JP2009186538A - Method of manufacturing substrate - Google Patents

Method of manufacturing substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2009186538A
JP2009186538A JP2008023568A JP2008023568A JP2009186538A JP 2009186538 A JP2009186538 A JP 2009186538A JP 2008023568 A JP2008023568 A JP 2008023568A JP 2008023568 A JP2008023568 A JP 2008023568A JP 2009186538 A JP2009186538 A JP 2009186538A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
adhesive
gap material
glass substrate
dust
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008023568A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Misu
雅幸 三須
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2008023568A priority Critical patent/JP2009186538A/en
Publication of JP2009186538A publication Critical patent/JP2009186538A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of letting a large-size substrate adhere closely to a large-size dustproof glass substrate while adhesive permeates between these substrates sufficiently even if the large-size substrate is warped. <P>SOLUTION: In the method, transparent adhesive 41 is applied on substantially the center of the large-size dustproof glass substrate 300 and a gel-like gap material 42 is applied at points per predetermined interval at the outer periphery of the large-size dustproof glass substrate 300 when sticking the large-size substrate 110 onto substantially the whole surface of the large-size dustproof glass substrate 300 set on a stage through the transparent adhesive 41. By sticking the large-size substrate 110 to the large-size dustproof glass substrate 300 through the transparent adhesive 41 while applying pressure on them, the large-size substrate 110 is extended in the horizontal direction while it is supported by the gap material 42 to correct its warping. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、第1の大型基板を、第2の大型基板の面のほぼ全体に第1の接着剤を介して貼り合わせる基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a substrate in which a first large substrate is bonded to almost the entire surface of a second large substrate via a first adhesive.

従来、電気光学装置の代表である投射型表示装置では、表示パネルの表面付近に塵埃等が付着すると、それが投射レンズ等により拡大されてスクリーン上に投射され、表示品質を著しく低下させてしまうことになる。これを防止する技術として、表示パネルの外表面に防塵機能を有する透明なガラス基板(第1の大型基板)を貼付する技術が広く採用されている。   Conventionally, in a projection type display device that is representative of an electro-optical device, if dust or the like adheres to the vicinity of the surface of the display panel, it is enlarged by a projection lens or the like and projected onto a screen, thereby significantly reducing display quality. It will be. As a technique for preventing this, a technique of attaching a transparent glass substrate (first large substrate) having a dustproof function to the outer surface of the display panel is widely adopted.

表示パネルの外表面を防塵ガラス基板で保護することで、表示パネル面に対する塵埃等の付着が防止できる。更に、この防塵ガラス基板の外表面に塵埃等が付着しても、この塵埃等と液晶等の電気光学物質との間の距離がガラス基板の厚み分だけ長くなり、塵埃等の像がデフォーカスされ、スクリーン上に大きくぼやけて表示されるので目立たなくなる。   By protecting the outer surface of the display panel with a dust-proof glass substrate, it is possible to prevent adhesion of dust and the like to the display panel surface. Furthermore, even if dust adheres to the outer surface of the dust-proof glass substrate, the distance between the dust and the electro-optical material such as a liquid crystal is increased by the thickness of the glass substrate, and the image of the dust is defocused. And is not noticeable because it is displayed on the screen in a largely blurred manner.

一般に、TFT(Thin Film Transistor)基板を代表とする素子基板は、多数枚取り可能な大型基板(第2の大型基板)において一括して製造される。例えば特許文献1(特開2006−11353号公報)には、多数の素子基板が形成されている大型基板に対し、この大型基板全体に大型の防塵ガラス基板を貼り合わせる技術が開示されている。   In general, an element substrate typified by a TFT (Thin Film Transistor) substrate is manufactured collectively on a large substrate (second large substrate) that can be obtained in large numbers. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-11353) discloses a technique in which a large dust-proof glass substrate is bonded to the entire large substrate on which a large number of element substrates are formed.

すなわち、先ず、大型の防塵ガラス基板をテーブルにセットした後、この大型の防塵ガラス基板の表面中央に接着剤を塗布する。次いで、この大型の防塵ガラス基板に対し上方から、素子基板が多数形成されている大型基板を当接させた後、所定に加圧して、両基板間に塗布されている接着剤を周辺に浸透させて、大型基板を大型の防塵ガラス基板に密着させる。
特開2006−11353号公報
That is, first, after setting a large dustproof glass substrate on a table, an adhesive is applied to the center of the surface of the large dustproof glass substrate. Next, a large substrate on which a large number of element substrates are formed is brought into contact with the large dust-proof glass substrate from above, and then pressurized to a predetermined degree so that the adhesive applied between the substrates penetrates the periphery. The large substrate is brought into close contact with the large dust-proof glass substrate.
JP 2006-11353 A

ところで、多数の素子基板が形成されている大型基板には、防塵ガラス基板と反対側の面にのみ絶縁膜と金属膜とが交互に積層されている。この絶縁膜は平坦化するために約900℃前後の温度下でアニール処理が施されているが、大型基板と絶縁膜と金属膜とはそれぞれ膨張係数が異なっているため、アニール処理により応力のバランスに崩れが生じ、大型基板に反りが発生する。   By the way, on a large substrate on which a large number of element substrates are formed, insulating films and metal films are alternately laminated only on the surface opposite to the dust-proof glass substrate. This insulating film is annealed at a temperature of about 900 ° C. to flatten it, but the large substrate, the insulating film, and the metal film have different expansion coefficients. The balance is lost, and the large substrate is warped.

又、この大型基板に、多数のチッブ状の対向基板が貼り合わされている場合、この対向基板と大型基板との間においても応力のバランスに崩れが生じ、大型基板に反りが発生する。   In addition, when a large number of chip-like counter substrates are bonded to the large substrate, the balance of stress is lost between the counter substrate and the large substrate, and the large substrate is warped.

大型基板に反りが発生したままの状態で、この大型基板を防塵ガラス基板に貼り合わせると、接着剤が充分に浸透する前に大型基板と大型の防塵ガラス基板とが密着されてしまい、接着不良が発生してしまう。   If the large substrate is bonded to the dust-proof glass substrate while the large substrate remains warped, the large substrate and the large dust-proof glass substrate will be in close contact before the adhesive penetrates sufficiently, resulting in poor adhesion. Will occur.

本発明は、上記事情に鑑み、第2の大型基板に反りが発生していても、この第2の大型基板と第1の大型基板とを、その間に接着剤を充分に浸透させた状態で密着させることができて、接着不良を有効に回避することのできる基板の製造方法を提供することを目的とする。   In the present invention, in view of the above circumstances, even if warpage occurs in the second large substrate, the second large substrate and the first large substrate are sufficiently infiltrated with the adhesive therebetween. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a substrate that can be brought into close contact with each other and can effectively avoid adhesion failure.

上記目的を達成するため本発明による第1の基板の製造方法は、ステージにセットされた第1の大型基板に対して、該第1の大型基板の面の略全体に第2の大型基板を第1の接着剤を介して貼り合わせる基板の製造方法において、前記第1の大型基板の略中央に前記第1の接着剤を塗布し、又該第1の大型基板の外周にゲル状のギャップ材を塗布する塗布工程と、前記第1の大型基板に対して前記第2の大型基板を、該第2の大型基板の外周を前記ギャップ材に支持された状態で加圧しながら貼り合わせる基板貼り合わせ工程とを備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, according to the first substrate manufacturing method of the present invention, a second large substrate is disposed on substantially the entire surface of the first large substrate with respect to the first large substrate set on the stage. In the method for manufacturing a substrate to be bonded through a first adhesive, the first adhesive is applied to the approximate center of the first large substrate, and a gel-like gap is formed on the outer periphery of the first large substrate. An application step of applying a material, and bonding of the second large substrate to the first large substrate while applying pressure while pressing the outer periphery of the second large substrate supported by the gap material And a combining step.

このような構成では、第2の大型基板は、第1大型基板の外周に塗布されているギャップ材に支持された状態で加圧されながら貼り合わされるので、第2の大型基板に反りが発生していても、この第2の大型基板と第1の大型基板とを、その間に第1の接着剤を充分に塗り拡げた状態で密着させることができる。その結果、接着不良が有効に回避され、製品歩留りが向上する。   In such a configuration, the second large substrate is bonded while being pressed while being supported by the gap material applied to the outer periphery of the first large substrate, so that the second large substrate is warped. Even so, the second large substrate and the first large substrate can be brought into close contact with the first adhesive sufficiently spread between them. As a result, poor adhesion is effectively avoided and product yield is improved.

第2の基板の製造方法は、第1の基板の製造法において、前記ギャップ材は前記第1の接着剤と親和性を有しないことを特徴とする。ここで親和性を有しないとは、ギャップ材と第1の接着剤とが第1の大型基板上で接したとき、混ざり合わないことを意味する。   The second substrate manufacturing method is characterized in that, in the first substrate manufacturing method, the gap material does not have affinity with the first adhesive. Here, having no affinity means that the gap material and the first adhesive do not mix when they contact each other on the first large substrate.

このような構成では、ギャップ材が第1の接着剤と親和性を有しないので、第1の接着剤が拡がってギャップ材と接しても、この第1の接着剤にギャップ材が混入することが無く、製品の品質低下を防止することができる。   In such a configuration, since the gap material does not have an affinity with the first adhesive, even if the first adhesive spreads and contacts the gap material, the gap material is mixed into the first adhesive. No deterioration of product quality can be prevented.

第3の基板の製造方法は、第1或いは第2の基板の製造方法において、前記ギャップ材は、ゲル状の第2の接着剤と、ギャップ材用微粒子とで構成されていることを特徴とする。   The third substrate manufacturing method is characterized in that, in the first or second substrate manufacturing method, the gap material is composed of a gel-like second adhesive and gap material fine particles. To do.

このような構成では、ギャップ材を、ゲル状の第2の接着剤とこの第2の接着剤に混入されているギャップ材用微粒子とで構成したので、第1の大型基板と第2の大型基板との間の接着層の隙間をギャップ材用微粒子で規定することができる。   In such a configuration, the gap material is composed of the gel-like second adhesive and the fine particles for the gap material mixed in the second adhesive. Therefore, the first large substrate and the second large size are used. The gap of the adhesive layer between the substrate and the substrate can be defined by the gap material fine particles.

第4の基板の製造方法は、第3の基板の製造方法において、前記ギャップ材用微粒子は前記第1の接着剤と親和性を有しないことを特徴とする。   The fourth substrate manufacturing method is characterized in that, in the third substrate manufacturing method, the fine particles for gap material do not have an affinity for the first adhesive.

このような構成では、ギャップ材用微粒子が第1の接着剤と非親和性を有しているので、第1の接着剤が浸透しても、この第1の接着剤にギャップ材用微粒子が混入することが無く、製品の品質低下を防止することができる。   In such a configuration, since the gap material fine particles have non-affinity with the first adhesive, even if the first adhesive penetrates, the gap material fine particles do not penetrate into the first adhesive. There is no mixing, and the product quality can be prevented from deteriorating.

第5の基板の製造方法は、第3或いは第4の基板の製造方法において、前記第2の接着剤は紫外線硬化型接着剤であることを特徴とする。   The fifth substrate manufacturing method is characterized in that, in the third or fourth substrate manufacturing method, the second adhesive is an ultraviolet curable adhesive.

このような構成では、第2の接着剤を紫外線硬化型接着剤としたので、両大型基板が貼り合わされた後、紫外線硬化型接着剤を紫外線硬化させることで、両大型基板を仮止めすることができ、製造が容易になる。   In such a configuration, since the second adhesive is an ultraviolet curable adhesive, both the large substrates are temporarily fixed by bonding the ultraviolet curable adhesive after the two large substrates are bonded together. Can be manufactured easily.

第6の基板の製造方法は、第1〜第5の基板の製造方法において、前記ギャップ材は前記第1の大型基板の外周に設定間隔毎に点描されることを特徴とする。   The sixth substrate manufacturing method is characterized in that, in the first to fifth substrate manufacturing methods, the gap material is plotted on the outer periphery of the first large substrate at set intervals.

このような構成では、ギャップ材を第1の大型基板の外周に点描したので、全周に塗布する場合に比し、材料費を安価に済ませることができる。   In such a configuration, since the gap material is plotted on the outer periphery of the first large substrate, the material cost can be reduced compared with the case where the gap material is applied to the entire periphery.

以下、図面に基づいて本発明の一実施形態を説明する。図1は液晶表示装置の概略断面図、図2は大型基板にチップ状の対向基板が貼り合わされた状態の斜視図である。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of a liquid crystal display device, and FIG. 2 is a perspective view of a state in which a chip-like counter substrate is bonded to a large substrate.

先ず、図1を参照して液晶表示装置の全体構成について簡単に説明する。尚、図1には駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置が示されている。   First, the overall configuration of the liquid crystal display device will be briefly described with reference to FIG. FIG. 1 shows a TFT active matrix drive type liquid crystal display device with a built-in drive circuit.

図1の符号1は、電気光学装置の代表である液晶表示装置であり、石英ガラス基板等からなる第1の基板としてのTFT(Thin Film Transistor)基板10と、これに対向配置される石英ガラス基板等からなる第2の基板としての対向基板20とがシール材52を介して貼り合わされて液晶パネル120が形成されており、シール材52によって形成された両基板10,20の対向面間に、電気光学物質としての液晶50が封入されている。   Reference numeral 1 in FIG. 1 denotes a liquid crystal display device that is representative of an electro-optical device, which is a TFT (Thin Film Transistor) substrate 10 as a first substrate made of a quartz glass substrate and the like, and a quartz glass disposed to face the TFT substrate. A liquid crystal panel 120 is formed by bonding a counter substrate 20 as a second substrate made of a substrate or the like via a sealing material 52, and between the opposing surfaces of both substrates 10, 20 formed by the sealing material 52. A liquid crystal 50 as an electro-optical material is enclosed.

TFT基板10上には画素を構成する画素電極(ITO)9a等がマトリクス状に配置され、又、対向基板20上には全面に対向電極(ITO)21が設けられている。更に、TFT基板10の画素電極9a上、及び対向基板20上の全面に渡って、ラビング処理が施された配向膜16,22が各々形成されている。尚、各配向膜16,22は、ポリイミド膜等の透明な有機膜で構成されている。   Pixel electrodes (ITO) 9a constituting pixels are arranged in a matrix on the TFT substrate 10, and a counter electrode (ITO) 21 is provided on the entire surface of the counter substrate 20. Further, the alignment films 16 and 22 subjected to the rubbing process are formed on the entire surface of the pixel electrode 9a of the TFT substrate 10 and the counter substrate 20, respectively. The alignment films 16 and 22 are made of a transparent organic film such as a polyimide film.

又、TFT基板10のシール材52が形成された領域の外側の一辺に、データ線駆動回路101、及び外部接続端子102が形成されている。尚、図示しないが、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路が設けられ、更に、残る一辺に、走査線駆動回路間をつなぐ配線パターンが形成されている。   A data line driving circuit 101 and an external connection terminal 102 are formed on one side outside the region where the sealing material 52 of the TFT substrate 10 is formed. Although not shown, a scanning line driving circuit is provided along two sides adjacent to the one side, and a wiring pattern for connecting the scanning line driving circuits is formed on the remaining side.

更に、液晶パネル120の両面に、防塵機能を有する透明なガラス基板(以下「防塵ガラス基板」と称する)30,31が貼設されている。防塵ガラス基板30,31は、塵埃等が液晶パネル120の表面に付着することを防止すると共に、塵埃等が液晶表示面から離間させてデフォーカスすることで、塵埃等の像を目立たなくさせる機能を有する。   Further, transparent glass substrates (hereinafter referred to as “dust-proof glass substrates”) 30 and 31 having a dust-proof function are attached to both surfaces of the liquid crystal panel 120. The dust-proof glass substrates 30 and 31 prevent dust and the like from adhering to the surface of the liquid crystal panel 120 and defocus the dust and the like away from the liquid crystal display surface, thereby making the image of the dust and the like inconspicuous. Have

このような機能を実現するために、防塵ガラス基板30,31は、板厚が1〜3mm程度と比較的厚く形成されており、その材質は、TFT基板30や対向基板20と同一のものが使用されている。又、防塵ガラス基板30,31は、液晶パネル120の表面に対し、TFT基板30や対向基板20(及び防塵ガラス基板30,31)と同じ屈折率に調整されたシリコン系接着剤やアクリル系接着剤等からなる、第1の接着剤としての熱硬化型透明接着剤41を用いて、TFT基板30と対向基板20の外表面に対し気泡を除去した状態で接着されている。   In order to realize such a function, the dust-proof glass substrates 30 and 31 are formed to be relatively thick with a plate thickness of about 1 to 3 mm, and the material is the same as that of the TFT substrate 30 and the counter substrate 20. in use. Further, the dust-proof glass substrates 30 and 31 are a silicon-based adhesive or acrylic-based adhesive adjusted to the same refractive index as the TFT substrate 30 or the counter substrate 20 (and the dust-proof glass substrates 30 and 31) with respect to the surface of the liquid crystal panel 120. A thermosetting transparent adhesive 41 as a first adhesive made of an agent or the like is used to bond the TFT substrate 30 and the outer surface of the counter substrate 20 with air bubbles removed.

TFT基板10と対向基板20とは、異なる工程を経て個別に製造された後、貼り合わされる。図2に示すように、貼り合わせに際しては、多数のTFT基板10が形成されている第2の大型基板としての大型基板110に対して、チップ状に形成された対向基板20を貼り合わせ、その後、TFT基板10と対向基板20との間に液晶を注入し、封入する。   The TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are individually bonded through different processes and then bonded together. As shown in FIG. 2, at the time of bonding, a counter substrate 20 formed in a chip shape is bonded to a large substrate 110 as a second large substrate on which a large number of TFT substrates 10 are formed. Then, liquid crystal is injected between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 and sealed.

尚、本実施形態による大型基板110は円板状に形成されているが、形状はこれに限定されるものではなく、例えば矩形状に形成されていても良い。又、図においては、1つの大型基板110に、12個のTFT基板10が形成されているが、1つの大型基板110に形成されるTFT基板10の数は、これに限定されるものではない。   In addition, although the large sized board | substrate 110 by this embodiment is formed in disk shape, a shape is not limited to this, For example, you may form in the rectangular shape. In the figure, twelve TFT substrates 10 are formed on one large substrate 110, but the number of TFT substrates 10 formed on one large substrate 110 is not limited to this. .

又、防塵ガラス基板30,31は、図2に示すような大型基板110に、複数の液晶パネル120が形成されている状態で貼付される。図3に、液晶パネル120に防塵ガラス基板30,31を実装する工程を示す。尚、この作業はクリーンルーム内で行われる。   The dustproof glass substrates 30 and 31 are attached to a large substrate 110 as shown in FIG. 2 in a state where a plurality of liquid crystal panels 120 are formed. FIG. 3 shows a process of mounting the dustproof glass substrates 30 and 31 on the liquid crystal panel 120. This work is performed in a clean room.

工程(a):先ず、大型基板110に複数の液晶パネル120を所定に形成した後、洗浄し、動作状態等の検査を行う。   Step (a): First, after a plurality of liquid crystal panels 120 are formed on a large substrate 110 in a predetermined manner, the liquid crystal panel 120 is cleaned and inspected for its operating state.

工程(b):大型基板110の、対向基板20が貼り合わされている面と反対側の面である外表面(図2の下面)に、大型基板110よりもやや小さい形状の、第1の大型基板としての大型防塵ガラス基板300を貼付する。尚、大型防塵ガラス基板300は、チップ状に分割されることで防塵ガラス基板30となる。   Step (b): a first large large substrate 110 having a shape slightly smaller than that of the large substrate 110 on the outer surface (the lower surface in FIG. 2) that is the surface opposite to the surface on which the counter substrate 20 is bonded. A large dust-proof glass substrate 300 as a substrate is attached. The large dust-proof glass substrate 300 becomes the dust-proof glass substrate 30 by being divided into chips.

工程(c):その後、全体を洗浄した後、各対向基板20の、大型基板110に対向する面と反対側の面である外表面(図2の上面)に対向基板20とほぼ同形状の小型防塵ガラス基板31を貼付する。   Step (c): After that, the entire substrate is cleaned, and the outer surface (upper surface in FIG. 2), which is the surface opposite to the surface facing the large substrate 110, of each counter substrate 20 has substantially the same shape as the counter substrate 20. A small dust-proof glass substrate 31 is attached.

工程(d):大型基板110の対向基板20が張り合わされている面にスクライブラインLを形成し、スクライブラインLに沿って大型基板110を分割し、チップ状の液晶表示装置1を切り出す。このとき大型防塵ガラス基板300も、チップ状の防塵ガラス基板30に切り出される。   Step (d): A scribe line L is formed on the surface of the large substrate 110 where the counter substrate 20 is bonded, the large substrate 110 is divided along the scribe line L, and the chip-like liquid crystal display device 1 is cut out. At this time, the large dustproof glass substrate 300 is also cut out into the chip-shaped dustproof glass substrate 30.

ところで、後述するギャップ材42は、大型基板110の周縁であって、切り出される液晶表示装置1の領域には影響しない位置に点描されているため、大型基板110をスクライブラインLに沿って分割した際に、廃棄される。   By the way, since the gap member 42 described later is dotted on the periphery of the large substrate 110 and does not affect the region of the liquid crystal display device 1 to be cut out, the large substrate 110 is divided along the scribe line L. When discarded.

尚、防塵ガラス基板30,31の実装工程においては、工程(b)と工程(c)とを入れ換え、大型基板110に大型防塵ガラス基板300を貼付する前に、対向基板20に対して小型防塵ガラス基板31を貼付するようにしても良い。   In the mounting process of the dust-proof glass substrates 30 and 31, the process (b) and the process (c) are interchanged, and before the large dust-proof glass substrate 300 is attached to the large-sized substrate 110, the small dust-proof glass is applied to the counter substrate 20. You may make it affix the glass substrate 31. FIG.

次に、図3(b)に示す大型防塵ガラス基板300の貼付け工程について、図4の工程図を参照しながら更に詳しく説明する。   Next, the process of attaching the large dustproof glass substrate 300 shown in FIG. 3B will be described in more detail with reference to the process diagram of FIG.

工程(a):ステージ40上に大型防塵ガラス基板300を載置する。図6に示すように、ステージ40には大型防塵ガラス基板300を取付ける凹部40aが形成されており、その周囲に昇降装置43が配設されている。この昇降装置43に大型基板110の周縁が載置されるため、本実施形態による大型基板110は大型防塵ガラス基板300よりも大きな外形を有している。   Step (a): A large dust-proof glass substrate 300 is placed on the stage 40. As shown in FIG. 6, the stage 40 is formed with a recess 40 a for attaching a large dustproof glass substrate 300, and an elevating device 43 is disposed around the recess 40 a. Since the periphery of the large substrate 110 is placed on the lifting device 43, the large substrate 110 according to the present embodiment has a larger outer shape than the large dust-proof glass substrate 300.

次いで、この大型防塵ガラス基板300の中央に大型防塵ガラス基板300と同じ屈折率に調整されたシリコン系接着剤やアクリル系接着剤等からなる熱硬化型透明接着剤41を塗布し、又、周囲にギャップ材42を所定間隔毎に点描する。尚、ギャップ材42は大型防塵ガラス基板の外周全体に塗布されていても良い。   Next, a thermosetting transparent adhesive 41 made of a silicon adhesive or an acrylic adhesive adjusted to the same refractive index as that of the large dustproof glass substrate 300 is applied to the center of the large dustproof glass substrate 300, and the surroundings The gap material 42 is pointed at predetermined intervals. The gap material 42 may be applied to the entire outer periphery of the large dust-proof glass substrate.

図8(a)に示すように、ギャップ材42は、第2の接着剤としてのゲル状の紫外線硬化型接着剤42aと、この紫外線硬化型接着剤42aに混入されているギャップ材用微粒子42bとを有している。尚、この紫外線硬化型接着剤42aとギャップ材用微粒子42bとは、熱硬化型透明接着剤41に対して非親和性を有している。   As shown in FIG. 8A, the gap material 42 includes a gel-like ultraviolet curable adhesive 42a as a second adhesive, and gap material fine particles 42b mixed in the ultraviolet curable adhesive 42a. And have. The ultraviolet curable adhesive 42 a and the gap material fine particles 42 b have no affinity for the thermosetting transparent adhesive 41.

このギャップ材用微粒子42bは、大型防塵ガラス基板300と大型基板110との間に形成される接着層の隙間と同じか、それよりも小さい粒径を有し、更に、ギャップ材42の点描高さは、上述した接着層の隙間よりもやや高く設定されている。   The fine particles 42b for the gap material have a particle size that is the same as or smaller than the gap of the adhesive layer formed between the large dust-proof glass substrate 300 and the large substrate 110. The height is set slightly higher than the gap between the adhesive layers described above.

又、図5に示すように、ギャップ材42の点描位置は、大型基板110に形成されている画素に影響を及ぼさない位置、例えばチップ状の液晶表示装置1が切り出される際に、廃棄される位置に点描される。但し、防塵ガラス基板300とこれに貼り合わされる大型基板110とを位置合わせするアライメントマーク300a上には点描せず、しかも、このアライメントマーク300aに近接する位置には比較的短いピッチで点描する。   Further, as shown in FIG. 5, the stippling position of the gap material 42 is discarded when the chip-shaped liquid crystal display device 1 is cut out, for example, at a position that does not affect the pixels formed on the large substrate 110. Pointed to the location. However, the dust-proof glass substrate 300 and the large-sized substrate 110 bonded to the dust-proof glass substrate 300 are not spotted on the alignment mark 300a for positioning, and are also spotted at a relatively short pitch at a position close to the alignment mark 300a.

次いで、大型防塵ガラス基板300上に、複数の液晶パネル120が形成されている大型基板110を、所定にアライメント調整を行った状態で対向させ、ステージ40の周囲に設けられている昇降装置43に支持させ、この状態で減圧室130へ移送する。尚、図6に示すように、大型基板110には、大型基板110の製造工程(いわゆる前工程)において行ったアニール処理、及び対向基板20が貼り合わされた際の応力バラスにより反りが発生する場合がある。   Next, the large substrate 110 on which the plurality of liquid crystal panels 120 are formed is opposed to the large dustproof glass substrate 300 in a state where the alignment adjustment is performed in a predetermined manner, and the large substrate 110 is placed on the lifting device 43 provided around the stage 40. It is made to support and it transfers to the decompression chamber 130 in this state. As shown in FIG. 6, when the large substrate 110 is warped due to the annealing process performed in the manufacturing process of the large substrate 110 (so-called pre-process) and the stress ballast when the counter substrate 20 is bonded. There is.

工程(b):減圧室130に大型防塵ガラス基板300が搬入された後、室内を減圧し、設定圧力(例えば2.5[Pa])程度に到達した後、300[sec]程度経過するまで、放置する。或いは、減圧室130が予め設定した圧力(例えば1.0[Pa])程度に達するまで放置する。   Step (b): After the large dust-proof glass substrate 300 is carried into the decompression chamber 130, the interior is decompressed, and after reaching a set pressure (for example, 2.5 [Pa]), it is left until about 300 [sec] elapses. To do. Alternatively, the decompression chamber 130 is left until reaching a preset pressure (for example, 1.0 [Pa]).

工程(c):減圧室130が工程(b)で設定した状態に達した後、大型基板110を大型防塵ガラス基板300上に、昇降装置43を介し、例えば0.5[mm/sec]程度の落とし込み速度で静かに載置し、貼り合わせる。   Step (c): After the decompression chamber 130 reaches the state set in step (b), the large substrate 110 is dropped onto the large dust-proof glass substrate 300 through the lifting device 43, for example, about 0.5 [mm / sec]. Place it gently at a speed and paste it together.

そして、所定時間(例えば300[sec]程度)、放置する。すると、大型基板110は、自重により大型防塵ガラス基板300上に近接され、この大型基板110の底面で熱硬化型透明接着剤41が周辺に押し広げられる。同時に、大型基板110の周辺に、大型防塵ガラス基板300に点描されているギャップ材42に接触される。   Then, it is left for a predetermined time (for example, about 300 [sec]). Then, the large substrate 110 is brought close to the large dust-proof glass substrate 300 by its own weight, and the thermosetting transparent adhesive 41 is pushed and spread around the bottom surface of the large substrate 110. At the same time, the gap material 42 drawn on the large dust-proof glass substrate 300 is brought into contact with the periphery of the large substrate 110.

工程(d):大型基板110上の面全体に加圧ヘッド44を、上方から下降させて当接し、この大型基板110を、所定加圧力(例えば100[g/cm2]程度)で、所定時間(例えば180[sec]程度)だけ押圧する。すると、図7、図8(a)に示すように、大型基板110は、その周辺がギャップ材42に支持され、このギャップ材42が潰されながらゆっくりと反りが矯正される。又、その間、熱硬化型透明接着剤41が、大型基板110と大型防塵ガラス基板300との間の空気を外周方向へ押出しながら、周囲へゆっくりと拡散する。   Step (d): The pressure head 44 is brought into contact with the entire surface of the large substrate 110 while being lowered from above, and the large substrate 110 is brought into contact with the predetermined pressure (for example, about 100 [g / cm 2]) for a predetermined time. Press only (for example, about 180 [sec]). Then, as shown in FIGS. 7 and 8A, the periphery of the large substrate 110 is supported by the gap material 42, and the warp is slowly corrected while the gap material 42 is crushed. In the meantime, the thermosetting transparent adhesive 41 slowly diffuses to the surroundings while extruding air between the large substrate 110 and the large dustproof glass substrate 300 in the outer peripheral direction.

すると、図8(b)に示すように、大型基板110は、水平方向へ延ばされて反りが矯正され、大型防塵ガラス基板300との間に対して熱硬化型透明接着剤41が均一に浸透し、両基板110,300が、高い密着度で貼り合わされる。その結果、大型基板110に反りが発生していても、熱硬化型透明接着剤41の浸透不足による接着不良が発生せず、製品歩留りを向上させることができる。   Then, as shown in FIG. 8B, the large substrate 110 is extended in the horizontal direction to correct the warp, and the thermosetting transparent adhesive 41 is evenly distributed between the large substrate 110 and the large dust-proof glass substrate 300. The two substrates 110 and 300 are bonded together with high adhesion. As a result, even if the large substrate 110 is warped, adhesion failure due to insufficient penetration of the thermosetting transparent adhesive 41 does not occur, and the product yield can be improved.

尚、ギャップ材42の紫外線硬化型接着剤42a及びギャップ材用微粒子42bは、熱硬化型透明接着剤41に対して非親和性を有しているため、この紫外線硬化型接着剤42a及びギャップ材用微粒子42bが熱硬化型透明接着剤41中に混入することはない。   The ultraviolet curable adhesive 42a and the gap material fine particles 42b of the gap material 42 have non-affinity with the thermosetting transparent adhesive 41. Therefore, the ultraviolet curable adhesive 42a and the gap material 42 The fine particles 42b are not mixed in the thermosetting transparent adhesive 41.

工程(e):工程(d)において、所定時間(例えば180[sec]程度)経過した後、減圧室130を徐々に昇圧し、大気圧に達した後、減圧室130から互いに貼り合わされた両基板110,300を取り出し、大型防塵ガラス基板300の周囲に塗布されているギャップ材42の紫外線硬化型接着剤42aに、紫外線45をスポット照射して硬化させ、両基板110,300を仮固定する。   Step (e): In step (d), after a predetermined time (for example, about 180 [sec]) has elapsed, the decompression chamber 130 is gradually increased in pressure to reach atmospheric pressure, and then the two bonded together from the decompression chamber 130 are combined. The substrates 110 and 300 are taken out, and the ultraviolet curable adhesive 42a of the gap material 42 applied around the large dust-proof glass substrate 300 is cured by spot irradiation with ultraviolet rays 45 to temporarily fix the substrates 110 and 300. .

工程(f):紫外線硬化型接着剤42aにより仮固定されている両基板110,300を、所定温度(例えば80[℃]程度)に加熱されている高温室131へ搬送し、この中で所定時間(例えば1.5[h]程度)、放置し、熱硬化型透明接着剤41を硬化させて両基板110,300を接着する。大型基板110と大型防塵ガラス基板300とは紫外線硬化型接着剤42aにて仮止めされているため、位置ずれすることなく安定した姿勢で接着される。   Step (f): Both substrates 110 and 300 temporarily fixed by the ultraviolet curable adhesive 42a are transported to a high temperature chamber 131 heated to a predetermined temperature (for example, about 80 [° C.]), in which a predetermined The substrate is left to stand for a period of time (for example, about 1.5 [h]), and the thermosetting transparent adhesive 41 is cured to bond the substrates 110 and 300 together. Since the large substrate 110 and the large dust-proof glass substrate 300 are temporarily fixed by the ultraviolet curable adhesive 42a, they are bonded in a stable posture without being displaced.

そして、所定時間(例えば1.5[h]程度)経過後に、高温室131から互いに接着されている両基板110,300を取り出し、所定に冷却させて、大型防塵ガラス基板300の貼り合わせを完了する。   Then, after elapse of a predetermined time (for example, about 1.5 [h]), the two substrates 110 and 300 bonded to each other are taken out from the high temperature chamber 131 and cooled to a predetermined level to complete the bonding of the large dustproof glass substrate 300.

熱硬化型透明接着剤41の硬化時間を比較的長く設定しても、一度に全体が接着されるため、トータル的な硬化時間は、個別に硬化させる場合に比し、大幅に短縮させることができ、その分、生産性を向上させることができる。   Even if the curing time of the thermosetting transparent adhesive 41 is set to be relatively long, since the whole is bonded at once, the total curing time can be significantly reduced as compared with the case of individually curing. And productivity can be improved accordingly.

本発明において、電気光学装置は、TFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置以外に、パッシブマトリックス型の液晶装置、TFD(薄型ダイオード)をスイッチング素子として備えた液晶装置であっても良く、更に、液晶装置に限らず、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display、及びSurface-Conductin Electron-Emitter Display)、更には、DLP(Digital Light Processing)やDMD(Digital Micromirror Device)等の各種の電気光学装置に、本発明を適用することも可能である。   In the present invention, the electro-optical device may be a liquid crystal device having a passive matrix type liquid crystal device or a TFD (thin diode) as a switching element in addition to the TFT active matrix driving type liquid crystal device. In addition to electroluminescence devices, organic electroluminescence devices, plasma display devices, electrophoretic display devices, devices using electron-emitting devices (Field Emission Display and Surface-Conductin Electron-Emitter Display), and DLP (Digital The present invention can also be applied to various electro-optical devices such as light processing and DMD (digital micromirror device).

液晶表示装置の概略断面図Schematic sectional view of a liquid crystal display device 大型基板にチップ状の対向基板が貼り合わされた状態の斜視図A perspective view of a state where a chip-like counter substrate is bonded to a large substrate 液晶パネルの外表面に防塵ガラス基板を実装する工程を示す工程図Process diagram showing the process of mounting a dust-proof glass substrate on the outer surface of the liquid crystal panel 大型防塵ガラス基板の貼り合わせ工程を示す工程図Process diagram showing the bonding process of a large dustproof glass substrate 大型防塵ガラス基板にギャップ材が点描されている状態の平面図Top view of gap dust on a large dustproof glass substrate 図4(b)の拡大図Enlarged view of Fig. 4 (b) 図4(d)の拡大図Enlarged view of Fig. 4 (d) 図7を状態別に示す拡大断面図Fig. 7 is an enlarged cross-sectional view showing each state.

符号の説明Explanation of symbols

1…液晶表示装置、31…小型防塵ガラス基板、40…ステージ、40a…凹部、41…熱硬化型透明接着剤、42…ギャップ材、42a…紫外線硬化型接着剤、42b…ギャップ材用微粒子、43…昇降装置、44…加圧ヘッド、100…大型基板、110…大型基板、300…大型防塵ガラス基板   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display device, 31 ... Small dust-proof glass substrate, 40 ... Stage, 40a ... Recessed part, 41 ... Thermosetting transparent adhesive, 42 ... Gap material, 42a ... Ultraviolet curable adhesive, 42b ... Fine particle for gap materials, 43 ... Lifting device, 44 ... Pressure head, 100 ... Large substrate, 110 ... Large substrate, 300 ... Large dust-proof glass substrate

Claims (6)

ステージにセットされた第1の大型基板に対して、該第1の大型基板の面の略全体に第2の大型基板を第1の接着剤を介して貼り合わせる基板の製造方法において、
前記第1の大型基板の略中央に前記第1の接着剤を塗布し、又該第1の大型基板の外周にゲル状のギャップ材を塗布する塗布工程と、
前記第1の大型基板に対して前記第2の大型基板を、該第2の大型基板の外周を前記ギャップ材に支持された状態で加圧しながら貼り合わせる基板貼り合わせ工程と
を備えることを特徴とする基板の製造方法。
In the method for manufacturing a substrate in which a second large substrate is bonded to substantially the entire surface of the first large substrate with respect to the first large substrate set on the stage via the first adhesive.
An application step of applying the first adhesive to approximately the center of the first large substrate, and applying a gel-like gap material to the outer periphery of the first large substrate;
A substrate bonding step of bonding the second large substrate to the first large substrate while pressing the outer periphery of the second large substrate while being supported by the gap material. A method for manufacturing a substrate.
前記ギャップ材は前記第1の接着剤と親和性を有しない
ことを特徴とする請求項1記載の基板の製造方法。
The method for manufacturing a substrate according to claim 1, wherein the gap material does not have an affinity for the first adhesive.
前記ギャップ材はゲル状の第2の接着剤とギャップ材用微粒子とで構成されている
ことを特徴とする請求項1或いは2記載の基板の製造方法。
3. The method of manufacturing a substrate according to claim 1, wherein the gap material comprises a gel-like second adhesive and fine particles for gap material.
前記ギャップ材用微粒子は前記第1の接着剤と親和性を有しない
ことを特徴とする請求項3記載の基板の製造方法。
4. The method for manufacturing a substrate according to claim 3, wherein the fine particles for gap material do not have an affinity for the first adhesive.
前記第2の接着剤は紫外線硬化型接着剤であることを特徴とする請求項3或いは4記載の基板の製造方法。   5. The method for manufacturing a substrate according to claim 3, wherein the second adhesive is an ultraviolet curable adhesive. 前記ギャップ材は前記第1の大型基板の外周に設定間隔毎に点描される
ことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の基板の製造方法。
The substrate manufacturing method according to claim 1, wherein the gap material is plotted on the outer periphery of the first large substrate at set intervals.
JP2008023568A 2008-02-04 2008-02-04 Method of manufacturing substrate Withdrawn JP2009186538A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008023568A JP2009186538A (en) 2008-02-04 2008-02-04 Method of manufacturing substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008023568A JP2009186538A (en) 2008-02-04 2008-02-04 Method of manufacturing substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009186538A true JP2009186538A (en) 2009-08-20

Family

ID=41069876

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008023568A Withdrawn JP2009186538A (en) 2008-02-04 2008-02-04 Method of manufacturing substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009186538A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015210399A (en) * 2014-04-28 2015-11-24 三菱電機株式会社 Method for manufacturing flat panel device integral with transparent face material, and flat panel device integral with transparent face material
US11199747B2 (en) 2019-10-08 2021-12-14 Seiko Epson Corporation Electro-optical device and electronic apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015210399A (en) * 2014-04-28 2015-11-24 三菱電機株式会社 Method for manufacturing flat panel device integral with transparent face material, and flat panel device integral with transparent face material
US11199747B2 (en) 2019-10-08 2021-12-14 Seiko Epson Corporation Electro-optical device and electronic apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI451610B (en) Mother substrate structure of light emitting devices and light emitting device and method of fabricating the same
JP3483809B2 (en) Substrate bonding method and bonding apparatus, and liquid crystal display device manufacturing method
KR20030071034A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device
US7491580B2 (en) Method of manufacturing electro-optical device
JPH08160407A (en) Production of liquid crystal display element
JP2009186538A (en) Method of manufacturing substrate
JP2004094195A (en) Method for fablicating liquid crystal display panel
JP2007240914A (en) Method and apparatus for manufacturing electrooptical device
JP2005249886A (en) Manufacturing method and apparatus of electrooptical display
US20180275437A1 (en) Display panel and method of producing display panel
JP2009063692A (en) Method and device for manufacturing electro-optical device
JP2005234309A (en) Method for manufacturing optical component and optical component
JP2009058565A (en) Device and method for manufacturing electrooptical device
KR20070021489A (en) Method for curing sealant using ?? irradiation
JP4311248B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
JP2010002700A (en) Display, and method for producing the same
JP4240143B2 (en) Manufacturing method of electro-optical device
JP2007079374A (en) Method for manufacturing electrooptical apparatus
JP4301337B2 (en) Manufacturing method of electro-optical device
JP2005148214A (en) Method for manufacturing liquid crystal display device, liquid crystal display device manufactured with the method, and electronic apparatus with liquid crystal display device mounted thereon
JP5003349B2 (en) Electro-optical device manufacturing method, electro-optical device manufacturing apparatus
JP2009058564A (en) Manufacturing apparatus and manufacturing method for electro-optical device
JP2006208867A (en) Manufacturing method of liquid crystal panel for projector
JP2008233593A (en) Manufacturing method of electro-optical device
JP2006004708A (en) Sealing device, sealing method, organic el device and electronic apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20110405