JP2009158655A - 発光装置 - Google Patents

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浩二 中津
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Abstract

【課題】封止材としてシリコーン樹脂の代わりとなるフッ素系樹脂を用いても、高い信頼性の確保が可能な発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置10は、保護素子11と発光素子12とを搭載する基体13と、これらを封止する樹脂封止部14とを備えている。樹脂封止部14は、フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂で形成されている。基体13は、基体本体13aが直方体状のポリフタルアミド樹脂で形成されている。この基体本体13aには、発光素子12を底部に搭載するための凹部13bが設けられている。ポッティング法にて形成された樹脂封止部14との境界面である凹部13bの内周壁面は、二酸化珪素で形成された樹脂封止部14との密着面である。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体を積層することで形成された発光素子と、発光素子が搭載された基体と、発光素子を封止するフッ素系樹脂で形成された樹脂封止部とを備えた発光装置に関する。
半導体を積層することで形成された発光素子は、基板などの基体に搭載された発光装置として使用されるときには、発光素子を保護する目的で封止材により封止される。封止材としては、シリコーン樹脂などが広く用いられている。しかし、シリコーン樹脂は、吸湿性が高いため雰囲気中の水分を吸湿してしまう。この水分は、発光素子まで至ることで、発光素子のリークを発生させるなどの悪い影響を与える。また、シリコーン樹脂は、太陽光などが照射する環境下では、強い紫外線により劣化して亀裂が生じたり破損が生じたりすることがある。
そこで、シリコーン樹脂に代わる封止材として、吸湿性が低く耐侯性が高いフッ素系樹脂を採用した発光装置が特許文献1に記載されている。この特許文献1の発光素子(発光装置)は、LEDチップ(発光素子)を可視光透過性を有するフッ素系樹脂で封止したものであり、特許文献1には、フッ素系樹脂として、封止プロセスを容易とするためにフッ素系樹脂を溶媒に溶解した溶液状で用いるのが望ましいと記載されている。
特開2003−8073号公報
しかし、溶剤に溶解したフッ素系樹脂を封止材として用いると、硬化の際に溶剤が揮発して大きな体積変化が発生するので、発光素子を封止する樹脂封止部として厚みを厚く形成すると亀裂が生じてしまい、コーティング材のような薄膜でしか形成できない。従って、この特許文献1に記載されているようなフッ素系樹脂は、ある程度の厚みを要する封止材には適していない。
また、フッ素系樹脂は、ポリフタルアミドのような樹脂基板を基体として、その上に樹脂封止部を形成すると、樹脂基板との密着性が低いため樹脂封止部が剥離してしまうおそれがある。そうなると、発光素子ごと基体から剥がれたり、発光素子へ電源を供給するワイヤが切断したりして、発光不良となることで信頼性の低下を招くおそれがある。
そこで本発明は、封止材としてシリコーン樹脂の代わりとなるフッ素系樹脂を用いても、高い信頼性の確保が可能な発光装置を提供することを目的とする。
本発明の発光装置は、発光素子を封止する樹脂封止部が、フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂で形成され、発光素子を搭載する基体が、前記樹脂封止部との境界面の少なくとも一部が、二酸化珪素、またはセラミックで形成された前記樹脂封止部との密着面であることを特徴とする。
本発明は、フッ素系樹脂の低吸湿性および耐侯性を維持しつつ、ある程度の厚みの樹脂封止部を形成でき、基体の境界面とも高い密着性を確保することができるので、封止材としてシリコーン樹脂の代わりとなるフッ素系樹脂を用いても高い信頼性の確保が可能である。
本願の第1の発明は、半導体を積層することで形成された発光素子と、発光素子を搭載する基体と、発光素子を封止する樹脂封止部とを備えた発光装置において、樹脂封止部は、フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂で形成され、基体は、樹脂封止部との境界面の少なくとも一部が、二酸化珪素、またはセラミックで形成された樹脂封止部との密着面であることを特徴としたものである。
フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂は、低吸湿性および耐侯性を維持したまま、無溶剤なので樹脂硬化時でも体積変化が少ない。従って、発光素子を封止するために樹脂封止部を形成しても、ひび割れや亀裂が発生することがないので、ある程度の厚みを要する封止材として適している。また、基体は、この樹脂封止部との境界面の少なくとも一部が、二酸化珪素またはセラミックで形成された密着面なので、密着性の低いフッ素系樹脂であっても、樹脂封止部が基体から剥離することが防止できる。
本願の第2の発明は、第1の発明において、基体は、白色のセラミックで形成され、密着面が二酸化珪素により形成されたことを特徴としたものである。
基体が白色のセラミックであれば、基体表面は発光素子からの光を反射する反射面として作用する。二酸化珪素はほぼ透明であるため、基体と樹脂封止部との境界面となる密着面を二酸化珪素とすることで、基体自体の反射性を生かしつつ、密着性を確保することができる。
本願の第3の発明は、第1の発明において、基体は、セラミックで形成され、密着面をセラミックの表面としたことを特徴としたものである。
基体がセラミックであれば、フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂との密着性は確保できるので、そのまま基体表面を密着面とすることができる。従って、新たな膜を形成する必要がないので、コスト的にメリットがある。
本願の第4の発明は、第1の発明において、基体には、発光素子からの光を反射する反射膜が設けられ、密着面は、反射膜上に形成された二酸化珪素膜であることを特徴としたものである。
密着面に反射膜を形成し、この反射膜上に二酸化珪素膜を形成したものとすれば、基体の材質を問わず、反射面の反射性を生かしつつ、密着性を確保することができる。
本願の第5の発明は、第4の発明において、反射膜は、銀またはアルミのいずれかであることを特徴としたものである。
反射膜は、銀またはアルミとすることができる。銀であれば、他の金属と比較して高い反射率を有するので高い反射性を確保することができる。アルミであれば、銀より反射率は劣るが安価に作製することができる。
(実施の形態1)
本発明の実施の形態1に係る発光装置を、図面に基づいて説明する。図1は、本発明の実施の形態に係る発光装置の平面図である。図2は、図1に示す発光装置の断面図である。図3は、図1に示す発光装置の回路図である。図4は、図1に示す発光装置に用いられる発光素子の断面図である。
図1および図2に示すように、発光装置10は、保護素子11と、発光素子12と、基体13と、樹脂封止部14とを備えている。
保護素子11は、上面カソード電極11aと上面アノード電極11bに発光素子12を導通搭載して、過度な電圧が発光素子12に印加しないよう、n型のシリコン基板の一部にp型の半導体領域を設けたツェナーダイオードである。この保護素子11に発光素子12を搭載した状態の回路図を図3に示す。本実施の形態1では、保護素子11をツェナーダイオードZとしたが、ダイオード、コンデンサ、抵抗、またはバリスタや、絶縁基板に配線パターンが形成されたプリント配線基板とすることも可能である。この保護素子11は、底面電極(図示せず)とワイヤ15とにより、電源が供給される。
発光素子12は、例えば図4に示すような、青色光を発光するLEDとすることができる。発光素子12は、基板12aに、n層12bと、発光層12cと、p層12dとが順次積層されている。そして、n層12b上にn側電極12eが形成され、p層12d上に反射電極12fとp側電極12gとが形成されている。
基板12aは、窒化ガリウム系半導体であるn型GaNで形成され、一辺が約1mm、厚みが200μmの平面視してほぼ正方形状の直方体状に形成されている。
n層12bは、基板12aにGaNやAlGaN等を積層して形成され、層厚が0.5μm〜5μmとしたn型半導体層である。n層12bと基板12aの間にGaNやInGaN等で形成したバッファ層を設けることも可能である。
発光層12cは、n層12bに井戸層となるInGaN等を0.001μm〜0.005μmの層厚とし、障壁層となるGaN等を0.005μm〜0.02μmの層厚とし、これらを交互に積層した多重量子井戸構造で積層したものである。
また、p層12dは、発光層12cにAlGaNを積層して形成され、層厚が0.05μm〜0.5μmとしたp型半導体層である。
n側電極12eは、n層12bに発光層12cとp層12dとを積層した後に、ドライエッチングにより発光層12cとp層12dとn層12bの一部とを除去して、n側電極12eを形成する領域を露出させたn層12b上に形成されている。
反射電極12fは、p層12d上にAgで形成され、発光層12cからの光を基板12aへ反射するものである。反射電極12fは、p層12dやp側電極12gとのコンタクト性を向上させるために、Ag層を含む多層としてもよい。
p側電極12gは、反射電極12f上に形成されている。このように構成された発光素子12は、上下を反対にして保護素子11の上面カソード電極11aにn側電極12eが、上面アノード電極11bにp側電極12gが導通搭載するようにフリップチップ実装されている。
図1および図2に示すように、基体13は、直方体状に形成された基体本体13aに凹部13bが設けられ、この凹部13bの底部に保護素子11および発光素子12が搭載されている。基体13には、金属膜で形成された底面カソード電極13vおよび底面アノード電極13wが、基体本体13aの底面に設けられている。底面カソード電極13vは、保護素子11が搭載された基体本体13aの搭載面B1上のワイヤ接続パターン13sと、スルーホール配線13xを介して導通接続している。また、底面アノード電極13wは、保護素子11と接続する搭載面B1上のダイボンド接続パターン13tとスルーホール配線13yを介して導通接続している。
基体本体13aの凹部13bの内周壁面には、発光素子12からの光の進行方向に向かうに従って開口面積が徐々に広くなる反射面13cが形成されている。ここで、基体13の反射面13cについて詳細に説明する。
基体本体13aは、例えば、ポリフタルアミド樹脂であるアモデル(登録商標)で形成することができる。基体本体13aをポリフタルアミド樹脂とした場合には、凹部13bの内周壁面である反射面13cを二酸化珪素膜や、アルミ膜または銀膜上に二酸化珪素膜を形成した2層膜とした密着面とすることができる。
基体本体13aは、ポリフタルアミド樹脂とする以外に、セラミックとすることができる。基体本体13aをセラミックとした場合には、反射面13cを二酸化珪素膜や、銀膜上に二酸化珪素膜を形成した2層膜とする以外に、何も膜を付与せずセラミックの表面を密着面とすることができる。
反射面13cを二酸化珪素膜とするときには、スパッタリングにより成膜することができる。また、アルミ膜または銀膜は、蒸着により成膜することができる。
樹脂封止部14は、粘度調整材としての二酸化珪素を含有したフッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂を、ポッティング法により凹部13bに充填することで形成することができる。このフッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂は、硬化するとゲル状に硬化するものがある。しかし、ゲル状に硬化するフッ素系樹脂は硬化すると粘弾性が高く、表面に塵埃が付着すると取れにくいので、輝度低下を招くおそれがある。従って、樹脂封止部14を成型するフッ素系樹脂としては、ゲル状に硬化するものより硬いものの方が粘弾性が低いので、ゴム状に硬化するものを使用するのが望ましい。ゴム状に硬化するフッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂としては、例えば、信越化学工業株式会社製「SHIN−ETSU SIFEL(登録商標)」が使用できる。ここで、ゲル状に硬化するものより硬いフッ素系樹脂とは、JIS 6253 タイプA スプリング硬さ試験機にて測定可能な硬さを有するものをいう。例えば、硬さが10以上の硬質なフッ素系樹脂であればスプリング硬さ試験機で測定が可能である。また、ASTM(American Society for Testing and Materials:米国材料試験協会)にて規定されたデュロメータA(ショア社製)で測定可能な硬さを有するものをいう。また、ゴム状に硬化するフッ素系樹脂より硬いデュロメータDで45以上のフッ素系樹脂や、デュロメータDで測定可能なフッ素系樹脂はゴム状のものより更に粘弾性が低いので、採用することが可能である。
本実施の形態1では、樹脂封止部14に発光素子12からの光に励起され、波長を変換する蛍光体14a(図1では図示せず)が含有されている。発光素子12は青色に発光するので、この蛍光体14aを青色の補色となる黄色に発光するものとすれば、青色と黄色とが混色することで樹脂封止部14を白色に発光させることができる。この蛍光体14aとしては、珪酸塩蛍光体やYAG系蛍光体が使用できる。
この樹脂封止部14を形成するフッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂は、低吸湿性および耐侯性を維持したまま、無溶剤なので樹脂硬化時でも体積変化が少ないため、ポッティング法により樹脂封止部14をある程度厚みを厚く形成してもひび割れや亀裂が発生することがない。従って、フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂は、ある程度の厚みを要する封止材として適している。
しかし、フッ素系樹脂がゴム状に硬化するものであれば樹脂封止部14は、ゲル状に硬化するフッ素系樹脂よりポリフタルアミド樹脂で形成された基体本体13aと密着性が低い。本発明の実施の形態1に係る発光装置10では、基体本体13aに設けられた凹部13bの内周壁面(反射面13c)には、二酸化珪素膜が設けられているので、樹脂封止部14と基体13との密着性を確保することができる。従って、樹脂封止部14が基体13から剥離することで発光不良となることが防止できるので、発光装置10は封止材としてシリコーン樹脂の代わりとなるフッ素系樹脂を用いても、高い信頼性を確保することが可能である。
また、反射面13cを二酸化珪素膜とする以外に、アルミ膜または銀膜上に二酸化珪素膜を形成した2層膜としたり、または基体本体13aがセラミックの場合では、何も膜を付与せず基体本体13aのセラミックをそのまま境界面としたりしても、樹脂封止部14との密着面として作用するので、樹脂封止部14との密着性を確保することができる。
また、密着面を二酸化珪素膜とすると、ほぼ透明膜となるため、ポリフタルアミド樹脂やセラミックで形成された基体本体13a上にアルミ膜または銀膜を形成し、更に二酸化珪素膜を形成することで、密着性を確保しつつ、反射性も確保することができる。アルミ膜で形成すると、反射率は銀膜より劣るものの安価であるため、コスト面でのメリットもある。また、白色のセラミックで形成した基体本体13aに二酸化珪素膜を形成した場合には、基体本体13a自体の反射性を生かしつつ、樹脂封止部14との密着性を確保することができる。
なお、本実施の形態1に係る発光装置10では凹部13bの内周壁面のみを密着面としているが、樹脂封止部14との境界面であって、保護素子11が搭載された電極および保護素子11とワイヤ15にて接続するワイヤ接続パターン13sを除く凹部13bの底部に、二酸化珪素膜などを施して密着面としてもよい。
(実施の形態2)
本発明の実施の形態2に係る発光装置を図5および図6に基づいて説明する。図5は、本発明の実施の形態2に係る発光装置を示す平面図である。図6は、図5に示す発光装置の断面図である。なお、本実施の形態2では、発光素子は図1および図2に示すものと同じ構成のものが使用できるので、図5および図6において同符号を付して説明を省略する。
図5および図6に示す発光装置20は、矩形状のプリント配線基板である基体21上に、保護素子22と発光素子12とが搭載されている。基体21は、セラミックにより形成された基体本体21aの底面に、金属膜で形成された底面カソード電極21vと底面アノード電極21wとが設けられている。底面カソード電極21vは、保護素子22および発光素子12が搭載された基体本体21aの搭載面B2上の上面カソード電極21sに、スルーホール配線21xを介して導通接続している。また、底面アノード電極21wは、搭載面B2上の上面アノード電極21tに、スルーホール配線21yを介して導通接続している。保護素子22と発光素子12とは、この上面カソード電極21sと上面アノード電極21tとを跨ぐように、アノードおよびカソードの極性を合わせて導通接続している。
保護素子22は、ツェナーダイオードであり、実施の形態1に係る発光装置にて用いられている保護素子11(図1および図2参照)と同じ機能のものである。異なる点は、保護素子22の底面に電極(図示せず)が設けられ、発光素子12とは基体21上に形成された上面カソード電極21sと上面アノード電極21tとによって接続されているところである。
そして、発光素子12は、第1樹脂封止部23により封止されている。第1樹脂封止部23により封止された発光素子12は、保護素子22と共に第2樹脂封止部24により封止されている。
第1樹脂封止部23は、粘度調整材としてのシリカ(図示せず)と蛍光体23aとを含有したフッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂により形成されている。この第1樹脂封止部23は、前述したゴム状に硬化するフッ素系樹脂でもよいし、硬さがゴム状のものより軟質なゲル状に硬化するフッ素系樹脂を用いて成型してもよい。第1樹脂封止部23は、基体21に発光素子12を搭載した後に、発光素子12の周囲全体を囲う周壁となる開口が形成された印刷版を配置し、この開口に前記フッ素系樹脂を充填してスキージ等で均すことで成型するスクリーン印刷法により形成することができる。
第2樹脂封止部24は、粘度調整材としての二酸化珪素(図示せず)を含有したフッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂により形成されている。このフッ素系樹脂は、ゴム状に硬化するものとするのが使用できる。この第2樹脂封止部24は、第1樹脂封止部23を形成した後に、基体21の周囲全体を囲う周壁となる開口が形成された印刷版を配置し、この開口に樹脂を充填してスキージ等で均すことで成型するスクリーン印刷法により形成することができる。
このように第1樹脂封止部23および第2樹脂封止部24が、フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂により形成されていることで、低吸湿性と耐侯性とを維持しつつ、厚みのある樹脂封止部(第1樹脂封止部23および第2樹脂封止部24)を形成することができる。また、基体本体21aは、セラミックで形成されているので、第2樹脂封止部がゴム状に硬化するフッ素系樹脂で成型されていても、保護素子22と発光素子12とが導通搭載された上面カソード電極21sと上面アノード電極21tを除く表面(境界面)と、第1樹脂封止部23および第2樹脂封止部24とが良好に密着する。従って、第1樹脂封止部23と第2樹脂封止部24とが基体21から剥離することが防止できるので、発光不良を防止することができる。
また、基体本体21aを白色のセラミックで形成すれば、基体本体21a自体の反射性を生かしつつ、第1樹脂封止部23および第2樹脂封止部24との密着性を確保することができる。
なお、本実施の形態2に係る発光装置20では、基体本体21aをセラミックで形成することで、密着面として新たな膜を形成することを省略しているが、基体本体21aを樹脂基板とした場合には、実施の形態1に係る発光装置10のように、基体本体21aの表面に二酸化珪素膜を成膜した密着面としたり、アルミ膜または銀膜に二酸化珪素膜を成膜した2層膜とした密着面としたりすることができる。
また、本実施の形態2に係る発光装置20では、第1樹脂封止部23に蛍光体23aを含有させ、第2樹脂封止部24で第1樹脂封止部23全体を覆っているが、第2樹脂封止部24に蛍光体23aを含有させることで、第1樹脂封止部23を省略し、第2樹脂封止部24のみとすることができる。
本発明は、封止材としてシリコーン樹脂の代わりとなるフッ素系樹脂を用いても高い信頼性の確保が可能なので、発光素子と、発光素子が搭載された基体と、発光素子を封止するフッ素系樹脂で形成された樹脂封止部とを備えた発光装置に好適である。
本発明の実施の形態に係る発光装置の平面図 図1に示す発光装置の断面図 図1に示す発光装置の回路図 図1に示す発光装置に用いられる発光素子の断面図 本発明の実施の形態2に係る発光装置を示す平面図 図5に示す発光装置の断面図
符号の説明
10 発光装置
11 保護素子
11a 上面カソード電極
11b 上面アノード電極
12 発光素子
12a 基板
12b n層
12c 発光層
12d p層
12e n側電極
12f 反射電極
12g p側電極
13 基体
13a 基体本体
13b 凹部
13c 反射面
13s ワイヤ接続パターン
13t ダイボンド接続パターン
13v 底面カソード電極
13w 底面アノード電極
13x スルーホール配線
13y スルーホール配線
14 樹脂封止部
14a 蛍光体
15 ワイヤ
20 発光装置
21 基体
21a 基体本体
21s 上面カソード電極
21t 上面アノード電極
21v 底面カソード電極
21w 底面アノード電極
21x スルーホール配線
21y スルーホール配線
22 保護素子
23 第1樹脂封止部
23a 蛍光体
24 第2樹脂封止部

Claims (5)

  1. 半導体を積層することで形成された発光素子と、前記発光素子を搭載する基体と、前記発光素子を封止する樹脂封止部とを備えた発光装置において、
    前記樹脂封止部は、フッ素化ポリエーテル骨格およびシリコーン架橋末端基を有するフッ素系樹脂で形成され、
    前記基体は、前記樹脂封止部との境界面の少なくとも一部が、二酸化珪素、またはセラミックで形成された前記樹脂封止部との密着面であることを特徴とする発光装置。
  2. 前記基体は、白色のセラミックで形成され、
    前記密着面が二酸化珪素により形成された請求項1記載の発光装置。
  3. 前記基体は、セラミックで形成され、
    前記密着面を前記セラミックの表面とした請求項1記載の発光装置。
  4. 前記基体には、前記発光素子からの光を反射する反射膜が設けられ、
    前記密着面は、前記反射膜上に形成された二酸化珪素膜である請求項1記載の発光装置。
  5. 前記反射膜は、銀またはアルミのいずれかである請求項4記載の発光装置。
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