JP2009145452A - 光照射装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】縦長のパターンに光を照射して露光を行なう光照射装置において、良好な露光精度を維持しながら、光の利用効率を上げること。
【解決手段】反射鏡21,22が二重重ねに配置され、第1の反射鏡21には、光軸に垂直な第1の方向(X方向)について対向する2ヶ所に切り欠きが形成されている。ランプ1からのX方向の光は外側の第2の反射鏡22で反射し、X方向に垂直な第2の方向(Y方向)の光は第1の反射鏡21でそれぞれ反射する。反射鏡21の倍率を反射鏡22の倍率より大きくすることで、視角はY方向について小さくX方向について大きくなる。この光は、インテグレータレンズ4、コリメータミラー6を介してマスクMに入射する。マスクMのストライプパターンの伸びる方向と、入射する光の視角αが大きい方向とを一致させることにより、良好な露光精度を維持した状態で、照度を大きくすることができる。
【選択図】 図1
【解決手段】反射鏡21,22が二重重ねに配置され、第1の反射鏡21には、光軸に垂直な第1の方向(X方向)について対向する2ヶ所に切り欠きが形成されている。ランプ1からのX方向の光は外側の第2の反射鏡22で反射し、X方向に垂直な第2の方向(Y方向)の光は第1の反射鏡21でそれぞれ反射する。反射鏡21の倍率を反射鏡22の倍率より大きくすることで、視角はY方向について小さくX方向について大きくなる。この光は、インテグレータレンズ4、コリメータミラー6を介してマスクMに入射する。マスクMのストライプパターンの伸びる方向と、入射する光の視角αが大きい方向とを一致させることにより、良好な露光精度を維持した状態で、照度を大きくすることができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、高い照度で効率よく光を照射することができる光照射装置に関する。
さらに詳細には、縦長のパターンが形成されたマスクを介して、ワークに光を照射するに際し、光利用効率を低下させることなく、良好な露光精度で被処理物の露光することが可能な光を照射することができる光照射装置に関し、特に、液晶素子のカラーフィルタの露光および配向膜の光配向等に適用するのに好適な光照射装置に関するものである。
さらに詳細には、縦長のパターンが形成されたマスクを介して、ワークに光を照射するに際し、光利用効率を低下させることなく、良好な露光精度で被処理物の露光することが可能な光を照射することができる光照射装置に関し、特に、液晶素子のカラーフィルタの露光および配向膜の光配向等に適用するのに好適な光照射装置に関するものである。
液晶パネルを始めとする液晶素子の配向膜や、視野角補償フィルムの配向層などの配向処理に関し、配向膜に所定の波長の偏光光を照射することにより配向を行なう、光配向と呼ばれる技術が採用されるようになってきている。
以下、光により配向特性が生じる膜や層のことを総称して光配向膜と呼ぶ。光配向に用いられる光照射装置は、例えば特許文献1、特許文献2に記載されている。
さらに、配向膜にプレチルト角を与える場合は、配向膜に対してプレチルト角に応じた角度から斜めに光を照射する。配向膜に対して斜めから光を照射する露光方法や光照射装置は、例えば特許文献3や特許文献4に記載されている。
液晶素子は、その視野角特性を改善するために、R(赤)G(緑)B(青)の各画素を2つもしくはそれ以上に分割し、分割した画素毎に液晶の配向方向を変えること(画素分割ともいう)が行われている。図11、図12を用いて、画素を2つに分割する場合を例にして説明する。
以下、光により配向特性が生じる膜や層のことを総称して光配向膜と呼ぶ。光配向に用いられる光照射装置は、例えば特許文献1、特許文献2に記載されている。
さらに、配向膜にプレチルト角を与える場合は、配向膜に対してプレチルト角に応じた角度から斜めに光を照射する。配向膜に対して斜めから光を照射する露光方法や光照射装置は、例えば特許文献3や特許文献4に記載されている。
液晶素子は、その視野角特性を改善するために、R(赤)G(緑)B(青)の各画素を2つもしくはそれ以上に分割し、分割した画素毎に液晶の配向方向を変えること(画素分割ともいう)が行われている。図11、図12を用いて、画素を2つに分割する場合を例にして説明する。
(1)液晶素子に光を照射するに際し、図11(a)に示すような縦長(ストライプ状)のパターンPを形成したマスクMを準備する。マスクMは露光に必要な波長の光(露光光)が透過する基板上に金属等による遮光部を形成して製作する。例えば露光光が紫外線の場合、マスクMとしては石英ガラスが用いられ、遮光部としてはクロムが使用される。図中黒い部分が遮光部であり、それ以外の部分は光が透過する。
(2)図11(b)は、光配向を行なう液晶素子の画素が並んでいる状態を示す模式図である。
同図において、1個の四角が1個の画素であり、縦に4個横に5個の画素が並んでいる。各画素上には光配向膜が形成されている。
(3)図11(a)のマスクMを用いて、図11(b)の画素を、1画素につき上下に2つに分割して光配向を行なう。なお、マスクMのストライプパターンPの幅は、画素の幅の半分であり、パターンPのピッチは画素の幅に等しい。
(2)図11(b)は、光配向を行なう液晶素子の画素が並んでいる状態を示す模式図である。
同図において、1個の四角が1個の画素であり、縦に4個横に5個の画素が並んでいる。各画素上には光配向膜が形成されている。
(3)図11(a)のマスクMを用いて、図11(b)の画素を、1画素につき上下に2つに分割して光配向を行なう。なお、マスクMのストライプパターンPの幅は、画素の幅の半分であり、パターンPのピッチは画素の幅に等しい。
(4)図11(c)に示すように、マスクMのストライプパターンが、図の各画素の上半分と一致するように、マスクMと画素の位置合せを行なう。
(5)図11(d)に示すように、マスクMを介して偏光光を照射する。各画素のストライプパターンPにより遮光されていない部分が光配向される。照射する偏光光の特性、例えば偏光軸の方向や入射角度は、光を照射した部分の配向膜が所望の配向特性を生じるように適宜設定する。
(6)図12(e)に示すように、マスクMを、ストライプパターンPの幅分だけ、図面下方に移動させる。マスクMのストライプパターンPは、(d)で偏光光が照射された部分を遮光する。
(7)図12(f)に示すように、マスクMを介して偏光光を(d)とは異なる偏光方向や入射角度で照射する。これにより、画素の(d)で遮光されていた部分が光配向される。
(8)図12(g)は、処理後の液晶素子の模式図である。一つの画素が2つの領域に分割され、分割された2つの領域にいて液晶の配向方向が異なり、視野角が改善される。
このようなストライプ状のパターンを形成したマスクを用いて光配向を行う画素分割については、特許文献5の段落0092〜0097に記載されている。
(5)図11(d)に示すように、マスクMを介して偏光光を照射する。各画素のストライプパターンPにより遮光されていない部分が光配向される。照射する偏光光の特性、例えば偏光軸の方向や入射角度は、光を照射した部分の配向膜が所望の配向特性を生じるように適宜設定する。
(6)図12(e)に示すように、マスクMを、ストライプパターンPの幅分だけ、図面下方に移動させる。マスクMのストライプパターンPは、(d)で偏光光が照射された部分を遮光する。
(7)図12(f)に示すように、マスクMを介して偏光光を(d)とは異なる偏光方向や入射角度で照射する。これにより、画素の(d)で遮光されていた部分が光配向される。
(8)図12(g)は、処理後の液晶素子の模式図である。一つの画素が2つの領域に分割され、分割された2つの領域にいて液晶の配向方向が異なり、視野角が改善される。
このようなストライプ状のパターンを形成したマスクを用いて光配向を行う画素分割については、特許文献5の段落0092〜0097に記載されている。
また、このようなストライプパターンを用いた露光は、光配向だけではなく、液晶テレビ等のカラーフィルタの画素パターンの露光にも使用することができる。以下、図13、図14を使って、カラーフィルタの画素パターンの露光について説明する。
図13(a)に示すように、液晶テレビのカラーフィルタは、R(赤)G(緑)B(青)の各画素が、それぞれ1列に並んで形成される場合が多い。これらの画素は、光(紫外線)を照射することにより、赤色、緑色、青色を呈する特殊なレジストにより作られており、そのレジストの種類は色によって異なる。
以下、各画素の形成手順の一例を説明する。
(1)図13(b)に示すように、透明な基板に画素の枠となる不透明なブラックマトリックスを形成する。
(2)図13(c)に示すように、まず第1の画素(例えばRの画素)のレジストを基板に塗布する。
図13(a)に示すように、液晶テレビのカラーフィルタは、R(赤)G(緑)B(青)の各画素が、それぞれ1列に並んで形成される場合が多い。これらの画素は、光(紫外線)を照射することにより、赤色、緑色、青色を呈する特殊なレジストにより作られており、そのレジストの種類は色によって異なる。
以下、各画素の形成手順の一例を説明する。
(1)図13(b)に示すように、透明な基板に画素の枠となる不透明なブラックマトリックスを形成する。
(2)図13(c)に示すように、まず第1の画素(例えばRの画素)のレジストを基板に塗布する。
(3)図13(d)に示すような、画素の列の幅だけ光が透過する縦長(ストライプ状)のパターンPが形成されたマスクMを用い、Rの画素を形成する領域のみ、光を照射する。これによりRの画素が形成される。
(4)図14(e)に示すように、次に第2の画素(例えばGの画素)のレジストを基板に塗布し、上記と同様に、ストライプ状のパターンPが形成されたマスクMを用い、Gの画素を形成する領域のみ、光を照射する。これによりGの画素が形成される。
(5)図14(f)に示すように、最後に第3の画素(例えばBの画素)のレジストを基板に塗布し、上記と同様に、ストライプ状のパターンPが形成されたマスクを用い、Bの画素を形成する領域のみ、光を照射する。これによりBの画素が形成される。
(4)図14(e)に示すように、次に第2の画素(例えばGの画素)のレジストを基板に塗布し、上記と同様に、ストライプ状のパターンPが形成されたマスクMを用い、Gの画素を形成する領域のみ、光を照射する。これによりGの画素が形成される。
(5)図14(f)に示すように、最後に第3の画素(例えばBの画素)のレジストを基板に塗布し、上記と同様に、ストライプ状のパターンPが形成されたマスクを用い、Bの画素を形成する領域のみ、光を照射する。これによりBの画素が形成される。
また、特許文献6,7には、カラーフィルタの画素パターンを露光して形成するにおいて、一定速度で一定方向に基板を搬送しつつ、マスクを介して光を照射する技術が示されている。
特許文献6,7において、露光光は、マスク11に形成された長方形の開口部11aを介してカラーフィルタに照射される。開口部11aが、画素の形成される方向に沿ってカラーフィルタ上を移動することにより、R・G・Bの各画素が直線状に形成される。
同公報においては、マスクの長方形状の開口部11aが、上述したストライプ状のパターンに相当する。
特許文献6,7において、露光光は、マスク11に形成された長方形の開口部11aを介してカラーフィルタに照射される。開口部11aが、画素の形成される方向に沿ってカラーフィルタ上を移動することにより、R・G・Bの各画素が直線状に形成される。
同公報においては、マスクの長方形状の開口部11aが、上述したストライプ状のパターンに相当する。
図15は、上記液晶表示素子の配向膜の光配向において、上記した画素分割を行なう光照射装置の構成の一例を示す図である。
図15において、光照射装置は、大きく、光照射器(ランプハウス)10、マスクMを保持するマスクステージMS、光が照射される被処理物(ワーク)Wを載置するワークステージWSから構成される。
光照射器10は、紫外線を放射するランプ1、ランプ1からの光をインテグレータレンズ4に集光する集光鏡2、光路を折り返す平面鏡3、光照射面での照度分布を均一にするインテグレータレンズ4、インテグレータレンズ4から出射した光を中心光線が平行な平行光とするコリメータミラー6、光路内に挿入退避されることにより光照射面での光照射のON/OFFを制御するシャッタ5が設けられている。シャッタ5はシャッタ駆動機構5aにより駆動される。
インテグレータレンズ4は、複数のレンズセグメントを縦横に並べて構成されており、フライアイレンズ(蝿目レンズ)とも呼ばれる。なお、光照射器10から出射して光照射面に照射される光の形状は、インテグレータレンズを構成するレンズセグメントの形状と相似形をなす。通常、インテグレータレンズ4はその光入射面が楕円集光鏡2の第2焦点か、その近傍になるように配置される。
図15において、光照射装置は、大きく、光照射器(ランプハウス)10、マスクMを保持するマスクステージMS、光が照射される被処理物(ワーク)Wを載置するワークステージWSから構成される。
光照射器10は、紫外線を放射するランプ1、ランプ1からの光をインテグレータレンズ4に集光する集光鏡2、光路を折り返す平面鏡3、光照射面での照度分布を均一にするインテグレータレンズ4、インテグレータレンズ4から出射した光を中心光線が平行な平行光とするコリメータミラー6、光路内に挿入退避されることにより光照射面での光照射のON/OFFを制御するシャッタ5が設けられている。シャッタ5はシャッタ駆動機構5aにより駆動される。
インテグレータレンズ4は、複数のレンズセグメントを縦横に並べて構成されており、フライアイレンズ(蝿目レンズ)とも呼ばれる。なお、光照射器10から出射して光照射面に照射される光の形状は、インテグレータレンズを構成するレンズセグメントの形状と相似形をなす。通常、インテグレータレンズ4はその光入射面が楕円集光鏡2の第2焦点か、その近傍になるように配置される。
マスクステージMSは、縦長(ストライプ状)のパターンが形成されたマスクMを保持する。ワークステージWSは、配向膜が形成された液晶素子等のワークWを保持する。
図示しないアライメント機構により、マスクステージMSとワークステージWSの一方または両方を移動させ、マスクMのストライプパターンPとワークWの画素の位置合わせを行なう。
ランプ1からの光は、集光鏡2で集光され平面鏡3で反射されてインテグレータレンズ4に入射し、光照射面での照度分布が均一化される。
インテグレータレンズ4から出射した光は、コリメータミラー6に入射し、中心光線が平行な平行光にされる。平行光とされた光は、マスクステージMSに保持されたマスクMを介し、ワークステージに載置された液晶表示素子等のワークWに照射される。ワークWにはマスクMに形成された縦長(ストライプ状)のパターンが投影され露光される。
図示しないアライメント機構により、マスクステージMSとワークステージWSの一方または両方を移動させ、マスクMのストライプパターンPとワークWの画素の位置合わせを行なう。
ランプ1からの光は、集光鏡2で集光され平面鏡3で反射されてインテグレータレンズ4に入射し、光照射面での照度分布が均一化される。
インテグレータレンズ4から出射した光は、コリメータミラー6に入射し、中心光線が平行な平行光にされる。平行光とされた光は、マスクステージMSに保持されたマスクMを介し、ワークステージに載置された液晶表示素子等のワークWに照射される。ワークWにはマスクMに形成された縦長(ストライプ状)のパターンが投影され露光される。
図15に示す光照射装置においては、マスクMとワークWは、例えば100μm〜500μm程度に近接して配置される。マスクMを介してワークWに光を照射することにより、マスクMに形成されたパターン(マスクパターン)の像が、ワークW上に投影され露光される。
なお、ワークWが配向膜の塗布された液晶素子であれば、光が照射された部分が光配向される。なお、光配向する場合には照射する光は偏光光である必要がある。
また、マスクパターンが回路パターンであり、ワークWがレジストの塗布されたウエハであれば、ウエハには回路パターンが形成される。
このような、マスクとワークを近接させて露光する方式は、プロキシミティ(近接)露光方式と呼ばれている。
マスクステージMSに保持されるマスクMのパターンは、ワークWの、光を照射したい部分とそうでない部分を分けるためのものである。したがって、ワークW上に投影されるマスクパターンの像の輪郭線はシャープである(ぼけていない)ことが望ましい。
なお、ワークWが配向膜の塗布された液晶素子であれば、光が照射された部分が光配向される。なお、光配向する場合には照射する光は偏光光である必要がある。
また、マスクパターンが回路パターンであり、ワークWがレジストの塗布されたウエハであれば、ウエハには回路パターンが形成される。
このような、マスクとワークを近接させて露光する方式は、プロキシミティ(近接)露光方式と呼ばれている。
マスクステージMSに保持されるマスクMのパターンは、ワークWの、光を照射したい部分とそうでない部分を分けるためのものである。したがって、ワークW上に投影されるマスクパターンの像の輪郭線はシャープである(ぼけていない)ことが望ましい。
プロキシミティ露光方式において、マスクパターンの投影像の輪郭線をシャープにするためには、マスクとワークの間隔をできるだけ接近させるとともに、マスクに入射する光の視角を小さくする必要がある。
以下、視角と投影像との関係について、図16を用いて説明する。
視角(コリメーション半角とも呼ばれる)とは、光が照射される面から見た光源の大きさを角度で表したもので、図16(a)の角度αのことである。視角αは、図16(b)に示すように、ワークW上に投影されたマスクパターンのぼけの程度、即ち露光精度に影響する。
マスクMに入射する光の視角が小さいと、マスクMのパターン(遮光部)の下に回り込む光の成分が少なくなり、ワークW上に投影されるマスクパターンの輪郭線がシャープになる(露光精度が良い)。
一方、マスクMに入射する光の視角が大きいと、マスクMの遮光部の下に回り込む光の成分が多くなり、ワークW上に投影されるマスクパターンの輪郭線がぼける(露光精度が悪い)。
したがって、マスクMとワークWの間隔が等しければ、ワークWに投影されるパターンのぼけ量を小さくし露光精度を良くするためには、視角を小さく制限する必要がある。
以下、視角と投影像との関係について、図16を用いて説明する。
視角(コリメーション半角とも呼ばれる)とは、光が照射される面から見た光源の大きさを角度で表したもので、図16(a)の角度αのことである。視角αは、図16(b)に示すように、ワークW上に投影されたマスクパターンのぼけの程度、即ち露光精度に影響する。
マスクMに入射する光の視角が小さいと、マスクMのパターン(遮光部)の下に回り込む光の成分が少なくなり、ワークW上に投影されるマスクパターンの輪郭線がシャープになる(露光精度が良い)。
一方、マスクMに入射する光の視角が大きいと、マスクMの遮光部の下に回り込む光の成分が多くなり、ワークW上に投影されるマスクパターンの輪郭線がぼける(露光精度が悪い)。
したがって、マスクMとワークWの間隔が等しければ、ワークWに投影されるパターンのぼけ量を小さくし露光精度を良くするためには、視角を小さく制限する必要がある。
図15の光照射器において、視角を小さくする(制限するとも言う)ためには、例えば、インテグレータレンズ4の光出射側に、アパーチャ部材を設けれぱよい。
しかしながら、このようにアパーチャ部材7により視角を制限することには、次のような問題がある。
(1)上記のように、アパーチャ部材は、インテグレータレンズ4から出射する光の一部を遮光する。良好な露光精度を得るためには視角を小さくする必要があるが、視角を小さくするためにはアパーチャ部材の開口径を小さくしなければならない。
(2)開口径が小さくなると、遮光される光の成分が多くなり、光の利用効率が低下する。そのため、光照射面に届く光が少なくなり、光照射面(マスク面)での輝度が低下する。照度が低下すると、ワークの光処理(露光)の時間が長くなり、生産性が低下する。
しかしながら、このようにアパーチャ部材7により視角を制限することには、次のような問題がある。
(1)上記のように、アパーチャ部材は、インテグレータレンズ4から出射する光の一部を遮光する。良好な露光精度を得るためには視角を小さくする必要があるが、視角を小さくするためにはアパーチャ部材の開口径を小さくしなければならない。
(2)開口径が小さくなると、遮光される光の成分が多くなり、光の利用効率が低下する。そのため、光照射面に届く光が少なくなり、光照射面(マスク面)での輝度が低下する。照度が低下すると、ワークの光処理(露光)の時間が長くなり、生産性が低下する。
以上のように、露光精度を向上させるには視角を小さくする必要があるが、露光精度を向上させるためアパーチャの開口径を小さくすると光の利用効率が低下するといった相反する問題が生ずる。
そこで、上記した液晶素子の光配向による画素分割やカラーフィルタの画素の形成に用いられるパターンのように、マスクに形成されるパターンが縦長(ストライプ状)である場合、ストライプパターンの伸びる方向に関しては、視角が大きくても露光精度には影響がないが、ストライプパターンの伸びる方向に直交する方向に関しては視角が小さいことが望ましい。
すなわち、上記問題点を解決するには、ストライプパターンの伸びる方向に関しては、視角が大きく、ストライプパターンの伸びる方向に直交する方向に関しては視角が小さい光を照射することができる光照射装置を用いればよい。
なお、光照射面の照度Eは、視角αと光源の輝度Bを用いて下式で表され、光源の輝度Bに変化がなければ、視角αが大きくなると、光照射面の照度Eが大きくなることが当該分野では知られている。
E ∝ π×B×sin2 α
そこで、上記した液晶素子の光配向による画素分割やカラーフィルタの画素の形成に用いられるパターンのように、マスクに形成されるパターンが縦長(ストライプ状)である場合、ストライプパターンの伸びる方向に関しては、視角が大きくても露光精度には影響がないが、ストライプパターンの伸びる方向に直交する方向に関しては視角が小さいことが望ましい。
すなわち、上記問題点を解決するには、ストライプパターンの伸びる方向に関しては、視角が大きく、ストライプパターンの伸びる方向に直交する方向に関しては視角が小さい光を照射することができる光照射装置を用いればよい。
なお、光照射面の照度Eは、視角αと光源の輝度Bを用いて下式で表され、光源の輝度Bに変化がなければ、視角αが大きくなると、光照射面の照度Eが大きくなることが当該分野では知られている。
E ∝ π×B×sin2 α
上記したように、第1の方向に関しては視角が小さく、この方向に直交する第2の方向に関しては視角が大きい光を照射できる装置としては、特許文献8,9に記載のものが知られている。
特許文献8に記載のものは、照明光学系の照明開口数をマスクパターンの面において互いに直交する2つの方向に沿って実質的に異なるように構成したものであり、開口絞りの開口部を楕円形状としたり、シリンドリカルレンズを用いて、照明光学系の照明開口数を変えている。
また、特許文献9に記載のものは、光源とマスクステージとの間の光路上に光源から放射された露光光の光束の断面形状をフォトマスクの形状に合わせて整形するシリンドリカルレンズなどの光束断面形状整形手段を設けたものである。
上記のように互いに直交する2つの方向に対して視角を異ならせるための光学手段(視角調整部材という)としては、楕円形のアパーチャ、シリンドリカルレンズなどが使用されている。
しかし、上記光学手段は光の利用効率が必ずしも良いとは言えず、さらに光の利用効率の良い光照射器が望まれている。
特許文献8に記載のものは、照明光学系の照明開口数をマスクパターンの面において互いに直交する2つの方向に沿って実質的に異なるように構成したものであり、開口絞りの開口部を楕円形状としたり、シリンドリカルレンズを用いて、照明光学系の照明開口数を変えている。
また、特許文献9に記載のものは、光源とマスクステージとの間の光路上に光源から放射された露光光の光束の断面形状をフォトマスクの形状に合わせて整形するシリンドリカルレンズなどの光束断面形状整形手段を設けたものである。
上記のように互いに直交する2つの方向に対して視角を異ならせるための光学手段(視角調整部材という)としては、楕円形のアパーチャ、シリンドリカルレンズなどが使用されている。
しかし、上記光学手段は光の利用効率が必ずしも良いとは言えず、さらに光の利用効率の良い光照射器が望まれている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであって、その目的は、縦長のパターンに光を照射して露光を行なう光照射装置において、良好な露光精度を維持しながら、光の利用効率を上げ、光照射面での照度を高くして生産性を高めることを可能とすることである。
従来から視角調整部材として用いられていた楕円形のアパーチャやシリンドリカルレンズに比べ、光の利用効率が良い光学手段について検討した結果、ランプの背後にあってランプからの光をインテグレータに向けて反射する椀状の第1の反射鏡と第2の反射鏡を、その光軸の方向が一致するように重ね合わせて配置し、第1の反射鏡に切り欠きなどの光通過部分を形成し、ランプからの一部の光を第1の反射鏡で反射させ、他の一部の光を第2の反射鏡で反射させるように構成することにより、光利用効率がよい視角調整部材が得られることを見出した。
すなわち、本発明においては、次のようにして前記課題を解決する。
(1)ランプの背後に配置されるランプからの光をインテグレータの方向に反射する椀状の反射鏡を、回転楕円面を有する第1の反射鏡と、第1の反射鏡の外側に設けられた回転楕円面を有する第2の反射鏡とで、反射鏡の光軸が一致するように、二重に重ねたように構成する。
そして、第1の反射鏡には、該反射鏡の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠きなどの光通過部分を形成し、第2の反射鏡は、上記第1の反射鏡の切り欠き等の光通過部分を通過したランプからの光を反射するように配置する。
そして、インテグレータレンズの第1の方向(上記切り欠きなどの光透過部分が形成された方向に対応する方向、X方向という)には第2の反射鏡により反射された光を入射させ、X方向に直交するY方向には第1の反射鏡により反射された光を入射させる。
なお、倍率を大きくするために、第1の反射鏡の反射面を回転放物面としても良い。
(2)上記インテグレータレンズの光入射面を、上記第2の反射鏡の第2焦点またはその近傍に配置する。
なお、第1の反射鏡の回転楕円面の倍率と第2の反射鏡の回転楕円面の倍率とを異ならせ、インテグレータレンズを、倍率の小さい反射鏡の回転楕円面の第2焦点か、またはその近傍に配置するように構成してもよい。また、この場合、第1の反射鏡の倍率を大きくしたほうが、光の利用効率が良く有利である。
ここで、楕円集光鏡の倍率は、図17のように定義する。すなわち、楕円の長軸の一端Pから第1焦点F1までの距離をx1、第2焦点F2までの距離をx2としたとき、集光鏡の倍率Mは、M=x2/x1と定義する。
すなわち、本発明においては、次のようにして前記課題を解決する。
(1)ランプの背後に配置されるランプからの光をインテグレータの方向に反射する椀状の反射鏡を、回転楕円面を有する第1の反射鏡と、第1の反射鏡の外側に設けられた回転楕円面を有する第2の反射鏡とで、反射鏡の光軸が一致するように、二重に重ねたように構成する。
そして、第1の反射鏡には、該反射鏡の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠きなどの光通過部分を形成し、第2の反射鏡は、上記第1の反射鏡の切り欠き等の光通過部分を通過したランプからの光を反射するように配置する。
そして、インテグレータレンズの第1の方向(上記切り欠きなどの光透過部分が形成された方向に対応する方向、X方向という)には第2の反射鏡により反射された光を入射させ、X方向に直交するY方向には第1の反射鏡により反射された光を入射させる。
なお、倍率を大きくするために、第1の反射鏡の反射面を回転放物面としても良い。
(2)上記インテグレータレンズの光入射面を、上記第2の反射鏡の第2焦点またはその近傍に配置する。
なお、第1の反射鏡の回転楕円面の倍率と第2の反射鏡の回転楕円面の倍率とを異ならせ、インテグレータレンズを、倍率の小さい反射鏡の回転楕円面の第2焦点か、またはその近傍に配置するように構成してもよい。また、この場合、第1の反射鏡の倍率を大きくしたほうが、光の利用効率が良く有利である。
ここで、楕円集光鏡の倍率は、図17のように定義する。すなわち、楕円の長軸の一端Pから第1焦点F1までの距離をx1、第2焦点F2までの距離をx2としたとき、集光鏡の倍率Mは、M=x2/x1と定義する。
本発明においては、以下の効果を得ることができる。
(1)視角調整部材を、第1の反射鏡と第2の反射鏡とを重ね合わせて構成し、第1の反射鏡には、該反射鏡の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠き等の光透過部分を形成し、インテグレータレンズの第1の方向に、第2の反射鏡により反射された光を入射させ、インテグレーダレンズの第1の方向に直交する第2の方向に、第1の反射鏡により反射された光を入射させるように構成したので、楕円形のアパーチャやシリンドリカルレンズを用いた場合に比べ、光の利用効率を向上させることができる。
(2)本発明の視角調整部材を用いることにより、マスクに形成されたストライプパターンの伸びる方向に対して直交する方向に関しては視角を小さくすることができ、パターンの投影像の輪郭はシャープであり、良好な露光精度を維持できる。
また、マスクに形成されたストライプパターンの伸びる方向に関しては、光を制限しないので、光の利用効率が上がるとともに、光照射面での照度が高くなる。したがって、露光処理の時間を短くすることができ、生産性を向上させることができる。
(1)視角調整部材を、第1の反射鏡と第2の反射鏡とを重ね合わせて構成し、第1の反射鏡には、該反射鏡の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠き等の光透過部分を形成し、インテグレータレンズの第1の方向に、第2の反射鏡により反射された光を入射させ、インテグレーダレンズの第1の方向に直交する第2の方向に、第1の反射鏡により反射された光を入射させるように構成したので、楕円形のアパーチャやシリンドリカルレンズを用いた場合に比べ、光の利用効率を向上させることができる。
(2)本発明の視角調整部材を用いることにより、マスクに形成されたストライプパターンの伸びる方向に対して直交する方向に関しては視角を小さくすることができ、パターンの投影像の輪郭はシャープであり、良好な露光精度を維持できる。
また、マスクに形成されたストライプパターンの伸びる方向に関しては、光を制限しないので、光の利用効率が上がるとともに、光照射面での照度が高くなる。したがって、露光処理の時間を短くすることができ、生産性を向上させることができる。
図1は、本発明の実施例の構成を示す図であり、本実施例は、図15の光照射装置において、ランプ1の背後に設けられる、ランプからの光をインテグレータの方向に反射する反射鏡を視角調整部材としたものである。
同図において、2つの楕円集光鏡21,22(以下反射鏡ともいう)が、反射鏡21,22の光軸の方向を一致させて二重に重ねに配置され、内側の第1の反射鏡21には、該反射鏡の光軸に垂直な第1の方向(同図において紙面垂直方向、以下X方向という)の反射鏡21の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠き(光通過部)が形成されている。
そして、X方向の光は外側の第2の反射鏡22で反射させ、上記X方向に垂直でかつ該反射鏡の光軸に垂直な第2の方向(同図において紙面左右方向、以下Y方向という)の光は内側の第1の反射鏡21でそれぞれ反射させることにより、X方向とY方向の視角を調整する。
同図において、2つの楕円集光鏡21,22(以下反射鏡ともいう)が、反射鏡21,22の光軸の方向を一致させて二重に重ねに配置され、内側の第1の反射鏡21には、該反射鏡の光軸に垂直な第1の方向(同図において紙面垂直方向、以下X方向という)の反射鏡21の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠き(光通過部)が形成されている。
そして、X方向の光は外側の第2の反射鏡22で反射させ、上記X方向に垂直でかつ該反射鏡の光軸に垂直な第2の方向(同図において紙面左右方向、以下Y方向という)の光は内側の第1の反射鏡21でそれぞれ反射させることにより、X方向とY方向の視角を調整する。
その他の構成は前記図15に示したものと同様であり、光照射装置は、光照射器(ランプハウス)10、マスクMを保持するマスクステージMS、光が照射される被処理物(ワーク)Wを載置するワークステージWSから構成される。
光照射器10は、紫外線を放射するランプ1、ランプ1からの光をインテグレータレンズ4に集光する上記第1、第2の反射鏡21,22、光路を折り返す平面鏡3、光照射面での照度分布を均一にするインテグレータレンズ4、インテグレータレンズ4から出射した光を中心光線が平行な平行光とするコリメータミラー6、光路内に挿入退避されることにより光照射面での光照射のON/OFFを制御するシャッタ5が設けられている。シャッタ5はシャッタ駆動機構5aにより駆動される。
光照射器10は、紫外線を放射するランプ1、ランプ1からの光をインテグレータレンズ4に集光する上記第1、第2の反射鏡21,22、光路を折り返す平面鏡3、光照射面での照度分布を均一にするインテグレータレンズ4、インテグレータレンズ4から出射した光を中心光線が平行な平行光とするコリメータミラー6、光路内に挿入退避されることにより光照射面での光照射のON/OFFを制御するシャッタ5が設けられている。シャッタ5はシャッタ駆動機構5aにより駆動される。
マスクステージMSは、縦長(ストライプ状)のパターンが形成されたマスクMを保持する。ワークステージWSは、配向膜が形成された液晶素子等のワークWを保持する。
また、図示しないアライメント機構により、マスクステージMSとワークステージWSの一方または両方を移動させ、マスクMのストライプパターンPとワークWの画素の位置合わせを行なう。
ランプ1からの光は、反射鏡21,22で集光され平面鏡3で反射されてインテグレータレンズ4に入射し、光照射面での照度分布が均一化される。
また、図示しないアライメント機構により、マスクステージMSとワークステージWSの一方または両方を移動させ、マスクMのストライプパターンPとワークWの画素の位置合わせを行なう。
ランプ1からの光は、反射鏡21,22で集光され平面鏡3で反射されてインテグレータレンズ4に入射し、光照射面での照度分布が均一化される。
図2、図3、図4は、上記視角調整機能を備えた反射鏡21,22の詳しい構成を説明する図である。図2は、反射鏡を背後から見た斜視図であり、重ねた2つの反射鏡が見えるように示している。図3(a)は図2におけるX方向に平行で反射鏡の光軸を通る平面で切った断面図であり、図3(b)は同じくY方向に平行で反射鏡の光軸を通る平面で切った断面図である。図4は、反射鏡を開口方向(光が出射する方向)から見た図である。
図2〜図4に示されるとおり、反射鏡は、第1の反射鏡21と、その外側にかぶせるように設けられた第2の反射鏡22とから構成されている。第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の反射面は回転楕円面であり、両者の光軸方向が一致し、その第1焦点が一致するよう配置されている。この第1焦点にランプの発光点が置かれる。
なお、第1の反射鏡21の反射面は、回転放物面でも良く、この場合については後述する。
図2〜図4に示されるとおり、反射鏡は、第1の反射鏡21と、その外側にかぶせるように設けられた第2の反射鏡22とから構成されている。第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の反射面は回転楕円面であり、両者の光軸方向が一致し、その第1焦点が一致するよう配置されている。この第1焦点にランプの発光点が置かれる。
なお、第1の反射鏡21の反射面は、回転放物面でも良く、この場合については後述する。
図2〜図4に示すものでは、内側の第1の反射鏡21に、その開口の中心を通る光軸に対して対称に、対向する2ヶ所(X方向2ヶ所)に切り欠き21a(光通過部)が形成されている。
したがって、図3(a)に示すように、ランプ1の発光点から放射される光のうち、上記切り欠き21aを通過するX方向の光の成分は、第1の反射鏡21の外側に設けられている第2の反射鏡22によって反射され、第2の反射鏡22の第2焦点に集光される。
一方、ランプ1の発光点から放射される光のうち、上記切り欠き21aを通過しないX方向に直交するY方向の光の成分は、図3(b)に示すように、第1の反射鏡21により反射され、第1の反射鏡21の第2焦点に集光される。
インテグレータレンズ4は、例えばその光入射面が第1、第2の反射鏡21,22の第2焦点になるように配置される。
したがって、図3(a)に示すように、ランプ1の発光点から放射される光のうち、上記切り欠き21aを通過するX方向の光の成分は、第1の反射鏡21の外側に設けられている第2の反射鏡22によって反射され、第2の反射鏡22の第2焦点に集光される。
一方、ランプ1の発光点から放射される光のうち、上記切り欠き21aを通過しないX方向に直交するY方向の光の成分は、図3(b)に示すように、第1の反射鏡21により反射され、第1の反射鏡21の第2焦点に集光される。
インテグレータレンズ4は、例えばその光入射面が第1、第2の反射鏡21,22の第2焦点になるように配置される。
図5は、第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の第2焦点の位置が一致するように構成した場合の図である。
図5(a)は光軸に平行な方向の断面図であり、図5(b)は、第1および第2の反射鏡を光が出射する方向から見た図である。
このように、第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の第2焦点の位置が一致している場合は、インテグレータレンズ4の光入射面は、この一致した第2焦点に置かれ、インテグレータレンズ4には、X方向については第2の反射鏡22により反射された光が、Y方向については第1の反射鏡21により反射された光が入射する。
ここで、同図のように、第2焦点の位置が一致している場合、例えば、第1の反射鏡21の第1焦点距離F1aを35mm、第2焦点距離F2aを595mm、第2の反射鏡22の第1焦点距離F1bを56mm、第2焦点距離F2bを616mmとすると、第1の反射鏡21の倍率(第2焦点距離F2a/第1焦点距離F1a=595/35=17)は、第2の反射鏡22の倍率(第2焦点距離F2b/第1焦点距離F1b=616/56=11)よりも大きくなる。即ち、インテグレータレンズ4には、X方向とY方向とで異なる倍率で集光された光が入射する。
図5(a)は光軸に平行な方向の断面図であり、図5(b)は、第1および第2の反射鏡を光が出射する方向から見た図である。
このように、第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の第2焦点の位置が一致している場合は、インテグレータレンズ4の光入射面は、この一致した第2焦点に置かれ、インテグレータレンズ4には、X方向については第2の反射鏡22により反射された光が、Y方向については第1の反射鏡21により反射された光が入射する。
ここで、同図のように、第2焦点の位置が一致している場合、例えば、第1の反射鏡21の第1焦点距離F1aを35mm、第2焦点距離F2aを595mm、第2の反射鏡22の第1焦点距離F1bを56mm、第2焦点距離F2bを616mmとすると、第1の反射鏡21の倍率(第2焦点距離F2a/第1焦点距離F1a=595/35=17)は、第2の反射鏡22の倍率(第2焦点距離F2b/第1焦点距離F1b=616/56=11)よりも大きくなる。即ち、インテグレータレンズ4には、X方向とY方向とで異なる倍率で集光された光が入射する。
一般に、反射鏡により集光される光は、倍率が大きいと、集光径が大きくなり、視角αが小さくなる。反対に倍率が小さいと、集光径が小さくなり、視角αが大きくなる。したがって、インテグレータレンズ4のY方向には、倍率の大きな第1の反射鏡21によって集光された、視角αの小さな光が入射し、X方向には倍率の小さな第2の反射鏡22によって集光された、視角αの大きな光が入射する。その結果、インテグレータレンズ4から出射する光も、Y方向には視角が小さくX方向には視角が大きくなる。
図1にもどり、インテグレータレンズ4から出射する光のうち、Y方向(図面上下方向)の光は視角αが小さく、X方向の光は(図面垂直方向)は視角αが大きい。この光はコリメータミラー6により反射されて、マスクステージMSに保持されたマスクMに入射する。
このとき、マスクMに形成されているストライプパターンの伸びる方向と、入射する光の視角αが大きいX方向とを一致させる。このことにより、マスクMのストライプパターンに直交する方向に関しては視角αの小さい光が入射し、良好な露光精度を維持した状態で、照度を大きくすることができる。
マスクMに入射し、マスクから出射した光は、ワークステージWSに載置された液晶表示素子等のワークWに照射される。ワークWにはマスクMに形成されたストライプ状のパターンが投影され露光される。
このとき、マスクMに形成されているストライプパターンの伸びる方向と、入射する光の視角αが大きいX方向とを一致させる。このことにより、マスクMのストライプパターンに直交する方向に関しては視角αの小さい光が入射し、良好な露光精度を維持した状態で、照度を大きくすることができる。
マスクMに入射し、マスクから出射した光は、ワークステージWSに載置された液晶表示素子等のワークWに照射される。ワークWにはマスクMに形成されたストライプ状のパターンが投影され露光される。
なお、図1〜図4では、第1の反射鏡21のX方向に、その開口の中心を通る光軸に対して対称に対向する2ヶ所に、光通過部として内側に抉られた切り欠き21aを形成した場合を示したが、光通過部は種々の形状とすることができ、たとえば図6(a)に示すように、反射鏡21の対向する2ヶ所を直線状にカットして光通過部を形成するようにしてもよい。
図6(b)、(c)は上記構成の反射鏡を用いた光学系の構成例を示す図であり、図6(b)は図6(a)におけるY方向に平行で反射鏡の光軸を通る平面で切った断面図であり、図6(c)は同じくX方向に平行で反射鏡の光軸を通る平面で切った断面図である。 図6に示されるとおり、反射鏡は、上記のような形状の光通過部を有する第1の反射鏡21と、その外側にかぶせるように設けられた第2の反射鏡22とから構成されている。 第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の反射面は例えば回転楕円面であり、両者の光軸方向が一致し、その第1焦点が一致するよう配置されている。この第1焦点にランプの発光点が置かれる。
ランプ1からの光は、反射鏡21,22で集光され、前記したようにインテグレータレンズ4のY方向には、倍率の大きな第1の反射鏡21によって集光された、視角αの小さな光が入射し、X方向には倍率の小さな第2の反射鏡22によって集光された、視角αの大きな光が入射する。その結果、インテグレータレンズ4から出射する光も、Y方向には視角が小さくX方向には視角が大きくなる。
インテグレータレンズ4から出射した光は、コリメータレンズ6’を介して、被照射面に照射される。
図6(b)、(c)は上記構成の反射鏡を用いた光学系の構成例を示す図であり、図6(b)は図6(a)におけるY方向に平行で反射鏡の光軸を通る平面で切った断面図であり、図6(c)は同じくX方向に平行で反射鏡の光軸を通る平面で切った断面図である。 図6に示されるとおり、反射鏡は、上記のような形状の光通過部を有する第1の反射鏡21と、その外側にかぶせるように設けられた第2の反射鏡22とから構成されている。 第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の反射面は例えば回転楕円面であり、両者の光軸方向が一致し、その第1焦点が一致するよう配置されている。この第1焦点にランプの発光点が置かれる。
ランプ1からの光は、反射鏡21,22で集光され、前記したようにインテグレータレンズ4のY方向には、倍率の大きな第1の反射鏡21によって集光された、視角αの小さな光が入射し、X方向には倍率の小さな第2の反射鏡22によって集光された、視角αの大きな光が入射する。その結果、インテグレータレンズ4から出射する光も、Y方向には視角が小さくX方向には視角が大きくなる。
インテグレータレンズ4から出射した光は、コリメータレンズ6’を介して、被照射面に照射される。
上記実施例の反射鏡を第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の2枚で構成し、視角調整部材とした場合の光の利用効率はシミュレーションソフトを使った計算により求めることができ、前記図1に示すように視角調整部材として第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の2枚で構成した反射鏡を用いた場合と、特許文献9に記載されるようにシリンドリカルレンズを用いた場合、すなわち図7(a)に示すように、前記図15に示した光照射装置において、視角調整部材として、図7(b−1)(b−2)に示すシリンドリカルレンズ11をインテグレータレンズ4の手前に配置した場合について、光の利用効率をシミュレーションにより求めた。
その結果、図7に示すように、インテグレータレンズ4の光入射側にシリンドリカルレンズ11を配置してX方向とY方向の視角αを異ならせる場合に比べ、本実施例のように2枚の反射鏡を用いた図1の場合、マスクMに入射する光量は約1.4倍となった。
なお、光の利用効率は、第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の形状設計等により変わり、シミュレーションにより光の利用効率が高くなるように第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の形状等を設計することにより、上記のように光の利用効率を向上させることができた。
その結果、図7に示すように、インテグレータレンズ4の光入射側にシリンドリカルレンズ11を配置してX方向とY方向の視角αを異ならせる場合に比べ、本実施例のように2枚の反射鏡を用いた図1の場合、マスクMに入射する光量は約1.4倍となった。
なお、光の利用効率は、第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の形状設計等により変わり、シミュレーションにより光の利用効率が高くなるように第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の形状等を設計することにより、上記のように光の利用効率を向上させることができた。
図5の構成では、第1の反射鏡21と第2の反射鏡22の第2焦点の位置が一致している。しかし、インテグレータレンズ4には、X方向とY方向とで視角αの異なる、即ち異なる倍率で集光される光が入射すればよい。したがって、第1の反射鏡21の第2焦点と、第2の反射鏡22の第2焦点は一致していなくても良い。
図8は、第1の反射鏡21の第2焦点と、第2の反射鏡22の第2焦点とが一致していない例である。
この例では、第1の反射鏡21の倍率が、第2の反射鏡22の倍率よりもはるかに大きく、第1の反射鏡21の第2焦点が、第2の反射鏡22の第2焦点よりも遠くの位置にある。インテグレータレンズ4は、第2の反射鏡22の第2焦点位置に置かれる。
この場合、インテグレータレンズ4には、前記実施例と同様に、X方向(同図紙面に対し垂直方向)とY方向(同図紙面の上下方向)とで異なる倍率で集光された光が入射する。即ち、インテグレータレンズ4のX方向には倍率の小さな第2の反射鏡22によって集光された視角αの大きな光が入射する。
これに対して、Y方向には、倍率の大きな第1の反射鏡21はよって反射された、上記実施例よりもさらに視角αの小さな光が入射する。上記実施例に比べて、光の利用効率はやや低下するが、ストライプパターンに直交する方向の露光精度を良くすることができる。
図8は、第1の反射鏡21の第2焦点と、第2の反射鏡22の第2焦点とが一致していない例である。
この例では、第1の反射鏡21の倍率が、第2の反射鏡22の倍率よりもはるかに大きく、第1の反射鏡21の第2焦点が、第2の反射鏡22の第2焦点よりも遠くの位置にある。インテグレータレンズ4は、第2の反射鏡22の第2焦点位置に置かれる。
この場合、インテグレータレンズ4には、前記実施例と同様に、X方向(同図紙面に対し垂直方向)とY方向(同図紙面の上下方向)とで異なる倍率で集光された光が入射する。即ち、インテグレータレンズ4のX方向には倍率の小さな第2の反射鏡22によって集光された視角αの大きな光が入射する。
これに対して、Y方向には、倍率の大きな第1の反射鏡21はよって反射された、上記実施例よりもさらに視角αの小さな光が入射する。上記実施例に比べて、光の利用効率はやや低下するが、ストライプパターンに直交する方向の露光精度を良くすることができる。
図9は、第1の反射鏡21をパラボラミラーとし、倍率を無限大としたものである。インテグレータレンズ4は、図8と同様に第2の反射鏡22の第2焦点位置に置かれる。
図8と同様、インテグレータレンズ4のX方向には倍率の小さな第2の反射鏡22によって集光された視角αの大きな光が入射する。これに対して、Y方向には、パラボラミラーである第1の反射鏡21によって反射された(原理的には)平行光が入射する。そのため、Y方向の視角は(原理的には0°となり)非常に小さくなる。
図8と同様、インテグレータレンズ4のX方向には倍率の小さな第2の反射鏡22によって集光された視角αの大きな光が入射する。これに対して、Y方向には、パラボラミラーである第1の反射鏡21によって反射された(原理的には)平行光が入射する。そのため、Y方向の視角は(原理的には0°となり)非常に小さくなる。
なお、図8、図9においては、いずれも倍率が大きい反射鏡を外側に配置している。その理由は次の通りである。図10を使って説明する。
上記実施例に示したように、インテグレータレンズ4は、倍率の小さな反射鏡の第2焦点に配置される。そのため、図10(a)(b)に示すように、倍率の大きな反射鏡210で反射された光は、インテグレータレンズ4よりも遠くで集光する。したがって、インテグレータレンズ4が配置された位置では、倍率の大きな反射鏡210で反射された光は広がっており、インテグレータレンズ4に入射しない光の成分が生じる。
インテグレータレンズ4に入射しない光の成分を少なくして光の利用効率を高めるためには、倍率の大きな反射鏡210で反射された光の光芒径を少しでも小さくするほうが有利である。すなわち、図10(a)に示すように倍率の大きな反射鏡210を内側に置き、倍率の小さな反射鏡220を外側に置くほうが、図10(b)に示すように倍率の大きな反射鏡210を外側におくより、倍率の大きな反射鏡で反射された光の光芒径を小さくできる。したがって、倍率の大きな反射鏡は外側に配置するのが望ましい。
上記実施例に示したように、インテグレータレンズ4は、倍率の小さな反射鏡の第2焦点に配置される。そのため、図10(a)(b)に示すように、倍率の大きな反射鏡210で反射された光は、インテグレータレンズ4よりも遠くで集光する。したがって、インテグレータレンズ4が配置された位置では、倍率の大きな反射鏡210で反射された光は広がっており、インテグレータレンズ4に入射しない光の成分が生じる。
インテグレータレンズ4に入射しない光の成分を少なくして光の利用効率を高めるためには、倍率の大きな反射鏡210で反射された光の光芒径を少しでも小さくするほうが有利である。すなわち、図10(a)に示すように倍率の大きな反射鏡210を内側に置き、倍率の小さな反射鏡220を外側に置くほうが、図10(b)に示すように倍率の大きな反射鏡210を外側におくより、倍率の大きな反射鏡で反射された光の光芒径を小さくできる。したがって、倍率の大きな反射鏡は外側に配置するのが望ましい。
1 ランプ
3 平面鏡
4 インテグレータレンズ
5 シャッタ
6 コリメータミラー
10 光照射器(ランプハウス)
21 第1の楕円集光鏡(反射鏡)
22 第2のの楕円集光鏡(反射鏡)
M マスク
W ワーク
MS マスクステージ
WS ワークステージW
3 平面鏡
4 インテグレータレンズ
5 シャッタ
6 コリメータミラー
10 光照射器(ランプハウス)
21 第1の楕円集光鏡(反射鏡)
22 第2のの楕円集光鏡(反射鏡)
M マスク
W ワーク
MS マスクステージ
WS ワークステージW
Claims (3)
- ランプと、
上記ランプの背後に備えられ、該ランプからの光を反射する反射鏡と、
上記反射鏡により反射された光を入射し、光照射面での照度分布を均一化するインテグレータレンズとを備えた光照射器からの光を、縦長のパターンが形成されたマスクを介してワークに照射する光照射装置において、
上記反射鏡は、回転楕円面を有する第1の反射鏡と、第1の反射鏡の外側に設けられた回転楕円面を有する第2の反射鏡とを備え、
上記第1の反射鏡は、該反射鏡の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠きを有し、
上記第2の反射鏡は、上記第1の反射鏡の切り欠き部分を通過したランプからの光を反射し、
上記インテグレータレンズは、上記第1および第2の反射鏡により反射された光が入射する
ことを特徴とする光照射装置。 - ランプと、
上記ランプの背後に備えられ、該ランプからの光を反射する反射鏡と、
上記反射鏡により反射された光を入射し、光照射面での照度分布を均一化するインテグレータレンズを備えた光照射器からの光を、縦長のパターンが形成されたマスクを介してワークに照射する光照射装置において、
上記反射鏡は、回転放物面を有する第1の反射鏡と、第1の反射鏡の外側に設けられた回転楕円面を有する第2の反射鏡とを備え、
上記第1の反射鏡は、該反射鏡の開口の中心を中心として対向する2ヶ所に切り欠きを有し、
上記第2の反射鏡は、上記第1の反射鏡の切り欠き部分を通過したランプからの光を反射し、
上記インテグレータレンズには、上記第1および第2の反射鏡により反射された光が入射する
ことを特徴とする光照射装置。 - 上記インテグレータレンズの光入射面は上記第2の反射鏡の第2焦点またはその近傍に配置される
ことを特徴とする請求項2に記載の光照射装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011022529A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-03 | Mejiro Precision:Kk | 光源装置及び露光装置 |
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2007
- 2007-12-12 JP JP2007320519A patent/JP2009145452A/ja active Pending
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