JP2009158619A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上に形成され、所定の間隔を隔てて第1の不純物領域及び第2の不純物領域を有する島状半導体層、前記島状半導体層上に形成されたゲート絶縁膜、及び前記第1の不純物領域及び第2の不純物領域の間の領域に対応する前記ゲート絶縁膜上の領域に形成されたゲート電極を具備し、前記島状半導体層の平面形状は、すべての角が鈍角である多角形であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
LSIプロセス工学(右高正俊編著)オーム社 J.M. POATE, JAMES W. MAYER ; Laser Annealing of Semiconductors ; P.530〜P.539 (1982) M. Miyano, H. Tamura, L. Ohyu and T. Tokuyama ; Proc. of Laser-solid Interactions and Laser Processing Sym. ; P.325〜P.330 (1979) 光学薄膜の基礎理論(小檜山 光信著)オプトロニクス社
Claims (6)
- 基板上に形成された島状半導体層、及び
前記島状半導体層上に形成された絶縁膜
を具備し、
前記島状半導体層の平面形状は、すべての角が鈍角である多角形であることを特徴とする半導体装置。 - 基板上に形成され、所定の間隔を隔てて第1の不純物領域及び第2の不純物領域を有する島状半導体層、
前記島状半導体層上に形成されたゲート絶縁膜、及び
前記第1の不純物領域及び第2の不純物領域の間の領域に対応する前記ゲート絶縁膜上の領域に形成されたゲート電極
を具備し、
前記島状半導体層の平面形状は、すべての角が鈍角である多角形であることを特徴とする半導体装置。 - 前記島状半導体層の平面形状は、矩形の4つの角部を角取りした形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 基板上に島状半導体層を形成する工程、
前記島状半導体層上に絶縁膜を形成する工程、
前記島状半導体層に不純物を注入する工程、及び
前記島状半導体層に光を照射し、前記島状半導体層中の不純物を活性化する工程
を具備し、
前記島状半導体層の平面形状は、すべての角が鈍角である多角形であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 基板上に島状半導体層を形成する工程、
前記島状半導体層上にゲート絶縁膜を形成する工程、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する工程、
前記ゲート電極をマスクとして前記島状半導体層に不純物を注入する工程、及び
前記島状半導体層に光を照射し、前記島状半導体層中の不純物を活性化する工程
を具備し、
前記島状半導体層の平面形状は、すべての角が鈍角である多角形であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記島状半導体層の平面形状は、矩形の4つの角部を角取りした形状であることを特徴とする請求項4又は5に記載の半導体装置の製造方法。
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JP2007333284A JP2009158619A (ja) | 2007-12-25 | 2007-12-25 | 半導体装置及びその製造方法 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01107514A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP2003168691A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2009152224A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Sharp Corp | 半導体素子の製造方法、アクティブマトリクス基板の製造方法、表示装置の製造方法、及び、レーザー結晶化装置 |
-
2007
- 2007-12-25 JP JP2007333284A patent/JP2009158619A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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JPH01107514A (ja) * | 1987-10-20 | 1989-04-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JP2003168691A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2009152224A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Sharp Corp | 半導体素子の製造方法、アクティブマトリクス基板の製造方法、表示装置の製造方法、及び、レーザー結晶化装置 |
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