JP2009195881A - フッ化フェノール含有排水の処理方法 - Google Patents

フッ化フェノール含有排水の処理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009195881A
JP2009195881A JP2008043177A JP2008043177A JP2009195881A JP 2009195881 A JP2009195881 A JP 2009195881A JP 2008043177 A JP2008043177 A JP 2008043177A JP 2008043177 A JP2008043177 A JP 2008043177A JP 2009195881 A JP2009195881 A JP 2009195881A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
ozone
liquid contact
waste water
wastewater
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008043177A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Fukada
幸士 深田
Takashi Kono
孝 河野
Itaru Takeda
至 竹田
Eirei Hayashida
英麗 林田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Precision Products Co Ltd
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Precision Products Co Ltd
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Precision Products Co Ltd, Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Precision Products Co Ltd
Priority to JP2008043177A priority Critical patent/JP2009195881A/ja
Publication of JP2009195881A publication Critical patent/JP2009195881A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

【課題】排水のフッ化フェノール濃度を容易に低減できる排水処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る排水処理方法は、オゾンを用いてフッ化フェノール含有排水を処理するものであって、排水と、当該排水に含まれるフッ化フェノール1モルに対して0.1〜30モルのオゾンと、を接触させる工程を備えることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

フッ化フェノールを含有する排水を処理する方法に関する。
ダイオキシン類やハロゲン化フェノールなどの難分解性化合物を含有する排水の処理方法として、排水中にオゾンを導入した後、更に過酸化水素水を添加したり、紫外線を照射するといった処理を行う方法が知られている(例えば、特許文献1)。このような方法では、ヒドロキシラジカルによって排水中の難分解性化合物が分解処理される。
特開2001−129572号公報
ところで、石油化学製品などを製造する工場からは、フッ化フェノールを含有する排水が生じる場合がある。このフッ化フェノール濃度が高いと、排水中のフェノール類濃度の上限を規定した規制値を遵守できない可能性がある。
上述のように、ダイオキシン類やハロゲン化フェノールなどの難分解性化合物の分解処理方法については種々の分解処理方法の検討がなされている。しかしながら、ハロゲン化フェノールのうち、フッ化フェノールの分解性及びその効率的な処理方法についてはこれまで十分に検討がなされておらず、フッ化フェノール含有排水の処理は、一般に、活性炭による吸着方式を採用した処理設備で行われている。しかし、活性炭を用いた処理設備は、設置コスト及びランニングコスト共に高く、より効率的な処理方法が求められている。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、排水のフッ化フェノール濃度を容易に低減できる排水処理方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、排水に含まれるフッ化フェノールの分解性について検討したところ、フッ化フェノールは、ハロゲン化フェノールに分類されているにも関わらず、オゾンとともに過酸化水素や紫外線を用いなくても、オゾンとの接触によって分解するとの知見を得た。この知見に基づき、その効率的な処理方法について更に検討した結果、排水のフッ化フェノール含有量に対して所定量のオゾンを注入することによって、フッ化フェノールの濃度を十分に低減できることを見出し、下記の本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、フッ化フェノールを含有する排水の処理方法であって、排水と、当該排水に含まれるフッ化フェノール1モルに対して0.1〜30モルのオゾンと、を接触させる工程を備える。
本発明によれば、排水とオゾンとを接触させるという比較的簡易なプロセスによって排水のフッ化フェノール濃度を十分に低減できる。したがって、オゾンとともに過酸化水素水や紫外線を用いる方法、並びに、活性炭を用いる方法と比較すると、効率的な処理を実現でき、設置コスト及びランニングコストを削減できる。
本発明においては、排水を貯留する気液接触槽内にオゾン含有ガスを導入することにより、排水とオゾンとを接触させることが好ましい。このような散気方式を採用することで、フッ化フェノールとオゾンとが気液接触槽内において十分に接触し、フッ化フェノールを十分に分解できる。この場合、気液接触槽における排水の滞留時間は、フッ化フェノール濃度の低減化を効率的に実施する観点から、5〜120分であることが好ましい。
また、本発明においては、連結管で直列に接続された複数の気液接触槽内で排水とオゾン含有ガスとを気液接触させて、上流側の気液接触槽からの処理水を下流側の気液接触槽内で更に処理してもよい。このような複数の気液接触槽でフッ化フェノールの分解処理を行うことで、排水のフッ化フェノール濃度をより一層低減できる。この場合、複数の気液接触槽における排水の合計滞留時間は、フッ化フェノール濃度の低減化を効率的に実施する観点から、5〜120分であることが好ましい。
更に、本発明においては、排水を移送している移送管内にオゾン含有ガスを導入することにより、排水とオゾンとを接触させてもよい。このようなエジェクタ方式を採用すれば、気液接触槽などを別途配置しなくてもよいため、処理施設の省スペース化を実現できる。
本発明によれば、排水のフッ化フェノール濃度を容易に低減できる。
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、同一要素には同一符号を用い、重複する説明は省略する。
まず、図1を参照し、本発明の実施形態について説明する。図1に示す排水処理装置10は、フッ化フェノール含有排水を処理するための装置であり、排水貯槽1、第1気液接触槽2、第2気液接触槽3、オゾン供給源4、排オゾン分解塔5、オゾンモニタ6及びこれらを連結する配管(以下、場合により「ライン」という。)などを備えている。
排水貯槽1は、分解処理すべきフッ化フェノールを含有する排水を貯留するための槽である。この排水貯槽1には、排水を排水貯槽1に供給する排水供給ラインL1及び槽内の排水を第1気液接触槽2に移送する排水移送ラインL2が接続されている。この排水移送ラインL2の途中には、排水を第1気液接触槽2に供給するためのポンプP1が配設されている。
第1気液接触槽2は、排水貯槽1から供給された排水中にオゾン含有ガスを注入してフッ化フェノールの一次分解処理を行うための槽である。第1気液接触槽2内の下部には散気管2aが配設され、この散気管2aには、オゾン供給ラインL5を経てオゾン供給源4が接続されている。散気管2aとしては、例えば、多孔質セラミックなどを用いて形成されたものを使用できる。
第1気液接触槽2の下部には、後段の第2気液接触槽3に一次処理水を移送するための処理水移送ライン(連結管)L3が接続されている。一方、第1気液接触槽2の上部には、当該槽内のガスを排出して排オゾン分解塔5へと移送するための排ガス移送ラインL6が接続されている。
第2気液接触槽3は、処理水移送ラインL3を通じて第1気液接触槽2から供給された一次処理水に再びオゾン含有ガスを注入してフッ化フェノールの二次分解処理を行うための槽である。第2気液接触槽3内の下部には散気管3aが配設され、この散気管3aには、オゾン供給ラインL5a,L5を経てオゾン供給源4が接続されている。散気管3aとしては、散気管2aと同様、多孔質セラミックなどを用いて形成されたものを使用できる。
第2気液接触槽3の下部には、二次処理水を排出するための処理水排出ラインL4が接続されている。一方、第2気液接触槽3の上部には、当該槽内のガスを排出して排オゾン分解塔5へと移送するための排ガス移送ラインL6aが接続されている。この排ガス移送ラインL6aは排ガス移送ラインL6に連結されており、第2気液接触槽3からの排ガスは、第1気液接触槽2からの排ガスとともに排オゾン分解塔5へと導入されるようになっている。
オゾン供給源4は、第1気液接触槽2及び第2気液接触槽3にオゾン含有ガスを供給するためのものである。オゾン供給源4からのオゾン含有ガスは、オゾン供給ラインL5,L5aを通じて第1気液接触槽2内の散気管2a及び第2気液接触槽3内の3aにそれぞれ供給される。
オゾン供給源4としては、空気中の酸素をオゾン化してオゾン化空気(オゾン含有ガス)を製造するものであってもよく、空気から酸素を分離してこれをオゾン化してオゾンと酸素との混合ガス(オゾン含有ガス)を製造するものであってもよい。オゾン化空気のオゾンガス濃度は、通常、10〜50g/m(N)であるのに対し、空気から分離された酸素をオゾン化して得られる混合ガスのオゾンガス濃度は、通常、50〜210g/m(N)である。
オゾンガス濃度が高いオゾン含有ガスを用いると、フッ化フェノールの酸化分解の反応速度が高まることから、オゾン供給源4としては、オゾン含有ガスの原料ガスとして酸素濃度の高いガスを製造可能な装置を具備したオゾン供給装置を用いることが好ましい。かかるオゾン供給装置としては、空気圧縮機と、PSA(Pressure Swinging Adsorption)方式の酸素発生器と、これによって得た酸素に高周波高電圧を印加して無声放電を発生させて酸素をイオン化するオゾン発生器とを備えたものを例示でき、市販のものとしては、住友精密工業株式会社製のSGAシリーズ(機種名)を例示できる。かかる装置のオゾン発生器によれば、放電量を調整することにより、オゾン含有ガスのオゾンガス濃度を調整することができる
排オゾン分解塔5は、第1気液接触槽2及び第2気液接触槽3からの排ガスに含まれる残存オゾンを分解して無害化するための装置である。排オゾン分解塔5の内部には充填材層5aが配設されており、充填材層5a内においてオゾンが酸素となり無害化される。排オゾン分解塔5の上部には、無害化された排ガスを排出するための排気ラインL7が接続されている。
オゾンモニタ6は、第1気液接触槽2からの排ガス及び第2気液接触槽3からの排ガスの混合ガス中に含まれる残存オゾン濃度を測定し、その結果に基づいてオゾン供給源4で発生させるオゾン含有ガスのオゾンガス濃度を自動的に調整するためのものである。オゾンモニタ6とオゾン供給源4との連動によって、過剰なオゾン供給を防止すると共に、排ガスの残存オゾン濃度が排オゾン分解塔5での分解処理に適した範囲内となるように調整する。
以下、排水処理装置10で行われる排水処理の方法について説明するが、その説明に先立ち、排水処理装置10で処理される排水及びこの処理に用いるオゾン含有ガスについて説明する。
排水供給ラインL1を通じて排水貯槽1に供給されるフッ化フェノール含有排水としては、例えば、石油化学製品などを製造するプラントからの排水が挙げられる。排水処理装置10によって処理する排水は、効率的にフッ化フェノールの分解処理を行う観点から、フッ化フェノール濃度が1〜100mg/Lであることが好ましい。
排水処理装置10で処理可能なフッ化フェノールは、フルオロフェノール(CFO)、ジフルオロフェノール、トリフルオロフェノール、テトラフルオロフェノール、ペンタフルオロフェノールである。
フッ化フェノール含有排水の処理に用いるオゾン含有ガスは、オゾンガス濃度が10〜200g/m(N)であることが好ましく、オゾン含有ガスの製造に係る経済性を考慮すると、20〜150g/m(N)であることがより好ましく、50〜150g/m(N)であることが更に好ましい。
オゾン含有ガスの高いオゾンガス濃度を達成しやすいため、オゾン含有ガスの原料ガスとして、酸素濃度の高いガスを用いることが好ましい。
次に、フッ化フェノール含有排水の処理方法について説明する。
本実施形態においては、排水貯槽1に貯留された排水が第1気液接触槽2に供給されてから、第2気液接触槽3から排出されるまでの時間、すなわち、第1気液接触槽2及び第2気液接触槽3の合計滞留時間の間に、下記の通り、排水と、所定量のオゾンとを接触させる。
第1気液接触槽2及び第2気液接触槽3において排水と接触させるオゾンの合計モル数Mと、排水に含まれるフッ化フェノールのモル数Mとの比率(M/M)は、0.1〜30である。フッ化フェノールを十分に分解処理する観点から、当該比率の下限値は、1であることが好ましく、1.5であることがより好ましい。一方、処理装置のランニングコストの観点から、当該比率の上限値は、15であることが好ましく、6であることがより好ましい。
排水と接触させるオゾンの合計質量は、排水のフッ化フェノール濃度、使用するオゾン含有ガスのオゾンガス濃度、単位時間あたりの散気量、気液接触槽2,3における排水の滞留時間などに応じて上記範囲内で適宜調整すればよい。
第1気液接触槽2内において排水の一次処理を行う。すなわち、排水貯槽1に貯留された排水を、ポンプP1によって排水移送ラインL2を通じて第1気液接触槽2に供給しながら、第1気液接触槽2内の排水に散気管2aからオゾン含有ガスを散気して排水とオゾン含有ガスとを気液接触させる。第1気液接触槽2における排水の滞留時間は、フッ化フェノールの効率的な分解処理を実現する観点から、5〜60分であることが好ましく、5〜30分であることがより好ましい。
次に、第2気液接触槽3内において一次処理がなされた排水の二次処理を行う。すなわち、処理水移送ラインL3を通じて第2気液接触槽3に導入し、第2気液接触槽3内の一次処理水に散気管3aからオゾン含有ガスを散気して一次処理排水とオゾン含有ガスとを気液接触させる。第2気液接触槽3における排水の滞留時間は、フッ化フェノールの効率的な分解処理を実現する観点から、5〜60分であることが好ましく、5〜30分であることがより好ましい。
第1気液接触槽2及び第2気液接触槽3における排水の合計滞留時間は、5〜120分であることが好ましく、5〜60分であることがより好ましく、5〜30分であることが更に好ましい。合計滞留時間が5分未満であるとフッ化フェノールの分解処理が不十分となりやすく、他方、120分を越えると、内容積が大きい気液接触槽2,3を要するため設備コストが増大しやすい。
なお、第2気液接触槽3には、第1気液接触槽2において一次処理がなされた排水が供給されるため、第2気液接触槽3における排水の滞留時間は、第1気液接触槽2のそれよりも短い時間であってもよい。したがって、図1に示すように、第2気液接触槽3内には第1気液接触槽2に収容される排水量よりも少量の被処理水が収容されるようになっている。
第1気液接触槽2及び第2気液接触槽3からの排ガスに含まれる排オゾンの分解処理を排オゾン分解塔5において行う。排オゾン分解塔5で残存オゾンを無害化した後、排ガスを排気ラインL7から排出する。なお、この排オゾン分解塔5に導入される排ガスの残存オゾン濃度をオゾンモニタ6でモニタリングし、この値に応じてオゾン供給源4で発生させるオゾン含有ガスのオゾンガス濃度を自動的に調整する。
本実施形態に係る処理方法によれば、排水とオゾン含有ガスとを気液接触槽2,3内において気液接触させる散気方式を採用することで、フッ化フェノールとオゾンとが気液接触槽2,3内において十分に接触し、フッ化フェノールを十分に分解できる。また、処理水移送ラインL3によって直列に接続された2つの気液接触槽2,3でフッ化フェノールの分解処理を行うことで、1つの気液接触槽の場合と比較して排水のフッ化フェノール濃度をより一層低減できる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、排水処理装置10としては以下のような形態であってもよい。例えば、上記実施形態においては、2つの気液接触槽2,3を用いてフッ化フェノールの分解処理を行う場合を例示したが、排水のフッ化フェノール濃度によっては、1つの気液接触槽のみで又は直列に接続された3つ以上の気液接触槽でフッ化フェノールの分解処理を行ってもよい。
また、排水と、所定量のオゾンとを接触させることが可能な態様であれば、排水とオゾン含有ガスとを気液接触させる手段として、気液接触槽2,3に代わりに、例えば、1又は複数の気液接触塔を採用してもよい。あるいは、排水を移送している移送管内にオゾン含有ガスを導入するエジェクタ方式により、排水とオゾン含有ガスとを気液接触させてもよい。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
トリフルオロフェノールを含有する排水とオゾン含有ガスとを気液接触させることにより、トリフルオロフェノールの分解処理を行った。槽内の底部に散気管が配設された気液接触槽に排水を収容し、その散気管にオゾン含有ガスを供給して排水中にオゾンを注入した。
本実施例における処理対象の排水(原水)は、トリフルオロフェノール濃度が19mg/Lであった。オゾン含有ガスとしては、オゾンガスと酸素ガスの混合ガス(オゾンガス濃度:120g/m(N))を使用した。
表1及び図2に、本実施例における排水処理の結果を示す。表中の「オゾン注入時間」は、オゾン含有ガスの散気を開始してからの経過時間である。「オゾン濃度(積算量)」は、散気開始後、気液接触槽内に注入したオゾンの総質量を当該槽内の排水の体積量で除した値である。表中の「M/M」は、散気開始後、気液接触槽内に注入したオゾンの総モル数Mと、原水に含まれていたトリフルオロフェノールのモル数Mとの比率(M/M)である。表中の「トリフルオロフェノール濃度」は、気液接触槽内の排水のトリフルオロフェノール濃度であり、ガスクロマトグラフによって測定した値である。
Figure 2009195881
(実施例2)
トリフルオロフェノール濃度19mg/Lの排水の代わりに、同濃度が3.0mg/Lの排水を気液接触槽内に収容したことの他は、実施例1と同様にしてトリフルオロフェノール含有排水の処理を行った。表2及び図3に、本実施例における排水処理の結果を示す。
Figure 2009195881
(実施例3)
トリフルオロフェノール濃度19mg/Lの排水の代わりに、同濃度が470mg/Lの排水を気液接触槽内に収容したことの他は、実施例1と同様にしてトリフルオロフェノール含有排水の処理を行った。表3及び図4に、本実施例における排水処理の結果を示す。
Figure 2009195881
本発明の処理方法に好適な排水処理装置の実施形態を示すフロー図である。 実施例1における排水処理の結果を示すグラフである。 実施例2における排水処理の結果を示すグラフである。 実施例3における排水処理の結果を示すグラフである。
符号の説明
1…排水貯槽、2…第1気液接触槽、2a…散気管、3…第2気液接触槽、3a…散気管、4…オゾン供給源、5…排オゾン分解塔、6…オゾンモニタ、10…排水処理装置、L3…処理水移送ライン(連結管)。

Claims (6)

  1. フッ化フェノールを含有する排水の処理方法であって、
    前記排水と、前記排水に含まれるフッ化フェノール1モルに対して0.1〜30モルのオゾンと、を接触させる工程を備えることを特徴とする処理方法。
  2. 前記排水を貯留する気液接触槽内にオゾン含有ガスを導入することにより、前記排水とオゾンとを接触させることを特徴とする、請求項1に記載の処理方法。
  3. 前記気液接触槽における前記排水の滞留時間は、5〜120分であることを特徴とする、請求項2に記載の処理方法。
  4. 連結管で直列に接続された複数の気液接触槽内で前記排水とオゾン含有ガスと気液接触させ、上流側の前記気液接触槽からの処理水を下流側の前記気液接触槽内で更に処理することを特徴とする、請求項1に記載の処理方法。
  5. 前記複数の気液接触槽における前記排水の合計滞留時間は、5〜120分であることを特徴とする、請求項4に記載の処理方法。
  6. 前記排水を移送している移送管内にオゾン含有ガスを導入することにより、前記排水とオゾンとを接触させることを特徴とする、請求項1に記載の処理方法。
JP2008043177A 2008-02-25 2008-02-25 フッ化フェノール含有排水の処理方法 Pending JP2009195881A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008043177A JP2009195881A (ja) 2008-02-25 2008-02-25 フッ化フェノール含有排水の処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008043177A JP2009195881A (ja) 2008-02-25 2008-02-25 フッ化フェノール含有排水の処理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009195881A true JP2009195881A (ja) 2009-09-03

Family

ID=41140013

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008043177A Pending JP2009195881A (ja) 2008-02-25 2008-02-25 フッ化フェノール含有排水の処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009195881A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5161166A (en) * 1974-10-22 1976-05-27 Mitsubishi Electric Corp Ozon nyoru haisuishori hoho oyobi sono sochi
JPH0515883A (ja) * 1991-07-11 1993-01-26 Kubota Corp オゾン接触反応槽
JP2005169304A (ja) * 2003-12-12 2005-06-30 Canon Inc 高濃度着色有機排水の処理方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5161166A (en) * 1974-10-22 1976-05-27 Mitsubishi Electric Corp Ozon nyoru haisuishori hoho oyobi sono sochi
JPH0515883A (ja) * 1991-07-11 1993-01-26 Kubota Corp オゾン接触反応槽
JP2005169304A (ja) * 2003-12-12 2005-06-30 Canon Inc 高濃度着色有機排水の処理方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20130140232A1 (en) Method and system for ozone vent gas reuse in wastewater treatment
TWI732970B (zh) 水處理方法及水處理裝置
WO2005077837A1 (ja) 排水処理装置
TWI732969B (zh) 水處理方法及水處理裝置
JP2007075821A (ja) 亜酸化窒素ガスの生物学的処理方法及び装置
JP2001205277A (ja) 水中の難分解性有機化合物の除去方法および装置
JP2006341229A (ja) シアン化合物含有排水の高度処理方法
JP5268699B2 (ja) ジオキサン分解方法及びこれを用いた水処理方法
JP2015226889A (ja) アミン系有機化合物を含む液体の処理方法
JP2009154131A (ja) 嫌気性処理における溶存硫化水素の除去装置
WO2020116655A1 (ja) 水処理制御装置、水処理システム及び水処理装置
CN110759460A (zh) 一种用于污水处理的三段式uv/o3/h2o2高级氧化系统
JP2009195881A (ja) フッ化フェノール含有排水の処理方法
RU2636076C2 (ru) Способ фотохимической очистки воды и устройство для его осуществления
JP2008036571A (ja) 余剰汚泥減溶化装置及び余剰汚泥減溶化方法
JP4249642B2 (ja) 透析施設の水系システムの廃液処理方法
JP2008093558A (ja) 水処理方法及び水処理装置
JP2010024443A (ja) 消化ガスの脱硫方法及び装置
JP4025972B2 (ja) 排水の高度処理方法及び高度処理装置
JP2008272761A (ja) 促進酸化処理装置
JP2005211825A (ja) 生物系廃液の処理装置
JP3769093B2 (ja) 排水の高度処理装置および高度処理方法
CN211497075U (zh) 一种用于污水处理的三段式uv/o3/h2o2高级氧化系统
JP2002126730A (ja) 排水処理装置及び処理方法
KR101136023B1 (ko) 오존재활용 기능을 갖는 오존산화장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101026

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110830

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111027

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20111111

A521 Written amendment

Effective date: 20111111

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120731