JP2009159548A - 圧電デバイス及び圧電デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 十分に静電耐性を有する圧電デバイス(50)を提供する。
【解決手段】 圧電デバイス(50)はパッケージ(PKG)内に圧電振動片(20)を収納するものである。そして圧電デバイスは、第1面と第2面とを有し、圧電振動片を第1面に載置するとともに静電気保護回路が形成された台座(60)と、パッケージ内に形成され台座の第2面と接続する内部電極(59)と、を備える。台座(60)の第1面には、圧電振動片の電極と接続する第1パット(71)が形成され、台座の第2面には、内部電極と接続する第2パット(72)及び静電気を拡散する第3パッド(74)が形成され、台座には第1パッドと第2パッドとを接続する配線(73)が形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】 圧電デバイス(50)はパッケージ(PKG)内に圧電振動片(20)を収納するものである。そして圧電デバイスは、第1面と第2面とを有し、圧電振動片を第1面に載置するとともに静電気保護回路が形成された台座(60)と、パッケージ内に形成され台座の第2面と接続する内部電極(59)と、を備える。台座(60)の第1面には、圧電振動片の電極と接続する第1パット(71)が形成され、台座の第2面には、内部電極と接続する第2パット(72)及び静電気を拡散する第3パッド(74)が形成され、台座には第1パッドと第2パッドとを接続する配線(73)が形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は例えば水晶などからなる圧電基板を用いて、静電耐性(ESD耐性)の高い小型の圧電デバイス及び圧電デバイスの製造方法の技術に関する。
従来、時計や家電製品、各種情報・通信機器やOA機器等の民生・産業用電子機器には、その電子回路のクロック源として圧電振動子、圧電振動片とICチップとを同一パッケージ内に封止した発振器やリアルタイムクロックモジュール等の水晶振動子が広く使用されている。また、船舶・航空機・自動車等の姿勢制御や航行制御、ビデオカメラ等の手振れ防止・検出等における回転角速度センサとして、圧電振動ジャイロが広く利用され、3次元立体マウス等の回転方向センサにも応用されている。
特に最近、これら水晶振動子は、それを搭載する電子機器の小型化・薄型化に伴い、より一層の小型化・薄型化が要求されている。水晶振動子が小型化するに従い水晶ブランクもより小型化されると、水晶ブランク上の電極の面積、および配線間隔も縮小する。配線間隔が縮小した水晶ブランクは、細い電極パターンになり、静電気放電(ESD:Electro-Static
Discharge)でパターンが破壊されることが多い。つまり、水晶ブランクまたは水晶振動子は小型化されるにつれてリークの危険性が著しく増大し、水晶振動子の静電耐性の低下を招く。
Discharge)でパターンが破壊されることが多い。つまり、水晶ブランクまたは水晶振動子は小型化されるにつれてリークの危険性が著しく増大し、水晶振動子の静電耐性の低下を招く。
水晶ブランクまたは水晶振動子の静電気破壊電圧であるESD耐圧は500V程度であり、他の電子部品と比べて低い値を示している。このため、水晶ブランクまたは水晶振動子のESD耐圧を向上させることが要求されている。特許文献1では、放電反応により空気中に静電荷を放電する放電保護機能を有するシールドケースを提供しているが、圧電デバイスの小型化及び量産化には適していなかった。
このため、従来の製法では十分な静電耐性(ESD耐性)を持つ小形な水晶振動子を製造することができないことから、水晶振動子とは別にプリント基板上に静電気保護回路を形成する必要があった。
特開2006−211256号公報
しかし、水晶振動子とは別にプリント基板上に静電気保護回路を形成することは、プリント基板全体の大きさを小さくしにくくすることにもなり、小型の水晶振動子自体に静電気保護回路を持つようにする要望が強かった。
本発明の目的は、圧電デバイスの内部に静電気保護回路を内蔵することで、小型で十分な静電耐性を持つ圧電デバイスを提供することにある。
第1の観点の圧電デバイスはパッケージ内に圧電振動片を収納するものである。そして圧電デバイスは、第1面と第2面とを有し、圧電振動片を第1面に載置するとともに静電気保護回路が形成された台座と、パッケージ内に形成され台座の第2面と接続する内部電極と、を備える。
この構成により、静電気保護回路が形成された台座に圧電振動片が載置されるため、スペースが限られた中で静電耐性を向上させることができる。
この構成により、静電気保護回路が形成された台座に圧電振動片が載置されるため、スペースが限られた中で静電耐性を向上させることができる。
第2の観点の圧電デバイスの台座は、ダイオードを形成した半導体基板である。
圧電振動片を載置する台座が、ダイオードを形成した半導体基板であるため、台座として量産性にすぐれている。
圧電振動片を載置する台座が、ダイオードを形成した半導体基板であるため、台座として量産性にすぐれている。
第3の観点の圧電デバイスにおいて、台座の第1面に圧電振動片の電極と接続する第1パットが形成され、台座の第2面に内部電極と接続する第2パット及び静電気を拡散する第3パッドが形成され、台座には第1パッドと第2パッドとを接続する配線が形成されている。
第1パッドと第2パッドとを接続する配線が、外部からの電力供給と振動出力とを圧電振動片とを導通させている。そして、第3パッドにより静電気を拡散することができる。
第1パッドと第2パッドとを接続する配線が、外部からの電力供給と振動出力とを圧電振動片とを導通させている。そして、第3パッドにより静電気を拡散することができる。
第4の観点の圧電デバイスの台座の厚さは、50μm〜750μmである。
圧電振動片がパッケージと接触しない程度の厚さが必要であり、その一方で台座をあまりに厚くすると製造コストの面で不利となる。
圧電振動片がパッケージと接触しない程度の厚さが必要であり、その一方で台座をあまりに厚くすると製造コストの面で不利となる。
第5の観点の圧電デバイスの製造方法は、パッケージ内の内部電極に対応するように、静電気保護回路が形成された台座の第2面を配置する配置工程と、台座の第1面に導電性接着剤を塗布して、圧電振動片を接着する接着工程と、パッケージに蓋体で封止する封止工程と、を備える。
この構成により、静電気保護回路が形成された台座を第2面を配置し、台座の第1面に導電性接着剤を介して圧電振動片を接着するため、スペースが限られた中で静電耐性を向上させることができる。
この構成により、静電気保護回路が形成された台座を第2面を配置し、台座の第1面に導電性接着剤を介して圧電振動片を接着するため、スペースが限られた中で静電耐性を向上させることができる。
第6の観点の圧電デバイスの製造方法は、第5の観点において、配置工程でフリップチップボンディングにより第2面を固定する。
小型の台座をフリップチップボンディングにより確実に固定することができる。
小型の台座をフリップチップボンディングにより確実に固定することができる。
第7の観点の圧電デバイスの製造方法は、第5又は第6の観点において、接着工程後に圧電振動片の周波数調整を行う。
台座及び圧電振動片を固定した後に周波数調整を行うため、蓋体で封止した後であっても周波数が一定している。
台座及び圧電振動片を固定した後に周波数調整を行うため、蓋体で封止した後であっても周波数が一定している。
本発明の圧電デバイスはその内部に静電気保護回路を設置することで、十分に静電耐性を有する圧電デバイスを製造することができる。また、全ての種類の水晶ブランクに適応できるため汎用性が高い。
本発明の静電気保護回路は全ての種類の水晶ブランクに適応できるが、小型の主流である音叉型水晶振動片20について、図面を参照しながら説明する。また、音叉型水晶振動片20を実装する音叉型水晶振動子50は搭載される装置の小型化により、実装面積を減らすために、ワイヤボンディングからフリップチップボンディング(以下FCB)へ移行して来ている。このため特に表面実装(SMD)タイプの音叉型振動子50について説明する。
図1(a)は、本実施形態に係るSMD(Surface Mount Device)タイプの音叉型水晶振動子50を示す概略上面図である。図1(b)は図1(a)の概略側面図である。なお図1(a)は蓋体56を外した状態であり、構成を分かりやすくしている。
図1(a)は、実装される音叉型水晶振動片20をも示している。音叉型水晶振動片20は二股に別れて平行に延びる一対の振動腕21を備えている。音叉型水晶振動片20は、たとえば32.768kHzで信号を発振する振動片で、極めて小型の振動片となっており、振動腕21の表裏両面には、溝部27が形成されている。音叉型水晶振動片20の基部29は、その全体が略板状に形成され、第1基部電極23と第2基部電極25とが形成されている。
このSMDタイプの音叉型水晶振動子50は、音叉型水晶振動片20を収納する箱状のパッケージPKGを有している。このパッケージPKGは、その底部にベース部54を備えている。このベース部54は、酸化アルミニウム質の混練物からなるセラミックグリーンシートを成形して形成される複数の基板を積層し、焼結して形成されている。
セラミック製のベース部54の上には、ニッケル上に金メッキを施した封止材58が設けられており、この封止材58は、コバール等からなる蓋体56と同様の材料から形成されている。また、この封止材58の上には蓋体56が載置され、蓋体56はシーム溶接等の手法により封止材58で固定される。これらベース部54、封止材58および蓋体56で、中空の箱体を形成することになる。
本発明の音叉型水晶振動子50はベース部54に音叉型水晶振動片20を載置するための台座部51に静電気保護回路を搭載する。台座部51には静電気保護回路を内蔵したSi(シリコン)チップ片(以下静電気保護Siチップ)60がFCBで固定されている。静電気保護Siチップ60の裏面にはスタッドバンプ53を形成し、パッケージ内部電極59及びアース端子GNDと接続している。音叉型水晶振動片20がベース部54と接触しないように台座が必要であるが、静電気保護Siチップ60が台座の役目を兼用している。
また、静電気保護Siチップ60の上面には音叉型水晶振動片20と接続するための電極が形成されており、導電性接着剤52を用いて、音叉型水晶振動片20の基部電極23、25と接続する。パッケージ内部電極59及びアース端子GNDは、パッケージPKGの外側に形成されたタングステンメタライズ上にニッケルメッキおよび金メッキが施された外部電極部88に接続される。なお、アース端子GNDは外部電極部88を介して接地されるようにしても良いし、パッケージPKG内部の静電気を放電する回路に接続するようにしても良い。
静電気保護Siチップ60は保護ダイオードを配置し、静電気の吸収と拡散とを行うために、静電気が音叉型水晶振動片20へ直接印加されることがない。例えば音叉型水晶振動子50は音叉型水晶振動片20の電極の両端にPN接合ダイオードを用い、静電気の保護をしている。
図2は音叉型水晶振動子50におけるPN接合ダイオードを用いた静電気保護回路を示した図である。
PN接合ダイオードは音叉型水晶振動片20の駆動信号XT及び出力信号XTXがアース端子に接続したPN接合ダイオードに対して逆方向電位として印加されるように配置している。
PN接合ダイオードは音叉型水晶振動片20の駆動信号XT及び出力信号XTXがアース端子に接続したPN接合ダイオードに対して逆方向電位として印加されるように配置している。
この静電気保護回路はアース端子GNDに対して負の静電気が印加されるとダイオードの整流作用で音叉型水晶振動片20に印加されず、ダイオードを介してアース端子GNDに拡散する。またPN接合の降伏電圧以上である正の静電気が印加されると、PN接合の降伏現象が発生し静電気は音叉型水晶振動片20に印加されず、ダイオードを介してアース端子GNDに拡散する。
以上より、音叉型水晶振動子50は台座部51に静電気保護回路を内蔵することで、音叉型水晶振動片20の小型化を十分に活かすことのでき、静電耐性をもった音叉型水晶振動子50を製造することができる。以下に本発明の音叉型水晶振動子50の製造方法を示す。
図3A及び図3Bは例えば、p型Si基板61を用いた静電気保護Siチップ60の製造方法を示すフローチャートである。なお、フローチャートの右図は各ステップの工程における静電気保護Siチップ60の1個分のp型Si基板61を示す断面図である。また静電気保護Siチップ60は静電気保護Siチップ製造装置(以下Siチップ製造装置)で公知の半導体製造技術を応用することで容易に実現できる。また下記の静電気保護Siチップ60の製造方法は一例であり、限定されるものでない。
ステップS11において、Siチップ製造装置は所望の台座部51としてp型Si基板61を用いる。静電気保護Siチップ60の例えば台座部51の厚みが300μmとする場合に、p型Si基板61は厚みが300μmの両面研磨されたp型Si基板61を用いる。なお、台座部51の厚みは、50μm〜750μm程度が好ましい。
ステップS12において、Siチップ製造装置はp型Si基板61の両面を熱酸化などの手法により表面を酸化させた後に、LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)などを用いてSi窒化膜62をp型Si基板61の表面に堆積させる。右図はp型Si基板61の断面図である
ステップS13において、Siチップ製造装置は素子分離領域63になる領域のSi窒化膜62をフォトリソ・エッチング技術で除去する。
ステップS14において、Siチップ製造装置は熱酸化を行い、素子分離領域63を熱酸化膜にする。
ステップS15において、Siチップ製造装置は全面のSi窒化膜62を除去する。
ステップS15において、Siチップ製造装置は全面のSi窒化膜62を除去する。
ステップS16において、Siチップ製造装置はフォトリソ・イオン注入技術を用いてN型及びP型の不純物を注入しアニールを行うことで、それぞれN+拡散領域64とP+拡散領域65とを形成する。
ステップS17において、Siチップ製造装置は公知の内部配線形成工程を適用することでp型Si基板61の両面に電極配線する。内部配線形成工程はステップS17の右図で示すように、ステップS16で形成された熱酸化膜とN+拡散領域64とP+拡散領域65との上層に、第1層間絶縁膜66と第2層間絶縁膜67とを形成する。そして、この第1層間絶縁膜66と第2層間絶縁膜67とを貫通するようにメタル配線68を形成する。
メタル配線68のうち、音叉型水晶振動片20の基部電極23、25と接続する配線を第1接続パット71と呼び、パッケージ内部電極59と接続する配線を第2接続パット72と呼ぶ。また、メタル配線68の1つはアース端子に接続する第3接続パット74と呼ぶ。
ステップS18において、Siチップ製造装置はp型Si基板61にフォトリソ・エッチング技術で貫通孔69をあける。ステップS17の右図はp型Si基板61のウエハに貫通孔69を空けたp型Si基板61の上面図であり、ウエハの縮小図を図4に示す。
ステップS19において、Siチップ製造装置は貫通孔69をあけた側壁に第3層間絶縁膜70を形成する。第3層間絶縁膜70は貫通孔69側壁を含む全面にCVD技術などを用いて酸化膜を堆積し、フォトリソ・エッチング技術でp型Si基板61の上面と下面との不要な酸化膜を除去する。
ステップS20において、Siチップ製造装置はp型Si基板61の上面の第1接続パット71と、p型Si基板61の下面の第2接続パット72とを接続する側面配線73を形成する。側面配線73はリフトオフパターニング技術を用いて形成する。例えばSiチップ製造装置はp型Si基板61の上面及び下面の配線電極を保護するレジストパターンをフォトリソ・エッチング技術で形成し、貫通孔69の側面を含む全面にスパッタ法または蒸着法にて金Au/クロムCr等の電極材料を成膜し、次にp型Si基板61の上面及び下面のレジストを除去することで側面配線73が完成する。第1接続パット71は音叉型水晶振動片20と接続する為の端子であり、第2接続パット72はパッケージ内部電極59と接続するための端子である。
ステップS21において、Siチップ製造装置はp型Si基板61の下面に形成した第2接続パット72及び第3接続パット74に金Au製のスタッドバンプ53を形成する。スタッドバンプ53はパッケージ内部電極59及びアース端子GNDに接続するためのバンプであり、FCBで超音波などの振動を与えて融着・接合する。
ステップS22において、Siチップ製造装置はダイシングなどにより、台座部51の1個分の大きさに分割し、静電気保護Siチップ60を製造する。
図5は静電耐性を持つSMDタイプの音叉型振動子50の製造方法を示すフローチャートである。静電耐性を持つSMDタイプの音叉型振動子50の製造は公知の振動子製造装置で組み立てる。
ステップS31において、振動子製造装置はパッケージPKGの底部のベース部54に図3で製造したスタッドバンプ53付きの静電気保護Siチップ60を載置する。載置する場所はパッケージ内部電極59とスタッドバンプ53とが重なる場所である。
ステップS32において、振動子製造装置はFCBでパッケージ内部電極59及びアース端子GNDと静電気保護Siチップ60とをスタッドバンプ53を介して融着・接合する。パッケージ内部電極59及びアース端子GNDは外部電極88と接続されており、パッケージ外部へとの導通が図られる。
ステップS33において、振動子製造装置は静電気保護Siチップ60の上面の接続パット67に導電性接着剤52を塗布し、音叉型水晶振動片20を接着する。導電性接着剤52は仮硬化させた後に、硬化炉で本硬化させる。
ステップS34において、振動子製造装置は音叉型水晶振動片20の振動腕21にレーザ光を照射して、振動腕21の水晶単結晶ウエハ10の一部または錘金属を蒸散・昇華させ、質量削減方式による周波数調整を行う。
ステップS35において、振動子製造装置は真空チャンバなどに音叉型水晶振動片20を収容したパッケージPKGを移し、封止材58により蓋体59で封止する。
ステップS36において、振動子製造装置は静電耐性を持つSMDタイプの音叉型振動子50の駆動特性、または静電耐性などの検査を行い、SMDタイプの音叉型振動子50を完成させる。
以上、本発明の静電耐性を持つSMDタイプの音叉型振動子について詳細に説明したが、他の全ての水晶振動片についても同様に台座を静電気保護Siチップに置き換えることができる。また水晶に限ることのない圧電片についても同様に台座を静電気保護Siチップに置き換えることができる。また、圧電デバイスの代表として水晶振動子について説明してきたが、他の圧電材料を使用した振動子にも適用できる。さらに、パッケージPKG内に発振回路を有するICを実装した水晶発振子にも適用できる。
20 … 音叉型水晶振動片
21 … 振動腕
23 … 第1基部電極
25 … 第2基部電極
27 … 溝部
29 … 基部
50 … 音叉型水晶振動子
51 … 台座部
52 … 導電性接着剤
53 … スタッドバンプ
54 … ベース部
56 … 蓋体
58 … 封止材
59 … パッケージ電極
60 … 静電気保護Siチップ
61 … p型Si基板
62 … Si窒化膜
63 … 素子分離領域
64 … N+拡散領域
65 … P+拡散領域
66 … 第1層間絶縁膜
67 … 第2層間絶縁膜
68 … メタル配線
69 … 貫通孔
70 … 第3層間絶縁膜
71 … 第1接続パット
72 … 第2接続パット
73 … 側面配線
74 … 第3接続パット
GND … アース端子
PKG … パッケージ
21 … 振動腕
23 … 第1基部電極
25 … 第2基部電極
27 … 溝部
29 … 基部
50 … 音叉型水晶振動子
51 … 台座部
52 … 導電性接着剤
53 … スタッドバンプ
54 … ベース部
56 … 蓋体
58 … 封止材
59 … パッケージ電極
60 … 静電気保護Siチップ
61 … p型Si基板
62 … Si窒化膜
63 … 素子分離領域
64 … N+拡散領域
65 … P+拡散領域
66 … 第1層間絶縁膜
67 … 第2層間絶縁膜
68 … メタル配線
69 … 貫通孔
70 … 第3層間絶縁膜
71 … 第1接続パット
72 … 第2接続パット
73 … 側面配線
74 … 第3接続パット
GND … アース端子
PKG … パッケージ
Claims (7)
- パッケージ内に圧電振動片を収納する圧電デバイスにおいて、
第1面と第2面とを有し、前記圧電振動片を前記第1面に載置するとともに静電気保護回路が形成された台座と、
前記パッケージ内に形成され、前記台座の第2面と接続する内部電極と、
を備えることを特徴とする圧電デバイス。 - 前記台座は、ダイオードを形成した半導体基板であることを特徴とする請求項1に記載の圧電デバイス。
- 前記台座の第1面には、前記圧電振動片の電極と接続する第1パットが形成され、
前記台座の第2面には、前記内部電極と接続する第2パット及び静電気を拡散する第3パッドが形成され、
前記台座には、前記第1パッドと第2パッドとを接続する配線が形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の圧電デバイス。 - 前記台座の厚さは、50μm〜750μmであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の圧電デバイス。
- パッケージ内の内部電極に対応するように、静電気保護回路が形成された台座の第2面を配置する配置工程と、
前記台座の第1面に導電性接着剤を塗布して、圧電振動片を接着する接着工程と、
前記パッケージに蓋体で封止する封止工程と、
を備えたことを特徴とする圧電デバイスの製造方法。 - 前記配置工程は、フリップチップボンディングにより前記第2面を固定することを特徴とする請求項5に記載の圧電デバイスの製造方法。
- 前記接着工程後に、前記圧電振動片の周波数調整を行うことを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の圧電デバイスの製造方法。
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