JP2009150937A - 多階調フォトマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の多階調フォトマスクは、透明基板上に設けられた、露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光を一部透過させる半透過膜とにより、透光領域、遮光領域、及び半透光領域を持つ転写パターンを備えた多階調フォトマスクであって、前記半透過膜は、前記露光光の波長域において波長依存性を持つ透過率を有しており、かつ、前記半透光領域は、前記転写パターンの転写の際に用いる露光機の露光光学条件下において前記波長依存性が実質的に生じない透過率を示す寸法を持つ領域を含むことを特徴とする。
【選択図】なし
Description
今までは、半透光領域を構成する半透過膜の透過率は、パターン形状によらず、その膜と露光光によって決定する膜固有の透過率で規定していた。このように規定された透過率に基づいて半透過膜の膜材や厚さを設定する場合において、半透光領域の面積が露光機の解像度に対して十分に大きく、露光光の波長が一定であるときには特に問題は生じない。しかしながら、半透光領域の面積や幅が微小になった場合には、半透光領域に隣接する遮光部や透光部の影響により、実際の露光時には半透過膜固有の透過率とは異なる値となることがある。
(実施例)
ガラス基板上に線源g線に対する透過率50%の半透過膜であるMoSi膜及び遮光膜であるクロム膜をこの順に積層してなるフォトマスクブランクを用意し、このフォトマスクブランク上に、遮光領域及び半透光領域に対応する領域のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとし、硝酸第二セリウムアンモニウムを主成分とするエッチング液をエッチャンントとして用いて、露出したクロム膜をウェットエッチングした。次いで、クロム膜をマスクとし、弗化水素酸と酸化剤エッチング液をエッチャンントとして用いて、露出しているMoSi膜をウェットエッチングして透光領域を形成した。なお、該エッチング液は、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含むいずれを用いても構わない。次いで、少なくとも遮光領域を含む領域にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとし、硝酸第二セリウムアンモニウムを主成分とするエッチング液をエッチャントとして用いて、露出したクロム膜をウェットエッチングした。
2 照明光学系
3 フォトマスク
4 対物レンズ系
4a シミュレータレンズ
4b 結像レンズ
5 撮像手段
6 波長選択フィルタ
7 開口絞り
8 視野絞り
11 演算手段
12 表示手段
13 筐体
14 制御手段
15 移動操作手段
31 透明基板
32 半透過膜
33 遮光膜
Claims (10)
- 透明基板上に設けられた、露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光を一部透過させる半透過膜とにより、透光領域、遮光領域、及び半透光領域を持つ転写パターンを備えた多階調フォトマスクであって、前記半透過膜は、前記露光光の波長域において波長依存性を持つ透過率を有しており、かつ、前記半透光領域は、前記転写パターンの転写の際に用いる露光機の露光光学条件下において前記波長依存性が実質的に生じない透過率を示す寸法を持つ領域を含むことを特徴とする多階調フォトマスク。
- 前記露光光学条件は、少なくとも前記露光機の光源の波長、開口数、及びコヒレンシを含むことを特徴とする請求項1記載の多階調フォトマスク。
- 前記半透過膜の透過率は、露光光源i線からg線の波長域において20%〜80%であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の多階調フォトマスク。
- 前記波長依存性は、波長が長くなるにしたがって透過率が上昇する依存性であり、露光光源i線からg線の波長域において1%以上の透過率差のある特性線で示されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
- 前記半透過膜は、酸化クロム膜、窒化クロム膜、又は金属シリサイド膜であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
- 前記多階調フォトマスクは、薄膜トランジスタ製造用であり、前記波長依存性が実質的に生じない透過率を示す寸法を持つ領域が、該トランジスタのチャネル領域に対応するものであることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の多階調フォトマスク。
- 前記チャネル領域の幅が1.0μm〜5.0μmであることを特徴とする請求項6記載の多階調フォトマスク。
- 透明基板上に設けられた、露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光を一部透過させる半透過膜とにより、透光領域、遮光領域、及び半透光領域を持つ転写パターンを備えた多階調フォトマスクであって、前記半透過膜は、i線〜g線の波長域において波長依存性を持つ透過率を有しており、かつ、前記半透光領域は、0.075〜0.085の範囲内の開口数、0.5〜1.0のコヒレンシ、i線〜g線の波長域をもつ露光光学系により露光したとき、該i線〜g線の波長域において、前記波長依存性を実質的に生じない透過率を示す寸法の領域を含むことを特徴とする多階調フォトマスク。
- 透明基板上に設けられた、露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光を一部透過させる半透過膜とを、それぞれパターニングすることにより、透光領域、遮光領域、及び半透光領域を持つ転写パターンが形成された多階調フォトマスクを用い、露光機による露光光を照射することによって、該転写パターンを被加工層に転写する、パターン転写方法において、前記半透過膜は、前記露光光の波長域において波長依存性を持つ透過率を有しており、かつ、前記露光機の露光光学条件は、所定の寸法を有する前記半透光領域において、前記透過率の波長依存性が実質的に生じないような条件とすることを特徴とするパターン転写方法。
- 請求項9記載のパターン転写方法により薄膜トランジスタのパターニングを行うことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
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