JP2009187687A - Method of manufacturing transparent conductive film, touch panel which has film obtained by the method, and display device which has the touch panel - Google Patents

Method of manufacturing transparent conductive film, touch panel which has film obtained by the method, and display device which has the touch panel Download PDF

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JP2009187687A
JP2009187687A JP2008023482A JP2008023482A JP2009187687A JP 2009187687 A JP2009187687 A JP 2009187687A JP 2008023482 A JP2008023482 A JP 2008023482A JP 2008023482 A JP2008023482 A JP 2008023482A JP 2009187687 A JP2009187687 A JP 2009187687A
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Miya Fujita
美弥 藤田
Masanori Suzuki
昌則 鈴木
Taketo Sato
壮人 佐藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a transparent conductive film in which a crystallized transparent conductive layer can be formed on a base material film, which has high strength, and is superior in mechanical durability, to provide a touch panel having the film obtained by this method, and to provide a display device having this touch panel. <P>SOLUTION: This is the method of manufacturing the transparent conductive film in which in a state that the base material film having a cyclic olefin based polymer of a glass transition temperature of 130°C or more is heated to 100°C or more and the temperature obtained by subtracting 20°C from the glass transition temperature or less, the transparent conductive layer is formed by a sputtering method. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、低複屈折、低吸湿、高透明性、高耐熱性等の基本的な特性を有する透明導電性フィルムの製造方法、この方法により得られたフィルムを有するタッチパネルおよびこのタッチパネルを有する表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing a transparent conductive film having basic characteristics such as low birefringence, low moisture absorption, high transparency, and high heat resistance, a touch panel having a film obtained by this method, and a display having the touch panel Relates to the device.

指で押したり、専用ペンで描画したりすると、その部分が対面電極と接触、通電して信号が入力される抵抗膜式タッチパネルは、小型、軽量、薄型化に有利であることから、各種の家電や携帯端末の入力機器として広く用いられている。
抵抗膜式タッチパネルは、図2に示すように、ガラス板10の上に透明導電層13を形成してなる下部電極1の上に、高分子フィルム11に透明導電層14を形成してなる上部電極2を、透明導電層13、14が対面するようにスペーサ15を介して積層したものであり、上部電極2の表示面を指やペンで押すと、上部電極2と下部電極1とが接触して通電し信号が入力される。なお、上部電極2の表面には、高分子フィルム11の保護のためにハードコート層12が設けられている。
When touched with a finger or drawn with a special pen, the resistive touch panel, in which the part comes in contact with the facing electrode and is energized to input signals, is advantageous for miniaturization, light weight, and thinning. Widely used as an input device for home appliances and portable terminals.
As shown in FIG. 2, the resistive touch panel has an upper portion formed by forming a transparent conductive layer 14 on a polymer film 11 on a lower electrode 1 formed by forming a transparent conductive layer 13 on a glass plate 10. The electrode 2 is laminated through the spacer 15 so that the transparent conductive layers 13 and 14 face each other. When the display surface of the upper electrode 2 is pushed with a finger or a pen, the upper electrode 2 and the lower electrode 1 are brought into contact with each other. And energized to input a signal. A hard coat layer 12 is provided on the surface of the upper electrode 2 to protect the polymer film 11.

従来タッチパネルの透明導電層は、一般にDCスパッタリングにより形成されている。このようなタッチパネルでは、指やペンによる入力に伴って、上部電極の透明導電層と下部電極の透明導電層とが接触と非接触とを繰り返すこととなるが、透明導電層の形成材料であるITO(インジウム・スズ酸化物)等の透明導電性材料は、耐擦傷性が低いために、透明導電層のうち、特にタッチパネルの入力時に繰り返し変形を受ける上部電極の透明導電層に亀裂が入り易く、また、同材質の透明導電層同士の接触、非接触で透明導電層が基材である高分子フィルムから剥離して脱落し易いという問題があった。
上部電極の透明導電層が損傷したり、剥離したりすると、透明導電層面の電気抵抗値が変化し、また、その均一性が失われ、電気特性が損なわれることにより、正確な入力を行うことができなくなり、このことがタッチパネルの信頼性を損ない、損傷、欠陥、耐久性低下の原因となっていた。
Conventionally, the transparent conductive layer of a touch panel is generally formed by DC sputtering. In such a touch panel, the transparent conductive layer of the upper electrode and the transparent conductive layer of the lower electrode repeat contact and non-contact with input with a finger or a pen. Since transparent conductive materials such as ITO (indium tin oxide) have low scratch resistance, cracks are likely to occur in the transparent conductive layer of the upper electrode that undergoes repeated deformation, particularly during touch panel input. In addition, there is a problem that the transparent conductive layer is easily peeled off from the polymer film as the base material when the transparent conductive layers of the same material are in contact or non-contact with each other.
If the transparent conductive layer of the upper electrode is damaged or peeled off, the electrical resistance value of the transparent conductive layer will change, and its uniformity will be lost, and the electrical characteristics will be impaired. This could impair the reliability of the touch panel, causing damage, defects, and a decrease in durability.

なお、タッチパネル用途の透明導電性フィルムの耐久性を向上させる目的で、特開平2−194943号公報には、ITO膜を成膜した後、熱処理(アニール)を施してITOを結晶化させることが記載されている。すなわち、高分子フィルムのような樹脂基板上にITO膜をスパッタリングにより成膜する場合、成膜中に基板を加熱することができないため、成膜されたITO透明導電層はアモルファス状態である。アモルファス膜は、強度が低く、機械的耐久性が要求される用途には使用に耐え得ない。このため、成膜されたITO膜をアニールして結晶化させることにより膜強度を高めることが提案されているが、透明導電性フィルムの基材が高分子フィルムである場合には、比較的低い温度で長い時間でのアニールが必要となり、生産性、コストの面で問題があった。   For the purpose of improving the durability of a transparent conductive film for touch panel use, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-194943 discloses that after forming an ITO film, heat treatment (annealing) is performed to crystallize the ITO. Are listed. That is, when an ITO film is formed on a resin substrate such as a polymer film by sputtering, the substrate cannot be heated during the film formation, so the formed ITO transparent conductive layer is in an amorphous state. Amorphous films have low strength and cannot be used for applications that require mechanical durability. For this reason, it has been proposed to increase the film strength by annealing and crystallizing the formed ITO film, but it is relatively low when the substrate of the transparent conductive film is a polymer film. There was a problem in terms of productivity and cost because annealing for a long time at temperature was required.

特開平2−194943号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-194943

本発明は上記のような従来技術における問題点を解決するためになされたものであって、高強度で機械的耐久性に優れた透明導電性フィルムを製造しうる方法、この方法により得られたフィルムを用いて製造されるタッチパネルおよびこのタッチパネルを有する表示装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems in the prior art, and is a method capable of producing a transparent conductive film having high strength and excellent mechanical durability, obtained by this method. It aims at providing the touchscreen manufactured using a film, and the display apparatus which has this touchscreen.

本発明の透明導電性フィルムの製造方法は、ガラス転移温度が130℃以上の環状オレフィン系重合体を有する基材フィルムを、100℃以上、上記ガラス転移温度−20℃以下の温度に加熱した状態で、スパッタリングにより透明導電層を形成することを特徴とする。
本発明の製造方法においては、基材フィルムが、環状オレフィン系重合体フィルムとハードコート層とを有する積層フィルムであることが好ましい。
本発明に係るタッチパネルは、上記の方法で得られた透明導電性フィルムを少なくとも一方の透明電極として製造されることを特徴としている。
本発明に係る表示装置は、上記記載のタッチパネルを表示面側に有することを特徴としている。
In the method for producing a transparent conductive film of the present invention, a substrate film having a cyclic olefin polymer having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher is heated to a temperature of 100 ° C. or higher and the glass transition temperature of −20 ° C. or lower. The transparent conductive layer is formed by sputtering.
In the production method of the present invention, the base film is preferably a laminated film having a cyclic olefin polymer film and a hard coat layer.
The touch panel according to the present invention is characterized in that the transparent conductive film obtained by the above method is manufactured as at least one transparent electrode.
A display device according to the present invention has the touch panel described above on the display surface side.

本発明によれば、低複屈折、低吸湿、高透明性、高耐熱性、機械的耐久性等の基本的な特性を確保した透明性導電フィルムを提供することができる。
本発明によれば、前記ハードコート層の上に透明導電層を積層することにより、上記特性の全てを満足し、特にタッチパネル用透明電極として用いた場合に、鮮明な画像が得られ、かつ耐久性に優れた導電性透明フィルムを提供することができる。
さらに本発明によれば、低複屈折、低吸湿、高透明性、高耐熱性、機械的耐久性等に優れ、かつ、透明性を確保し、いわゆる白ぼけ、黒浮きというような部分的な表示むらを防止しながらニュートンリングを有効に防止し、かつ、画像のちらつき、ギラツキという現象を防止した良好な写像性を十分に発揮して鮮明な画像が得られるタッチパネルおよび表示装置を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the transparent conductive film which ensured basic characteristics, such as low birefringence, low moisture absorption, high transparency, high heat resistance, and mechanical durability, can be provided.
According to the present invention, by laminating a transparent conductive layer on the hard coat layer, all of the above characteristics are satisfied, and particularly when used as a transparent electrode for a touch panel, a clear image is obtained and durable. A conductive transparent film having excellent properties can be provided.
Furthermore, according to the present invention, low birefringence, low moisture absorption, high transparency, high heat resistance, mechanical durability, etc. are excellent, and transparency is ensured. To provide a touch panel and a display device that can effectively display Newton's ring while preventing display unevenness, and exhibit a satisfactory image clarity that prevents the phenomenon of image flickering and glare to obtain a clear image. Can do.

以下、本発明に係る透明導電性フィルムの製造方法について具体的に説明する。
本発明に係る透明導電性フィルムの製造方法においては、ガラス転移温度が130℃以上の環状オレフィン系重合体を有する基材フィルムを、100℃以上、上記ガラス転移温度−20℃以下の温度に加熱した状態で、スパッタリングにより透明導電層を形成する。
本発明に用いられる基材フィルムとしては、環状オレフィン系重合体フィルムか、環状オレフィン系重合体フィルムとハードコート層との積層フィルムが好ましいものとして挙げられ、中でも環状オレフィン系重合体フィルムとハードコート層との積層フィルムが好ましい。
Hereinafter, the manufacturing method of the transparent conductive film which concerns on this invention is demonstrated concretely.
In the method for producing a transparent conductive film according to the present invention, a base film having a cyclic olefin polymer having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher is heated to a temperature of 100 ° C. or higher and the glass transition temperature of −20 ° C. or lower. In this state, a transparent conductive layer is formed by sputtering.
Examples of the base film used in the present invention include a cyclic olefin polymer film or a laminated film of a cyclic olefin polymer film and a hard coat layer. Among them, a cyclic olefin polymer film and a hard coat are particularly preferable. Laminated films with layers are preferred.

[環状オレフィン系重合体]
本発明で用いられる基材フィルムを形成する環状オレフィン系重合体は、ノルボルネン構造を有するモノマーと必要に応じて加えられた他の重合性モノマーとを、開環重合したり付加重合したりして得られるポリマーであり、下記式(1)で表される環状オレフィン化合物(以下、「特定単量体」ともいう)に由来する繰り返し単位を少なくとも1種以上含む重合体が好ましい。耐熱性に優れる環状オレフィン系重合体を基材フィルムに用いることから、高温でスパッタリングを行うことが可能になり、結晶性の高い透明導電層を形成することができる。
[Cyclic olefin polymer]
The cyclic olefin polymer forming the base film used in the present invention is obtained by ring-opening polymerization or addition polymerization of a monomer having a norbornene structure and another polymerizable monomer added as necessary. A polymer that is obtained and is preferably a polymer containing at least one repeating unit derived from a cyclic olefin compound represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as “specific monomer”). Since a cyclic olefin polymer having excellent heat resistance is used for the base film, sputtering can be performed at a high temperature, and a transparent conductive layer having high crystallinity can be formed.

Figure 2009187687
Figure 2009187687

(式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立に水素原子;ハロゲン原子;または酸素、窒素、イオウもしくはケイ素を含有していてもよい1価の有機基を表す。
1とR2、またはR3とR4とが相互に結合してアルキリデン基を形成していてもよく、あるいは、R1とR2、R3とR4、またはR2とR3とが相互に結合して単環または多環の炭素環または複素環を形成してもよい。xは0または1、yは0〜3の整数を表す。)
(In the formula (1), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; or a monovalent organic group that may contain oxygen, nitrogen, sulfur or silicon.
R 1 and R 2 , or R 3 and R 4 may be bonded to each other to form an alkylidene group, or R 1 and R 2 , R 3 and R 4 , or R 2 and R 3 May combine with each other to form a monocyclic or polycyclic carbocyclic or heterocyclic ring. x represents 0 or 1, and y represents an integer of 0 to 3. )

本発明に好適に用いられる環状オレフィン系重合体としては、次のような(共)重合体が挙げられる。
(a)特定単量体と、必要に応じてシクロアルケンなど他のシクロオレフィンとの開環(共)重合体。
(b)上記(a)の開環(共)重合体の水素添加(共)重合体。
(c)特定単量体と、必要に応じて上記他のシクロオレフィン、α−オレフィン等との付加型(共)重合体およびその水素添加(共)重合体。
これらのうち、光学特性および加工性の点から、(b)開環(共)重合体の水素添加(共)重合体が特に好ましい。
Examples of the cyclic olefin polymer suitably used in the present invention include the following (co) polymers.
(A) A ring-opening (co) polymer of a specific monomer and, if necessary, another cycloolefin such as cycloalkene.
(B) A hydrogenated (co) polymer of the ring-opening (co) polymer of (a) above.
(C) Addition (co) polymers of the specific monomer and, if necessary, other cycloolefins, α-olefins and the like, and hydrogenated (co) polymers thereof.
Of these, (b) a hydrogenated (co) polymer of a ring-opening (co) polymer is particularly preferred from the viewpoint of optical properties and processability.

上記特定単量体の具体例としては、次のような化合物が挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
トリシクロ[4.3.0.12,5 ]−8−デセン、
トリシクロ[4.4.0.12,5 ]−3−ウンデセン、
テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
ペンタシクロ[6.5.1.13,6 .02,7 .09,13]−4−ペンタデセン、
5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−メトキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−シアノビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−エトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−プロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−n−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−エチリデンビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−フェニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フェニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
5−フルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−ペンタフルオロエチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−メチル−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリス(フルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6,6−テトラキス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5−ジフルオロ−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−5−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−フルオロ−5−ペンタフルオロエチル−6,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジフルオロ−5−ヘプタフルオロ−iso−プロピル−6−トリフルオロメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5−クロロ−5,6,6−トリフルオロビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,6−ジクロロ−5,6−ビス(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−トリフルオロメトキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
5,5,6−トリフルオロ−6−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、
8−フルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−ジフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−ペンタフルオロエチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9,9−テトラキス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8−ジフルオロ−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−トリフルオロメトキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,8,9−トリフルオロ−9−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−フルオロ−8−ペンタフルオロエチル−9,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジフルオロ−8−ヘプタフルオロiso−プロピル−9−トリフルオロメチルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−クロロ−8,9,9−トリフルオロテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8,9−ジクロロ−8,9−ビス(トリフルオロメチル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン、
8−メチル−8−(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン
などを挙げることができる。これらは、1種単独で、または2種以上を併用することができる。
Specific examples of the specific monomer include the following compounds, but the present invention is not limited to these specific examples.
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
Tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -8-decene,
Tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] -3-undecene,
Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
Pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] -4-pentadecene,
5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-methoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-cyanobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-ethoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-n-propoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-isopropoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-n-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-ethylidenebicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-ethylidenetetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-phenylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-phenyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
5-fluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-pentafluoroethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-methyl-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-tris (fluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrafluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6,6-tetrakis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5-difluoro-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-5-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-fluoro-5-pentafluoroethyl-6,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-difluoro-5-heptafluoro-iso-propyl-6-trifluoromethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5-chloro-5,6,6-trifluorobicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,6-dichloro-5,6-bis (trifluoromethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-trifluoromethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
5,5,6-trifluoro-6-heptafluoropropoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene,
8-fluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-fluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-difluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-pentafluoroethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-tris (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9,9-tetrafluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9,9-tetrakis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8-difluoro-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluoro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-trifluoromethoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,8,9-trifluoro-9-pentafluoropropoxytetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-fluoro-8-pentafluoroethyl-9,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-difluoro-8-heptafluoroiso-propyl-9-trifluoromethyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-chloro-8,9,9-trifluorotetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8,9-dichloro-8,9-bis (trifluoromethyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene,
8-methyl-8- (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene. These can be used alone or in combination of two or more.

特定単量体のうち好ましいのは、上記式(1)中、R1およびRが水素原子または炭素数1〜10、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基であり、R およびR が水素原子または一価の有機基であって、RおよびRの少なくとも一つは水素原子および炭化水素基以外の極性を有する極性基を示し、xは0または1、yは0〜3の整数であり、より好ましくはx+y=0〜4、さらに好ましくは0〜2、特に好ましくはx=0、y=1であるものである。x=0、y=1である特定単量体は、得られる環状オレフィン系重合体のガラス転移温度が高くかつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。 Among the specific monomers, in the above formula (1), R 1 and R 3 are each a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10, more preferably 1 to 4, particularly preferably 1 to 2 carbon atoms. R 2 and R 4 are a hydrogen atom or a monovalent organic group, at least one of R 2 and R 4 represents a polar group having a polarity other than a hydrogen atom and a hydrocarbon group, and x is 0 or 1 and y are integers of 0 to 3, more preferably x + y = 0 to 4, more preferably 0 to 2, particularly preferably x = 0 and y = 1. The specific monomer where x = 0 and y = 1 is preferable in that the cyclic olefin polymer obtained has a high glass transition temperature and excellent mechanical strength.

上記特定単量体の極性基としては、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する2価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましい。   Examples of the polar group of the specific monomer include a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, and a cyano group. These polar groups are connected via a linking group such as a methylene group. May be combined. In addition, a hydrocarbon group in which a divalent organic group having a polarity such as a carbonyl group, an ether group, a silyl ether group, a thioether group, or an imino group is bonded as a linking group can also be exemplified. Among these, a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is preferable, and an alkoxycarbonyl group or an allyloxycarbonyl group is particularly preferable.

さらに、RおよびRの少なくとも一つが式−(CHCOORで表される極性基である単量体は、得られる環状オレフィン系重合体が高いガラス転移温度と低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。上記の特定の極性基にかかる式において、Rは炭素原子数1〜12、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。また、nは、通常、0〜5であるが、nの値が小さいものほど、得られる環状オレフィン系重合体のガラス転移温度が高くなるので好ましく、さらにnが0である特定単量体はその合成が容易である点で好ましい。 Furthermore, a monomer in which at least one of R 2 and R 4 is a polar group represented by the formula — (CH 2 ) n COOR is a high cyclic transition olefin polymer obtained, a high glass transition temperature, a low hygroscopicity, It is preferable at the point which has the outstanding adhesiveness with material. In the formula relating to the specific polar group, R is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 4, particularly preferably 1 to 2, and preferably an alkyl group. In addition, n is usually 0 to 5, but the smaller the value of n, the higher the glass transition temperature of the obtained cyclic olefin polymer, which is preferable, and the specific monomer in which n is 0 is It is preferable in that the synthesis is easy.

また、上記式(1)において、R1またはRがアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基、さらに好ましくは1〜2のアルキル基、特にメチル基であることが好ましく、特に、このアルキル基が上記の式−(CHCOORで表される特定の極性基が結合した炭素原子と同一の炭素原子に結合されていることが、得られる環状オレフィン系重合体の吸湿性を低くできる点で好ましい。 In the above formula (1), R 1 or R 3 is preferably an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, particularly preferably a methyl group. In particular, it is obtained that the alkyl group is bonded to the same carbon atom as the carbon atom to which the specific polar group represented by the formula — (CH 2 ) n COOR is bonded. This is preferable in that the hygroscopicity can be lowered.

本発明において用いられる環状オレフィン系重合体の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕inh で0.2〜5dl/g、さらに好ましくは0.3〜3dl/g、特に好ましくは0.4〜1.5dl/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は8,000〜100,000、さらに好ましくは10,000〜80,000、特に好ましくは12,000〜50,000であり、重量平均分子量(Mw)は20,000〜300,000、さらに好ましくは30,000〜250,000、特に好ましくは40,000〜200,000の範囲のものが好適である。固有粘度〔η〕inh、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、環状オレフィン系重合体の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明の防眩フィルムとして使用したときの光学特性の安定性とのバランスが良好となる。 The preferred molecular weight of the cyclic olefin polymer used in the present invention, 0.2~5dl / g in intrinsic viscosity [η] inh, more preferably 0.3~3dl / g, particularly preferably 0.4 to 1. The polystyrene-reduced number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) is 8,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, and particularly preferably 12. Having a weight average molecular weight (Mw) of 20,000 to 300,000, more preferably 30,000 to 250,000, particularly preferably 40,000 to 200,000. Is preferred. Inherent viscosity [η] inh , number average molecular weight and weight average molecular weight are in the above ranges, the heat resistance, water resistance, chemical resistance, mechanical properties of the cyclic olefin polymer, and the antiglare film of the present invention The balance with the stability of optical characteristics when used is good.

本発明において用いられる環状オレフィン系重合体のガラス転移温度(Tg)としては、130℃以上、好ましくは130〜250℃、特に好ましくは140〜200℃である。得られる環状オレフィン系重合体フィルムの光学特性変化を安定にし、延伸加工など、Tg近辺まで加熱して加工する場合の樹脂の熱劣化を防止するため、高いガラス転移温度が必要である。また、ガラス転移温度が250℃以下であると、フィルムの成形性に優れるという利点がある。   The glass transition temperature (Tg) of the cyclic olefin polymer used in the present invention is 130 ° C. or higher, preferably 130 to 250 ° C., particularly preferably 140 to 200 ° C. A high glass transition temperature is required in order to stabilize the change in optical properties of the obtained cyclic olefin polymer film and prevent thermal deterioration of the resin when heated and processed in the vicinity of Tg such as stretching. Moreover, there exists an advantage that the moldability of a film is excellent in glass transition temperature being 250 degrees C or less.

本発明において用いられる環状オレフィン系重合体の23℃における飽和吸水率は、好ましくは2重量%以下、更に好ましくは0.01〜2重量%、特に好ましくは0.1〜1重量%の範囲にある。飽和吸水率がこの範囲内であると、光学特性が均一であり、得られる環状オレフィン系重合体フィルムと他の光学部材や接着剤などとの密着性が優れ、使用途中で剥離などが発生せず、また、酸化防止剤などとの相溶性にも優れ、多量に添加することも可能となる。飽和吸水率はASTM D570に従い、23℃水中で1週間浸漬して増加重量を測定することにより得られる値である。   The saturated water absorption rate at 23 ° C. of the cyclic olefin polymer used in the present invention is preferably 2% by weight or less, more preferably 0.01 to 2% by weight, and particularly preferably 0.1 to 1% by weight. is there. If the saturated water absorption is within this range, the optical characteristics are uniform, the adhesion between the obtained cyclic olefin polymer film and other optical members and adhesives is excellent, and peeling or the like may occur during use. In addition, it is excellent in compatibility with an antioxidant and the like, and can be added in a large amount. The saturated water absorption is a value obtained by immersing in 23 ° C. water for 1 week and measuring the increased weight according to ASTM D570.

本発明において用いられる環状オレフィン系重合体としては、その光弾性係数(CP)が0〜100(×10-12Pa-1)であり、かつ応力光学係数(CR)が1,500〜4,000(×10-12Pa-1)を満たすようなものが好適に使用される。ここで、光弾性係数(CP)及び応力光学係数(CR)については、種々の文献(Polymer Journal,Vol.27,No,9pp 943-950(1995),日本レオロジー学会誌,Vol.19,No.2, p93-97(1991),光弾性実験法,日刊工業新聞社,昭和50年第7版に記載されている。前者がポリマーのガラス状態での応力による位相差の発生程度を表すのに対し、後者は流動状態での応力による位相差の発生程度を表す。
光弾性係数(CP)が大きいことは、環状オレフィン系重合体フィルムを他の光学部材や接着剤と貼り合わせて用いた場合に外的因子又は自らの凍結した歪みから発生した歪みから発生する応力などにおいて敏感に光学特性が変化してしまうことを表し、例えば、本発明のように保護層を積層する場合、及び他の光学部材に固定して用いる場合には、貼り合わせ時の残留歪みや、温度変化や湿度変化などにともなう材料の収縮により発生する微小な応力によって不必要な位相差を発生しやすいことを意味する。このことから、できるだけ光弾性係数(CP)は小さい程よい。
一方、応力光学係数(CR)が大きいことは、例えば、環状オレフィン系重合体フィルムに位相差の発現性を付与する際に少ない延伸倍率で所望の位相差を得られるようになったり、大きな位相差を付与しうるフィルムを得やすくなったり、同じ位相差を所望の場合には応力光学係数(CR)が小さいものと比べてフィルムを薄肉化できるという大きなメリットがある。
以上のような見地から、光弾性係数(CP)が好ましくは0〜100(×10-12Pa-1)、さらに好ましくは0〜80(×10-12Pa-1)、特に好ましくは0〜50(×10-12Pa-1)、より好ましくは0〜30(×10-12Pa-1)、最も好ましくは0〜20(×10-12Pa-1)である。保護層を積層した時に発生する応力、防眩フィルムを他の光学部材に固定した時に発生する応力、使用する際の環境変化などによって発生する位相差変化などによる不必要な位相差を最小限に止めるためである。
The cyclic olefin polymer used in the present invention has a photoelastic coefficient (C P ) of 0 to 100 (× 10 −12 Pa −1 ) and a stress optical coefficient (C R ) of 1,500 to Those satisfying 4,000 (× 10 −12 Pa −1 ) are preferably used. Here, for the photoelastic coefficient (C P ) and the stress optical coefficient (C R ), various documents (Polymer Journal, Vol. 27, No, 9pp 943-950 (1995), Journal of the Japan Rheological Society, Vol. 19 No. 2, p93-97 (1991), photoelasticity experiment method, Nikkan Kogyo Shimbun, Ltd., 7th edition of 1975. The former shows the degree of phase difference caused by stress in the glassy state of the polymer. On the other hand, the latter represents the degree of occurrence of the phase difference due to the stress in the flow state.
The large photoelastic coefficient (C P ) is generated from an external factor or a strain generated from its own frozen strain when the cyclic olefin polymer film is used in combination with another optical member or an adhesive. Indicates that the optical characteristics change sensitively due to stress, etc. For example, when a protective layer is laminated as in the present invention, and when it is used fixed to other optical members, residual strain at the time of bonding It means that an unnecessary phase difference is likely to be generated due to a minute stress generated by shrinkage of a material accompanying a temperature change or a humidity change. Therefore, it is better that the photoelastic coefficient (C P ) is as small as possible.
On the other hand, a large stress optical coefficient (C R ) means that, for example, a desired retardation can be obtained with a small draw ratio when imparting the retardation to a cyclic olefin polymer film, or a large amount. There is a great merit that it is easy to obtain a film capable of imparting a phase difference, and when the same phase difference is desired, the film can be thinned as compared with a film having a small stress optical coefficient (C R ).
From the above viewpoint, the photoelastic coefficient (C P ) is preferably 0 to 100 (× 10 −12 Pa −1 ), more preferably 0 to 80 (× 10 −12 Pa −1 ), and particularly preferably 0. To 50 (× 10 −12 Pa −1 ), more preferably 0 to 30 (× 10 −12 Pa −1 ), and most preferably 0 to 20 (× 10 −12 Pa −1 ). Minimize unnecessary phase difference due to stress generated when the protective layer is laminated, stress generated when the antiglare film is fixed to other optical members, phase change caused by environmental changes during use, etc. It is to stop.

本発明において用いられる環状オレフィン系重合体は、公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤などが添加されていてもよい。また、加工性を向上させる目的で、滑剤などの添加剤が添加されていてもよい。 The cyclic olefin polymer used in the present invention may be added with known antioxidants, ultraviolet absorbers and the like. Moreover, additives such as a lubricant may be added for the purpose of improving processability.

本発明に用いられる環状オレフィン系重合体フィルムとしては、上記の環状オレフィン系重合体を溶融成形法あるいは溶液流延法(溶剤キャスト法)など、公知の方法によりフィルムもしくはシート状に成形したものを用いることができる。
本発明において用いられる環状オレフィン系重合体フィルムの厚さは、通常は1〜500μm、好ましくは1〜300μm、さらに好ましくは10〜250μm、特に好ましくは50〜200μmである。良好なハンドリングを確保するとともに、ロール状への巻き取りを容易にするためである。
本発明において用いられる透明フィルム(環状オレフィン系重合体フィルム)の厚み分布は、通常は平均値に対して±20%以内、好ましくは±10%以内、さらに好ましくは±5%以内、特に好ましくは±3%以内である。また、1cmあたりの厚みの変動は、通常は10%以下、好ましくは5%以下、さらに好ましくは1%以下、特に好ましくは0.5%以下であることが望ましい。かかる厚み制御を実施することにより、フィルム面内におけるムラを防ぐことができる。
The cyclic olefin polymer film used in the present invention is obtained by molding the above cyclic olefin polymer into a film or a sheet by a known method such as a melt molding method or a solution casting method (solvent casting method). Can be used.
The thickness of the cyclic olefin polymer film used in the present invention is usually 1 to 500 μm, preferably 1 to 300 μm, more preferably 10 to 250 μm, and particularly preferably 50 to 200 μm. This is to ensure good handling and facilitate winding into a roll.
The thickness distribution of the transparent film (cyclic olefin polymer film) used in the present invention is usually within ± 20% of the average value, preferably within ± 10%, more preferably within ± 5%, particularly preferably. Within ± 3%. The thickness variation per 1 cm is usually 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less. By performing such thickness control, unevenness in the film plane can be prevented.

本発明の導電性透明フィルムに使用される透明フィルムとしては、必要に応じて延伸加工したものが好適に使用される。具体的には、公知の一軸延伸法あるいは二軸延伸法により製造することができる。すなわち、テンター法による横一軸延伸法、ロール間圧縮延伸法、周遠の異なるロールを利用する縦一軸延伸法などあるいは横一軸と縦一軸を組み合わせた二軸延伸法、インフレーション法による延伸法などを用いることができる。
一軸延伸法の場合、延伸速度は、通常は1〜5,000%/分であり、好ましくは50〜1,000%/分であり、さらに好ましくは100〜1,000%/分であり、特に好ましくは100〜500%/分である。
二軸延伸法の場合、同時2方向に延伸を行う場合や一軸延伸後に最初の延伸方向と異なる方向に延伸処理する場合がある。これらの場合、2つの延伸軸の交わり角度は、通常は120〜60度の範囲である。また、延伸速度は各延伸方向で同じであってもよく、異なっていてもよく、通常は1〜5,000%/分であり、好ましくは50〜1,000%/分であり、さらに好ましくは100〜1,000%/分であり、特に好ましくは100〜500%/分である。
As the transparent film used for the conductive transparent film of the present invention, a film stretched as necessary is suitably used. Specifically, it can be produced by a known uniaxial stretching method or biaxial stretching method. That is, a horizontal uniaxial stretching method by a tenter method, a compression stretching method between rolls, a longitudinal uniaxial stretching method using rolls having different circumferences, a biaxial stretching method in which horizontal uniaxial and longitudinal uniaxial are combined, a stretching method by an inflation method, etc. Can be used.
In the case of the uniaxial stretching method, the stretching speed is usually 1 to 5,000% / min, preferably 50 to 1,000% / min, more preferably 100 to 1,000% / min, Particularly preferred is 100 to 500% / min.
In the case of the biaxial stretching method, stretching may be performed in two directions at the same time, or the stretching may be performed in a direction different from the first stretching direction after uniaxial stretching. In these cases, the intersecting angle of the two stretching axes is usually in the range of 120 to 60 degrees. The stretching speed may be the same or different in each stretching direction, and is usually 1 to 5,000% / min, preferably 50 to 1,000% / min, and more preferably Is from 100 to 1,000% / min, particularly preferably from 100 to 500% / min.

延伸加工温度は、特に限定されるものではないが、環状オレフィン系重合体のガラス転移温度(Tg)を基準として、通常はTg±30℃、好ましくはTg±10℃、さらに好ましくはTg−5〜Tg+10℃の範囲である。上記範囲内とすることで、位相差ムラの発生を抑えることが可能となり、また屈折率楕円体の制御が容易になることから好ましい。
延伸倍率は、所望する特性により決定されるため特に限定はされないが、通常は1.01〜10倍、好ましくは1.1〜5倍、さらに好ましくは1.1〜3.5倍である。延伸倍率が10倍を超える場合、位相差の制御が困難になる場合がある。
延伸したフィルムは、そのまま冷却してもよいが、Tg−20℃〜Tgの温度雰囲気下に少なくとも10秒以上、好ましくは30秒〜60分、さらに好ましくは1分〜60分静置されることが好ましい。これにより、位相差特性の経時変化が少なく安定した環状オレフィン系重合体フィルムからなる位相差フィルムが得られる。
The stretching temperature is not particularly limited, but is usually Tg ± 30 ° C., preferably Tg ± 10 ° C., more preferably Tg-5, based on the glass transition temperature (Tg) of the cyclic olefin polymer. It is the range of -Tg + 10 degreeC. Within the above range, it is possible to suppress the occurrence of phase difference unevenness, and control of the refractive index ellipsoid is facilitated, which is preferable.
The draw ratio is not particularly limited because it is determined by desired properties, but is usually 1.01 to 10 times, preferably 1.1 to 5 times, and more preferably 1.1 to 3.5 times. When the draw ratio exceeds 10 times, it may be difficult to control the phase difference.
The stretched film may be cooled as it is, but it should be allowed to stand in a temperature atmosphere of Tg-20 ° C. to Tg for at least 10 seconds, preferably 30 seconds to 60 minutes, more preferably 1 minute to 60 minutes. Is preferred. Thereby, the retardation film which consists of a cyclic olefin polymer film with little change with the passage of time of the retardation characteristics is obtained.

[ハードコート層]
本発明で用いられる基材フィルムは、透明導電層を積層する面に、あらかじめハードコート層を有していてもよい。ハードコート層は、透明導電層の形成やその後の加工あるいは装置組み立て時に、環状オレフィン系重合体フィルムの表面に傷が生じ、これが原因で透明導電層積層体としての視認性が低下することを避けるために施されるものであり、微粒子を分散含有するものが好ましい。
[Hard coat layer]
The base film used in the present invention may have a hard coat layer in advance on the surface on which the transparent conductive layer is laminated. The hard coat layer avoids deterioration of the visibility as a transparent conductive layer laminate due to scratches on the surface of the cyclic olefin polymer film during the formation of the transparent conductive layer, subsequent processing or assembly of the device. For that purpose, it is preferable to disperse and contain fine particles.

ハードコート処理は、透明導電層形成前、または後にフィルムの両面もしくは片面に実施することができるが、本発明では、ハードコート処理を、透明導電層形成前の光学フィルムの両面に形成することが好ましい。ハードコート層としては、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂等の活性エネルギー線硬化型樹脂に、微粒子を分散させた防眩作用を有するハードコート処理剤の硬化被膜が好ましく用いられる。上記活性エネルギー線硬化型樹脂のうちアクリル系樹脂は、透明導電層の密着性を高める効果も有するのでもっとも好適に用いられる。   The hard coat treatment can be performed on both sides or one side of the film before or after the formation of the transparent conductive layer. In the present invention, the hard coat treatment can be formed on both sides of the optical film before the formation of the transparent conductive layer. preferable. As the hard coat layer, a hard coat treatment agent having an antiglare action in which fine particles are dispersed in an active energy ray curable resin such as a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, an acrylic resin, or a silicon resin. A cured coating is preferably used. Among the active energy ray-curable resins, acrylic resins are most preferably used because they also have an effect of improving the adhesion of the transparent conductive layer.

ハードコート処理剤に混合する微粒子としては、特に限定されるものではないが、平均粒径(一次平均粒径)が、たとえば、1nm〜100nm程度、1nm〜50nm程度、さらに1nm〜25nm程度のものを主成分とするのが適当である。また、これに加えて、平均粒径が50nm〜800nm程度のもの、100nm〜10μm程度のものなど、主成分として添加する粒子とは粒径の異なる群の粒子を併用して保護層形成用組成物を調製することも好ましい。このような平均粒径を有することにより、白ぼけ及び/又は黒浮きというような部分的な表示むら又は背景画像の不鮮明な表示、ギラツキ及び/又はグレア等の不均一な表示、ニュートンリングという光の干渉作用という主に3種の不具合をバランスよく解消することができる。   The fine particles to be mixed with the hard coat treatment agent are not particularly limited, but those having an average particle diameter (primary average particle diameter) of, for example, about 1 nm to 100 nm, about 1 nm to 50 nm, and further about 1 nm to 25 nm. It is appropriate to use as a main component. In addition to this, a composition for forming a protective layer by using particles of a group having a different particle size from the particles added as the main component, such as those having an average particle size of about 50 nm to 800 nm or about 100 nm to 10 μm It is also preferable to prepare the product. By having such an average particle size, partial display unevenness such as white blurring and / or black floating or unclear display of background image, non-uniform display such as glare and / or glare, light of Newton ring It is possible to eliminate the three main types of interference effects in a well-balanced manner.

また、ここで用いられる微粒子としては、シリカ粒子またはポリマー粒子が好ましく、シリカとしては、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ等が挙げられる。ここでいうヒュームドシリカとは、工業規模で生産されている最も粒子系の小さい粒子形(平均1次粒径が7〜40nm、比表面積が50〜380m2/g)をもつ高純度(99.9%以上)の無水シリカをいい、通常、四塩化ケイ素の酸素/水素バーナー中、1000℃以上の高温下の加水分解法で製造される。
シリカは、表面のシラノール基を疎水性処理したものを用いることができ、好ましくは疎水性処理したものである。
シリカ粒子の配合割合は、樹脂100重量部に対してシリカ粒子が、0.1〜10重量部となるようにするのが好ましい。シリカ粒子の量が少ないと、防眩効果が劣り、多いと光透過率や被膜強度が低下する。
The fine particles used here are preferably silica particles or polymer particles. Examples of silica include colloidal silica and fumed silica. Fumed silica as used herein refers to high purity (99) having the smallest particle size produced on an industrial scale (average primary particle size is 7 to 40 nm, specific surface area is 50 to 380 m 2 / g). 0.9% or higher) anhydrous silica, which is usually produced by a hydrolysis process in an oxygen / hydrogen burner of silicon tetrachloride at a high temperature of 1000 ° C. or higher.
As the silica, those obtained by subjecting the surface silanol groups to hydrophobic treatment can be used, and those obtained by hydrophobic treatment are preferable.
The mixing ratio of the silica particles is preferably such that the silica particles are 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin. When the amount of silica particles is small, the antiglare effect is inferior.

硬化被膜の形成に際しては、上述の活性エネルギー線硬化型樹脂および微粒子に、必要に応じて帯電防止剤、重合開始剤などの各種の添加物を加えてなる組成物を、通常溶剤で希釈して固形分が20〜80重量%となるように調製し、これを光学フィルムの一面に、一般的な溶液塗工手段であるグラビアコータ、リバースコータ、スプレーコータ、スロットオリフィスコータまたはスクリーン印刷などの手段により、乾燥硬化後の厚みが1〜15μm程度となるように塗布した後、加熱乾燥後紫外線照射や電子線照射により硬化させることができる。このハードコート処理層の形成に先立ち、被着面にコロナ放電、紫外線照射、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、プライマ処理などの易接着処理をすることで、透明フィルムとハードコート処理層との密着性をより高めることができる。   In forming the cured coating, a composition obtained by adding various additives such as an antistatic agent and a polymerization initiator to the above-mentioned active energy ray-curable resin and fine particles as necessary is usually diluted with a solvent. A solid content of 20 to 80% by weight is prepared, and this is applied to one surface of an optical film, such as a gravure coater, reverse coater, spray coater, slot orifice coater or screen printing, which is a general solution coating means. Thus, after coating so that the thickness after drying and curing is about 1 to 15 μm, it can be cured by ultraviolet irradiation or electron beam irradiation after heat drying. Prior to the formation of the hard coat treatment layer, the adhesion surface between the transparent film and the hard coat treatment layer is subjected to easy adhesion treatment such as corona discharge, ultraviolet irradiation, plasma treatment, sputter etching treatment, primer treatment, etc. Can be further enhanced.

[透明導電層の形成方法]
本発明に係る透明導電層は、可視光領域において透過度を有し、かつ導電性を有する層である。透明導電層の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの従来公知の技術をいずれも使用できるが、膜の均一性や透明基材への薄膜の密着性の観点から、スパッタリング法での薄膜形成が好ましい。また、用いる薄膜材料も特に制限されるものではなく、例えば、酸化錫を含有する酸化インジウム、酸化チタンを含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化錫などの金属酸化物のほか、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、コバルト、錫、亜鉛またはこれらの合金などが好ましく用いられる。中でも好ましいものとしては、酸化錫を含有する酸化インジウム(ITO)が挙げられる。
[Method for forming transparent conductive layer]
The transparent conductive layer according to the present invention is a layer having transparency in the visible light region and having conductivity. As the method for forming the transparent conductive layer, any of the conventionally known techniques such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating can be used, but from the viewpoint of film uniformity and adhesion of the thin film to the transparent substrate. The thin film formation by sputtering is preferred. The thin film material to be used is not particularly limited. For example, in addition to metal oxides such as indium oxide containing tin oxide, indium oxide containing titanium oxide, tin oxide containing antimony, gold, silver, Platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, cobalt, tin, zinc, or alloys thereof are preferably used. Among them, indium oxide (ITO) containing tin oxide is preferable.

本発明では、基材フィルム(環状オレフィン系重合体フィルムまたは環状オレフィン系重合体フィルムとハードコート層との積層フィルム)を100℃以上、環状オレフィン系重合体のTg−20℃以下の温度に加熱し、スパッタリングする工程を行うことにより透明導電層を形成する。このような条件で透明導電層を形成することにより、結晶化した透明導電層が得られる。特に好ましい加熱温度は、140〜150℃である。基材フィルムの加熱温度が100℃を下回ると、十分に結晶化した透明導電層を得ることができない。また、Tg−20℃を超えると、基材フィルムが軟化・変形したり、位相差が増大したりするおそれがある。
基材フィルムを加熱する方法としては、基材フィルムを赤外線で加熱する方法、またロール・トゥ・ロール方式では、基材フィルムの接触しているロールを加熱することで基材フィルムを加熱する方法等が好ましい方法として挙げられる。
In the present invention, a base film (a cyclic olefin polymer film or a laminated film of a cyclic olefin polymer film and a hard coat layer) is heated to a temperature of 100 ° C. or more and Tg-20 ° C. or less of the cyclic olefin polymer. And a transparent conductive layer is formed by performing the process of sputtering. By forming the transparent conductive layer under such conditions, a crystallized transparent conductive layer can be obtained. A particularly preferable heating temperature is 140 to 150 ° C. When the heating temperature of the base film is lower than 100 ° C., a sufficiently crystallized transparent conductive layer cannot be obtained. Moreover, when it exceeds Tg-20 degreeC, there exists a possibility that a base film may be softened and deform | transformed or a phase difference may increase.
As a method of heating the base film, a method of heating the base film with infrared rays, and, in the roll-to-roll method, a method of heating the base film by heating the roll in contact with the base film Etc. are mentioned as a preferable method.

透明導電層の形成は、例えば内部を真空状態に維持できる耐圧容器内において、フィルムロールより送り出されたフィルム(基材フィルム)が送出側ガイドローラーを経由して基板支持部に送られ、基板支持部の外周面を巻回し、巻取側ガイドローラーを経由して巻取ローラーに巻き取られるように構成した装置を用いて行われることが好ましい。   The transparent conductive layer is formed, for example, in a pressure-resistant container that can maintain the inside in a vacuum state, and the film (base film) fed from the film roll is sent to the substrate support section via the delivery-side guide roller to support the substrate. It is preferable to carry out using the apparatus comprised so that the outer peripheral surface of a part may be wound and wound up by a winding roller via a winding side guide roller.

透明導電層を形成する際には、ターゲットとして従来公知のITOターゲットが用いられる。ITO膜の形成に用いるターゲット材としては酸化インジウムと酸化スズの重量比が99:1〜90:10、より好ましくは99:1〜95:5の焼結体ターゲットを使用することが望ましい。酸化スズの重量比が10重量%を超えるターゲットを用いると非晶質のITO膜となりやすく、酸に対する耐性が弱くなる。また、酸化チタンを含有する酸化インジウムターゲットも用いられる。   When forming a transparent conductive layer, a conventionally well-known ITO target is used as a target. As a target material used for forming the ITO film, it is desirable to use a sintered body target having a weight ratio of indium oxide to tin oxide of 99: 1 to 90:10, more preferably 99: 1 to 95: 5. When a target having a tin oxide weight ratio of more than 10% by weight is used, an amorphous ITO film tends to be formed, and resistance to acid is weakened. An indium oxide target containing titanium oxide is also used.

また、成膜時に雰囲気ガスとしてArに微量の酸素、好ましくはArとO2との合計に対して0.1〜3体積%のO2を導入すると、ITO薄膜の透明性と導電性を良くすることができるため好ましい。
Arのみの雰囲気ガスの場合、または上記範囲よりもO2が多い場合には、作製されたITO透明導電層の結晶化温度が高くなり好ましくない。しかも、O2が上記範囲よりも多いと、成膜されたITO薄膜の抵抗値が著しく上昇してしまい、必要な導電性を得ることができない。
Moreover, when a small amount of oxygen, preferably 0.1 to 3% by volume of O 2 with respect to the total of Ar and O 2 is introduced into Ar as an atmospheric gas during film formation, the transparency and conductivity of the ITO thin film are improved. This is preferable because it can be performed.
In the case of an atmosphere gas containing only Ar, or when O 2 is more than the above range, the crystallization temperature of the produced ITO transparent conductive layer becomes high, which is not preferable. In addition, if O 2 exceeds the above range, the resistance value of the deposited ITO thin film is remarkably increased, and the required conductivity cannot be obtained.

この透明導電層の膜厚は、一般的には10〜100nm程度であり、好ましくは20〜30nmである。透明導電層の膜厚が薄過ぎると十分な導電性を得ることができず、過度に厚くても導電性には差異はなく、成膜コストが高くつく上に透明導電性フィルムの厚みが厚くなって好ましくない。   The film thickness of this transparent conductive layer is generally about 10 to 100 nm, preferably 20 to 30 nm. If the film thickness of the transparent conductive layer is too thin, sufficient conductivity cannot be obtained, and even if it is excessively thick, there is no difference in conductivity, the film formation cost is high, and the transparent conductive film is thick. It is not preferable.

本発明のタッチパネルの好ましい構成は図1に示すように、ガラス板10の上に透明導電層13を形成してなる下部電極1と、高分子フィルム11の両面にハードコート層12、12を形成し、さらに一方のハードコート層12に透明導電層14を形成してなる上部電極2とを、透明導電層13、14が対面するようにスペーサ15を介して積層したものである。このような透明導電性フィルムを上部電極として備えるタッチパネルは、透明導電層の機械的耐久性が良好であるため、耐久性、信頼性に優れる。
なお、本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルの上部電極としての用途に好適であるが、その他、透明スイッチングデバイス、その他の各種の光学系透明導電性フィルム用途に有効に使用することができる。
As shown in FIG. 1, the preferred structure of the touch panel of the present invention is a lower electrode 1 formed by forming a transparent conductive layer 13 on a glass plate 10 and hard coat layers 12 and 12 formed on both sides of a polymer film 11. Further, the upper electrode 2 formed by forming the transparent conductive layer 14 on one hard coat layer 12 is laminated through the spacer 15 so that the transparent conductive layers 13 and 14 face each other. A touch panel provided with such a transparent conductive film as an upper electrode has excellent durability and reliability because the mechanical durability of the transparent conductive layer is good.
In addition, although the transparent conductive film of this invention is suitable for the use as an upper electrode of a touch panel, it can be effectively used for a transparent switching device and other various optical system transparent conductive film uses.

以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
<作製例1>
(ハードコート処理剤の調製)
ペンタエリスリトールアクリレートと水添キシレンジイソシアネートから得られたウレタンアクリレート100部と、イソシアヌル酸−トリス[2−(アクリロイルオキシ)エチル]20部と、平均粒径が1〜3μmのシリカ粒子を全固形分に対して40重量%と、光重合開始剤1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを全固形分に対して3重量%とを、酢酸ブチル/メチルエチルケトン(1/2:重量比)の混合溶媒により固形分濃度が45重量%となるように希釈してハードコート処理剤を調製した。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples.
<Production Example 1>
(Preparation of hard coat treatment agent)
100 parts of urethane acrylate obtained from pentaerythritol acrylate and hydrogenated xylene diisocyanate, 20 parts of isocyanuric acid-tris [2- (acryloyloxy) ethyl], and silica particles having an average particle diameter of 1 to 3 μm in total solids 40% by weight, 3% by weight of the photopolymerization initiator 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone based on the total solid content, and a solid content concentration of a mixed solvent of butyl acetate / methyl ethyl ketone (1/2: weight ratio). A hard coat treatment agent was prepared by diluting to 45% by weight.

[実施例1]
作製例1で得られたハードコート処理剤を、グラビアリバース法にて、環状オレフィン系重合体からなる透明フィルムである、アートン(登録商標)フィルム(JSR株式会社製、Tg:165℃、膜厚:188μm、フィルム幅:300mm、フィルム長さ:30m)に塗布し、70℃で40秒間乾燥し、300mJ/cm2の紫外線を照射して、膜厚1.7μmの保護層を有するフィルムを得た。
得られた保護層を有するフィルムの保護層の面とは反対面に、同様に保護層を形成し、膜厚1.7μmの保護層を両面に有するフィルムを形成した。その後、フィルムの表面に対し、Ar流量300sccm、出力700V/0.05Aにてプラズマ処理を施した。
フィルムをスパッタリング装置内に配置し、真空排気を行いながらローラーを140℃に加熱し、圧力を2×10-1Paに保持し、アルゴンガスおよび酸素ガス流入下で、ターゲットとしてIn23/SnO2=90/10(重量比)の酸化物混合体を用いたスパッタリングにより、フィルムのプラズマ処理を施した面に、ITOからなる透明導電層を厚さ200オングストロームで積層し、導電性透明フィルム1を得た。
[Example 1]
Arton (registered trademark) film (manufactured by JSR Corporation, Tg: 165 ° C., film thickness), which is a transparent film made of a cyclic olefin polymer, by the gravure reverse method, using the hard coat treatment agent obtained in Production Example 1 188 μm, film width: 300 mm, film length: 30 m), dried at 70 ° C. for 40 seconds, and irradiated with 300 mJ / cm 2 ultraviolet rays to obtain a film having a protective layer with a thickness of 1.7 μm. It was.
A protective layer was similarly formed on the surface opposite to the surface of the protective layer of the film having the protective layer, and a film having a protective layer with a thickness of 1.7 μm on both surfaces was formed. Thereafter, the surface of the film was subjected to plasma treatment at an Ar flow rate of 300 sccm and an output of 700 V / 0.05 A.
The film was placed in a sputtering apparatus, the roller was heated to 140 ° C. while evacuating, the pressure was maintained at 2 × 10 −1 Pa, and a target of In 2 O 3 / A transparent conductive layer made of ITO is laminated to a thickness of 200 Å on the surface of the film subjected to plasma treatment by sputtering using an oxide mixture of SnO 2 = 90/10 (weight ratio). 1 was obtained.

得られた透明導電性フィルム1のシート抵抗値を4探針法により測定したところ400Ω/□であり、85℃×85%R.H.の存在下に250時間保存した後に再びシート抵抗値を測定したところ、シート抵抗値は500Ωでありシート抵抗の変化は少なかった。また、得られた透明導電性フィルム1に対し、0.8Rのポリアセタールペンを用い、加重250gおよび印加電圧3Vの条件で打鍵試験を行ったところ、300万回でも導電性が得られるという高耐久性を示した。
さらに、得られた透明導電性フィルム1についてX線回折測定でITOの結晶性を確認したところ、2θ=30°および35°、51°付近に結晶性のピークが認められた。
When the sheet resistance value of the obtained transparent conductive film 1 was measured by a four-probe method, it was 400Ω / □, and 85 ° C. × 85% R.D. H. When the sheet resistance value was measured again after being stored for 250 hours in the presence of No. 1, the sheet resistance value was 500Ω, and the change in sheet resistance was small. Moreover, when the keystroke test was performed on the obtained transparent conductive film 1 using a 0.8R polyacetal pen under the conditions of a weight of 250 g and an applied voltage of 3 V, conductivity was obtained even after 3 million times. Showed sex.
Furthermore, when the crystallinity of ITO was confirmed about the obtained transparent conductive film 1 by the X-ray-diffraction measurement, the crystallinity peak was recognized by 2 (theta) = 30 degree, 35 degree, and 51 degree vicinity.

[比較例1]
実施例1と同様に、透明フィルムの両面への保護層の形成とプラズマ処理を行った後、ローラーの加熱を行わず、圧力2×10-1Pa、25℃の条件下、アルゴンガスおよび酸素ガス流入下でターゲットとしてIn23/SnO2=90/10(重量比)の酸化物混合体を用いたスパッタリングにより、フィルムのプラズマ処理を施した面に、ITOからなる透明導電層を厚さ200オングストロームで積層し、透明導電性フィルム2を得た。
得られた透明導電性フィルム2について実施例1と同様にして各種評価を行ったところ、シート抵抗値は450Ω/□であり、85℃×85%R.H.の存在下に250時間保存した後に再びシート抵抗値を測定したところ、シート抵抗値は1200Ω/□まで上昇した。また、得られた透明導電性フィルム2に対し、実施例1と同様に打鍵試験を行ったところ、80万回で導電性が得られなくなった。
さらに、得られた透明導電性フィルム2をX線回折測定でITOの結晶性ピークを確認したところ、結晶性ピークが観察されず、非晶質であることを確認した。
[Comparative Example 1]
As in Example 1, after forming protective layers on both sides of the transparent film and performing plasma treatment, the roller was not heated, and the pressure was 2 × 10 −1 Pa, 25 ° C. under conditions of argon gas and oxygen. By sputtering using an oxide mixture of In 2 O 3 / SnO 2 = 90/10 (weight ratio) as a target under gas inflow, a transparent conductive layer made of ITO is thickened on the surface of the film subjected to plasma treatment. The transparent conductive film 2 was obtained by laminating at a thickness of 200 angstroms.
When the obtained transparent conductive film 2 was subjected to various evaluations in the same manner as in Example 1, the sheet resistance value was 450Ω / □, and 85 ° C. × 85% R.D. H. When the sheet resistance value was measured again after being stored for 250 hours in the presence of, the sheet resistance value increased to 1200 Ω / □. Moreover, when the keystroke test was done like Example 1 with respect to the obtained transparent conductive film 2, electroconductivity was no longer obtained by 800,000 times.
Furthermore, when the crystalline peak of ITO was confirmed by X-ray diffraction measurement of the obtained transparent conductive film 2, it was confirmed that the crystalline peak was not observed and was amorphous.

本発明において好ましいタッチパネルの構造を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the structure of a preferable touch panel in this invention. 一般的なタッチパネルの構造を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the structure of a common touch panel.

符号の説明Explanation of symbols

1 下部電極
2 上部電極
10 ガラス板
11 高分子フィルム
12 ハードコート層
13 透明電極層
14 透明電極層
15 スペーサ
1 Lower electrode 2 Upper electrode
10 Glass plate
11 Polymer film
12 Hard coat layer
13 Transparent electrode layer
14 Transparent electrode layer
15 Spacer

Claims (4)

ガラス転移温度が130℃以上の環状オレフィン系重合体を有する基材フィルムを、100℃以上、上記ガラス転移温度−20℃以下の温度に加熱した状態で、スパッタリングにより透明導電層を形成することを特徴とする、透明導電性フィルムの製造方法。 Forming a transparent conductive layer by sputtering in a state where a substrate film having a cyclic olefin polymer having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher is heated to a temperature of 100 ° C. or higher and the glass transition temperature −20 ° C. or lower; A method for producing a transparent conductive film, which is characterized. 基材フィルムが、環状オレフィン系重合体フィルムと粒子含有ハードコート層とを有する積層フィルムである、請求項1に記載の透明導電性フィルムの製造方法。 The manufacturing method of the transparent conductive film of Claim 1 whose base film is a laminated | multilayer film which has a cyclic olefin type polymer film and a particle | grain containing hard coat layer. 請求項1に記載の方法で得られた透明導電性フィルムを少なくとも一方の透明電極として製造されることを特徴とするタッチパネル。 A touch panel manufactured using the transparent conductive film obtained by the method according to claim 1 as at least one transparent electrode. 請求項3に記載のタッチパネルを表示面側に有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the touch panel according to claim 3 on a display surface side.
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