JP2009180740A - 蛍光分析方法,蛍光分析装置及び画像検出方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】オリゴヌクレオチドが固定される基板に蛍光測定用の光を照射し、生じる蛍光を集光・結像し、2次元センサにて蛍光検出する方法であって、該基板のオリゴヌクレオチドが固定される領域が複数設けられ、それらが基板上に、縦横にほぼ等間隔(間隔ds)で配置され、集光・結像光学系の結像倍率をM、2次元センサの画素の間隔をddとしたとき、
dd=ds×M/n (n=1,2,3,4,5:整数)
であるようにして蛍光像を検出する。
【選択図】 図1
Description
dd=ds×M/n (n=1,2,3,4,5:整数)
であるようにして蛍光像を検出することに関する。
dd=ds×M/n (n=1,2,3,4,5:整数)
であるようにして蛍光像を検出する。
dd=ds×M/n (n=2,3)
であるように調整して蛍光像を検出することに関する。
試薬保管ユニット27には、試料液容器27a,4種のdNTP誘導体溶液容器27b,27c,27d,27e及び洗浄液容器27f等が用意される。チップボックス28内の分注チップを分注ノズル26に取り付け、適当な試薬液を吸引し、チャンバ導入口から基板の反応領域に導入し、反応させる。廃液は廃液チューブ10を介して廃液容器11に排出される。これらは制御PC21により自動的に行われる。
隔で1000×1000個の領域8ijがあり、上記2048×2048画素の冷却CCDカメラで計測するため、結像系の倍率Mを14.8倍に設定し、反応領域換算でカメラ1画素は0.5×0.5ミクロンに対応させる。なお、2次元センサカメラとしては、CCDエリアセンサの他、C−MOSエリアセンサなどの撮像カメラなどを一般に使うことができる。CCDエリアセンサにも、構造によって、背面照射型,正面照射型があり、どちらも使用できる。また、素子内部に信号の増倍機能を有する電子増倍型CCDカメラなども高感度化を図る上で有効である。また、センサは冷却型が望ましく、−20℃程度以下にすることで、センサの持つダークノイズを低減出来、測定の精度を高めることができる。
マスク材料としては、アルミニウム,クロムなどの金属,炭化シリコンなどが適用でき、蒸着などで、薄膜化する。領域60ijの個々の大きさは直径100nm以下であり、この開口をマスク60bのなかに作成する方法としては、プロジェクション法での蒸着(蒸着源と基板との間に適当なマスクを配置して蒸着する),電子ビームリソグラフィー,フォトリソグラフィーによる直接描画によって作成できる。
Claims (14)
- オリゴヌクレオチドが固定される基板に蛍光測定用の光を照射し、生じる蛍光を集光・結像し、2次元センサにて蛍光検出する方法であって、該基板のオリゴヌクレオチドが固定される領域は複数設けられ、それらが基板上に、縦横にほぼ等間隔(間隔ds)で配置され、集光・結像光学系の結像倍率がM、2次元センサの画素の間隔がddとしたとき、 dd=ds×M/n (n=1,2,3,4,5:整数)
であることを特徴とする蛍光分析方法。 - オリゴヌクレオチドが固定される基板に蛍光測定用の光を照射し、生じる蛍光を集光・結像し、2次元センサにて蛍光検出する方法であって、該基板のオリゴヌクレオチドが固定される領域は複数設けられ、それらが基板上に、縦横にほぼ等間隔(間隔ds)で配置され、該領域には単一分子のオリゴヌクレオチドが固定され、集光・結像光学系の結像倍率がM、2次元センサの画素の間隔がddとしたとき、
dd=ds×M/n (n=1,2,3,4,5:整数)
であることを特徴とする蛍光分析方法。 - 請求項1または2のいずれか記載の蛍光分析方法において、
dd=ds×M/n (n=2,3)
であることを特徴とする蛍光分析方法。 - 請求項1から3のいずれか記載の蛍光分析方法において、オリゴヌクレオチドが固定される領域の間隔dsは、100nmから10000nmであることを特徴とする蛍光分析方法。
- 請求項1から4のいずれか記載の蛍光分析方法において、オリゴヌクレオチドが固定される領域の大きさは100nm径以下であることを特徴とする蛍光分析方法。
- 請求項1または2のいずれか記載の蛍光分析方法において、複数設けられるオリゴヌクレオチドが固定される領域を除く基板上の反応領域には、光学的な遮光機能を有する膜状物質が施されていることを特徴とする蛍光分析方法。
- 請求項6記載の蛍光分析方法において、膜状物質は金属膜であることを特徴とする蛍光分析方法。
- 請求項1または2のいずれか記載の蛍光分析方法において、該基板には、位置決め用のマーカが少なくとも2箇所にあることを特徴とする蛍光分析方法。
- 請求項1から5のいずれか記載の蛍光分析方法において、dd=ds×M/nとなるように、結像倍率Mを調整する手段を有することを特徴とする蛍光分析方法。
- 請求項9記載の蛍光分析方法において、該ズーム機能は、位置決め用のマーカの検出に基づき、自動で行う手段を有することを特徴とする蛍光分析方法。
- オリゴヌクレオチドが固定される基板に蛍光測定用の光を照射し、生じる蛍光を集光・結像し、2次元センサにて蛍光検出する装置であって、オリゴヌクレオチドが固定される複数領域が縦横にほぼ等間隔(間隔ds)で配置されている基板と、蛍光励起用の照射光源と照射光学系,蛍光集光結像光学系,2次元センサを具備し、集光・結像光学系の結像倍率がM、2次元センサの画素の間隔がddとしたとき、
dd=ds×M/n (n=1,2,3,4,5:整数)
となるように構成されたことを特徴とする蛍光分析装置。 - オリゴヌクレオチドが固定される基板に蛍光測定用の光を照射し、生じる蛍光を集光・結像し、2次元センサにて蛍光検出する装置であって、オリゴヌクレオチドが固定される複数領域が縦横にほぼ等間隔(間隔ds)で配置されている基板と、蛍光励起用の照射光源と照射光学系,蛍光集光結像光学系,2次元センサを具備し、集光・結像光学系の結像倍率がM、2次元センサの画素の間隔がddとしたとき、
dd=ds×M/n (n=2,3:整数)
となるように構成されたことを特徴とする蛍光分析装置。 - オリゴヌクレオチドが固定される基板に蛍光測定用の光を照射し、生じる蛍光を集光・結像し、2次元センサにて蛍光検出する装置であって、オリゴヌクレオチドが固定される複数領域が縦横にほぼ等間隔(間隔ds)で配置されている基板と、蛍光励起用の照射光源と照射光学系,蛍光集光結像光学系,2次元センサを具備し、集光・結像光学系の結像倍率がM、2次元センサの画素の間隔がddとしたとき、
dd=ds×M/n (n=1,2,3,4,5:整数)
となるように結像倍率を自動調整する機構部を有することを特徴とする蛍光分析装置。 - 所定位置に配置された複数の検出対象物を複数の検出画素を備えた検出器により検出する画像検出方法であって、
検出器の特定画素に各検出対象物をそれぞれ結像させることを特徴とする方法。
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