JP2009185317A - エレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ワークから飛散する処理液が隣接するワークに付着することをなくし、めっき不良の発生を防止するエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置を提供する。
【解決手段】隣接する２個のハンガー５、５の間の処理槽４の上部を定位置とするワークの進行方向に対して垂直な面とした遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを設け、該遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃをワークの進行方向に対して前後方向と直角方向に移動させる遮蔽板移動機構１２を設け、該遮蔽板移動機構１２は遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃをワークの進行と同期してワークの進行方向に移動させ、次にワークの下降後処理槽４の上部から外れた外側までワークの進行方向と直角方向に移動させ、続いてワークの進行方向と逆方向にワークの進行方向に対する定位置まで移動させ、さらに処理槽４の上部の定位置までワークの進行方向と直角方向に移動させる動作をするものとした。
【選択図】図１

Description

本発明は、隣接するハンガーから飛散する処理液によりワークが汚染されるのを防止する、エレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置に関するものである。

エレベータ式めっき装置は、図４に示すように装置両側の大型スプロケット間に架け渡された無端チェーンに昇降動自在なハンガーを備えた多数の柱状キャリアを一定のピッチで取り付けて構成したものである。その多数の柱状キャリアは大型スプロケットの回転により一斉に横行し、ハンガーは昇降ビームにより必要箇所で昇降するようにしてあり、ハンガーの経路に沿って処理槽が配列してある。ワークはハンガーに支持された治具に取り付けられ、次の処理槽に移動するときは上昇した位置で、継続して同じ処理槽に浸漬されるときは下降した位置で、それぞれ横行する動きを一定周期で繰り返し、各処理槽に順次浸漬させられて矢印の方向に１周する間に自動的にめっきされる。（特許文献１）

昇降ビームによりハンガーが上昇した後大型スプロケットが回転して柱状キャリアが移動するまでの間には、液切り時間と呼ばれる一定の静止時間が設けられており、液切り時間の間にワークに付着した処理液を処理槽に滴下させる液切りをして、次の処理槽に理液が持ち込まれないようにしている。ところが、このとき上方部に取り付けられたワークから雫となって滴下した処理液は下方部のワークや治具に当たり、周囲に飛散することになる。この飛散した処理液は同時に引き上げられている隣接するハンガーに支持された治具やワークに付着して汚染することとなり、めっき不良やしみを発生させるという問題があった。

また、飛散した処理液が処理槽周辺を汚すという問題もあり、例えば黒色化成皮膜処理のような処理では特に発生しやすいということがあった。飛散した処理液が隣接するハンガーに支持された治具やワークに付着するのを回避するためには、例えばハンガーの間隔を拡げることが考えられる。しかしながら、エレベータ式めっき装置では柱状キャリアのピッチが一定であり、問題となる部分だけを拡げることができないためこうした方法を採用することは装置全体の大型化を招き不都合である。その他検討はなされているが、有効な対策が施された装置は現在まで実用化されていない。
特開平１０−２８０１９７公報

本発明は上記の問題点を解決し、液切り中にワークから滴下して下方のワークや治具に当たって飛散する処理液を遮って隣接するハンガーに支持された治具やワークに付着することをなくし、めっき不良やしみの発生を防止することができる、エレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置を提供するためになされたものである。

上記の問題を解決するためになされた本発明のエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置は、エレベータ式めっき装置において、隣接する２個のハンガーの間の処理槽の上部を定位置とするワークの進行方向に対して垂直な面とした遮蔽板を設け、該遮蔽板をワークの進行方向に対して前後方向と直角方向に移動させる遮蔽板移動機構を設け、該遮蔽板移動機構は遮蔽板をワークの進行と同期してワークの進行方向に移動させ、次にワークの下降後処理槽の上部から外れた外側までワークの進行方向と直角方向に移動させ、続いてワークの進行方向と逆方向にワークの進行方向に対する定位置まで移動させ、さらに処理槽の上部の定位置までワークの進行方向と直角方向に移動させる動作をするものとしたことを特徴とするものである。ここにおいて、遮蔽板移動機構をエレベータめっき装置本体の上部フレームに支持させ、遮蔽板の上部を遮蔽板移動機構に保持させることが好ましく、遮蔽板をハンガーと等間隔に複数設け、複数の遮蔽板を同時に移動させることができるように連結することができる。

本発明によれば、処理槽から上昇して液切りする間にワークから飛散する処理液が遮蔽板に遮られるので隣接するワークに付着して汚染することがない効果がある。ワークが移動する間も遮蔽板は同時に移動し、ワークが次の処理槽に浸漬されるまでその位置に留まるので、液切り後にワークに残留していた処理液が移動時の振動等により滴下、飛散することがあっても隣接するワークを汚染することがない利点がある。また、遮蔽板移動機構をエレベータめっき装置本体の上部フレームに支持させ、遮蔽板の上部を遮蔽板移動機構に保持させるようにした場合には、遮蔽板移動機構をエレベータめっき装置本体の上部フレームに支持させるだけで既設のエレベータ式めっき装置にも容易に取り付けることができる利点がある。さらに、遮蔽板をハンガーと等間隔に複数設け、複数の遮蔽板を同時に移動させることができるように連結した場合には、相互に隣接する複数の処理槽から上昇するワークの汚染も防止することができる利点がある。

次に、本発明を実施するための最良の形態について、図を参照しながら具体的に説明する。
図１ないし図３は本発明のエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置を図４に示すようなエレベータ式めっき装置に組み込んだ状態を示すものである。エレベータ式めっき装置の構成は基本的に従来知られるものと同様であり、多数の柱状キャリア１、１の上端及び下端を装置両側の大型スプロケット２、２の間に架け渡した無端チェーン３、３に一定ピッチで取り付けてある。また、柱状キャリア１、１の外側には処理槽４、４が工程順に配列してあり、１又は複数の柱状キャリア１に１個の処理槽４が対応させてある。

図４に示すエレベータ式めっき装置が亜鉛めっきをした後クロメート処理を行う装置である場合には、工程の最後に近い部分にクロメート処理槽４ａ、水洗槽４ｂ、４ｃが配列されることになる。こうした処理工程の場合には、水洗槽４ｂで上昇したワークに、隣接する前工程のクロメート処理槽４ａで上昇したワークから飛散するクロメート処理液が付着するとしみが発生しやすいので、ワークの汚染防止装置はこのような部分に組み込むことが有効である。図１ないし図３はこのクロメート処理槽４ａ及び水洗槽４ｂ、４ｃの部分に組み込んだ状態を示しており、以下の説明ではクロメート処理槽４ａ等の処理槽側を正面、柱状キャリア１、１すなわちワークの進行方向を右と表現するものとする。

各柱状キャリア１には前面にハンガー５を取り付けた昇降枠６が昇降動自在に支持させてあり、該昇降枠６の後面には昇降ビーム７に支持される支持ローラー８が取り付けてある。図示していないが昇降ビーム７を上下動させる駆動装置が設けてあり、これも図示していないが大型スプロケット２、２を間歇的に一定角度ずつ回転させて無端チェーン３、３を間歇駆動する駆動装置が設けてある。これにより昇降ビーム７を上昇させるとハンガー５が上昇するので、大型スプロケット２、２を一定角度回転させて無端チェーン３、３を柱状キャリア１、１の間隔と同じ一定寸法移動させた後昇降ビーム７を下降させるとハンガー５に取り付けられたワークは次工程の処理槽４に移動することになる。この昇降ビーム７の上昇、無端チェーン３、３の一定寸法の移動、昇降ビーム７の下降の一連の動作が一定周期で繰り返され、ハンガー５に取り付けたワークは順次移送されて処理される。

この図示した例ではクロメート処理槽４ａがクロメート処理時間を長くするため２個の柱状キャリア１、１すなわちハンガー５、５に対応させてあり、ハンガー５はクロメート処理槽４ａ左方の定位置で下降し、右方の定位置で上昇する。処理槽４上にはクロメート処理槽４ａが対応する２個のハンガー５、５の中間に遮蔽板９ａが、クロメート処理槽４ａが対応する右側のハンガー５と水洗槽４ｂに対応するハンガー５の中間に遮蔽板９ｂが、水洗槽４ｂに対応するハンガー５と水洗槽４ｃに対応するハンガー５の中間に遮蔽板９ｃがそれぞれ設けてあり、この位置を遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの定位置としている。遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃはハンガー５、５の進行方向に対して垂直な面としてあり、ハンガー５、５に取り付けられたワークの寸法より上下方向、前後方向ともに１００ｍｍないし２００ｍｍ大きくすることが好ましく、また、処理液に耐えることができる例えば塩化ビニルのような材質で構成することが好ましい。

遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの上端は遮蔽板連結枠１０に取り付けてあり、該遮蔽板連結枠１０は遮蔽板連結枠１０の上面から上方に向けて設けた接続板１１により遮蔽板移動機構１２と接続して保持させてある。遮蔽板移動機構１２は処理槽４側に張り出してめっき装置本体の上部フレーム１３に取り付けた取り付け梁１４、１４と、該取り付け梁１４、１４上に前後動自在に支持させた前後移動板１５と、前後移動板１５上に左右動自在に支持させた左右移動板１６とから構成してあり、前記接続板１１は左右移動板１６に接続してある。図中１７、１７は前後移動板１５を取り付け梁１４、１４上に支持する直線ガイドであり、１８、１８は左右移動板１６を前後移動板１５上に支持する直線ガイドである。

取り付け梁１４に連結される部材及び前後移動板１５の上面には上方に向けてそれぞれ支柱１９、２０が設けてあり、該支柱１９、２０の上端に第一のエアシリンダ２１の両端をそれぞれ連結して、該第一のエアシリンダ２１のピストンロッドの出、入により前後移動板１５が前進、後退するようにしてある。また、前後移動板１５と左右移動板１６の上面には上方に向けてそれぞれ支柱２２、２３が設けてあり、該支柱２２、２３の上端に第二のエアシリンダ２４の両端をそれぞれ連結して、該第二のエアシリンダ２４のピストンロッドの出、入により左右移動板１６が右方、左方へ移動するようにしてある。支柱１９、２０と支柱２２、２３の高さには差をもたせ、第一のエアシリンダ２１が第二のエアシリンダ２４と干渉しないように第一のエアシリンダ２４を上方に配置してある。

これにより遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃは第一のエアシリンダ２１によって前後に、第二のエアシリンダ２４によって左右にそれぞれ移動することになる。第一のエアシリンダ２１は遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを前記の定位置と処理槽４上から前方に外れたハンガー５及びワークと干渉しない前方の位置との間を往復動させ、第二のエアシリンダ２４は遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを前記の定位置と柱状キャリア１、１の間隔１個分だけ右方へ移動した右方位置との間を往復動させるようにそれぞれストロークが定めてある。遮蔽板連結枠１０には後方に向けて従動桿２５が設けてあり、該従動桿２５の先端は柱状キャリア１の右側面に臨ませてある。従動桿２５の柱状キャリア１に接する面には緩衝材を貼付しておくことが好ましい。

図示していないが第一のエアシリンダ２１及び第二のエアシリンダ２４には、ピストンロッドがそれぞれいずれかの端にあることを検知するセンサーと、供給する空気を制御する電磁弁と、ピストンロッドの移動速度を調整する速度調整器とが設けてあり、第二のエアシリンダ２４の速度調整器は第二のエアシリンダ２４による遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの右方向への移動速度が柱状キャリア１の移動速度より遅くなるように設定してある。また、エレベータ式めっき装置本体を制御する制御装置からの信号と、第一のエアシリンダ２１及び第二のエアシリンダ２４のセンサーの信号により電磁弁を制御する制御装置が設けてあり、該制御装置にはエレベータ式めっき装置本体の制御装置にインターロック信号を送る機能も持たせてある。

この制御装置は次のように動作するようにしてある。すなわち、エレベータ式めっき装置本体の制御装置から大型スプロケット２の回転信号を受けると第二のエアシリンダ２４により遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを右方向へ移動させる。第二のエアシリンダ２４のセンサーにより遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの右方向へ移動完了が確認され、エレベータ式めっき装置本体の制御装置から昇降ビーム７が下限まで下降した信号を受けると第一のエアシリンダ２１により遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを前方位置に移動させる。

次に第一のエアシリンダ２１のセンサーにより遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの前方への移動完了が確認されると第二のエアシリンダ２４により遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを左方向の定位置へ復帰させる。続いて第二のエアシリンダ２４のセンサーにより遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの定位置への復帰が確認されると第一のエアシリンダ２１により遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを後方の定位置に復帰させる。遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの右方向への移動完了から後方の定位置への復帰完了までの間はエレベータ式めっき装置本体の制御装置にインターロック信号を送り、大型スプロケット２、２の回転を禁止させる。

このような構成において、エレベータ式めっき装置本体はワークの汚染防止装置の制御装置からインターロック信号を受けなければ、従来のエレベータ式めっき装置と同様に昇降ビーム７の上昇、大型スプロケット２、２の一定角度の回転とそれによる無端チェーン３、３の一定距離の移動、昇降ビーム７の下降の一連の動作を一定周期で繰り返し、柱状キャリア１は一定距離ずつ横行する。これによりハンガー５、５に支持された治具に取り付けられたワークが、次の処理槽４に移動するときは上昇した位置で、継続して同じ処理槽４に浸漬されるときは下降した位置で、それぞれ横行し、ワークには所定のめっき処理が施される。

昇降ビーム７の上昇によりハンガー５、５が上昇し、ワークが上昇するとワークからは処理液が滴下して飛散する。このとき、クロメート処理槽４ａの右側のワークは遮蔽板９ａと９ｂの間を、水洗槽４ｂのワークは遮蔽板９ｂと９ｃの間をそれぞれ上昇するので、クロメート処理槽４ａの右側のワークから飛散する処理液は遮蔽板９ｂに遮られて水洗槽４ｂのワークに付着することはなく、水洗槽４ｂのワークから飛散する処理液は遮蔽板９ｃに遮られて水洗槽４ｃのワークに付着することはない。上昇したワークはクロメート処理槽４ａ、水洗槽４ｂ上で液切り時間の間保持され、ワークに付着した処理液及び水洗水は滴下してそれぞれ回収される。

液切り時間が終了すると大型スプロケット２、２が回転し、柱状キャリア１、１は右方行への移動を開始する。このとき、第二のエアシリンダ２４による遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの右方向への移動も開始するが、第二のエアシリンダ２４による遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの右方向への移動速度は柱状キャリア１の移動速度より遅くなるように設定してあるので、従動桿２５は緩衝材を介して柱状キャリア１にソフトに当接し、柱状キャリア１に押されて遮蔽板連結枠１０は柱状キャリア１とともに移動することになる。これにより遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃは柱状キャリア１に同期して右方向に移動し、図５に示す状態になる。

柱状キャリア１、１の移動が完了すると昇降ビーム７が下降し、各ハンガー５、５に取り付けられたワークはそれぞれ処理槽４、４に浸漬される。ハンガー５、５はこれで一回分の一連の動作を終わったことになる。柱状キャリア１、１の移動とともに遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの右方向への移動が完了し、昇降ビーム７が下限まで下降すると、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃは第一のエアシリンダ２１により前方位置に移動して図６に示す状態になり、次に第二のエアシリンダ２４により左方向の定位置に復帰して図７に示す状態になる。この定位置に復帰するとき、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃは前方位置にあるので、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃがハンガー５及びワークと干渉することはない。

遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃが左方向の定位置への移動を完了すると、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃは第一のエアシリンダ２１により定位置に移動し、前後方向、左右方向とも図３に示すように定位置に戻ることになる。この遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃが前方、左方、後方に順次移動する一連の動作は、エレベータ式めっき装置本体の各処理槽４でのワークの浸漬時間に相当する時間の一部の間に行われるのであるが、何らかの原因でこの一連の動作が遅れた場合には、インターロック信号により大型スプロケット２、２の回転が禁止され、ハンガー５及びワークと遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃとが衝突することはない。

以上の説明によっても明らかなように、本発明のエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置によれば、ワークは遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃの間を上昇した後液切りされるので、ワークから飛散する処理液等は遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃに遮られて隣接するワークに付着することはない。また、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃが連結される遮蔽板移動機構１２はエレベータ式めっき装置本体の上部フレーム１３に処理槽４側へ張り出して取り付けた取り付け梁１４、１４に支持させて設けてあり、処理槽４の前方側に遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃが移動するスペースを要するだけであるので、既設のエレベータ式めっき装置に取り付けることも容易である。

なお、前記の実施の形態では、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃを３枚の構成としているがこれに限ることはない。例えば遮蔽板９ａをなくした場合には、飛散する処理液は同じクロメート処理槽４ａに落下するので隣接するワークの汚染という問題はなく、遮蔽板９ｃをなくした場合には、水洗槽４ｂの水洗水に持ち込まれたクロメート処理液の濃度が低ければ水洗槽４ｃから上昇したワークに付着しても汚染による問題が軽微である。したがって、特に汚染の影響が大きいクロメート処理槽４ａと水洗槽４ｂとの間の遮蔽板９ｂを設けておくだけでも、隣接するワークの汚染に起因する品質不良の発生を大きく減らすころができる。

しかしながら、遮蔽板９ａを設けた場合には、クロメート処理液の無用な飛散を防止することができ、遮蔽板４ｃを設けた場合には、水洗槽４ｂの水洗水に持ち込まれたクロメート処理液の濃度が上昇しても水洗槽４ｃから上昇したワークの汚染による品質不良の発生を完全に防止できる利点がある。さらに、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃをワークの寸法より上下方向、前後方向に大きくしておけば、遮蔽板９ａ、９ｂ、９ｃにより前後方向への飛散も抑止されるので、処理槽４周辺の汚れを減らすことができる効果がある。

エレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置の構成を示す要部の正面図である。 エレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置の構成を示す要部の縦断側面図である。 エレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置の構成を示す要部の平面図である。 エレベータ式めっき装置の全体を示す平面図である。 遮蔽板の移動した状態を示す要部の平面図である。 遮蔽板の移動した状態を示す要部の平面図である。 遮蔽板の移動した状態を示す要部の平面図である。

符号の説明

１ 柱状キャリア
２ 大型スプロケット
３ 無端チェーン
４ 処理槽
４ａ クロメート処理槽
４ｂ、４ｃ 水洗槽
５ ハンガー
６ 昇降枠
７ 昇降ビーム
８ 支持ローラー
９ａ、９ｂ、９ｃ 遮蔽板
１０ 遮蔽板連結枠
１１ 接続板
１２ 遮蔽板移動機構
１３ 上部フレーム
１４ 取り付け梁
１５ 前後移動板
１６ 左右移動板
１７、１８ 直線ガイド
１９、２０ 支柱
２１ 第一のエアシリンダ
２２、２３ 支柱
２４ 第二のエアシリンダ
２５ 従動桿

Claims (3)

1. エレベータ式めっき装置において、隣接する２個のハンガーの間の処理槽の上部を定位置とするワークの進行方向に対して垂直な面とした遮蔽板を設け、該遮蔽板をワークの進行方向に対して前後方向と直角方向に移動させる遮蔽板移動機構を設け、該遮蔽板移動機構は遮蔽板をワークの進行と同期してワークの進行方向に移動させ、次にワークの下降後処理槽の上部から外れた外側までワークの進行方向と直角方向に移動させ、続いてワークの進行方向と逆方向にワークの進行方向に対する定位置まで移動させ、さらに処理槽の上部の定位置までワークの進行方向と直角方向に移動させる動作をするものとしたことを特徴とするエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置。
2. 遮蔽板移動機構をエレベータめっき装置本体の上部フレームに支持させ、遮蔽板の上部を遮蔽板移動機構に保持させたことを特徴とする請求項１に記載のエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置。
3. 遮蔽板をハンガーと等間隔に複数設け、複数の遮蔽板を同時に移動させることができるように連結したことを特徴とする請求項１又は２に記載のエレベータ式めっき装置におけるワークの汚染防止装置。

Images