JP2009175126A - 検査方法及び装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、並びに、デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第一系列の較正スペクトルが少なくとも1つの基準パターンから計算され、各スペクトルは基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに個々の基準パターンの少なくとも1つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、各スペクトルが中央ライブラリに記憶される。ターゲットスペクトルについて記憶されたスペクトルの少なくとも1つに対応する第二系列の較正スペクトルがターゲットスペクトルを測定する装置のパラメータを使用して計算される。測定ターゲットスペクトルは放射ビームをターゲットパターンに誘導することによって生成される。測定ターゲットスペクトルと第二系列の較正スペクトルを比較し、ターゲットパターンの構造パラメータの値を導出する。
【選択図】図4
Description
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置PMに接続された支持構造体(例えばマスクテーブル)MTと、基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PLとを含む。
Stil-2,p、Stil-2,s ... は、回折次数と分極の様々な組合せについてツール独立ライブラリに記憶されているスペクトルである。
行列 ... y、zは、それぞれ集光レンズ50及びビームスプリッタ16の検出器80、つまりターゲットより後の光路にある光学要素のジョーンズ行列に対応し、
行列a、b... は、レンズシステム12、干渉フィルタ13、偏光器17及びビームスプリッタ16及びレンズ15、つまりターゲットより前の光路にある光学要素に対応し、
中心の行列[S]はサンプルWに対応する。
1.ターゲットより前のツール依存ジョーンズ行列
2.ターゲット自体のツール独立ジョーンズ行列、及び
3.光がターゲットから反射した後のツール依存ジョーンズ行列であり、これは以下の通りである。
Claims (13)
- ターゲットパターンのパラメータを割り出す方法であって、
基準パターンから第一複数較正スペクトルを計算することを含み、前記スペクトルがそれぞれ、前記基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに、前記基準パターンの少なくとも1つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、さらに、
前記スペクトルそれぞれの表示を第一ライブラリに記憶すること、
ターゲットスペクトルを測定するように構成された測定装置のパラメータを使用して、前記ターゲットスペクトルについて前記第一ライブラリに記憶された前記スペクトルの少なくとも1つに対応する第二複数較正スペクトルを計算すること、
放射ビームを前記ターゲットパターンに誘導することによってスペクトルを測定すること、
前記測定したスペクトルと前記第二複数較正スペクトルを比較すること、及び、
前記比較を使用して、前記ターゲットパターンの前記パラメータについて値を導出すること
を含む、方法。 - 前記第二複数較正スペクトルが、前記スペクトルの生成に使用される可能放射パラメータの様々な組合せに対応する前記ターゲットスペクトルの重み付けした複数のスペクトルから形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記較正スペクトルが、前記測定装置の光学要素及び前記ターゲットパターンのジョーンズ行列を使用して生成される、請求項1に記載の方法。
- 前記ターゲットパターンの前後で、前記放射経路にある前記測定装置の光学要素について別個のジョーンズ行列が形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記パラメータがスキャトロメータのパラメータであり、前記測定装置がスキャトロメータである、請求項1に記載の方法。
- 前記導出された値が反復検索方法の初期値として使用される、請求項1に記載の方法。
- 前記第二複数較正スペクトルが第二ライブラリに記憶される、請求項1に記載の方法。
- 前記ターゲットパターンの前後で、前記放射経路にある光学要素について別個のミュラー行列が形成される、請求項1に記載の方法。
- ターゲットパターンのパラメータを割り出す方法に使用するためにライブラリを生成する方法であって、
基準パターンから第一複数較正スペクトルを計算することを含み、前記スペクトルがそれぞれ、前記基準パターンの生成に使用される装置パラメータを考慮せずに、前記基準パターンの少なくとも1つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、さらに、
前記スペクトルそれぞれの表示を第一ライブラリに記憶すること、
ターゲットスペクトルを測定するように構成された測定装置のパラメータを使用して、前記ターゲットスペクトルについて前記第一ライブラリに記憶された前記スペクトルの少なくとも1つに対応する第二複数較正スペクトルを計算すること、及び、
前記第二複数較正スペクトルを第二ライブラリに記憶すること
を含む、方法。 - 基板上のデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスのパラメータの値を割り出すように構成された検査装置であって、
基準パターンから第一複数較正スペクトルを計算するように構成された第一計算器であって、前記スペクトルがそれぞれ、前記基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに、前記基準パターンの少なくとも1つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算される、第一計算機と、
第一ライブラリの前記スペクトルそれぞれの表示を記憶するように構成されたメモリと、
ターゲットスペクトルを測定するように構成された測定装置のパラメータを使用して、前記ターゲットスペクトルについて前記第一ライブラリに記憶された前記スペクトルの少なくとも1つに対応する第二複数較正スペクトルを計算するように構成された第二計算器と、
放射ビームを前記ターゲットパターンに誘導してスペクトルを生成するように構成された測定デバイスと、
前記測定スペクトルと前記第二複数較正スペクトルを比較するように構成された比較器と、
前記比較を使用して、前記ターゲットパターンの前記パラメータの値を導出するように構成された処理装置と
を備える、検査装置。 - パターンを照明するように構成された照明光学システムと、
パターンの像を基板に投影するように構成された投影光学システムと、
前記基板上にデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスのパラメータの値を割り出すように構成された検査装置と
を備えるリソグラフィ装置であって、前記検査装置が、
基準パターンから第一複数較正スペクトルを計算するように構成された第一計算器であって、前記スペクトルがそれぞれ、前記基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに、前記基準パターンの少なくとも1つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算される、第一計算器と、
前記スペクトルそれぞれの表示を第一ライブラリに記憶するように構成されたメモリと、
ターゲットスペクトルを測定するように構成された測定装置のパラメータを使用して、前記ターゲットスペクトルについて前記第一ライブラリに記憶された前記スペクトルの少なくとも1つに対応する第二複数較正スペクトルを計算するように構成された第二計算器と、
放射のビームを前記ターゲットパターンに誘導して、スペクトルを生成するように構成された測定デバイスと、
前記測定されたスペクトルと前記第二複数較正スペクトルを比較するように構成された比較器と、
前記比較を使用して、前記ターゲットパターンの前記パラメータの値を導出するように構成された処理装置と
を備える、リソグラフィ装置。 - 基板を放射感応性層で被覆するように構成された塗布器と、
前記塗布器によって被覆された基板の前記放射感応性層に像を露光するように構成されたリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置によって露光された像を現像するように構成された現像器と、
基板上にデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスのパラメータの値を割り出すように構成された検査装置と
を備えるリソグラフィセルであって、前記検査装置が、
基準パターンから第一複数較正スペクトルを計算するように構成された第一計算器であって、前記スペクトルがそれぞれ、前記基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに、前記基準パターンの少なくとも1つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算される、第一計算器と、
前記スペクトルそれぞれの表示を第一ライブラリに記憶するように構成されたメモリと、
ターゲットスペクトルを測定するように構成された測定装置のパラメータを使用して、前記ターゲットスペクトルについて前記第一ライブラリに記憶された前記スペクトルの少なくとも1つに対応する第二複数較正スペクトルを計算するように構成された第二計算器と、
放射のビームを前記ターゲットパターンに誘導して、スペクトルを生成するように構成された測定デバイスと、
前記測定されたスペクトルと前記第二複数較正スペクトルを比較するように構成された比較器と、
前記比較を使用して、前記ターゲットパターンの前記パラメータの値を導出するように構成された処理装置と
を備える、リソグラフィセル。 - コンピュータ読み取り可能媒体に内蔵され、ターゲットパターンの少なくとも1つのパラメータを割り出す方法を実行するように構成されたコンピュータで実行可能な命令を含むコンピュータプログラムであって、前記方法が、
少なくとも1つの基準パターンから第一複数較正スペクトルを計算することを含み、前記スペクトルがそれぞれ、前記基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを含まずに、前記基準パターンの少なくとも1つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、さらに、
前記スペクトルそれぞれの表示を第一ライブラリに記憶すること、
ターゲットスペクトルを測定するように構成された測定装置のパラメータを使用して、前記ターゲットスペクトルについて前記第一ライブラリに記憶された前記スペクトルの少なくとも1つに対応する第二複数較正スペクトルを計算すること、
前記第一複数較正スペクトルを第二複数較正スペクトルと組み合わせて、前記測定装置を使用して前記ターゲットスペクトルによって生成された前記スペクトルの表示である第三セットの較正スペクトルを生成すること、
測定されたターゲットスペクトルと前記第二複数較正スペクトルを比較すること、及び、
前記比較を使用して前記ターゲットパターンの前記パラメータの値を導出すること
を含む、コンピュータプログラム。
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