JP2009199045A - マイクロレンズの製造方法および固体撮像装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロレンズ型をマイクロレンズ形成膜に押し当ててマイクロレンズを形成する工程を有し、マイクロレンズ型10を形成する工程は、型基板11に形成した無機レジスト膜12に対して相対的に2次元走査された露光光Lを該無機レジスト膜12に照射する工程と、無機レジスト膜12の露光した領域をエッチングしてマイクロレンズの反転形状13を形成する工程とを有し、マイクロレンズの反転形状13のプロファイルデータに基づいて、無機レジスト膜12表面からのマイクロレンズの反転形状13の深さに対応させて露光光Lの照射強度を調整する。
【選択図】図1
Description
上記分割された微小素子へ集光するマイクロレンズの用途では、例えば、受光素子をもつカメラの固体撮像素子(CCD)やファクスの読み取り用イメージセンサに対して光電変換素子の有効領域に入射光を集束し光量を有効に利用する手段としての用途がある。
また、二次元に配置された半透過型液晶表示パネルの表示画素に有効に光を集めることにより輝度を高める手段としての用途がある。
上記単品レンズの代替品としてのマイクロレンズの用途では、リア型プロジェクタのレンチキュラレンズの代替品等の用途がある。
次いで、図15(2)に示すように、レジストパターン103を加熱して流動させることにより凸レンズ形状にする。その後、冷却して固化させ、凸レンズ形状のレジストレンズパターン104を得る。
次に、この凸レンズ形状のレジストレンズパターン104とレンズ形成膜102をエッチングする。
その結果、図15(3)に示すように、レンズ形成膜102に上記凸レンズ形状のレジストレンズパターン104(前記図15(2)参照)の形状が転写され、凸レンズ形状のマイクロレンズ105が形成される。
また、レジストパターンを加熱して軟化させ流動化させたとき、隣接したレジストパターン同士が接触した場合には、表面張力により滑らかにつながり、レンズ形状が歪むという問題が発生する。このため、互いに連結したマイクロレンズアレイを作成することが困難であった。
また、上記のようなマイクロレンズアレイに対して、レンズ毎に形状の変化を持たせる方法として、レンズ型の押し当ての圧力を非等方にすることによって達成している技術が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。
前者の方法では、電子ビーム露光という大掛かりな装置が必要であるという問題点があり、後者の方法では、任意形状のマイクロレンズを形成する点で自由度が低く、今後のマイクロレンズの微小化に対しては適用が難しいという問題点がある。
したがって、所望のマイクロレンズの反転形状を得ることが可能になる。
また、エッチングでは、エッチング条件を制御することにより、マイクロレンズの反転形状の深さを制御することが可能になる。
また、エッチングでは、エッチング条件を制御することにより、マイクロレンズの反転形状の深さを制御することが可能になる。
よって、マイクロレンズによる集光特性の向上が図れるという利点がある。
また、露光に電子線を用いることなく、光露光を用いることから、露光装置のコストの低減、製造工程のコストの低減が図れる。
本発明の固体撮像装置の製造方法は、本発明のマイクロレンズの製造方法を用いてマイクロレンズを形成するため、所望の形状のマイクロレンズを形成することができるので、マイクロレンズによる集光特性の向上が図れるという利点がある。
また、露光に電子線を用いることなく、光露光を用いることから、露光装置のコストの低減、製造工程のコストの低減が図れる。
なお、図1(2)〜(5)では、型基板11の図示は省略した。
なお、上記露光光Lには、例えば波長が405nmの半導体レーザ光を用いる。この露光光Lは、上記レーザ光に限定されることはなく、無機レジスト12の種類によって、波長、レーザ発振の種類は適宜選択される。例えば、固体レーザの高調波を用いることもできる。
次に、型基板11をY軸方向に1ステップ移動させ、第2列の位置に固定する。そして、X軸方向に露光光Lを走査して無機レジスト膜12に照射する。
このように、型基板11を1ステップずつ移動させては固定し、露光光LをX軸方向に走査して無機レジスト膜12に照射することを、例えばm回繰り返す。ここで、mは、マイクロレンズの大きさによって適宜設定されるY軸方向のステップ数である。
例えば、X軸方向の分割数をnとすれば、nは上記マイクロレンズの反転形状において、Y軸方向のある1列に対するX軸方向のプロファイルデータ数に対応する。
例えば、1回の露光光Lの走査において、プロファイルデータ数がi個の場合には、n=i回、露光光の強度が調整されることになる。
このプロファイルデータマップに対応させて、露光のパワー階調マップを形成する。
例えば、図2に示すような、露光のパワー階調マップを形成する。
なお、X軸方向、Y軸方向ともに、パワーデータが「0」の行および列には露光光Lの照射は行わない。露光光Lの照射では、例えば、露光のパワー階調の数値が大きくなるほど、照射強度を強くする。
この結果、図1(3)に示すように、上記無機レジスト膜12はレーザ光照射よる熱化学反応により露光光Lを照射した部分で結晶化が進み、そして膨潤し、膜に微細な隙間ができる。
この結果、図1(4)に示すように、上記無機レジスト膜12にマイクロレンズの反転形状13が形成される。
例えば、無機レジスト膜12にタングステン酸化物を用いた場合、マイクロレンズの反転形状の側壁部分が立った状態に形成されやすくなり、アスペクト比が取れるエッチング加工が可能になる。例えば、無機レジスト膜12の表面から100nm程度の深さまでマイクロレンズの反転形状を得るための露光が可能になる。
また、無機レジスト膜12にモリブデン酸化物を用いた場合、マイクロレンズの反転形状の側壁部分が緩やかに傾斜した状態に形成されやすくなる。
さらに、無機レジスト膜12にタングステンとモリブデンの合金の酸化物を用いた場合には、その混合比を調整することによって、マイクロレンズの反転形状の側壁部分の傾斜を調整することが可能になる。
上記無機レジスト膜12を用いたプロセスは、相変化マスタリング(PTM:Phase Transition Mastering)技術を応用したものであり、光照射によって無機レジスト膜12のハーフトーンの深さ制御ができる点でマイクロレンズの形成に適している。
したがって、1回の型押しによって、複数のマイクロレンズを形成することが可能になる。
上記ビーム整形部35は、例えばビーム整形プリズムで構成されている。
上記ガルバノミラー36は、例えばガルバノ駆動部38によって、角度が変えられるようになっている。これによって、露光光Lが照射面に対して走査される。
また、露光光Lの照射面には被照射物(例えば上記型基板に形成した無機レジスト膜)を固定するステージ(図示せず)が設けられている。このステージは、X軸方向、Y軸方向に移動可能となっている。
同時に、露光制御部43によって、ラスタースキャンの座標位置に対応した上記数値化されたパワー階調データを取り出し、それをパワー制御信号に変換して光源駆動部33に指令する。光源駆動部33ではパワー制御信号に対応して露光光Lの強度が得られるようになっていて、光源31から露光光Lが発振されるようになっている。
マイクロレンズの反転形状を得るための座標位置は、例えばX軸方向に1024ステップ、Y軸方向に1024ステップに分割されている。その分割数に対応するように、図4(1)に示すように、X軸方向に「0」番地〜「1023」番地、Y軸方向に「0」番地〜「1023」番地に対応するように、上記露光制御部によって、パワー制御信号が決定される。なお、露光光LはX軸方向に走査し、ステージをY軸方向に走査する場合を示した。また図面のZ軸はレーザ光を発信させるための光源駆動部のパワーを示す。
したがって、図5(1)のA部拡大図である図5(2)に示すように、X軸方向の1番地ごとにガルバノ駆動信号によってガルバノミラーを駆動させつつ、その番地に対応したパワー制御信号に変化させる。このことを、X軸方向に「0」番地〜「1023」番地に対して行い、Y軸方向のある番地に対応する露光が完了する。このような露光を、Y軸方向の「0」番地〜「1023」番地まで行うことで、一つのマイクロレンズの反転形状の部分が露光される。
したがって、マイクロレンズ型10に所望のマイクロレンズの反転形状13を得ることが可能になる。
また、エッチングでは、エッチング条件を制御することにより、マイクロレンズの反転形状13の深さを制御することが可能になる。
よって、上記マイクロレンズ型10で形成したマイクロレンズは、設計値に近いもしくいは設計値通りの形状のマイクロレンズになるので、そのマイクロレンズによる集光特性の向上が図れるという利点がある。
また、露光に電子線を用いることなく、光露光を用いることから、露光装置のコストの低減、製造工程のコストの低減が図れる。さらに、露光光Lの強度を直接制御するため、マスクが不要になり、製造工程が簡素化される。
上記露光光Lには、例えば波長が405nmの半導体レーザ光を用いる。この露光光Lは、上記レーザ光に限定されることはなく、無機レジスト12の種類によって、波長、レーザ発振の種類は適宜選択される。例えば、固体レーザの高調波を用いることもできる。
なお、図6(2)〜(5)では、型基板11の図示は省略した。
例えば、露光光Lの光径をはみ出さないように、可動スリット52の開口部53を、例えば、露光光Lの中心に対して、X軸方向、Y軸方向の2次元方向に移動させる。もしくは、露光光Lの中心に対して、偏心させて円運動もしくは楕円運動させる。
これによって、露光光Lを所望のマイクロレンズの反転形状に対応させたビームプロファイルに変調する。
例えば、可動スリット52の開口部53の中心に露光光Lの中心があるときには、露光光の強度分布は例えば強度分布Aとなる。そして可動スリット52を矢印方向(例えばX軸の図面右方向)に可動させることで、露光光Lの強度分布は例えば強度分布Bを得ることができる。
この結果、図6(3)に示すように、上記無機レジスト膜12はレーザ光照射よる熱化学反応により部分的に結晶化が進み、そして膨潤し、膜に微細な隙間ができる。
この結果、図6(4)に示すように、上記無機レジスト膜12にマイクロレンズの反転形状13が形成される。
例えば、無機レジスト膜12にタングステン酸化物を用いた場合、マイクロレンズの反転形状の側壁部分が立った状態に形成されやすくなり、アスペクト比が取れるエッチング加工が可能になる。例えば、無機レジスト膜12の表面から100nm程度の深さまでマイクロレンズの反転形状を得るための露光が可能になる。
また、無機レジスト膜12にモリブデン酸化物を用いた場合、マイクロレンズの反転形状の側壁部分が緩やかに傾斜した状態に形成されやすくなる。
さらに、無機レジスト膜12にタングステンとモリブデンの合金の酸化物を用いた場合には、その混合比を調整することによって、マイクロレンズの反転形状の側壁部分の傾斜を調整することが可能になる。
上記無機レジスト膜12を用いたプロセスは、相変化マスタリング(PTM:Phase Transition Mastering)技術を応用したものであり、光照射によって無機レジスト膜12のハーフトーンの深さ制御ができる点でマイクロレンズの形成に適している。
したがって、1回の型押しによって、複数のマイクロレンズを形成することが可能になる。
上記ビーム整形部35は、例えばビーム整形プリズムで構成されている。
上記可動スリット52は、前記図7によって説明したように、露光光Lがマイクロレンズの反転形状に対応させたビームプロファイル(強度分布)に変調されるように可動するものである。
上記ミラー55は、通常の反射ミラーを用いる。または、露光光Lの照射位置の微調整が行えるように、例えばガルバノミラーとしてもよい。この場合には、図示しないが、ガルバノミラー駆動部が設けられる。
また、露光光Lが照射面には被照射物(例えば上記型基板に形成した無機レジスト膜)を固定するステージ(図示せず)が設けられている。このステージは、X軸方向、Y軸方向に移動可能となっている。
同時に、露光制御部43によって、座標位置に対応した上記パワー変調データを取り出し、それをパワー制御信号に変換して光源駆動部33に指令する。光源駆動部33ではパワー制御信号に対応して露光光Lの強度が得られるように光源31から露光光Lが発振されるようになっている。
上記第2製造方法では、図9に示すように、露光装置50で露光光LをX軸方向、Y軸方向にステップ送りしながらマイクロレンズの反転形状毎に適切なプロファイルでビーム照射することが可能になる。
図9では、図面中央部に示した円形の複数の分布図およびその周囲に示した9個の拡大図が露光光の強度分布を等高線で示し、その梨時模様の濃い部分が露光光Lの強度が高く、梨時模様の薄い部分が露光光Lの強度が低くなっている。このような階調は、露光光Lに対して上記可動スリット52を、例えばX軸方向、Y軸方向に適宜可動させることで得ることができる。
例えば、図10(1)に示すように、例えば斜め入射による結像ポイントのシフト分Δxだけ、レンズ中心をシフトさせればよい。すなわち、図10(2)に示すように、周囲のレンズは、本来のレンズ中心より上記シフト分Δxだけレンズ中心を中央部側にずらして形成される。
したがって、マイクロレンズ型10に所望のマイクロレンズの反転形状13を得ることが可能になる。
また、エッチングでは、エッチング条件を制御することにより、マイクロレンズの反転形状の深さを制御することが可能になる。
よって、上記マイクロレンズ型10で形成したマイクロレンズは、設計値に近いもしくは設計値通りの形状のマイクロレンズになるので、そのマイクロレンズによる集光特性の向上が図れるという利点がある。
また、露光に電子線を用いることなく、光露光を用いることから、露光装置のコストの低減、製造工程のコストの低減が図れる。さらに、露光光Lの強度を直接制御するため、マスクが不要になり、製造工程が簡素化される。
よって、集光特性に優れたマイクロレンズ82を形成することができるので、固体撮像装置70の感度を向上させることができる。
半透過型液晶表示パネルのバックライトの輝度の向上を目的としたマイクロレンズが挙げられる。また、液晶表示装置などの余り輝かない表示装置内の画素の周りの区域内に光を集めることによって輝度を強めるためのマイクロレンズが挙げられる。
発光装置または受光装置を光ファイバに結合するための集束手段としてのマイクロレンズが挙げられる。
単品レンズの代替品として、液晶プリンタまたはLEDプリンタによって印刷される感光媒体上の像を形成するための手段としてのマイクロレンズが挙げられる。
リア型プロジェクタ用のレンズ、レンチキュラレンズを備えた従来のリア型プロジェクタでは、左右の視野角が大きいが、上下の視野角が小さい問題を解決するためのマイクロレンズが挙げられる。
レンズシャッタ−カメラの自動焦点検出に用いる焦点板として、例えば規則正しい形状のレンズ配置によって入射光が均等に拡散され、焦点ずれを精度良く制御することができるようにするマイクロレンズが挙げられる。
その他、光情報を処理するためのフィルタとしてのマイクロレンズが挙げられる。
光ピックアップ用素子として、例えばレーザディスク、コンパクトディスクまたは光磁気ディスクなどの光ピックアップ手段に用いるマイクロレンズが挙げられる。
Claims (8)
- マイクロレンズの反転形状が形成されたマイクロレンズ型を基板上に形成されたマイクロレンズ形成膜に押し当てて、前記マイクロレンズの反転形状をマイクロレンズ形成膜に転写してマイクロレンズを形成する工程を有し、
前記マイクロレンズ型を形成する工程は、
型基板に形成した無機レジスト膜に対して相対的に2次元走査された露光光を該無機レジスト膜に照射する工程と、
前記無機レジスト膜の露光した領域をエッチングして前記マイクロレンズの反転形状を形成する工程とを有し、
前記マイクロレンズの反転形状のプロファイルデータに基づいて、前記無機レジスト膜表面からの前記マイクロレンズの反転形状の深さに対応させて前記露光光の照射強度を調整する
マイクロレンズの製造方法。 - 前記無機レジスト膜に対して相対的に露光光を2次元走査する方法は、
前記露光光をX軸方向に走査することを、
前記無機レジスト膜が形成された型基板を前記X軸に対して直交するY軸方向に移動するごとに行う
請求項1記載のマイクロレンズの製造方法。 - 前記マイクロレンズの反転形状の深さを前記無機レジスト膜のエッチング条件で制御する
請求項1記載のマイクロレンズの製造方法。 - 前記無機レジスト膜に複数の前記マイクロレンズの反転形状を形成する
請求項1記載のマイクロレンズの製造方法。 - マイクロレンズの反転形状が形成されたマイクロレンズ型を基板上に形成されたマイクロレンズ形成膜に押し当てて、前記マイクロレンズの反転形状をマイクロレンズ形成膜に転写してマイクロレンズを形成する工程を有し、
前記マイクロレンズ型を形成する工程は、
型基板に形成した無機レジスト膜に露光光を照射する工程と、
前記無機レジスト膜の露光した領域をエッチングして前記マイクロレンズの反転形状を形成する工程を有し、
前記露光光を照射するとき、前記露光光の光路に挿入した空間変調器によって前記マイクロレンズの反転形状に対応させたビームプロファイルに露光光を変調する
マイクロレンズの製造方法。 - 前記無機レジスト膜に複数の前記マイクロレンズの反転形状を形成する
請求項5記載のマイクロレンズの製造方法。 - 入射光を光電変換する受光部を有し、前記受光部の前記入射光が入射する側に、前記入射光を前記受光部に集光するマイクロレンズを形成する工程を有し、
前記マイクロレンズは、前記マイクロレンズの反転形状が形成されたマイクロレンズ型を前記受光部の前記入射光が入射する側に形成されたマイクロレンズ形成膜に押し当てて、前記マイクロレンズの反転形状をマイクロレンズ形成膜に転写して形成され、
前記マイクロレンズ型を形成する工程は、
型基板に形成した無機レジスト膜に対して相対的に2次元走査された露光光を該無機レジスト膜に照射する工程と、
前記無機レジスト膜の露光した領域をエッチングして前記マイクロレンズの反転形状を形成する工程を有し、
前記マイクロレンズの反転形状のプロファイルデータに基づいて、前記無機レジスト膜表面からの前記マイクロレンズの反転形状の深さに対応させて前記露光光の照射強度を調整する
固体撮像装置の製造方法。 - 入射光を光電変換する受光部を有し、前記受光部の前記入射光が入射する側に、前記入射光を前記受光部に集光するマイクロレンズを形成する工程を有し、
前記マイクロレンズは、前記マイクロレンズの反転形状が形成されたマイクロレンズ型を前記受光部の前記入射光が入射する側に形成されたマイクロレンズ形成膜に押し当てて、前記マイクロレンズの反転形状をマイクロレンズ形成膜に転写して形成され、
前記マイクロレンズ型は、
型基板に形成した無機レジスト膜に露光光を照射する工程と、
前記無機レジスト膜の露光した領域をエッチングして前記マイクロレンズの反転形状を形成する工程により形成され、
前記露光光を照射するとき、前記露光光の光路に挿入した空間変調器によって前記マイクロレンズの反転形状に対応させたビームプロファイルに露光光を変調する
固体撮像装置の製造方法。
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