においては、図1に示すように、低温プラズマ化学気相成長装置21の真空チャンバー22内に配置された巻き出しロール23から、被蒸着フィルム1を繰り出し、更に、該被蒸着フィルム1を、補助ロール24を介して所定の速度で冷却・電極ドラム25周面上に搬送する。ガス供給装置26、27及び、原料揮発供給装置28から酸素ガス、不活性ガス、蒸着用モノマーガス等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しながら原料供給ノズル29を通して真空チャンバー22内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム25周面上に搬送された、被蒸着フィルム1の上に、グロー放電プラズマ30によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素蒸着層を形成する。その際に、冷却・電極ドラム25は、真空チャンバー22の外に配置されている電源31から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム25の近傍には、マグネット32を配置してプラズマの発生が促進されている。次いで、被蒸着フィルム1は、表面に酸化珪素蒸着層を形成した後、補助ロール33を介して巻き取りロール34に巻き取られる。なお、図中、35は真空ポンプを表す。
本発明においては、上記酸化珪素蒸着層上に、さらに、アルコキシドと水溶性高分子とをゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物を塗布してなるガスバリア性能膜を設ける。これにより、ガスバリア性をさらに向上させることができる。
該ガスバリア性組成物において用いることができるアルコキシドとしては、一般式R1 nM(OR2)m(式中、R1、R2は炭素数1〜8の有機基であり、Mは金属原子であり、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、n+mはMの原子価である)で表される1種又はそれ以上のアルコキシドを好ましく用いることができる。
また、水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール系樹脂若しくはエチレン・ビニルアルコール共重合体のいずれか又はその両方を好ましく用いることができる。
また、上記の一般式R1 nM(OR2)mで表されるアルコキシドにおいて、R1で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基その他のアルキル基を挙げることができる。
また、上記の一般式R1 nM(OR2)mで表されるアルコキシドにおいて、R2で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基その他を挙げることができる。
尚、本発明において、同一分子中において、これらのアルキル基は同一であっても、異なってもよい。
本発明において、ポリビニルアルコール系樹脂として、一般にポリ酢酸ビニルを鹸化して得られるものを使用することができる。具体例としては、株式会社クラレ製のRSポリマーであるRS−110(鹸化度=99%、重合度=1,000)、同社製のクラレポバールLM−20SO(鹸化度=40%、重合度=2,000)、日本合成化学工業株式会社製のゴーセノールNM−14(鹸化度=99%、重合度=1,000)等を使用することができる。
また、本発明において、エチレン・ビニルアルコール共重合体としては、エチレンと、酢酸ビニルの共重合体の鹸化物、即ち、エチレン−酢酸ビニルランダム共重合体を鹸化して得られるものを使用することができる。具体例としては、株式会社クラレ製、エバールEP−F101(エチレン含量;32モル%)、日本合成化学工業株式会社製、ソアノールD2908(エチレン含量;29モル%)等を使用することができる。
また、ガスバリア性組成物の調製において用いられる、ゾルゲル法触媒としては、実質的に水に不溶であり、且つ有機溶媒に可溶な第三級アミン、例えばN,N−ジメチルベンジルアミンを用いることができ、また、酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、並びに酢酸、酒石酸等の有機酸その他を使用することができる。更に、有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール等を用いることができる。
上記のガスバリア性組成物を、酸化珪素蒸着層の上に塗布し、加熱して溶媒及び重縮合反応により生成したアルコールを除去すると、重縮合反応が完結し、透明なガスバリア性能膜が形成される。
更に、加水分解によって生じた水酸基や、シランカップリング剤由来のシラノール基が酸化珪素蒸着層の表面の水酸基と結合する為、該酸化珪素蒸着層とガスバリア性能膜との密着性、接着性等が良好なものとなる。
なお、ガスバリア性能膜は、2層以上重層して複合ポリマー層を形成してもよい。
I.ポリエステルフィルム
基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。
高周波プラズマCVD法により酸化珪素膜を蒸着した。
アニール処理は、40℃から90℃、72時間の条件で行った。
積層膜の総厚みは透過型電子顕微鏡(TEM)で撮影した断面写真で測定した。
ヘイズの測定は、スガ試験機製ヘイズメーターを使用し、JIS K−7105に従って測定した。
80℃、85%RHの恒温恒湿槽に6時間保管した後のヘイズ値を測定した。
150℃、30分間加熱処理した後のフィルム長手方向及び幅方向の収縮率を測定した。
カップ法を使用し、JIS K6549に従って、各プラスチックフィルムの透湿度を測定した。
ヘイズが0.8%の片面易接着処理を施した厚さ100μmのポリエステルフィルムの両面にプラズマCVD法を用いて厚さ100nmの酸化珪素膜を形成し、その後、80℃、72時間のアニール処理を施した。
ヘイズが0.8%の片面易接着処理を施した厚さ100μmのポリエステルフィルムの両面にプラズマCVD法を用いて厚さ100nmの酸化珪素膜を形成させ、さらに易接着処理面に蒸着した酸化珪素膜面上に下記方法にて得られたコーティング剤をグラビアコート法により塗工し、150℃で1分間乾燥して厚さ0.3μmの塗工膜を形成した。
エチルシリケート34.13g、エタノール25g、2N塩酸1.15g及び水4.58gを混合し、常温で1〜2時間攪拌し、次いでエポキシシランSH6040(東レダウコーニング製)3.41g、ソアノール30L(日本合成化学社製)31.56g及びN,N−ジメチルベンジルアミン0.17gを加えて30分攪拌して得られたもの。
ヘイズが0.8%の片面易接着処理を施した厚さ100μmのポリエステルフィルム
ヘイズが0.8%の片面易接着処理を施した厚さ100μmのポリエステルフィルムにアニール処理を施した。
ヘイズが0.8%の片面易接着処理を施した厚さ100μmのポリエステルフィルムの非易接着処理面にプラズマCVD法を用いて厚さ100nmの酸化珪素膜を形成した。
21 低温プラズマ化学気相成長装置
22 真空チャンバー
23 巻き出しロール
24、33 補助ロール
25 冷却・電極ドラム
26、27 ガス供給装置
28 原料揮発供給装置
29 原料供給ノズル
30 グロー放電プラズマ
31 電源
32 マグネット
34 巻き取りロール
35 真空ポンプ
Claims (5)
- 透明基材フィルムの両面に、プラズマCVD法によって酸化珪素蒸着膜を積層してなることを特徴とするディスプレイ用フィルム。
- 透明基材フィルムといずれか一方の酸化珪素蒸着膜との間に、易接着層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ用フィルム。
- 易接着層と接していない2つの酸化珪素蒸着膜のいずれか一方の上に、または易接着層と接している側の酸化珪素蒸着膜の上に、ガスバリア性層をさらに積層してなることを特徴とする請求項1または2に記載のディスプレイ用フィルム。
- 透明基材フィルムのヘイズが0.8%以下であり、ディスプレイ用耐湿熱性フィルムを80℃、85%RHで6時間の湿熱処理した後のヘイズが0.8%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のディスプレイ用フィルム。
- 150℃で30分間加熱処理した後のフィルムの収縮率が、長手方向が0%以上0.4%以下、幅方向が0%以上0.4%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のディスプレイ用フィルム。
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