JP2009206166A - Method of manufacturing semiconductor device - Google Patents

Method of manufacturing semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2009206166A
JP2009206166A JP2008044653A JP2008044653A JP2009206166A JP 2009206166 A JP2009206166 A JP 2009206166A JP 2008044653 A JP2008044653 A JP 2008044653A JP 2008044653 A JP2008044653 A JP 2008044653A JP 2009206166 A JP2009206166 A JP 2009206166A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding frame
substrate structure
adhesive sheet
fixing
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008044653A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Yoshizawa
明彦 吉澤
Akira Kuroda
明 黒田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP2008044653A priority Critical patent/JP2009206166A/en
Publication of JP2009206166A publication Critical patent/JP2009206166A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To automate a process of fixing a substrate structure to a holding frame with an adhesive tape. <P>SOLUTION: After the substrate structure 14 is disposed inside the holding frame 13 to have predetermined position relation, the holding frame 13 is held by a holding frame clamp (fixing means) 27g using magnetic force. After a dicing tape (adhesive tape) 12 is fitted to the holding frame 13 and substrate structure 14, the dicing tape is cut along the holding frame 13 to be parted into an in-use portion (first adhesive sheet) 12a and a surplus portion (second adhesive sheet) 12b. After the surplus portion 12b of the dicing tape 12 is peeled off the holding frame, the fixing force with which the holding frame clamp 27g fixes the holding frame 13 is weakened and the holding frame 13 is taken out together with the substrate structure 14 to be conveyed. The holding frame clamp 27g is a permanent magnet disposed on a surface of a sticking stage 27, where the holding fame 13 is placed, opposed to the holding frame 13 movably in a direction crossing the holding frame 13. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は半導体装置の製造技術に関し、特に個片化工程で、多数個取り基板などの被個片化対象構造物と接着シートとを貼り付けた状態で個片化する半導体装置の製造方法に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor device manufacturing technique, and more particularly, to a semiconductor device manufacturing method in which a structure to be separated such as a multi-piece substrate and an adhesive sheet are bonded to each other in an individualization step. It is related to effective technology.

基板の一方の主面に半導体チップを搭載し、この主面側を封止樹脂で封止した構造の半導体装置がある。   There is a semiconductor device having a structure in which a semiconductor chip is mounted on one main surface of a substrate and the main surface side is sealed with a sealing resin.

上記構造の半導体装置の製造方法の一例として、例えば、特開2000−12745号公報(特許文献1)には、絶縁フレーム(基板)の主面上に多数の半導体素子をマトリックス状に実装し、これらを封止樹脂により全面にわたって一連に樹脂封止することにより板状のパッケージパネル(基板構造体)を形成し、該パッケージパネルを切断する技術が開示されている。   As an example of a method for manufacturing a semiconductor device having the above structure, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-12745 (Patent Document 1), a large number of semiconductor elements are mounted in a matrix on the main surface of an insulating frame (substrate). A technique is disclosed in which a plate-shaped package panel (substrate structure) is formed by resin-sealing them all over the entire surface with a sealing resin, and the package panel is cut.

また、前記特許文献1には、前記パッケージパネルを個片化する前に、パッケージパネルの主面側(封止樹脂により封止された面)に粘着シート(接着シート)を貼り付けて枠状のフレーム内に固定して、この状態で円形ブレードの砥粒加工切断により前記パッケージパネルを切断する技術が記載されている。
特開2000−12745号公報
Further, in Patent Document 1, an adhesive sheet (adhesive sheet) is attached to the main surface side (surface sealed with a sealing resin) of the package panel before the package panel is separated into pieces. In this state, a technique is described in which the package panel is cut by abrasive cutting of a circular blade in this state.
JP 2000-12745 A

被個片化対象である基板構造体に接着シートを貼り付けた状態で切断する場合、該接着シートは切断工程中に基板構造体の位置がずれないように固定する役割を果たす。半導体装置の製造工程において上記接着シートを貼り付けた状態で切断する個片化手段は、一般にウエハを個々の半導体チップに個片化する際に用いられるが、近年、MAP(Mold Array Process)と呼ばれる半導体装置の製造方法でも用いられる。   When cutting with the adhesive sheet attached to the substrate structure to be separated, the adhesive sheet plays a role of fixing the position of the substrate structure so as not to shift during the cutting process. In the semiconductor device manufacturing process, the singulation means for cutting with the adhesive sheet attached is generally used when the wafer is singulated into individual semiconductor chips. Recently, however, MAP (Mold Array Process) and It is also used in a so-called semiconductor device manufacturing method.

MAPでは、アレイ状に配列された複数のパッケージ領域を有する多数個取り基板を準備して、各パッケージ領域のそれぞれに半導体チップを搭載する。次に、該半導体チップの外部接続端子と、多数個取り基板が有するパッドなどの導体パターンを電気的に接続する。次に、半導体チップが搭載された基板の主面側を封止樹脂により封止する。この封止工程では、例えば下面側に複数のパッケージ領域が収まる大きさのキャビティを有する上金型と、上面が平坦な下金型とで半導体チップが搭載された多数個取り基板を挟み込み、キャビティ内に封止用の樹脂を注入し、硬化させる。その後、この多数個取り基板構造体(多数個取り基板の主面上に半導体チップを搭載し、その搭載面を樹脂封止した構造体)を接着シートで保持枠内に固定してダイシングブレードなどにより個々の半導体装置に個片化する。この接着シートで多数個取り基板構造体を固定する工程では、所定の位置関係で多数個取り基板構造体と保持枠を配置して、これらを覆うように接着シートを貼り付けた後、必要な大きさに接着シートを切り取って保持枠に支持された多数個取り基板構造体を得る。   In the MAP, a multi-chip substrate having a plurality of package areas arranged in an array is prepared, and a semiconductor chip is mounted in each package area. Next, an external connection terminal of the semiconductor chip is electrically connected to a conductor pattern such as a pad included in the multi-chip substrate. Next, the main surface side of the substrate on which the semiconductor chip is mounted is sealed with a sealing resin. In this sealing process, for example, a multi-cavity substrate on which a semiconductor chip is mounted is sandwiched between an upper mold having a cavity large enough to accommodate a plurality of package regions on the lower surface side and a lower mold having a flat upper surface, and the cavity A sealing resin is injected into the interior and cured. After that, this multi-chip substrate structure (a structure in which a semiconductor chip is mounted on the main surface of the multi-chip substrate and the mounting surface is resin-sealed) is fixed in a holding frame with an adhesive sheet, and a dicing blade or the like Thus, individual semiconductor devices are separated. In the step of fixing the multi-piece substrate structure with the adhesive sheet, the multi-piece substrate structure and the holding frame are arranged in a predetermined positional relationship, and an adhesive sheet is attached so as to cover them, and then necessary. The adhesive sheet is cut to a size to obtain a multi-piece substrate structure supported by a holding frame.

ここで、この多数個取り基板構造体は一般にウエハよりも硬く、切断するためにはより強い力が必要となる。このため、多数個取り基板構造体の個片化に用いる接着テープはウエハの個片化に用いる接着テープよりも接着強度が高いものが用いられる。   Here, the multi-chip substrate structure is generally harder than the wafer, and a stronger force is required for cutting. For this reason, the adhesive tape used for individualizing the multi-piece substrate structure is higher in adhesive strength than the adhesive tape used for wafer individualization.

しかし、接着強度の高い接着テープを用いる場合、接着テープを必要な大きさに切り取った後、余分な接着テープを保持枠から引き剥がす際に、保持枠を作業ステージに固定する力(クランプ力)が小さいと、保持枠が浮いてしまうため、余分な接着テープを完全に引き剥がすことができないという問題が生じる。また、接着テープが完全に剥離できないと、保持枠および多数個取り基板構造体が、接着テープの巻き取り装置に巻き取られる場合がある。また、接着テープに引っ張られて保持枠が浮くと、保持枠あるいは多数個取り基板構造体自体がねじれて破損する場合がある。   However, when an adhesive tape with high adhesive strength is used, the force that clamps the holding frame to the work stage when the excess adhesive tape is removed from the holding frame after the adhesive tape has been cut to the required size (clamping force) If it is small, the holding frame floats, which causes a problem that the excess adhesive tape cannot be completely peeled off. Further, if the adhesive tape cannot be completely peeled off, the holding frame and the multi-piece substrate structure may be wound around the adhesive tape winding device. Further, when the holding frame is lifted by being pulled by the adhesive tape, the holding frame or the multi-chip substrate structure itself may be twisted and damaged.

一方、保持枠を作業ステージに固定するクランプ力を大きくすると、接着テープを引き剥がすことは出来るが、クランプ力が大きすぎると、接着テープを引き剥がした後で多数個取り基板構造体を保持枠とともに搬送する際に、保持枠を作業ステージから持ち上げることが困難になる。   On the other hand, if the clamping force for fixing the holding frame to the work stage is increased, the adhesive tape can be peeled off. However, if the clamping force is too large, the multi-piece substrate structure is held after the adhesive tape is peeled off. When transported together, it becomes difficult to lift the holding frame from the work stage.

このため、多数個取り基板構造体を接着テープで保持枠に固定する工程(特に余分な接着テープを引き剥がす工程、および多数個取り基板構造体を保持枠とともに搬送する工程)は自動化が難しく、手動、あるいは接着テープの貼り付けのみを自動で行う半自動で行われている。   For this reason, the process of fixing the multi-piece substrate structure to the holding frame with the adhesive tape (particularly the process of peeling off the excess adhesive tape and the process of transporting the multi-piece board structure together with the holding frame) is difficult to automate, This is done manually or semi-automatically, in which only the adhesive tape is applied automatically.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板構造体を接着テープで保持枠に固定する工程を自動化することのできる技術を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said subject, The objective is to provide the technique which can automate the process of fixing a board | substrate structure body to a holding frame with an adhesive tape.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、本発明の一つの実施の形態における半導体装置の製造方法は、リング状の保持枠の内側に基板構造体を配置した後、磁力を用いた固定手段により前記保持枠をステージに第1の固定力で固定する工程を有している。また、接着シートと、前記保持枠および前記基板構造体とを貼り付ける工程と、前記接着シートを前記保持枠に沿って切断し、前記基板構造体と前記保持枠とを固定する第1接着シートと、前記第1接着シートから切り離された第2接着シートとに分離する工程とを有している。さらに、前記第2接着シートを、前記保持枠から引き剥がす工程と、前記第2接着シートを、前記保持枠から引き剥がした後、前記固定手段が前記保持枠を固定する固定力を前記第1の固定力よりも小さい第2の固定力としてから前記保持枠を前記基板構造体とともに取り出して搬送する工程と、前記基板構造体を前記保持枠に固定した状態で個片化する工程とを有している。ここで、前記固定手段は前記保持枠を載置する前記ステージの前記保持枠と対向する面に前記保持枠と交差する方向に移動可能な状態で配置された複数の永久磁石とするものである。   That is, according to one embodiment of the present invention, a method of manufacturing a semiconductor device has a first structure in which a substrate structure is disposed inside a ring-shaped holding frame and then the holding frame is placed on a stage by a fixing means using magnetic force. A step of fixing with a fixing force. Also, a step of attaching the adhesive sheet, the holding frame and the substrate structure, and a first adhesive sheet for cutting the adhesive sheet along the holding frame and fixing the substrate structure and the holding frame And a step of separating into a second adhesive sheet separated from the first adhesive sheet. Furthermore, after the second adhesive sheet is peeled off from the holding frame, and after the second adhesive sheet is peeled off from the holding frame, the fixing means fixes the holding frame to the first holding frame. A second fixing force that is smaller than the fixing force of the substrate structure, and a step of taking out and transporting the holding frame together with the substrate structure, and a step of separating the substrate structure in a state of being fixed to the holding frame. is doing. Here, the fixing means is a plurality of permanent magnets arranged on a surface of the stage on which the holding frame is placed facing the holding frame so as to be movable in a direction intersecting the holding frame. .

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、本発明の一つの実施の形態によれば、保持枠をステージに固定(保持)する力を工程に応じて変化させるので、基板構造体を接着テープで保持枠に固定する工程を自動化することができる。   That is, according to one embodiment of the present invention, since the force for fixing (holding) the holding frame to the stage is changed according to the process, the process of fixing the substrate structure to the holding frame with the adhesive tape is automated. be able to.

以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。また、本実施の形態を説明するための全図において同一機能を有するものは同一の符号を付すようにし、その繰り返しの説明は可能な限り省略するようにしている。以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。   In the following embodiments, when it is necessary for the sake of convenience, the description will be divided into a plurality of sections or embodiments. However, unless otherwise specified, they are not irrelevant to each other. There are some or all of the modifications, details, supplementary explanations, and the like. Further, in the following embodiments, when referring to the number of elements (including the number, numerical value, quantity, range, etc.), especially when clearly indicated and when clearly limited to a specific number in principle, etc. Except, it is not limited to the specific number, and may be more or less than the specific number. Similarly, in the following embodiments, when referring to the shapes, positional relationships, etc. of the components, etc., the shapes are substantially the same unless otherwise specified, or otherwise apparent in principle. And the like are included. The same applies to the above numerical values and ranges. Also, components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof is omitted as much as possible. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<半導体装置の構造>
図1は本発明の一実施の形態である半導体装置の構造の一例を示す要部断面図である。
<Structure of semiconductor device>
FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part showing an example of the structure of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

本実施の形態の半導体装置は、配線基板上に半導体チップ1が搭載された樹脂封止型の小型の半導体パッケージであり、本実施の形態ではその一例として、図1に示すようなCSP(Chip Size Package)7を取り上げて説明する。なお、図1に示すCSP7は、パッケージ基板(配線基板)3の裏面3bに複数の外部接続端子である半田ボール8が格子状に配置されて取り付けられており、したがって、CSP7は、エリアアレイ型の半導体装置である。このような半導体装置としては、図1に示すBGA(Ball Grid Array)の他、例えば図1に示す半田ボール8を形成せずに、パッケージ基板3のランド部3dを外部接続端子とするLGA(Land Grid Array)などの半導体装置もある。   The semiconductor device of this embodiment is a resin-sealed small semiconductor package in which a semiconductor chip 1 is mounted on a wiring board. In this embodiment, as an example, a CSP (Chip as shown in FIG. 1) is used. (Size Package) 7 will be described. Note that the CSP 7 shown in FIG. 1 has a plurality of solder balls 8 as external connection terminals arranged in a grid on the back surface 3b of the package substrate (wiring substrate) 3. Therefore, the CSP 7 is an area array type. This is a semiconductor device. As such a semiconductor device, in addition to the BGA (Ball Grid Array) shown in FIG. 1, for example, the solder ball 8 shown in FIG. 1 is not formed, but the land portion 3d of the package substrate 3 is used as an external connection terminal. There is also a semiconductor device such as a Land Grid Array.

図1に示すCSP7の構造について説明すると、配線基板であるパッケージ基板3と、パッケージ基板3の主面3aに搭載される半導体チップ1と、半導体チップ1の電極であるパッド1cとパッケージ基板3のボンディング用端子3eとを電気的に接続する導電性のワイヤ4と、パッケージ基板3の裏面3bに形成された複数のランド部3dと、樹脂体6とを有している。また、ランド部3d上には複数の外部接続端子である半田ボール8がそれぞれ形成されている。   The structure of the CSP 7 shown in FIG. 1 will be described. The package substrate 3 as a wiring substrate, the semiconductor chip 1 mounted on the main surface 3 a of the package substrate 3, the pads 1 c as the electrodes of the semiconductor chip 1, and the package substrate 3. A conductive wire 4 that electrically connects the bonding terminal 3e, a plurality of land portions 3d formed on the back surface 3b of the package substrate 3, and a resin body 6 are provided. A plurality of solder balls 8 as external connection terminals are formed on the land portion 3d.

半導体チップ1は、例えば、シリコンなどによって形成され、その主面1aには集積回路が形成されている。また、半導体チップ1の主面1aの平面形状は方形であり、図1に示す半導体チップ1は例えば正方形となっている。また、主面1aの周縁部には集積回路と電気的に接続される複数のパッド1cが形成されている。このパッド1cと、パッケージ基板3の主面3aの周縁部に配置されたボンディング用端子3eとが導電性のワイヤ4によってそれぞれ電気的に接続されている。このワイヤ4は、例えば、金線等である。   The semiconductor chip 1 is made of, for example, silicon, and an integrated circuit is formed on the main surface 1a. The planar shape of the main surface 1a of the semiconductor chip 1 is a square, and the semiconductor chip 1 shown in FIG. 1 is, for example, a square. In addition, a plurality of pads 1c that are electrically connected to the integrated circuit are formed on the peripheral portion of the main surface 1a. The pads 1c and the bonding terminals 3e disposed on the peripheral edge of the main surface 3a of the package substrate 3 are electrically connected by conductive wires 4, respectively. The wire 4 is, for example, a gold wire.

半導体チップ1は、図1に示すように、その裏面1bが、ペースト剤やダイアタッチフィルム等の接着剤2を介してパッケージ基板3に固着され、主面1aを上方に向けた状態でパッケージ基板3に搭載されている。   As shown in FIG. 1, the back surface 1b of the semiconductor chip 1 is fixed to the package substrate 3 via an adhesive 2 such as a paste agent or a die attach film, and the main surface 1a faces upward. 3 is installed.

パッケージ基板3は、主面3aと、主面3aの反対側に位置する裏面3bと、コア材3cとを有している。主面3aの周縁部には複数のボンディング用端子(ワイヤ接合部)3eが形成されている。主面3aは、絶縁膜であるソルダレジスト膜3fによって被覆されているが、このボンディング用端子3eの配置に対応して開口窓が形成され、ボンディング用端子3eの少なくとも一部が主面3a側に露出している。ワイヤ4はこのボンディング用端子3eが露出する領域に接合されている。   The package substrate 3 has a main surface 3a, a back surface 3b located on the opposite side of the main surface 3a, and a core material 3c. A plurality of bonding terminals (wire bonding portions) 3e are formed on the peripheral edge of the main surface 3a. The main surface 3a is covered with a solder resist film 3f which is an insulating film. An opening window is formed corresponding to the arrangement of the bonding terminals 3e, and at least a part of the bonding terminals 3e is on the main surface 3a side. Is exposed. The wire 4 is bonded to a region where the bonding terminal 3e is exposed.

一方、パッケージ基板3の裏面3bには複数のランド部3dが形成され、例えば格子状に配置されている。このランド部3dと、ボンディング用端子3eとはパッケージ基板3(コア材3c)に形成された配線(図示は省略)やスルーホール(図示は省略)などの導体パターンを介して電気的に接続されている。パッケージ基板3の裏面3bは、絶縁膜であるソルダレジスト膜3fによって被覆されているが、このランド部3dの配置に対応して開口窓が形成され、ランド部3dの少なくとも一部が裏面3b側に露出する構造となっている。パッケージ基板3の裏面3bには、このランド部3dの露出部に対応して半田ボール8が設けられている。この半田ボール8は、例えば、Pb−Sn等の半田からなり、パッケージ基板3の裏面3bに格子状に配置されている。   On the other hand, a plurality of land portions 3d are formed on the back surface 3b of the package substrate 3, and are arranged, for example, in a lattice pattern. The land portion 3d and the bonding terminal 3e are electrically connected via a conductor pattern such as a wiring (not shown) or a through hole (not shown) formed on the package substrate 3 (core material 3c). ing. The back surface 3b of the package substrate 3 is covered with a solder resist film 3f which is an insulating film. An opening window is formed corresponding to the arrangement of the land portion 3d, and at least a part of the land portion 3d is on the back surface 3b side. It is structured to be exposed to. Solder balls 8 are provided on the back surface 3b of the package substrate 3 so as to correspond to the exposed portions of the land portions 3d. The solder balls 8 are made of, for example, solder such as Pb—Sn, and are arranged in a lattice pattern on the back surface 3 b of the package substrate 3.

樹脂体6は、例えば、エポキシ樹脂等からなるとともに、パッケージ基板3の主面3a側に形成されており、半導体チップ1及び複数の導電性のワイヤ4を樹脂封止するものである。   The resin body 6 is made of, for example, an epoxy resin and is formed on the main surface 3a side of the package substrate 3 and seals the semiconductor chip 1 and the plurality of conductive wires 4 with resin.

本実施の形態のCSP7は、小型の半導体パッケージであるが、図1に示すように、半導体チップ1とパッケージ基板3の平面積がほぼ同じ大きさのものである。すなわち、パッケージ基板3は、半導体チップ1より僅かに大きい程度の面積である。   The CSP 7 of the present embodiment is a small semiconductor package, but as shown in FIG. 1, the plane areas of the semiconductor chip 1 and the package substrate 3 are approximately the same. That is, the package substrate 3 has an area slightly larger than that of the semiconductor chip 1.

なお、図1に示すCSP7は本実施の形態の一例として示すものであり、各構成部品の数や大きさはこれに限定されない。例えば、図1では半導体チップ1を1個搭載した例について示しているが、複数の半導体チップ1を積層して、あるいは横に並べて配置することもできる。   The CSP 7 shown in FIG. 1 is shown as an example of the present embodiment, and the number and size of each component are not limited to this. For example, FIG. 1 shows an example in which one semiconductor chip 1 is mounted, but a plurality of semiconductor chips 1 may be stacked or arranged side by side.

<半導体装置の製造方法>
次に図1に示すCSP7の製造方法について説明する。本実施の形態では、CSP7の製造方法の一例としてMAPと呼ばれる製造方法について説明する。図2は図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールドまでの組み立ての一例を示す製造プロセスフロー図、図3は図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールド後の組み立ての一例を示す製造プロセスフロー図、図4は図2に示す基板準備の工程で準備する多数個取り基板の平面図、図5は図2に示す樹脂モールドの工程で多数個取り基板の主面が樹脂封止された基板構造体の全体構造を示す斜視図である。
<Method for Manufacturing Semiconductor Device>
Next, a manufacturing method of CSP 7 shown in FIG. 1 will be described. In the present embodiment, a manufacturing method called MAP will be described as an example of a manufacturing method of CSP7. 2 is a manufacturing process flow diagram showing an example of assembly up to the resin mold in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a manufacturing process flow diagram showing an example of assembly after the resin mold in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 4 is a plan view of the multi-cavity substrate prepared in the substrate preparation step shown in FIG. 2, and FIG. 5 is a substrate in which the main surface of the multi-cavity substrate is resin-sealed in the resin molding step shown in FIG. It is a perspective view which shows the whole structure of a structure.

まず、図2のステップS1に示す基板準備を行う。ここでは、CSP7を形成する領域であるパッケージ領域9aが図4に示すように複数(図4では40個)区画配置された多数個取り基板9を準備する。パッケージ領域9aはマトリクス状に区画配置されている。   First, substrate preparation shown in step S1 of FIG. 2 is performed. Here, a multi-chip substrate 9 is prepared in which a plurality of package regions 9a (40 in FIG. 4) are arranged as shown in FIG. The package region 9a is partitioned and arranged in a matrix.

次に、ステップS2に示すダイボンディングを行って多数個取り基板9上に接着剤2を介して半導体チップ1を搭載(固着)する。ここでは、図4に示す複数のパッケージ領域9aにそれぞれ半導体チップ1を搭載する。   Next, the die bonding shown in step S <b> 2 is performed, and the semiconductor chip 1 is mounted (fixed) on the multi-piece substrate 9 via the adhesive 2. Here, the semiconductor chip 1 is mounted on each of the plurality of package regions 9a shown in FIG.

次に、ステップS3に示すワイヤボンディングを行う。ここでは、半導体チップ1と多数個取り基板9とを電気的に接続する。詳しくは、図1に示す半導体チップ1の主面1aのパッド1cと、これに対応する多数個取り基板9のパッケージ基板3のワイヤ接合部であるボンディング用端子3eとを金線等の導電性のワイヤ4によって電気的に接続する。   Next, wire bonding shown in step S3 is performed. Here, the semiconductor chip 1 and the multi-chip substrate 9 are electrically connected. Specifically, the pads 1c on the main surface 1a of the semiconductor chip 1 shown in FIG. 1 and the bonding terminals 3e, which are wire bonding portions of the package substrate 3 of the multi-chip substrate 9 corresponding thereto, are electrically conductive such as gold wires. The wire 4 is electrically connected.

次に、ステップS4に示す樹脂モールドを行う。ここでは、多数個取り基板9上において、複数の半導体チップ1や複数のワイヤ4(つまり図4に示す複数のパッケージ領域9a)を樹脂成形金型15の1つのキャビティ15aで一括して覆って樹脂封止し、これによって一括封止体5を形成する。なお、一括封止体5を形成する封止用樹脂は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂等である。   Next, the resin mold shown in step S4 is performed. Here, a plurality of semiconductor chips 1 and a plurality of wires 4 (that is, a plurality of package regions 9 a shown in FIG. 4) are collectively covered with a single cavity 15 a of a resin molding die 15 on a multi-chip substrate 9. Resin sealing is performed, thereby forming the collective sealing body 5. The sealing resin forming the collective sealing body 5 is, for example, a thermosetting epoxy resin.

封止用樹脂を硬化させて、一括封止体5を形成すると、図2および図5に示すに示す多数個取り基板9の主面(半導体チップ搭載面)3a側に一括封止体5が形成された基板構造体14を得る。   When the encapsulating resin 5 is formed by curing the encapsulating resin, the encapsulating body 5 is formed on the main surface (semiconductor chip mounting surface) 3a side of the multi-chip substrate 9 shown in FIGS. The formed substrate structure 14 is obtained.

次に、図3のステップS5に示すボールマウントを行って多数個取り基板9(図3に示すパッケージ基板3)の裏面3b(図1参照)の各ランド部3d(図1参照)に半田ボール8を接続する。ここでは、多数個取り基板9のランド部3dに半田を塗布した後、リフロー処理により半田ボール8を形成する。   Next, ball mounting shown in step S5 of FIG. 3 is performed, and solder balls are applied to the land portions 3d (see FIG. 1) of the back surface 3b (see FIG. 1) of the multi-piece substrate 9 (package substrate 3 shown in FIG. 3). 8 is connected. Here, after applying solder to the land portions 3d of the multi-chip substrate 9, the solder balls 8 are formed by reflow processing.

その後、ステップS6に示すマークを行う。ここではマーキング10を行って一括封止体5にマークを付す。なお、マーキング10は、例えば、インクマーキング法やレーザマーキング法等などで行うことができる。なお、このステップS6に示すマークの工程を実施するタイミングは、一括封止体5を形成した後であれば良く、図3に示すタイミングには限定されない。例えば、ステップS5に示すボールマウントの工程の前に行っても良いし、あるいはステップS7に示す個片化工程の後で行っても良い。   Then, the mark shown in step S6 is performed. Here, marking 10 is performed to mark the collective sealing body 5. The marking 10 can be performed by, for example, an ink marking method or a laser marking method. In addition, the timing which performs the process of the mark shown to this step S6 should just be after forming the collective sealing body 5, and is not limited to the timing shown in FIG. For example, it may be performed before the ball mounting step shown in step S5 or after the singulation step shown in step S7.

次に、ステップS7に示す個片化を行う。個片化が完了すると、ステップS8に示すようにCSP7の組み立てを完了して製品完成となる。   Next, individualization shown in step S7 is performed. When the singulation is completed, the assembly of the CSP 7 is completed as shown in step S8, and the product is completed.

ところで、個片化を行うためには、ダイシング装置の所定の位置に基板構造体14を固定する必要がある。本実施の形態ではこの固定手段として、基板構造体14と、これを保持する保持枠とにダイシングテープを貼り付けることによりこれらを所定の位置関係で固定して、保持枠とともに基板構造体14をダイシング装置のステージに固定する方法(以下テープダイシング法と呼ぶ)を用いる。   By the way, in order to divide into pieces, it is necessary to fix the substrate structure 14 at a predetermined position of the dicing apparatus. In the present embodiment, as the fixing means, the substrate structure 14 and the holding frame that holds the substrate structure 14 are fixed to each other by affixing a dicing tape to the substrate structure 14 in a predetermined positional relationship. A method of fixing to a stage of a dicing apparatus (hereinafter referred to as a tape dicing method) is used.

テープダイシング法は基板構造体14の一方の面を被覆するようにダイシングテープを貼り付けるので、基板構造体14を直接ダイシングステージに吸着させる方法(吸着ダイシング法)よりも切断中の基板構造体14全体を所定の位置に固定しやすい。したがって、テープダイシング法は比較的小型の半導体装置の製造に好適な個片化方法である。以下このステップS7に示す個片化の工程の概要を説明する。   In the tape dicing method, since the dicing tape is applied so as to cover one surface of the substrate structure 14, the substrate structure 14 that is being cut is more than the method in which the substrate structure 14 is directly adsorbed to the dicing stage (adsorption dicing method). Easy to fix the whole in place. Therefore, the tape dicing method is an individualization method suitable for manufacturing a relatively small semiconductor device. The outline of the individualization process shown in step S7 will be described below.

まず、ステップS4で主面3a側が封止された多数個取り基板9(すなわち基板構造体14)とこれを保持する保持枠とにダイシングテープ(接着シート)12を貼り付けることによりこれらを所定の位置関係で固定する。   First, in step S4, a dicing tape (adhesive sheet) 12 is attached to a multi-chip substrate 9 (that is, the substrate structure 14) whose main surface 3a side is sealed and a holding frame that holds the substrate, and these are predetermined. Fix in positional relationship.

次に、保持枠13に固定した基板構造体14を保持枠13とともに取り出してダイシング装置に搬送し、保持枠13に固定した状態でダイシングブレード11などの切断治具を用いて切断し、個片化する。基板構造体14を個片化すると図1に示すCSP7が得られる。   Next, the substrate structure 14 fixed to the holding frame 13 is taken out together with the holding frame 13 and conveyed to a dicing apparatus, and is cut using a cutting jig such as the dicing blade 11 while being fixed to the holding frame 13. Turn into. When the substrate structure 14 is separated, the CSP 7 shown in FIG. 1 is obtained.

次に、個々のCSP7を保持枠13に固定された状態でピックアップ装置に搬送し、ダイシングテープ12の粘着力を弱めた(例えば、光を照射することにより粘着力を弱める方法を用いることができる)後で、ダイシングテープ12から個片化されたCSP7をそれぞれピックアップし、次工程(選別工程、包装工程など)に送られる。   Next, each CSP 7 is transported to the pickup device while being fixed to the holding frame 13, and the adhesive strength of the dicing tape 12 is weakened (for example, a method of weakening the adhesive strength by irradiating light can be used. ) Later, the individual CSPs 7 are picked up from the dicing tape 12 and sent to the next process (selection process, packaging process, etc.).

上記一連の個片化工程のうち、特に保持枠に基板構造体14を固定する工程について、以下詳細に説明する。図6は保持枠の内側に、主面側が封止された基板構造体を配置した状態を示す平面図、図7は図6に示す保持枠および基板構造体を載置するステージを示す要部拡大平面図である。また、図8は、本実施の形態の貼り付け装置の概要を示す要部断面図、図9は切断された後のダイシングテープと保持枠の位置関係を示す平面図である。また、図10は図8に示すダイシングテープの余り部を引き剥がす工程を示す要部断面図である。また、図11は図7に示す保持枠クランプ周辺を拡大して示す要部拡大斜視図、図12は図11に示す保持枠クランプ上に保持枠を載置してA−A線に沿った断面を示す要部拡大断面図である。また、図13は図12に示す保持枠クランプの変形例を示す要部拡大断面図である。また、図14は図10に示す保持枠を取り出してダイシング装置に搬送する工程を示す要部断面図である。   Of the series of singulation steps, the step of fixing the substrate structure 14 to the holding frame will be described in detail below. 6 is a plan view showing a state in which the substrate structure sealed on the main surface side is arranged inside the holding frame, and FIG. 7 is a main part showing a stage on which the holding frame and the substrate structure shown in FIG. 6 are placed. It is an enlarged plan view. FIG. 8 is a cross-sectional view of the main part showing an outline of the attaching device of the present embodiment, and FIG. 9 is a plan view showing the positional relationship between the dicing tape after being cut and the holding frame. FIG. 10 is a cross-sectional view of the main part showing the process of peeling off the surplus part of the dicing tape shown in FIG. 11 is an enlarged perspective view of the main part showing the periphery of the holding frame clamp shown in FIG. 7, and FIG. 12 shows the holding frame placed on the holding frame clamp shown in FIG. It is a principal part expanded sectional view which shows a cross section. FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a modified example of the holding frame clamp shown in FIG. FIG. 14 is a cross-sectional view of an essential part showing a step of taking out the holding frame shown in FIG. 10 and transporting it to a dicing apparatus.

(a)まず、図6に示す保持枠13を準備して、この保持枠13内の内側に基板構造体14を配置した後、磁力を用いた固定手段により保持枠13を貼り付けステージ27に第1の固定力で固定する。   (A) First, the holding frame 13 shown in FIG. 6 is prepared, the substrate structure 14 is disposed inside the holding frame 13, and then the holding frame 13 is attached to the stage 27 by a fixing means using magnetic force. Fix with the first fixing force.

この保持枠13は、上記した一連の個片化工程で、基板構造体14を各装置の所定の位置に配置するために用いる磁性を有する金属(例えばステンレス綱など)製のフレームである。保持枠13はリング状の形状となっており、その外縁には、上記各装置の所定の位置に位置決めするためのテーパ部13aが形成されている。   The holding frame 13 is a frame made of a metal having magnetism (for example, a stainless steel) used for arranging the substrate structure 14 at a predetermined position of each apparatus in the above-described series of individualization steps. The holding frame 13 has a ring shape, and a tapered portion 13a for positioning at a predetermined position of each device is formed on the outer edge thereof.

この配置工程では、保持枠13と基板構造体14とが所定の位置関係となるように配置する。基板構造体14の位置は、貼り付けステージ27の基板配置部27aから突出して延びる複数の位置決めピン27dにより規定される。なお、位置決めピン27dはシリンダなどの昇降治具を用いて昇降可能とすることが好ましい。基板構造体14を配置する際に、位置決めピン27dと基板構造体14とが衝突して損傷することを防止するためである。   In this arrangement step, the holding frame 13 and the substrate structure 14 are arranged in a predetermined positional relationship. The position of the substrate structure 14 is defined by a plurality of positioning pins 27 d that extend from the substrate placement portion 27 a of the attaching stage 27. The positioning pin 27d is preferably movable up and down using a lifting jig such as a cylinder. This is to prevent the positioning pins 27d and the substrate structure 14 from colliding and being damaged when the substrate structure 14 is disposed.

また、貼り付けステージ27の基板配置部27aには、基板構造体14の固定手段である基板クランプ27e(図7参照)が複数配置されている。この基板クランプ27eは、例えば吸気経路に接続される開口部を有するゴム製のチューブであり、基板構造体14を吸着して固定することができる。   A plurality of substrate clamps 27e (see FIG. 7), which are fixing means for the substrate structure 14, are disposed on the substrate placement portion 27a of the attaching stage 27. The substrate clamp 27e is, for example, a rubber tube having an opening connected to the intake path, and can adsorb and fix the substrate structure 14.

一方、保持枠13の位置は、貼り付けステージ27の保持枠配置部27bに形成されたガイド27fにより規定される。保持枠13の外形は真円ではなく、図6に示すように4箇所にテーパ部13aを有している。保持枠配置部27bのガイド27fも保持枠13のテーパ部に対応してテーパ部27cを有している。保持枠13の方向は、テーパ部13aとテーパ部27cを合わせることにより規定される。   On the other hand, the position of the holding frame 13 is defined by a guide 27 f formed on the holding frame arrangement portion 27 b of the attaching stage 27. The outer shape of the holding frame 13 is not a perfect circle, but has four tapered portions 13a as shown in FIG. The guide 27 f of the holding frame arrangement portion 27 b also has a tapered portion 27 c corresponding to the tapered portion of the holding frame 13. The direction of the holding frame 13 is defined by combining the tapered portion 13a and the tapered portion 27c.

また、貼り付けステージ27の保持枠配置部27bには、保持枠13の固定手段である保持枠クランプ27g(図7参照)が形成され、これにより保持枠13は貼り付けステージ27に固定される。保持枠クランプ27gは例えば図7に示すように保持枠13(図6参照)を配置する位置に沿って4箇所配置されている。保持枠クランプ27gは図10に示すようにシリンダ本体部27gaとシリンダロッド27gbを有している。また、図12に示すようにシリンダロッド27gbの端部(先端)に配置された磁石収納部27gcにはそれぞれ永久磁石27gdが収納されている。保持枠クランプ27gはこの永久磁石27gdの磁力によって保持枠13を第1の固定力で保持枠配置部27bに固定するものであるが、保持枠クランプ27gの詳細な構造およびその効果については後で詳細に説明する。   Further, a holding frame clamp 27g (see FIG. 7) as a fixing means for the holding frame 13 is formed on the holding frame arrangement portion 27b of the bonding stage 27, whereby the holding frame 13 is fixed to the bonding stage 27. . For example, as shown in FIG. 7, the holding frame clamps 27g are arranged at four locations along the position where the holding frame 13 (see FIG. 6) is arranged. As shown in FIG. 10, the holding frame clamp 27g has a cylinder body 27ga and a cylinder rod 27gb. Further, as shown in FIG. 12, permanent magnets 27gd are housed in the magnet housing portions 27gc arranged at the end portions (tip ends) of the cylinder rods 27gb. The holding frame clamp 27g fixes the holding frame 13 to the holding frame arrangement portion 27b with a first fixing force by the magnetic force of the permanent magnet 27gd. The detailed structure and effects of the holding frame clamp 27g will be described later. This will be described in detail.

また、貼り付けステージ27の保持枠配置部27bには、真空吸着方式により保持枠13の浮き上がりを検出するセンサ27hが4箇所に配置されている。これは、後述する工程で、保持枠13が浮き上がることによる不具合を早期に検出して貼り付け装置20を停止させるための検出器である。なお、センサ27hは保持枠13を真空吸着するので、この真空吸着力も上記第1の固定力の一部となっている。ただし、この真空吸着力は永久磁石27gdと比較すると小さい力である。   Further, in the holding frame arrangement portion 27b of the affixing stage 27, sensors 27h for detecting the lifting of the holding frame 13 by a vacuum suction method are arranged at four locations. This is a detector for detecting an inconvenience caused by the lifting of the holding frame 13 at an early stage and stopping the pasting apparatus 20 in a process described later. Since the sensor 27h vacuum-sucks the holding frame 13, this vacuum suction force is also a part of the first fixing force. However, this vacuum attraction force is a small force as compared with the permanent magnet 27gd.

また、本工程では、保持枠13と基板構造体14との高さの調整も行う。つまり、保持枠13の上面と基板構造体14の上面(図6の場合一括封止体5の表面)が略同一の平面となるように高さ調整を行う。次工程でダイシングテープ12(図8参照)を一様に貼り付けるためである。高さ調節の方法は貼り付けステージ27の基板配置部27aあるいは保持枠配置部27bのいずれか一方あるいは両方を高さ方向に移動させることにより調節することができる。本実施の形態では保持枠配置部27bを基板配置部27aと独立して高さ方向に移動可能な構造とすることにより高さ調整を行っている。   In this step, the height of the holding frame 13 and the substrate structure 14 is also adjusted. That is, the height adjustment is performed so that the upper surface of the holding frame 13 and the upper surface of the substrate structure 14 (the surface of the collective sealing body 5 in FIG. 6) are substantially the same plane. This is because the dicing tape 12 (see FIG. 8) is uniformly applied in the next step. The height adjustment method can be adjusted by moving one or both of the substrate placement portion 27a and the holding frame placement portion 27b of the attaching stage 27 in the height direction. In the present embodiment, the height adjustment is performed by making the holding frame arrangement part 27b movable in the height direction independently of the board arrangement part 27a.

図6では配置例として2枚の基板構造体14を配置した状態を示している。このように、複数枚の基板構造体14を配置すれば、製造効率を向上させることができる。ただし、配置する基板構造体14の数は、基板構造体14の寸法に応じて1枚から数枚程度まで適宜選択することが可能であり、2枚に限定される訳ではない。   FIG. 6 shows a state in which two substrate structures 14 are arranged as an arrangement example. Thus, if a plurality of substrate structures 14 are arranged, the manufacturing efficiency can be improved. However, the number of substrate structures 14 to be arranged can be appropriately selected from one to several according to the dimensions of the substrate structure 14, and is not limited to two.

また、本実施の形態では、後述する接着シートの貼り付け工程で、一括封止体5の面に接着シートを貼り付ける実施態様について説明するので、一括封止体5が上面となるように配置した。   In the present embodiment, an embodiment in which the adhesive sheet is attached to the surface of the collective sealing body 5 in the adhesive sheet attaching process described later will be described. did.

(b)次に、図8に示すダイシングテープ12を貼り付けて、保持枠13と基板構造体14とを固定する。   (B) Next, the dicing tape 12 shown in FIG. 8 is affixed, and the holding frame 13 and the substrate structure 14 are fixed.

この工程では、例えば図8に示す貼り付け装置20を用いて、連続的にダイシングテープ12を貼り付けることができる。   In this step, for example, the dicing tape 12 can be continuously pasted using the pasting apparatus 20 shown in FIG.

ダイシングテープ12を連続的に貼り付ける場合、ダイシングテープ12は、例えば図8に示すように長い帯状のテープをロールで巻き取った状態で、供給部21にセットされる。なお、供給部21にセットされた状態では、ダイシングテープ12は、その粘着層の表面にカバーテープ16が貼り付けられた状態でセットされている。   When the dicing tape 12 is stuck continuously, the dicing tape 12 is set in the supply unit 21 in a state where a long strip-shaped tape is wound up by a roll as shown in FIG. 8, for example. In addition, in the state set to the supply part 21, the dicing tape 12 is set in the state in which the cover tape 16 was affixed on the surface of the adhesion layer.

供給部21から送り出されたダイシングテープ12は、複数のローラ22の間を縫うように送られ、回収部23に巻き取られる構造となっている。カバーテープ16は貼り付け部24よりも手前で引き剥がされ、カバーテープ回収部25に巻き取られる。また、貼り付け部24の前後にはテンションローラ26が配置され、ダイシングテープ12は所定の張力で張られた状態となっている。   The dicing tape 12 delivered from the supply unit 21 is fed so as to sew between a plurality of rollers 22 and is wound around the collection unit 23. The cover tape 16 is peeled off before the attaching portion 24 and is taken up by the cover tape collecting portion 25. In addition, tension rollers 26 are disposed before and after the pasting portion 24, and the dicing tape 12 is in a state of being stretched with a predetermined tension.

図6で説明した保持枠13および基板構造体14は、貼り付け部24に設置された貼り付けステージ27の上に配置されている。貼り付け装置20は貼り付けローラ(貼り付け治具)28を有しており、貼り付け部24の領域を移動させることができる構造となっている。図8では貼り付けローラ28は貼り付けステージ27の表面に沿って回収部23側から供給部21の方向に移動する。   The holding frame 13 and the substrate structure 14 described with reference to FIG. 6 are disposed on a pasting stage 27 installed in the pasting unit 24. The affixing device 20 has an affixing roller (affixing jig) 28 and has a structure capable of moving the area of the affixing portion 24. In FIG. 8, the affixing roller 28 moves along the surface of the affixing stage 27 from the collection unit 23 toward the supply unit 21.

この貼り付けローラ28が保持枠13の一方の端部から他方の端部まで、ダイシングテープ12を介して上方から所定の圧力で基板構造体14を押さえながら移動することにより、保持枠13および基板構造体14にダイシングテープ12を貼り付ける(本実施の形態では、ダイシングテープ12は図6に示す一括封止体5に貼り付けられる)。   The affixing roller 28 moves from one end of the holding frame 13 to the other end while pressing the substrate structure 14 with a predetermined pressure from above via the dicing tape 12, whereby the holding frame 13 and the substrate are moved. Dicing tape 12 is affixed to structure 14 (in this embodiment, dicing tape 12 is affixed to batch sealing body 5 shown in FIG. 6).

(c)次に、保持枠13のダイシングテープ12が貼り付けられた面側で、ダイシングテープ12を切断する。ここでは、例えば図8に示すカッタ支持部29に取り付けられた回転刃29aの端部を保持枠13のダイシングテープ12が貼り付けられた面に当接させた状態で、図9に示すように保持枠13の円周軌道に沿って回転させて切断する。   (C) Next, the dicing tape 12 is cut on the surface side of the holding frame 13 where the dicing tape 12 is attached. Here, for example, the end of the rotary blade 29a attached to the cutter support 29 shown in FIG. 8 is in contact with the surface of the holding frame 13 to which the dicing tape 12 is attached, as shown in FIG. The holding frame 13 is rotated along the circumferential orbit and cut.

カッタ支持部29は高さ方向に昇降可能な構造となっており、上記(a)工程および(b)工程では図8に示すように貼り付け部24の上方に配置されているが、本工程では、カッタ支持部29を貼り付け部24に自動的に降ろすことができる。また、カッタ支持部29は、保持枠13の中心を中心軸として回転可能な構造となっており、これにより保持枠13のダイシングテープ12が貼り付けられた面において保持枠13の円周軌道に沿ってダイシングテープ12を切断することができる。   The cutter support portion 29 has a structure that can be raised and lowered in the height direction, and is disposed above the attaching portion 24 in the steps (a) and (b) as shown in FIG. Then, the cutter support portion 29 can be automatically lowered onto the pasting portion 24. In addition, the cutter support portion 29 has a structure that can rotate around the center of the holding frame 13 as a central axis, so that the cutter frame supports the circumferential track of the holding frame 13 on the surface of the holding frame 13 on which the dicing tape 12 is attached. The dicing tape 12 can be cut along.

本工程により、ダイシングテープ12は、図9に示すように基板構造体14と保持枠13とを固定する使用部(第1接着シート)12aと、使用部12aから切り離された余り部(第2接着シート)12bとに分離される。図9では、使用部12aが保持枠13の円周軌道に沿って円形に切り取られた状態を示している。   Through this step, the dicing tape 12 is used as shown in FIG. 9 in which a use portion (first adhesive sheet) 12a for fixing the substrate structure 14 and the holding frame 13 and a surplus portion (second portion) separated from the use portion 12a. Adhesive sheet) 12b. FIG. 9 shows a state in which the use portion 12a is cut into a circle along the circumferential track of the holding frame 13.

(d)次に、ダイシングテープ12の余り部12bを、保持枠13から引き剥がす。本工程では、図10に示す剥がしローラ(引き剥がし手段)30を回転させながら矢印30aの方向に移動させて順次余り部12bを引き剥がしていく。   (D) Next, the excess part 12 b of the dicing tape 12 is peeled off from the holding frame 13. In this step, the excess roller 12b is sequentially peeled off by moving in the direction of arrow 30a while rotating the peeling roller (peeling means) 30 shown in FIG.

ここで、この基板構造体14は硬く、切断するためには強い力が必要となる。このため、基板構造体14の個片化に用いるダイシングテープ12は、一般にウエハの個片化に用いるダイシングテープよりも接着強度が高いものが用いられる。したがって、本工程において、ダイシングテープ12の余り部12bを引き剥がす際には、保持枠13を強い力で固定した状態で引き剥がさなければ、引き剥がしている途中で保持枠13が基板構造体14とともに浮き上がってしまう場合がある。   Here, the substrate structure 14 is hard, and a strong force is required for cutting. For this reason, the dicing tape 12 used for dividing the substrate structure 14 is generally one having higher adhesive strength than the dicing tape used for dividing the wafer. Therefore, in this step, when the surplus portion 12b of the dicing tape 12 is peeled off, if the holding frame 13 is not peeled off in a state of being fixed with a strong force, the holding frame 13 is in the middle of being peeled off. It may rise with it.

このため、図10に示すように剥がしローラ30の進行方向(矢印30a)の前方に貼り付けローラ28を配置して、貼り付けローラ28で保持枠13および基板構造体14を押さえながら剥がしローラ30で引っ張り上げて剥がすことが好ましい。これにより、本工程中に保持枠13、あるいは基板構造体14が浮き上がることをある程度抑制することができる。また、保持枠13の貼り付け面(上面)に対して余り部12bを引っ張り上げる角度を大きくする程強い力で剥がすことができる。このため、貼り付けローラ28と剥がしローラ30との距離を近づけることが好ましい。   For this reason, as shown in FIG. 10, the affixing roller 28 is arranged in front of the advancing direction (arrow 30 a) of the peeling roller 30, and the peeling roller 30 is pressed while holding the holding frame 13 and the substrate structure 14 with the affixing roller 28. It is preferable to pull it up and peel it off. Thereby, it can suppress to some extent that the holding frame 13 or the board | substrate structure 14 floats during this process. Moreover, it can peel with stronger force, so that the angle which pulls up the remainder part 12b with respect to the sticking surface (upper surface) of the holding frame 13 is enlarged. For this reason, it is preferable to make the distance between the affixing roller 28 and the peeling roller 30 closer.

また、本実施の形態では、図12に示すように保持枠13を固定する固定手段である保持枠クランプ27gの端部(先端)には永久磁石27gdが取り付けられており、この保持枠クランプ27gは、貼り付けステージ27の保持枠13と対向する面に複数(図7では4箇所)取り付けられている。したがって、保持枠13を永久磁石27gdの磁力により、貼り付けステージ27に強固に固定することができる。つまり、本工程で保持枠13の浮き上がりを防止することができる。   In the present embodiment, as shown in FIG. 12, a permanent magnet 27gd is attached to an end (tip) of a holding frame clamp 27g which is a fixing means for fixing the holding frame 13, and this holding frame clamp 27g. Are attached to the surface of the attaching stage 27 facing the holding frame 13 (four places in FIG. 7). Therefore, the holding frame 13 can be firmly fixed to the affixing stage 27 by the magnetic force of the permanent magnet 27gd. That is, the lifting of the holding frame 13 can be prevented in this step.

ところで、磁力以外の固定手段として、真空吸着による固定を考えることができる。例えば、略中央に吸気経路が確保された吸着パッドを図12に示す保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面に複数配置して、保持枠13を固定する方法である。しかし、固定手段として、真空吸着を用いる場合、パッドの数が多数になる。また、保持枠13に若干の歪みや反りが生じていると、吸着パッドと保持枠13との間に隙間が生じ、吸着力が著しく低下する原因となる。   By the way, fixing by vacuum suction can be considered as fixing means other than magnetic force. For example, the holding frame 13 is fixed by arranging a plurality of suction pads, each of which has an intake path substantially at the center, on the surface of the holding frame arrangement portion 27b facing the holding frame 13 shown in FIG. However, when vacuum suction is used as the fixing means, the number of pads becomes large. Further, if the holding frame 13 is slightly distorted or warped, a gap is generated between the suction pad and the holding frame 13, which causes the suction force to be significantly reduced.

一方、本実施の形態では固定手段として磁力を用いるので、永久磁石27gdに、磁力の強いものを選択することにより、真空吸着の場合と比較して少ない数で固定することができる。また、保持枠13に若干の歪みや反りが生じると、永久磁石27gdと保持枠13との間に隙間が生じる場合もあるが、永久磁石27gdが保持枠13を固定する力は真空吸着の場合と比較してそれほど低下しない。したがって、固定手段として磁力を用いる場合、真空吸着の場合よりも安定して保持枠13を固定することができる。   On the other hand, since the magnetic force is used as the fixing means in the present embodiment, it is possible to fix the permanent magnet 27gd with a smaller number than in the case of vacuum suction by selecting a permanent magnet having a strong magnetic force. Further, if the holding frame 13 is slightly distorted or warped, a gap may be formed between the permanent magnet 27gd and the holding frame 13, but the force with which the permanent magnet 27gd fixes the holding frame 13 is a case of vacuum suction. Compared with, it does not decrease so much. Therefore, when the magnetic force is used as the fixing means, the holding frame 13 can be fixed more stably than in the case of vacuum suction.

また、図12では、保持枠クランプ27gの最先端面が保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面よりも低い位置となっている。つまり、保持枠クランプ27gの最先端面が保持枠13の下面よりも若干低い高さとなるように設定している。このためシリンダロッド27gbを保持枠13の方向に上昇させる際に保持枠13に保持枠クランプ27gの先端が保持枠13に衝突して位置がずれることを防止することができる。   In FIG. 12, the most distal surface of the holding frame clamp 27g is located at a position lower than the surface of the holding frame arrangement portion 27b that faces the holding frame 13. That is, the most advanced surface of the holding frame clamp 27g is set to be slightly lower than the lower surface of the holding frame 13. For this reason, when the cylinder rod 27gb is raised in the direction of the holding frame 13, it is possible to prevent the tip of the holding frame clamp 27g from colliding with the holding frame 13 and shifting its position.

ただし、保持枠クランプ27gの最先端面と保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面との高さの関係は図12に示す態様には限定されない。例えば、図13に示すように
保持枠クランプ27gの最先端面が保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面と同一平面としても良い。つまり、保持枠クランプ27gの最先端面と保持枠13の下面が同じ高さとなるように設定しても良い。
However, the height relationship between the foremost surface of the holding frame clamp 27g and the surface of the holding frame arrangement portion 27b facing the holding frame 13 is not limited to the mode shown in FIG. For example, as shown in FIG. 13, the foremost surface of the holding frame clamp 27g may be flush with the surface facing the holding frame 13 of the holding frame arrangement portion 27b. That is, you may set so that the front-end | tip surface of the holding frame clamp 27g and the lower surface of the holding frame 13 may become the same height.

この場合、保持枠クランプ27gの最先端面が保持枠13の下面と接触するので、高い強度で保持枠13を固定することができる。この場合には、シリンダロッド27gbを昇降させる駆動源を気体圧、あるいは油圧などの流体圧とすることが好ましい。保持枠クランプ27gの先端が保持枠13に衝突した場合であっても、駆動源である気体あるいは油などの流体により、衝撃が緩和され、保持枠13の位置がずれることを抑制するためである。なお、図12に示す構造においてシリンダロッド27gbの駆動源として気体圧、あるいは油圧などの流体圧を用いても良いことは言うまでもない。   In this case, since the foremost surface of the holding frame clamp 27g contacts the lower surface of the holding frame 13, the holding frame 13 can be fixed with high strength. In this case, it is preferable that the drive source for raising and lowering the cylinder rod 27gb is a fluid pressure such as a gas pressure or a hydraulic pressure. This is because even when the tip of the holding frame clamp 27g collides with the holding frame 13, the impact is alleviated and the position of the holding frame 13 is prevented from being displaced by a fluid such as gas or oil as a driving source. . In the structure shown in FIG. 12, it goes without saying that a gas pressure or a fluid pressure such as a hydraulic pressure may be used as a drive source for the cylinder rod 27gb.

また、図12および図13では、永久磁石27gdをシリンダロッドの先端に配置された磁石収納部27gcに収納された構造としているが、この構造に限定される訳ではない。永久磁石27gdの所定の磁力が、保持枠13に伝達され、かつ、ダイシングテープ12を引き剥がす際の力が加わってもシリンダロッド27gbから永久磁石27gdが剥離しない構造であれば他の構造としても良い。例えば、シリンダロッド27gbの先端に接着剤で貼り付ける構造としても良い。ただしこの場合、ダイシングテープ12を引き剥がす際の力が加わってもシリンダロッド27gbから永久磁石27gdが剥離しない強度を有する接着剤を用いる必要がある。   12 and 13, the permanent magnet 27gd is housed in the magnet housing portion 27gc disposed at the tip of the cylinder rod. However, the structure is not limited to this structure. Other structures may be used as long as the predetermined magnetic force of the permanent magnet 27gd is transmitted to the holding frame 13 and the permanent magnet 27gd is not peeled off from the cylinder rod 27gb even when a force for peeling off the dicing tape 12 is applied. good. For example, it is good also as a structure stuck on the front-end | tip of cylinder rod 27gb with an adhesive agent. However, in this case, it is necessary to use an adhesive having such a strength that the permanent magnet 27gd is not peeled off from the cylinder rod 27gb even when a force for peeling off the dicing tape 12 is applied.

(e)次に、保持枠13とともに基板構造体14を取り出してダイシング装置に搬送する。前記(d)工程で、保持枠13と基板構造体14とは、ダイシングテープ12を介して固定されているので、本工程では、例えば、図14に示すように保持枠13の上面側から吸着治具31で持ち上げて搬送する。   (E) Next, the substrate structure 14 is taken out together with the holding frame 13 and conveyed to the dicing apparatus. In the step (d), the holding frame 13 and the substrate structure 14 are fixed via the dicing tape 12. Therefore, in this step, for example, as shown in FIG. The jig 31 is lifted and conveyed.

ここで、前記(d)工程で説明したように保持枠13が強固な固定手段である保持枠クランプ27gによって固定されている場合、吸着治具31の吸着力では保持枠13を持ち上げることができない。保持枠クランプ27gが保持枠13を固定する力よりもさらに大きい吸着力で持ち上げる方法も考えられるが、この場合、装置サイズやエネルギーコストの観点から現実的でない。   Here, as described in the step (d), when the holding frame 13 is fixed by the holding frame clamp 27g which is a strong fixing means, the holding frame 13 cannot be lifted by the suction force of the suction jig 31. . Although a method of lifting the holding frame clamp 27g with a larger suction force than the force for fixing the holding frame 13 is also conceivable, in this case, it is not practical from the viewpoint of the apparatus size and energy cost.

そこで、本実施の形態では、図14に示すように保持枠クランプ27gをシリンダ本体部27gaと、シリンダロッド27gbを有する構成とし、このシリンダロッド27gbの端部に取り付けられた永久磁石27gdは保持枠13と交差する方向に移動可能な状態で配置される。   Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 14, the holding frame clamp 27g has a cylinder body portion 27ga and a cylinder rod 27gb, and the permanent magnet 27gd attached to the end of the cylinder rod 27gb is a holding frame. 13 is arranged so as to be movable in a direction crossing 13.

シリンダロッド27gbを降下させると、この端部に配置された永久磁石27gdと保持枠13との距離は遠くなる。すなわち、保持枠13から永久磁石27gdを遠ざけることとなる。このため、前記(d)工程の後、保持枠13を持ち上げる前に保持枠クランプ27gが保持枠13を固定する固定力を上記した第1の固定力(余り部12bを引き剥がす際に保持枠13を固定する力)よりも小さい第2の固定力とすることができる。このように、保持枠13を固定する固定力を予め上記した第1の固定力よりも小さい第2の固定力とすることにより、吸着治具31の吸着力が小さくても保持枠13を持ち上げることができる。   When the cylinder rod 27gb is lowered, the distance between the permanent magnet 27gd disposed at the end and the holding frame 13 is increased. That is, the permanent magnet 27gd is moved away from the holding frame 13. For this reason, after the step (d), before the holding frame 13 is lifted, the holding frame clamp 27g fixes the holding force of the holding frame 13 when the first fixing force (the holding frame 12b is peeled off). The second fixing force smaller than the force (fixing force 13) can be set. Thus, the holding frame 13 is lifted even if the suction force of the suction jig 31 is small, by setting the fixing force for fixing the holding frame 13 as the second fixing force smaller than the first fixing force described above. be able to.

つまり、前記(a)工程から(e)工程までを貼り付け装置20(図8参照)が備える各機構によって連続的に処理することができるので、基板構造体14をダイシングテープ12で保持枠13に固定する工程を自動化することができる。   That is, since the steps (a) to (e) can be continuously processed by each mechanism provided in the attaching device 20 (see FIG. 8), the substrate structure 14 is held by the dicing tape 12 with the holding frame 13. The process of fixing to can be automated.

また、本工程では、保持枠13を持ち上げる前に、保持枠クランプ27g以外の固定手段の固定力も予め小さくしておくことが好ましい。保持枠13を容易に持ち上げるためである。本実施の形態では図7に示す基板クランプ27eおよびセンサ27hなどの真空吸着手段がこれに該当する。これらの真空吸着手段は吸気を停止することにより固定力を小さくすることができる。   In this step, it is preferable that the fixing force of the fixing means other than the holding frame clamp 27g is reduced in advance before the holding frame 13 is lifted. This is for easily lifting the holding frame 13. In the present embodiment, vacuum suction means such as the substrate clamp 27e and the sensor 27h shown in FIG. 7 correspond to this. These vacuum suction means can reduce the fixing force by stopping the intake.

<保持枠クランプの第1の変形例>
次に、図10〜図14に示す保持枠クランプ27gの第1の変形例について図15および図16を用いて説明する。図15は本実施の形態の第1の変形例である保持枠クランプの断面構造を示す要部拡大断面図、図16は図15に示す保持枠クランプを用いて保持枠を固定した状態を示す要部拡大断面図である。
<First Modification of Holding Frame Clamp>
Next, a first modification of the holding frame clamp 27g shown in FIGS. 10 to 14 will be described with reference to FIGS. FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a cross-sectional structure of a holding frame clamp as a first modification of the present embodiment, and FIG. 16 shows a state in which the holding frame is fixed using the holding frame clamp shown in FIG. It is a principal part expanded sectional view.

なお、図15および図16に示す保持枠クランプ27kの構造は、以下に示す相違点を除き、図10〜図14に示す保持枠クランプ27gの構造と同様である。したがって繰り返しの説明は省略する。   The structure of the holding frame clamp 27k shown in FIGS. 15 and 16 is the same as the structure of the holding frame clamp 27g shown in FIGS. 10 to 14 except for the following differences. Therefore, repeated description is omitted.

図15および図16に示す保持枠クランプ27kと図10〜図14に示す保持枠クランプ27gとの第1の相違点は、保持枠クランプ27kの最先端面が保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面よりも高い位置となっている点である。また、第2の相違点は、永久磁石27kdとシリンダロッド27kbを駆動するシリンダ本体部(図示は省略)との間にゴム(弾性体)27keが配置されている点である。   The first difference between the holding frame clamp 27k shown in FIGS. 15 and 16 and the holding frame clamp 27g shown in FIGS. 10 to 14 is that the most distal surface of the holding frame clamp 27k is the holding frame 13 of the holding frame arranging portion 27b. It is the point which becomes a position higher than the surface which opposes. The second difference is that rubber (elastic body) 27ke is disposed between the permanent magnet 27kd and a cylinder body (not shown) that drives the cylinder rod 27kb.

本実施の形態では、基板構造体14をダイシングテープ12で保持枠13に固定する工程を自動化するので、複数の保持枠13を用いて連続的に処理を行う。前述したようにダイシングテープ12から個片化された全てのCSP7がピックアップされた後、ダイシングテープ12は保持枠13から剥がされて、保持枠13は再利用される。このように保持枠13は再利用するので、経年劣化あるいは作業中のトラブル等により、歪みや反りが生じる場合がある。   In the present embodiment, since the process of fixing the substrate structure 14 to the holding frame 13 with the dicing tape 12 is automated, the processing is continuously performed using the plurality of holding frames 13. As described above, after all the CSPs 7 separated from the dicing tape 12 are picked up, the dicing tape 12 is peeled off from the holding frame 13 and the holding frame 13 is reused. Since the holding frame 13 is reused in this way, distortion or warping may occur due to deterioration over time or trouble during work.

ここで、図10〜図14では保持枠クランプ27gの最先端面が保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面よりも低い、あるいは同一平面となっている。このため、供給された保持枠13の反りや歪みの程度によっては、十分に保持枠13を固定することが出来ない場合が生じる。   Here, in FIGS. 10 to 14, the foremost surface of the holding frame clamp 27 g is lower than or the same plane as the surface facing the holding frame 13 of the holding frame arrangement portion 27 b. For this reason, depending on the degree of warping or distortion of the supplied holding frame 13, the holding frame 13 may not be sufficiently fixed.

そこで、図15に示すように保持枠クランプ27kの最先端面が保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面よりも高い位置となるように設定することにより、図16に示すように永久磁石27kdを保持枠13に接触させることができるので、より確実に固定することができる。   Accordingly, as shown in FIG. 15, by setting the foremost surface of the holding frame clamp 27k to be higher than the surface facing the holding frame 13 of the holding frame arranging portion 27b, the permanent frame as shown in FIG. Since the magnet 27kd can be brought into contact with the holding frame 13, it can be more reliably fixed.

しかし、図10〜図14に示す保持枠クランプ27gの最先端面を保持枠配置部27bの保持枠13と対向する面よりも高くした場合、保持枠13の下面が保持枠配置部27bの表面と接触しないので安定性が悪い。   However, when the foremost surface of the holding frame clamp 27g shown in FIGS. 10 to 14 is made higher than the surface facing the holding frame 13 of the holding frame arrangement portion 27b, the lower surface of the holding frame 13 is the surface of the holding frame arrangement portion 27b. It is not stable because it does not come into contact with.

そこで、図16に示すように永久磁石27kdとシリンダロッド27kbを駆動するシリンダ本体部(図示は省略)との間にゴム27keが配置することにより保持枠13を載置するとゴム27keが変形して安定させることができる。   Therefore, as shown in FIG. 16, the rubber 27ke is disposed between the permanent magnet 27kd and the cylinder body (not shown) for driving the cylinder rod 27kb, so that when the holding frame 13 is placed, the rubber 27ke is deformed. It can be stabilized.

なお、図15および図16ではゴム27keを永久磁石27kdとシリンダロッド27kbの間に配置しているが、ゴム27keの位置はこれに限定されない。シリンダロッド27kbが最高点まで上昇し、保持枠13と永久磁石27kdとが接触した時に、変形して保持枠13の下面が保持枠配置部27bの表面と接触させることができれば、永久磁石27kdとシリンダロッドkbを駆動するシリンダ本体部(図示は省略)との間の任意の位置に配置することができる。   15 and 16, the rubber 27ke is disposed between the permanent magnet 27kd and the cylinder rod 27kb, but the position of the rubber 27ke is not limited to this. If the cylinder rod 27kb rises to the highest point and the holding frame 13 and the permanent magnet 27kd come into contact with each other, if the lower surface of the holding frame 13 can be brought into contact with the surface of the holding frame arrangement portion 27b when the holding frame 13 and the permanent magnet 27kd come into contact, It can be arranged at an arbitrary position between the cylinder main body (not shown) that drives the cylinder rod kb.

また、本実施の形態では加工性が良好であることから弾性体の例としてゴム27keを示したが弾性体としては、この他バネなどを用いることもできる。   Further, in the present embodiment, rubber 27ke is shown as an example of the elastic body because of good workability, but other springs or the like can be used as the elastic body.

<保持枠クランプの第2の変形例>
次に、図10〜図14に示す保持枠クランプ27gの第2の変形例について図17を用いて説明する。図17は本実施の形態の変形例である保持枠クランプの断面構造を示す要部拡大断面図である。なお、図17に示す保持枠クランプ27mの構造は、以下に示す相違点を除き、図10〜図14に示す保持枠クランプ27gの構造と同様である。したがって繰り返しの説明は省略する。
<Second Modification of Holding Frame Clamp>
Next, a second modification of the holding frame clamp 27g shown in FIGS. 10 to 14 will be described with reference to FIG. FIG. 17 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a cross-sectional structure of a holding frame clamp which is a modification of the present embodiment. The structure of the holding frame clamp 27m shown in FIG. 17 is the same as the structure of the holding frame clamp 27g shown in FIGS. 10 to 14 except for the following differences. Therefore, repeated description is omitted.

図17に示す保持枠クランプ27mと図10〜図14に示す保持枠クランプ27gとの第1の相違点は、保持枠クランプ27mが電磁石である点である。また、第2の相違点は、保持枠クランプ27mは図10に示すシリンダ本体部27ga、シリンダロッド27gb、永久磁石収納部27gc、および永久磁石27gdを有していない点である。   A first difference between the holding frame clamp 27m shown in FIG. 17 and the holding frame clamp 27g shown in FIGS. 10 to 14 is that the holding frame clamp 27m is an electromagnet. The second difference is that the holding frame clamp 27m does not have the cylinder body 27ga, the cylinder rod 27gb, the permanent magnet storage 27gc, and the permanent magnet 27gd shown in FIG.

本実施の形態1では保持枠13を固定する固定手段の力を、ダイシングテープ12を引き剥がす工程の前後で変化させる(引き剥がした後に弱くする)ことにより基板構造体14をダイシングテープ12で保持枠13に固定する工程の自動化を実現するものである。   In the first embodiment, the substrate structure 14 is held by the dicing tape 12 by changing the force of the fixing means for fixing the holding frame 13 before and after the step of peeling the dicing tape 12 (weakening after peeling). Automation of the process of fixing to the frame 13 is realized.

したがって、図17に示す保持枠クランプ27mのように電磁石を用いると、これをON−OFF操作することによりダイシングテープ12を引き剥がす工程の前後で変化させる(引き剥がした後に弱くする)ことができるので、基板構造体14をダイシングテープ12で保持枠13に固定する工程を自動化することができる。   Therefore, when an electromagnet is used like the holding frame clamp 27m shown in FIG. 17, it can be changed before and after the step of peeling off the dicing tape 12 by turning it on and off (weakening after peeling). Therefore, the process of fixing the substrate structure 14 to the holding frame 13 with the dicing tape 12 can be automated.

また、電磁石を用いることにより、図10〜図14に示す場合、あるいは図15および図16に示す場合のように永久磁石27gd、27kdを昇降させる機構が不要となる。したがって、装置の駆動部を削減することにより、装置の故障頻度を低下させることができる。   Moreover, by using an electromagnet, the mechanism which raises / lowers the permanent magnets 27gd and 27kd like the case shown in FIGS. 10-14 or the case shown in FIG. 15 and FIG. 16 becomes unnecessary. Therefore, the failure frequency of the device can be reduced by reducing the number of drive units of the device.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

例えば、本実施の形態では半導体装置の製造方法の例としてMAPについて説明した。しかし半導体装置の製造工程はこれに限定されるものではなく、例えば、多数個取り基板9のパッケージ領域の数に対応して複数のキャビティを有する金型を用いて封止する方法(個片モールドと呼ばれる)で基板構造体を得る方法に適用することができる。   For example, in this embodiment, MAP has been described as an example of a method for manufacturing a semiconductor device. However, the manufacturing process of the semiconductor device is not limited to this. For example, a method of sealing using a mold having a plurality of cavities corresponding to the number of package regions of the multi-cavity substrate 9 (individual mold) It can be applied to a method for obtaining a substrate structure.

また、半導体ウエハを基板構造体とみなし、該半導体ウエハにダイシングテープなどの接着シートを貼り付ける工程にも適用することができる。半導体ウエハは、一般に本実施の形態1で説明した基板構造体14と比較して小さい力で個片化することができるので、これに用いるダイシングテープの接着強度は本実施の形態で説明したダイシングテープ12よりも低い。しかし、半導体ウエハであっても、接着強度の高いダイシングテープを用いる必要がある場合には、本実施の形態で説明した方法を適用することにより、ダイシングテープを用いて半導体ウエハと保持枠とを固定する工程を自動化することができる。   Further, the present invention can also be applied to a process in which a semiconductor wafer is regarded as a substrate structure and an adhesive sheet such as a dicing tape is attached to the semiconductor wafer. Since the semiconductor wafer can generally be separated into pieces with a smaller force than the substrate structure 14 described in the first embodiment, the dicing tape used for the semiconductor wafer has the dicing strength described in the present embodiment. Lower than tape 12. However, even in the case of a semiconductor wafer, when it is necessary to use a dicing tape with high adhesive strength, the semiconductor wafer and the holding frame are separated using the dicing tape by applying the method described in this embodiment. The fixing process can be automated.

本発明は、BGA、あるいはLGAタイプの半導体装置に利用可能である。   The present invention is applicable to a BGA or LGA type semiconductor device.

本発明の一実施の形態である半導体装置の構造の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the structure of the semiconductor device which is one embodiment of this invention. 図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールドまでの組み立ての一例を示す製造プロセスフロー図である。It is a manufacturing process flowchart which shows an example of the assembly to the resin mold in the assembly of the semiconductor device shown in FIG. 図1に示す半導体装置の組み立てにおける樹脂モールド後の組み立ての一例を示す製造プロセスフロー図である。FIG. 2 is a manufacturing process flow diagram illustrating an example of assembly after resin molding in the assembly of the semiconductor device illustrated in FIG. 1. 図2に示す基板準備の工程で準備する多数個取り基板の平面図である。FIG. 3 is a plan view of a multi-piece substrate prepared in the substrate preparation step shown in FIG. 2. 図2に示す樹脂モールドの工程で多数個取り基板の主面が樹脂封止された基板構造体の全体構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole structure of the board | substrate structure by which the main surface of the multi-cavity board | substrate was resin-sealed by the process of the resin mold shown in FIG. 保持枠内に、主面側が封止された基板構造体を配置した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which has arrange | positioned the board | substrate structure by which the main surface side was sealed in the holding frame. 図6に示す保持枠および基板構造体を載置するステージを示す要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view which shows the stage which mounts the holding frame and board | substrate structure shown in FIG. 本発明の一実施の形態である貼り付け装置の概要を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline | summary of the sticking apparatus which is one embodiment of this invention. 切断された後のダイシングテープと保持枠の位置関係を示す平面図である。It is a top view which shows the positional relationship of the dicing tape after a cutting | disconnection, and a holding frame. 図8に示す基板構造体にダイシングテープの余り部を引き剥がす工程を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows the process of peeling off the surplus part of a dicing tape to the board | substrate structure shown in FIG. 図7に示す保持枠クランプ周辺を拡大して示す要部拡大斜視図である。It is a principal part expansion perspective view which expands and shows the holding frame clamp periphery shown in FIG. 図11に示す保持枠クランプ上に保持枠を載置してA−A線に沿った断面を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which mounts a holding frame on the holding frame clamp shown in FIG. 11, and shows the cross section along the AA. 本発明の一実施の形態の変形例である保持枠クランプを示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the holding frame clamp which is a modification of one Embodiment of this invention. 図10に示す保持枠を取り出してダイシング装置に搬送する工程を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the process of taking out the holding frame shown in FIG. 10, and conveying to a dicing apparatus. 本発明の第1の変形例である保持枠クランプの断面構造を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the cross-section of the holding frame clamp which is the 1st modification of this invention. 図15に示す保持枠クランプを用いて保持枠を固定した状態を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the state which fixed the holding frame using the holding frame clamp shown in FIG. 本発明の第2の変形例である保持枠クランプの断面構造を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the cross-section of the holding frame clamp which is the 2nd modification of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体チップ
1a 主面
1b 裏面
1c パッド(電極)
2 接着剤
3 パッケージ基板(配線基板)
3a 主面
3b 裏面
3c コア材
3d ランド部
3e ボンディング用端子(ワイヤ接合部)
3f ソルダレジスト膜
4 ワイヤ
5 一括封止体
6 樹脂体
7 CSP(半導体装置)
8 半田ボール(外部接続端子)
9 多数個取り基板
9a パッケージ領域
10 マーキング
11 ダイシングブレード
12 ダイシングテープ
12a 使用部(第1接着シート)
12b 余り部(第2接着シート)
13 保持枠
13a テーパ部
14 基板構造体
15 樹脂成形金型
15a キャビティ
16 カバーテープ
20 貼り付け装置
21 供給部
22 ローラ
23 回収部
24 貼り付け部
25 カバーテープ回収部
26 テンションローラ
27 貼り付けステージ
27a 基板配置部
27b 保持枠配置部
27c テーパ部
27d 位置決めピン
27e 基板クランプ
27f ガイド
27g、27k、27m 保持枠クランプ(固定手段)
27ga シリンダ本体部
27gb、27kb シリンダロッド
27gc 磁石収納部
27gd、27kc 永久磁石
27ke ゴム(弾性体)
27h センサ
28 貼り付けローラ(貼り付け治具)
29 カッタ支持部
29a 回転刃
30 剥がしローラ
30a 矢印
31 吸着治具
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 1a Main surface 1b Back surface 1c Pad (electrode)
2 Adhesive 3 Package substrate (wiring substrate)
3a Main surface 3b Back surface 3c Core material 3d Land portion 3e Bonding terminal (wire bonding portion)
3f Solder resist film 4 Wire 5 Batch encapsulant 6 Resin body 7 CSP (semiconductor device)
8 Solder balls (external connection terminals)
9 Multiple substrate 9a Package area 10 Marking 11 Dicing blade 12 Dicing tape 12a Used part (first adhesive sheet)
12b Extra part (second adhesive sheet)
13 Holding frame 13a Tapered portion 14 Substrate structure 15 Resin molding die 15a Cavity 16 Cover tape 20 Adhering device 21 Supply unit 22 Roller 23 Collecting unit 24 Adhering unit 25 Cover tape collecting unit 26 Tension roller 27 Adhering stage 27a Substrate Arrangement portion 27b Holding frame arrangement portion 27c Taper portion 27d Positioning pin 27e Substrate clamp 27f Guides 27g, 27k, 27m Holding frame clamp (fixing means)
27ga Cylinder body part 27gb, 27kb Cylinder rod 27gc Magnet storage part 27gd, 27kc Permanent magnet 27ke Rubber (elastic body)
27h Sensor 28 Affixing roller (Affixing jig)
29 Cutter support part 29a Rotary blade 30 Peeling roller 30a Arrow 31 Suction jig

Claims (5)

基板を有する基板構造体を個片化する工程を有し、
前記基板構造体を個片化する工程には、
リング状の保持枠を準備し、前記保持枠の内側に前記基板構造体を配置した後、磁力を用いた固定手段により前記保持枠を第1の固定力でステージに固定する工程と、
接着シートと、前記保持枠および前記基板構造体とを貼り付ける工程と、
前記接着シートを前記保持枠に沿って切断し、前記基板構造体と前記保持枠とを固定する第1接着シートと、前記第1接着シートから切り離された第2接着シートとに分離する工程と、
前記第2接着シートを、前記保持枠から引き剥がす工程と、
前記第2接着シートを、前記保持枠から引き剥がした後、前記固定手段が前記保持枠を固定する固定力を前記第1の固定力よりも小さい第2の固定力としてから前記保持枠を前記基板構造体とともに取り出して搬送する工程と、
前記基板構造体を前記保持枠に固定した状態で個片化する工程とが含まれ、
前記固定手段は前記保持枠を載置する前記ステージの前記保持枠と対向する面に前記保持枠と交差する方向に移動可能な状態で配置された複数の永久磁石であって、
前記固定手段の固定力を前記第2の固定力とする工程では、前記保持枠から前記永久磁石を遠ざけることにより固定力を弱くすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Having a step of dividing a substrate structure having a substrate into pieces,
In the step of dividing the substrate structure into pieces,
Preparing a ring-shaped holding frame, placing the substrate structure inside the holding frame, and fixing the holding frame to the stage with a first fixing force by a fixing means using magnetic force;
Bonding the adhesive sheet, the holding frame and the substrate structure;
Cutting the adhesive sheet along the holding frame and separating the first adhesive sheet for fixing the substrate structure and the holding frame, and a second adhesive sheet separated from the first adhesive sheet; ,
Peeling the second adhesive sheet from the holding frame;
After the second adhesive sheet is peeled from the holding frame, the fixing means fixes the holding frame to a second fixing force smaller than the first fixing force, and then the holding frame is moved to the holding frame. A step of taking out and transporting together with the substrate structure;
And a step of separating the substrate structure in a state of being fixed to the holding frame,
The fixing means is a plurality of permanent magnets arranged in a state of being movable in a direction intersecting the holding frame on a surface facing the holding frame of the stage on which the holding frame is placed,
In the step of setting the fixing force of the fixing means as the second fixing force, the fixing force is weakened by moving the permanent magnet away from the holding frame.
請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記永久磁石は、気体圧あるいは油圧によって前記ステージの前記保持枠と対向する面と交差する方向に駆動するシリンダロッドの端部に取り付けられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 1,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the permanent magnet is attached to an end of a cylinder rod that is driven in a direction intersecting a surface of the stage facing the holding frame by gas pressure or hydraulic pressure.
請求項2に記載の半導体装置の製造方法において、
前記永久磁石と、前記シリンダロッドを駆動するシリンダ本体部との間には弾性体が配置されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 2,
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein an elastic body is disposed between the permanent magnet and a cylinder body that drives the cylinder rod.
基板を有する基板構造体を個片化する工程を有し、
前記基板構造体を個片化する工程には、
リング状の保持枠を準備し、前記保持枠の内側に前記基板構造体を配置した後、磁力を用いた固定手段により前記保持枠を第1の固定力でステージに固定する工程と、
接着シートと、前記保持枠および前記基板構造体とを貼り付ける工程と、
前記接着シートを前記保持枠に沿って切断し、前記基板構造体と前記保持枠とを固定する第1接着シートと、前記第1接着シートから切り離された第2接着シートとに分離する工程と、
前記第2接着シートを、前記保持枠から引き剥がす工程と、
前記第2接着シートを、前記保持枠から引き剥がした後、前記固定手段が前記保持枠を固定する固定力を前記第1の固定力よりも小さい第2の固定力としてから前記保持枠を前記基板構造体とともに取り出して搬送する工程と、
前記基板構造体を前記保持枠に固定した状態で個片化する工程とが含まれ、
前記固定手段は前記保持枠を載置する前記ステージの前記保持枠と対向する面に配置された複数の電磁石であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Having a step of dividing a substrate structure having a substrate into pieces,
In the step of dividing the substrate structure into pieces,
Preparing a ring-shaped holding frame, placing the substrate structure inside the holding frame, and fixing the holding frame to the stage with a first fixing force by a fixing means using magnetic force;
Bonding the adhesive sheet, the holding frame and the substrate structure;
Cutting the adhesive sheet along the holding frame and separating the first adhesive sheet for fixing the substrate structure and the holding frame, and a second adhesive sheet separated from the first adhesive sheet; ,
Peeling the second adhesive sheet from the holding frame;
After the second adhesive sheet is peeled from the holding frame, the fixing means fixes the holding frame to a second fixing force smaller than the first fixing force, and then the holding frame is moved to the holding frame. A step of taking out and transporting together with the substrate structure;
And a step of separating the substrate structure in a state of being fixed to the holding frame,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the fixing means is a plurality of electromagnets arranged on a surface of the stage on which the holding frame is placed, facing the holding frame.
複数のパッケージ領域を有する基板の前記パッケージ領域のそれぞれに半導体チップを搭載する工程と、
前記基板の前記半導体チップが搭載された主面側の複数の前記パッケージ領域を樹脂成形金型が有する一つのキャビティで一括して覆うことにより樹脂封止して基板構造体とする工程と、
前記基板構造体を個片化する工程とを有し、
前記基板構造体を個片化する工程には、
(a)リング状の保持枠を準備し、前記保持枠の内側に前記基板構造体を配置した後、磁力を用いた固定手段により前記保持枠を第1の固定力でステージに固定する工程と、
(b)接着シートと、前記保持枠および前記基板構造体とを貼り付ける工程と、
(c)前記接着シートを前記保持枠に沿って切断し、前記基板構造体と前記保持枠とを固定する第1接着シートと、前記第1接着シートから切り離された第2接着シートとに分離する工程と、
(d)前記第2接着シートを、前記保持枠から引き剥がす工程と、
(e)前記(d)工程の後、前記固定手段が前記保持枠を固定する固定力を前記第1の固定力よりも小さい第2の固定力としてから前記保持枠を前記基板構造体とともに取り出して搬送する工程と、
(f)前記基板構造体を前記保持枠に固定した状態で個片化する工程とが含まれることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Mounting a semiconductor chip on each of the package regions of the substrate having a plurality of package regions;
A step of encapsulating a plurality of the package regions on the main surface side of the substrate on which the semiconductor chip is mounted with a single cavity of a resin mold to form a substrate structure by resin sealing;
A step of separating the substrate structure,
In the step of dividing the substrate structure into pieces,
(A) preparing a ring-shaped holding frame, arranging the substrate structure inside the holding frame, and then fixing the holding frame to the stage with a first fixing force by a fixing means using magnetic force; ,
(B) a step of attaching the adhesive sheet, the holding frame and the substrate structure;
(C) The adhesive sheet is cut along the holding frame, and separated into a first adhesive sheet that fixes the substrate structure and the holding frame, and a second adhesive sheet that is separated from the first adhesive sheet. And a process of
(D) a step of peeling the second adhesive sheet from the holding frame;
(E) After the step (d), the fixing means fixes the holding frame to a second fixing force smaller than the first fixing force, and then the holding frame is taken out together with the substrate structure. And the process of carrying
(F) A method of manufacturing a semiconductor device, including a step of dividing the substrate structure into pieces while being fixed to the holding frame.
JP2008044653A 2008-02-26 2008-02-26 Method of manufacturing semiconductor device Pending JP2009206166A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008044653A JP2009206166A (en) 2008-02-26 2008-02-26 Method of manufacturing semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008044653A JP2009206166A (en) 2008-02-26 2008-02-26 Method of manufacturing semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009206166A true JP2009206166A (en) 2009-09-10

Family

ID=41148173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008044653A Pending JP2009206166A (en) 2008-02-26 2008-02-26 Method of manufacturing semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009206166A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101096506B1 (en) * 2010-09-06 2011-12-20 주식회사 에스엔티 Wafer mounter
JP2013086232A (en) * 2011-10-20 2013-05-13 Murata Mfg Co Ltd Grinding device and grinding method
JP2016198870A (en) * 2015-04-14 2016-12-01 株式会社ディスコ Chuck table
CN107068606A (en) * 2015-11-27 2017-08-18 株式会社迪思科 Processing unit (plant)
CN109920752A (en) * 2019-02-28 2019-06-21 厦门信达光电物联科技研究院有限公司 A kind of cutting technique

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101096506B1 (en) * 2010-09-06 2011-12-20 주식회사 에스엔티 Wafer mounter
JP2013086232A (en) * 2011-10-20 2013-05-13 Murata Mfg Co Ltd Grinding device and grinding method
JP2016198870A (en) * 2015-04-14 2016-12-01 株式会社ディスコ Chuck table
CN107068606A (en) * 2015-11-27 2017-08-18 株式会社迪思科 Processing unit (plant)
CN107068606B (en) * 2015-11-27 2022-02-18 株式会社迪思科 Processing device
CN109920752A (en) * 2019-02-28 2019-06-21 厦门信达光电物联科技研究院有限公司 A kind of cutting technique

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7563642B2 (en) Manufacturing method of a semiconductor device
JP2000164534A (en) Wafer separating device and its method
US7888179B2 (en) Semiconductor device including a semiconductor chip which is mounted spaning a plurality of wiring boards and manufacturing method thereof
JP2007311378A (en) Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
JP2013038214A (en) Semiconductor device manufacturing method
JP2009206166A (en) Method of manufacturing semiconductor device
KR20140086361A (en) Die bonding method and apparatus
JP2001223229A (en) Resin molding method, metal mold for molding and wiring base material
US8434664B2 (en) Micro-ball loading device and loading method
JP2000012745A (en) Semiconductor package and its manufacture
JP2009289959A (en) Bonder and bonding method
JP2008103390A (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPH11260974A (en) Semiconductor device, and manufacture of semiconductor device
JP2012059829A (en) Peeling device for semiconductor chip, die-bonding apparatus, peeling method for semiconductor chip, and method of manufacturing semiconductor device
JP5286303B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2009070880A (en) Method of manufacturing semiconductor device
KR100564047B1 (en) Wafer level semiconductor device and method of manufacturing the same
JP5054954B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2000091403A (en) Die pick-up method, semiconductor manufacturing device using the same, and manufacture of semiconductor device
JP2009088102A (en) Method of manufacturing semiconductor device
JP4207696B2 (en) Manufacturing method of semiconductor package
JP2001351938A (en) Method and device for manufacturing semiconductor device
US20140239473A1 (en) Wire bonding assembly and method
JP2006237504A (en) Semiconductor chip stripper and process for manufacturing semiconductor device employing it
JP2014049682A (en) Method for manufacturing semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20100528

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712