JP2009187852A - 荷電粒子線加工装置 - Google Patents
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Abstract
昨今の高速加工を目的とした荷電粒子線装置では、荷電粒子線の電流値の増大化するため、開口を有するマスクの寿命が益々短くなってくる。マスク交換周期が短くなると、荷電粒子線装置のスループットの低下が問題となってくる。本発明の目的は、荷電粒子線加工装置において、照射ビームの電流増加によるマスク寿命の問題を解決し、装置のスループットを向上させることに関する。
【解決手段】
本発明は、開口を有するマスクに、荷電粒子源の加速電圧とアース電位の間の電位を印加することに関する。また、該マスクを電気的に絶縁して配置することに関する。マスクに入射するエネルギーを低下させ、ビームによるマスクの損傷の程度を小さくすることで、長寿命化が可能となる。本発明により、開口部を有するマスクの交換周期が長くなって荷電粒子線装置の安定稼動が実現可能となり、高スループットの荷電粒子線装置を提供することが可能となる。
【選択図】図1
Description
2 イオンビーム
3 イオンビームカラム
4 試料
6 カソード
7 中間電極
8 磁石
9 アノード電極
10 バイアス電極
11 引き出し電極
12A,B,C,D 絶縁物
13 ガス配管
14,49 ガス
15 カソード電源
16 加速電源
17 バイアス電源
18 抵抗器
19 イオン源カバー
20 質量分離器
21,32 偏向器
22 絞り
23 集光レンズ
24 投射マスク
25 マスク保持部材
26 光源制限マスク
27 マスク移動機構
28 電流導入端子
29 ケーブル
30 ブランカー
31 ファラディーカップ
33,68 対物レンズ
34 2段ディフレクター
35 ビーム光軸
36 DC電源
40A〜40E,41A〜41E 開口
41F,G,H スリット状の開口
42 固定ボルト
43 通過ビーム
44 速度
46 カバー
47 カバー固定板
48 ガス通路
50 短軸方向
51 長軸方向
52 ビーム強度
55 LMIS(液体金属イオン源)
56 変色部
57 マイクロサンプル
58 粗加工
59 仕上げ加工
60 メッシュ
61 デポ膜
63 LMIS(液体金属イオン源)
64 加速レンズ
65 コンデンサレンズ
66 可変アパーチャ
67 加工穴
Claims (12)
- 試料を保持する試料ステージと、荷電粒子線発生源と、荷電粒子線の一部を通過させる開口を有するマスクと、を有し、該試料ステージに保持される試料に対して荷電粒子線を照射する荷電粒子線装置において、
荷電粒子発生源の加速電圧とアース電位との間の電位を、該マスクに対して印加することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線加工装置において、
前記マスクを囲むように、荷電粒子線が進行する方向に対して上流側と下流側に、平板のカバーを配置したことを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線加工装置において、
前記開口が円形であり、円形の開口を通過したビームを集束させ、偏向走査することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線加工装置において、
開口を通過したビームを投射し、試料に一括照射することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線加工装置において、
前記マスクが複数種類の開口を有することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項5記載の荷電粒子線加工装置において、
前記マスクが、荷電粒子線の中心部のみを通過させる光源制限マスクと、所定の加工形状と相似形状を有する投射マスクと、を有することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 試料を保持する試料ステージと、荷電粒子線発生源と、荷電粒子線の一部を通過させる開口を有するマスクと、を有し、該試料ステージに保持される試料に対して荷電粒子線を照射する荷電粒子線装置において、
該マスクを電気的に絶縁して配置し、該マスクを所定の電位とすることを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項7記載の荷電粒子線加工装置において、
前記マスクを囲むように、荷電粒子線が進行する方向に対して上流側と下流側に、平板のカバーを配置したことを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項7記載の荷電粒子線加工装置において、
前記開口が円形であり、円形の開口を通過したビームを集束させ、偏向走査することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項7記載の荷電粒子線加工装置において、
開口を通過したビームを投射し、試料に一括照射することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線加工装置において、
前記マスクが複数種類の開口を有することを特徴とする荷電粒子線加工装置。 - 請求項11記載の荷電粒子線加工装置において、
前記マスクが、荷電粒子線の中心部のみを通過させる光源制限マスクと、所定の加工形状と相似形状を有する投射マスクと、を有することを特徴とする荷電粒子線加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008028302A JP2009187852A (ja) | 2008-02-08 | 2008-02-08 | 荷電粒子線加工装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008028302A JP2009187852A (ja) | 2008-02-08 | 2008-02-08 | 荷電粒子線加工装置 |
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JP2009187852A true JP2009187852A (ja) | 2009-08-20 |
Family
ID=41070884
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JP2008028302A Pending JP2009187852A (ja) | 2008-02-08 | 2008-02-08 | 荷電粒子線加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2009187852A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS535962A (en) * | 1976-07-06 | 1978-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electron microscope |
JPH09186138A (ja) * | 1996-01-08 | 1997-07-15 | Hitachi Ltd | イオンビーム加工装置 |
-
2008
- 2008-02-08 JP JP2008028302A patent/JP2009187852A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS535962A (en) * | 1976-07-06 | 1978-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electron microscope |
JPH09186138A (ja) * | 1996-01-08 | 1997-07-15 | Hitachi Ltd | イオンビーム加工装置 |
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