JP2009178656A - 脱着型触媒充填装置の固定方法およびそれを固定した装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】脱着可能な触媒充填装置を、スペーサーを内側に配置したケース内に固定する際に、該触媒充填装置とスペーサーとの間に少なくとも該触媒充填装置がスムースに脱着できる離隔(最小1mm、最大10mm)を設けて固定する方法、および固定された装置。この装置は各種化学反応に利用することができる。
【選択図】図1
Description
(1)脱着可能な触媒充填装置を、内側にスペーサーを配したケースに固定する際に、該触媒充填装置とスペーサーとの間に、少なくとも該触媒充填装置がスムースに脱着できる離隔を設けることを特徴とする触媒充填装置の固定方法。
(2)前記離隔の最大間隔は、触媒充填装置が傾斜した場合でも、該触媒充填装置とケースとの間にマイクロ波により火花が飛ばない安全な最小間隔を確保できる間隔である、前記(1)に記載の触媒充填装置の固定方法。
(3)前記離隔の最小間隔は1mmである、前記(1)または(2)に記載の触媒充填装置の固定方法。
(4)前記離隔の最大間隔は10mmである、前記(1)〜(3)のいずれかに記載の触媒充填装置の固定方法。
(5)前記スペーサーを円周方向に少なくとも3箇所設置する、前記(1)〜(4)のいずれかに記載の触媒充填装置の固定方法。
(6)脱着可能な触媒充填装置とスペーサーとの間に、少なくとも該触媒充填装置がスムースに脱着できる離隔が設けられてケース内に固定されていることを特徴とする装置。
(7)前記離隔の最大間隔は、触媒充填装置が傾斜した場合でも、該触媒充填装置とケースとの間にマイクロ波により火花が飛ばない安全な最小間隔を確保できる間隔である、前記(6)に記載の装置。
(8)前記離隔の最小間隔は1mmである、前記(6)または(7)に記載の装置。
(9)前記離隔の最大間隔は10mmである、前記(6)〜(8)のいずれかに記載の装置。
(10)前記スペーサーが円周方向に少なくとも3箇所設置されている、前記(6)〜(9)のいずれかに記載の装置。
2 テフロン(登録商標)棒
3 触媒
4 流通孔
5 架台
6 液面
7 ケース
8 スペーサー
9 溢流口
10 ドレン抜き
11 反応槽
12 上蓋
13a,13b 循環ポンプ
14a,14b 配管
15 マイクロ波発振器
16 電源・計測・制御一体型装置
17 熱電対
Claims (10)
- 脱着可能な触媒充填装置を、内側にスペーサーを設置したケースに固定する際に、該触媒充填装置とスペーサーとの間に、少なくとも該触媒充填装置がスムースに脱着できる離隔を設けることを特徴とする触媒充填装置の固定方法。
- 前記離隔の最大間隔は、触媒充填装置が傾斜した場合でも該触媒充填装置とケースとの間に、マイクロ波により火花が飛ばない安全な最小間隔を確保できる間隔である、請求項1に記載の触媒充填装置の固定方法。
- 前記離隔の最小間隔は1mmである、請求項1または2に記載の触媒充填装置の固定方法。
- 前記離隔の最大間隔は10mmである、請求項1〜3のいずれかに記載の触媒充填装置の固定方法。
- 前記スペーサーを円周方向に少なくとも3箇所設置する、請求項1〜4のいずれかに記載の触媒充填装置の固定方法。
- 脱着可能な触媒充填装置とスペーサーとの間に、少なくとも該触媒充填装置がスムースに脱着できる離隔が設けられてケース内に固定されていることを特徴とする装置。
- 前記離隔の最大間隔は、触媒充填装置が傾斜した場合でも、該触媒充填装置とケースとの間にマイクロ波により火花が飛ばない安全な最小間隔を確保できる間隔である、請求項6に記載の装置。
- 前記離隔の最小間隔は1mmである、請求項6または7に記載の装置。
- 前記離隔の最大間隔は10mmである、請求項6〜8のいずれかに記載の装置。
- 前記スペーサーが円周方向に少なくとも3箇所設置されている、請求項6〜9のいずれかに記載の装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013103159A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Microwave Chemical Co Ltd | 化学反応装置 |
JP2013103160A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Microwave Chemical Co Ltd | 化学反応装置 |
CN113368787A (zh) * | 2015-11-09 | 2021-09-10 | 国际壳牌研究有限公司 | 易清洗的催化剂滤筐 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6411622A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-17 | Nippon Berufuroo Kk | Air cleaner |
JP2000116760A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-04-25 | Image Lab Tecst Inc | 空気清浄機 |
JP2007061594A (ja) * | 2005-03-25 | 2007-03-15 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物の分解処理方法及び移動式分解処理システム |
JP2007105061A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-04-26 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物のマイクロ波併用型分解処理方法及び分解処理システム |
JP2007196000A (ja) * | 2007-03-14 | 2007-08-09 | Toshiba Home Technology Corp | 光触媒反応装置 |
-
2008
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6411622A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-17 | Nippon Berufuroo Kk | Air cleaner |
JP2000116760A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-04-25 | Image Lab Tecst Inc | 空気清浄機 |
JP2007061594A (ja) * | 2005-03-25 | 2007-03-15 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物の分解処理方法及び移動式分解処理システム |
JP2007105061A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-04-26 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 有機ハロゲン化合物のマイクロ波併用型分解処理方法及び分解処理システム |
JP2007196000A (ja) * | 2007-03-14 | 2007-08-09 | Toshiba Home Technology Corp | 光触媒反応装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013103159A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Microwave Chemical Co Ltd | 化学反応装置 |
JP2013103160A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Microwave Chemical Co Ltd | 化学反応装置 |
CN113368787A (zh) * | 2015-11-09 | 2021-09-10 | 国际壳牌研究有限公司 | 易清洗的催化剂滤筐 |
CN113368787B (zh) * | 2015-11-09 | 2023-06-02 | 国际壳牌研究有限公司 | 易清洗的催化剂滤筐 |
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