JP2009141068A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device for reducing the warp, especially the warp accompanied by twist, of a semiconductor package without increasing the number of parts. <P>SOLUTION: The semiconductor device is provided with a wiring board 102, a plurality of semiconductor chips 103 laminated on the upper surface of the wiring board 102, a plurality of adhesion members 106, 107 and 108 for attaching the semiconductor chips with each other or the semiconductor chip and the wiring board, and a sealing resin 113 for covering them. The width of the first layer semiconductor chip of the top layer is smaller than the width of a second layer semiconductor chip to which the first layer semiconductor chip is attached. The upper surface of the second layer semiconductor chip has an angle with the upper surface of the wiring board 102, and the center of the first layer semiconductor chip is positioned by being shifted in the decreasing direction of thickness from the upper surface of the second layer semiconductor chip to the upper surface of the wiring board 102 relative to the center of the second layer semiconductor chip. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体チップを積層した構造の半導体チップ積層型の半導体装置に関し、より特定的には、樹脂封止領域内の封止樹脂と半導体チップとの分布の偏りを低減することによって、半導体パッケージの反りを低減する半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device of a semiconductor chip stacked type having a structure in which semiconductor chips are stacked. More specifically, the present invention relates to a semiconductor device by reducing an uneven distribution of a sealing resin and a semiconductor chip in a resin sealing region. The present invention relates to a semiconductor device that reduces warping of a package.

近年、電子機器の高機能化に対応するために、半導体パッケージの高集積化が進んでいる。これに伴って、半導体チップを複数重ねて配置する半導体チップ積層型の半導体パッケージが提案されている。   In recent years, semiconductor packages have been highly integrated in order to cope with higher functionality of electronic devices. Accordingly, a semiconductor chip stacked type semiconductor package in which a plurality of semiconductor chips are stacked is proposed.

図9は、従来の半導体チップ積層型の半導体パッケージ800を示す断面図である。図9に示す通り、従来の半導体パッケージ800は、BGA(Ball Grid Aray)タイプである。半導体パッケージ800は、複数のはんだボール801と、配線基板802と、半導体チップ803〜805と、接着部材806、807及び808と、ボンディングワイヤ809〜812と、封止樹脂813とを備える。なお、図9の黒矢印で示す通り、半導体チップの上層に向かう方向を上方向とし、上方向と反対の方向を下方向とする。また、図9の白矢印で示すそれぞれの方向を、右方向及び左方向とする。また、破線Xは、上下方向に延びる直線であり、半導体パッケージ800の中央を通る直線である。   FIG. 9 is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor chip stacked semiconductor package 800. As shown in FIG. 9, the conventional semiconductor package 800 is a BGA (Ball Grid Array) type. The semiconductor package 800 includes a plurality of solder balls 801, a wiring board 802, semiconductor chips 803 to 805, adhesive members 806, 807 and 808, bonding wires 809 to 812, and a sealing resin 813. As indicated by the black arrows in FIG. 9, the direction toward the upper layer of the semiconductor chip is the upward direction, and the direction opposite to the upward direction is the downward direction. In addition, the directions indicated by white arrows in FIG. 9 are the right direction and the left direction. A broken line X is a straight line extending in the vertical direction and passing through the center of the semiconductor package 800.

配線基板802の下方向の面(以下、下面という)には、複数のはんだボール801が配列される。配線基板802の上方向の面(以下、上面という)には、半導体チップ803が接着部材806を介して接着される。半導体チップ803の上面には、半導体チップ804が接着部材807を介して接着される。半導体チップ804の上面には、半導体チップ805が接着部材808を介して接着される。配線基板802と半導体チップ803とは、ボンディングワイヤ809によって接続される。半導体チップ803と半導体チップ804とは、ボンディングワイヤ810及び811によって接続される。配線基板802と半導体チップ805とは、ボンディングワイヤ812によって接続される。なお、ボンディングワイヤの数量及び接続は、一例であり、他の数量及び接続であってもよい。最上層の半導体チップ805は、接着された半導体チップ804よりも小さい。より詳しくは、最上層の半導体チップ805の幅Aは、半導体チップ805が接着された半導体チップ804の幅Bよりも小さい。図9には、一例として、幅Aが幅Bの4分の1程度の場合を示している。封止樹脂813は、半導体チップ803〜805と、接着部材806〜808と、ボンディングワイヤ809〜812とを一体的に覆う状態で、配線基板802の上面に形成される。   A plurality of solder balls 801 are arranged on a lower surface (hereinafter referred to as a lower surface) of the wiring board 802. A semiconductor chip 803 is bonded to an upper surface of the wiring substrate 802 (hereinafter referred to as an upper surface) via an adhesive member 806. A semiconductor chip 804 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 803 via an adhesive member 807. A semiconductor chip 805 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 804 via an adhesive member 808. The wiring board 802 and the semiconductor chip 803 are connected by bonding wires 809. The semiconductor chip 803 and the semiconductor chip 804 are connected by bonding wires 810 and 811. The wiring board 802 and the semiconductor chip 805 are connected by a bonding wire 812. In addition, the quantity and connection of a bonding wire are examples, and another quantity and connection may be sufficient. The uppermost semiconductor chip 805 is smaller than the bonded semiconductor chip 804. More specifically, the width A of the uppermost semiconductor chip 805 is smaller than the width B of the semiconductor chip 804 to which the semiconductor chip 805 is bonded. FIG. 9 shows a case where the width A is about a quarter of the width B as an example. The sealing resin 813 is formed on the upper surface of the wiring substrate 802 so as to integrally cover the semiconductor chips 803 to 805, the adhesive members 806 to 808, and the bonding wires 809 to 812.

ここで、最上層の半導体チップ805の幅Aが、半導体チップ805が接着された半導体チップ804の幅Bよりも小さくなるにつれて、封止樹脂813の体積は増加する。また、封止樹脂813には、内部応力が生じている。これらのことによって、封止樹脂813の体積の増加に伴って、封止樹脂813の内部に働く力は増加する。この結果として、半導体パッケージ800の反りが大きくなるという問題があった。   Here, as the width A of the uppermost semiconductor chip 805 becomes smaller than the width B of the semiconductor chip 804 to which the semiconductor chip 805 is bonded, the volume of the sealing resin 813 increases. Further, internal stress is generated in the sealing resin 813. As a result, as the volume of the sealing resin 813 increases, the force acting inside the sealing resin 813 increases. As a result, there is a problem that warpage of the semiconductor package 800 is increased.

また、半導体チップ805に接続されるボンディングワイヤ812の長さを短くするために、最上層の半導体チップ805は、半導体パッケージ800の中央(破線X)からずらして設置される必要がある(図10を参照)。図10は、図9に示す半導体パッケージ800に対して、最上層の半導体チップ805の設置位置を半導体パッケージの中心からずらした従来の半導体パッケージ820を示す断面図である。半導体パッケージ820では、半導体パッケージ800と同様に、封止樹脂813の体積の増加に伴って封止樹脂813内部に働く力が増加するので、反りが大きくなる。これに加えて、半導体パッケージ820では、図10に示す通り、封止樹脂813内部の樹脂分布は、破線Xの右側と左側とを比べると、破線Xの右側と左側とで大きく対称性を欠く。つまり、封止樹脂813の内部において左右方向の樹脂分布の偏りが生じる。このことによって、半導体パッケージ820では、半導体パッケージ800と異なり、封止樹脂813の内部に働く力に偏りが生じるので、ねじれを伴った反りが生じる。この結果として、半導体パッケージ820を実装基板(図示せず)に実装することが困難となるという問題があった。   In addition, in order to shorten the length of the bonding wire 812 connected to the semiconductor chip 805, the uppermost semiconductor chip 805 needs to be shifted from the center (broken line X) of the semiconductor package 800 (FIG. 10). See). FIG. 10 is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor package 820 in which the installation position of the uppermost semiconductor chip 805 is shifted from the center of the semiconductor package with respect to the semiconductor package 800 shown in FIG. In the semiconductor package 820, similarly to the semiconductor package 800, the force acting inside the sealing resin 813 increases as the volume of the sealing resin 813 increases, so that the warpage increases. In addition to this, in the semiconductor package 820, as shown in FIG. 10, the resin distribution inside the sealing resin 813 lacks symmetry greatly between the right side and the left side of the broken line X when the right side and the left side of the broken line X are compared. . That is, an uneven resin distribution in the left-right direction occurs inside the sealing resin 813. As a result, in the semiconductor package 820, unlike the semiconductor package 800, the force acting on the inside of the sealing resin 813 is biased, and thus a warp accompanied by a twist occurs. As a result, there is a problem that it is difficult to mount the semiconductor package 820 on a mounting substrate (not shown).

上記した問題を解消するための技術が、特許文献1に記載されている。図11は、特許文献1に記載された従来の半導体パッケージ850を説明するための断面図である。半導体パッケージ850は、半導体パッケージ820(図10を参照)に対して、ダミーであるダミー半導体チップ851を備える構成である。なお、半導体パッケージ850において、半導体パッケージ820と同様の構成要素については、同様の参照符号を付して、その説明は省略する。図11に示す通り、ダミー半導体チップ851は、最上層に設置され、封止樹脂813の体積の増加を抑制すると共に、封止樹脂813内部における破線Xの左右方向の樹脂分布の偏りを解消する。このことによって、半導体パッケージ850は、ねじれを伴った反りを低減することができる。   A technique for solving the above-described problem is described in Patent Document 1. FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining a conventional semiconductor package 850 described in Patent Document 1. In FIG. The semiconductor package 850 includes a dummy semiconductor chip 851 that is a dummy with respect to the semiconductor package 820 (see FIG. 10). Note that in the semiconductor package 850, the same components as those of the semiconductor package 820 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. As shown in FIG. 11, the dummy semiconductor chip 851 is installed in the uppermost layer, suppresses an increase in the volume of the sealing resin 813, and eliminates the uneven resin distribution in the horizontal direction of the broken line X inside the sealing resin 813. . As a result, the semiconductor package 850 can reduce warping accompanied by twisting.

以上では、BGAタイプの半導体パッケージの反りについて説明した。以下では、リードフレームタイプの半導体パッケージの反りについて説明する。図12は、従来の半導体チップ積層型の半導体パッケージ900を説明するための断面図である。図12に示す通り、従来の半導体パッケージ900は、リードフレームタイプである。半導体パッケージ900は、リードフレーム901と、半導体チップ902及び903と、接着部材904及び905と、ボンディングワイヤ906〜908と、封止樹脂909とを備える。なお、図12の黒矢印で示す通り、半導体チップの上層に向かう方向を上方向とし、上方向と反対の方向を下方向とする。また、図12の白矢印で示すそれぞれの方向を、右方向及び左方向とする。また、破線Xは、上下方向に延びる直線であり、半導体パッケージ900の中央を通る直線である。   The warping of the BGA type semiconductor package has been described above. Hereinafter, warping of the lead frame type semiconductor package will be described. FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining a conventional semiconductor chip stacked type semiconductor package 900. As shown in FIG. 12, the conventional semiconductor package 900 is a lead frame type. The semiconductor package 900 includes a lead frame 901, semiconductor chips 902 and 903, adhesive members 904 and 905, bonding wires 906 to 908, and a sealing resin 909. As shown by the black arrows in FIG. 12, the direction toward the upper layer of the semiconductor chip is the upward direction, and the direction opposite to the upward direction is the downward direction. In addition, the directions indicated by white arrows in FIG. 12 are the right direction and the left direction. A broken line X is a straight line extending in the vertical direction and passing through the center of the semiconductor package 900.

リードフレーム901の上面には、半導体チップ902が接着部材904を介して接着される。半導体チップ902の上面には、半導体チップ903が接着部材905を介して接着される。リードフレーム901と半導体チップ902とは、ボンディングワイヤ906及び907によって接続される。リードフレーム901と半導体チップ903とは、ボンディングワイヤ908によって接続される。なお、ボンディングワイヤの数量及び接続は、一例であり、他の数量及び接続であってもよい。最上層の半導体チップ903は、接着された半導体チップ906よりも小さい。より詳しくは、最上層の半導体チップ903の幅Aは、半導体チップ903が接着された半導体チップ906の幅Bよりも小さい。図12では、一例として、幅Aが幅Bの4分の1程度の場合を示している。封止樹脂909は、半導体チップ902及び903と、接着部材904及び905と、ボンディングワイヤ906〜908とを一体的に覆う状態で、リードフレーム901の上面及び下面に形成される。   A semiconductor chip 902 is bonded to the upper surface of the lead frame 901 via an adhesive member 904. A semiconductor chip 903 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 902 via an adhesive member 905. The lead frame 901 and the semiconductor chip 902 are connected by bonding wires 906 and 907. The lead frame 901 and the semiconductor chip 903 are connected by a bonding wire 908. In addition, the quantity and connection of a bonding wire are examples, and another quantity and connection may be sufficient. The uppermost semiconductor chip 903 is smaller than the bonded semiconductor chip 906. More specifically, the width A of the uppermost semiconductor chip 903 is smaller than the width B of the semiconductor chip 906 to which the semiconductor chip 903 is bonded. FIG. 12 shows a case where the width A is about one-fourth of the width B as an example. The sealing resin 909 is formed on the upper and lower surfaces of the lead frame 901 so as to integrally cover the semiconductor chips 902 and 903, the adhesive members 904 and 905, and the bonding wires 906 to 908.

ここで、リードフレームタイプである半導体パッケージ900には、以下の3つの問題が生じる。1つ目は、図10の半導体パッケージ820と同様に、幅Aが幅Bよりも小さいことで封止樹脂909の量(体積)が増加することによって生じる、反りの問題である。2つ目は、図10の半導体パッケージ820と同様に、封止樹脂909における破線Xの左右方向の樹脂分布の偏りによって生じる、ねじれを伴う反りの問題である。3つ目は、封止樹脂909における上下方向の樹脂分布の偏りによって生じる、反りの問題である。より具体的には、封止樹脂909のうち、リードフレーム901の上面に形成された部分と、リードフレーム901の下面に形成された部分とを比較した場合の樹脂分布の偏りによって生じる、反りの問題である。   Here, the following three problems occur in the semiconductor package 900 of the lead frame type. The first is a problem of warpage caused by an increase in the amount (volume) of the sealing resin 909 due to the width A being smaller than the width B, as in the semiconductor package 820 of FIG. The second is a problem of warping accompanied by twisting caused by the deviation of the resin distribution in the horizontal direction of the broken line X in the sealing resin 909 as in the semiconductor package 820 of FIG. The third is a problem of warpage caused by the uneven resin distribution in the vertical direction in the sealing resin 909. More specifically, the portion of the sealing resin 909 formed on the upper surface of the lead frame 901 and the portion formed on the lower surface of the lead frame 901 are warped due to a deviation in resin distribution. It is a problem.

上記した、3つ目の問題を解消する技術として、特許文献2に記載された技術がある。特許文献2の技術は、リードフレームの下面にダミー半導体チップを設置することによって、上下方向の樹脂分布の偏りを低減する技術である。図13は、半導体パッケージ900に特許文献2の技術を適用した従来の半導体パッケージ950を示す断面図である。半導体パッケージ950は、半導体パッケージ900(図12を参照)に対して、ダミーであるダミー半導体チップ910及び911を備える構成である。なお、半導体パッケージ950において、半導体パッケージ900と同様の構成要素については、同様の参照符号を付して、その説明は省略する。図13に示す通り、ダミー半導体チップ910は、リードフレーム901の下面に設置される。ダミー半導体チップ911は、ダミー半導体チップ910の下面に設置される。このことによって、従来の半導体パッケージ950は、封止樹脂909における上下方向の樹脂分布の偏りによって生じる、反りの問題(3つ目の問題)を解消できる。
特開2007−165454号公報 特開平2−28353号公報
As a technique for solving the above third problem, there is a technique described in Patent Document 2. The technique of Patent Document 2 is a technique for reducing the bias in the resin distribution in the vertical direction by installing a dummy semiconductor chip on the lower surface of the lead frame. FIG. 13 is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor package 950 in which the technique of Patent Document 2 is applied to the semiconductor package 900. The semiconductor package 950 includes dummy semiconductor chips 910 and 911 that are dummy with respect to the semiconductor package 900 (see FIG. 12). In the semiconductor package 950, the same reference numerals are given to the same components as those of the semiconductor package 900, and the description thereof is omitted. As shown in FIG. 13, the dummy semiconductor chip 910 is installed on the lower surface of the lead frame 901. The dummy semiconductor chip 911 is installed on the lower surface of the dummy semiconductor chip 910. As a result, the conventional semiconductor package 950 can solve the problem of warping (third problem) caused by the uneven resin distribution in the vertical direction in the sealing resin 909.
JP 2007-165454 A JP-A-2-28353

しかしながら、以上に説明した従来の半導体パッケージには、以下に説明する問題がある。   However, the conventional semiconductor package described above has the following problems.

従来の半導体パッケージ850(図11を参照)は、ダミー半導体チップ851を設置する必要があるので、部品点数が増加して製造コストが増加する。ところで、半導体チップ804の上面において、半導体チップ805及びダミー半導体チップ851のエッジが位置する部分の近傍には、応力が集中する。このことから、半導体パッケージ850では、ダミー半導体チップ851が設置されることによって、半導体チップ804の上面において応力が集中する部分が増加する。この結果として、半導体パッケージ850では、半導体チップ804の破壊リスクが高まる。   In the conventional semiconductor package 850 (see FIG. 11), since it is necessary to install the dummy semiconductor chip 851, the number of parts increases and the manufacturing cost increases. Incidentally, stress concentrates on the upper surface of the semiconductor chip 804 in the vicinity of the portion where the edges of the semiconductor chip 805 and the dummy semiconductor chip 851 are located. For this reason, in the semiconductor package 850, when the dummy semiconductor chip 851 is installed, a portion where stress is concentrated on the upper surface of the semiconductor chip 804 increases. As a result, in the semiconductor package 850, the risk of destruction of the semiconductor chip 804 increases.

従来の半導体パッケージ950(図13を参照)は、ダミー半導体チップ910及び911を設置する必要があるので、部品点数が増加して製造コストが増加する。なお、図13に示す半導体パッケージ950に、図11に示す半導体パッケージ850を参照して説明した技術(ダミー半導体チップ851を最上層に設置する技術)を適用することによって、既に説明した半導体パッケージ900の1つ目及び2つ目の問題を解消できる。しかし、この場合には、更にダミー半導体チップ851を設置することとなり、製造コストは更に増加する。   Since the conventional semiconductor package 950 (see FIG. 13) needs to be provided with dummy semiconductor chips 910 and 911, the number of parts increases and the manufacturing cost increases. 13 is applied to the semiconductor package 950 described with reference to the semiconductor package 850 illustrated in FIG. 11 (technology for installing the dummy semiconductor chip 851 in the uppermost layer), the semiconductor package 900 described above. The first and second problems can be solved. However, in this case, a dummy semiconductor chip 851 is further installed, and the manufacturing cost further increases.

それ故に、本発明の目的は、ダミー半導体チップを用いて部品点数を増やすことなく封止樹脂の体積を低減し、かつ、樹脂封止領域内の封止樹脂と半導体チップとの分布の偏りを低減することによって、半導体パッケージの反り、特に、ねじれを伴った反りを低減する半導体装置を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to reduce the volume of the sealing resin without increasing the number of components using a dummy semiconductor chip, and to reduce the distribution of the sealing resin and the semiconductor chip in the resin sealing region. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device that reduces the warpage of a semiconductor package, in particular, warpage accompanied by twisting.

本発明は、半導体チップ積層型の半導体装置に向けられている。そして、上記目的を達成させるために、本発明の半導体装置は、配線基板と、配線基板の上面に積層される複数の半導体チップと、半導体チップ同士又は、半導体チップと配線基板とを接着する複数の接着部材と、配線基板の上面に形成され、複数の半導体チップと複数の接着部材とを覆う封止樹脂とを備え、複数の半導体チップのうち最上層の第1層半導体チップの幅は、当該第1層半導体チップが接着される第2層半導体チップの幅より小さく、第2層半導体チップの上面は、配線基板の上面と角度を有し、第1層半導体チップの中央は、第2層半導体チップの中央に対して、第2層半導体チップの上面から配線基板の上面までの厚さが薄くなる方向にずれて位置する。   The present invention is directed to a semiconductor chip stacked type semiconductor device. In order to achieve the above object, a semiconductor device of the present invention includes a wiring board, a plurality of semiconductor chips stacked on the upper surface of the wiring board, and a plurality of semiconductor chips bonded to each other or between the semiconductor chip and the wiring board. And a sealing resin that is formed on the upper surface of the wiring substrate and covers the plurality of semiconductor chips and the plurality of adhesive members, and the width of the first layer semiconductor chip of the uppermost layer among the plurality of semiconductor chips is: The width of the second layer semiconductor chip is smaller than the width of the second layer semiconductor chip to which the first layer semiconductor chip is bonded, the upper surface of the second layer semiconductor chip has an angle with the upper surface of the wiring substrate, and the center of the first layer semiconductor chip is the second The thickness from the upper surface of the second layer semiconductor chip to the upper surface of the wiring board is shifted with respect to the center of the layer semiconductor chip in a direction of decreasing thickness.

また、好ましくは、第1層半導体チップを除く複数の半導体チップの少なくとも1つの上面と下面とは、平行でない。   Preferably, at least one upper surface and lower surface of the plurality of semiconductor chips excluding the first layer semiconductor chip are not parallel.

また、第1層半導体チップと第2層半導体チップとを接着する接着部材を除く複数の接着部材の少なくとも1つの上面と下面とを、平行でないものとしてもよい。   Further, at least one upper surface and lower surface of the plurality of adhesive members excluding the adhesive member that bonds the first layer semiconductor chip and the second layer semiconductor chip may be not parallel.

また、上面と下面とが平行でない接着部材の少なくとも1つには、接着工程において、硬化前の当該接着部材よりも硬い材質から成る桁が入れ込まれてもよい。   In addition, a girder made of a material harder than the adhesive member before curing may be inserted into at least one of the adhesive members whose upper surface and lower surface are not parallel.

また、上記目的を達成させるために、本発明の半導体装置は、リード部とダイパッド部とで構成されるリードフレームと、ダイパッド部の上面に積層される複数の半導体チップと、半導体チップ同士又は、半導体チップとダイパッド部とを接着する複数の接着部材と、リード部の一部とダイパッド部と複数の半導体チップと複数の接着部材とを覆う封止樹脂とを備え、複数の半導体チップのうち最上層の第1層半導体チップの幅は、当該第1層半導体チップが接着される第2層半導体チップの幅より小さく、第2層半導体チップの上面は、封止樹脂の下面と角度を有し、第1層半導体チップの中央は、第2層半導体チップの中央に対して、第2層半導体チップの上面から封止樹脂の下面までの厚さが薄くなる方向にずれて位置する。   In order to achieve the above object, a semiconductor device of the present invention includes a lead frame composed of a lead portion and a die pad portion, a plurality of semiconductor chips stacked on the upper surface of the die pad portion, A plurality of adhesive members for bonding the semiconductor chip and the die pad portion; and a sealing resin that covers a part of the lead portion, the die pad portion, the plurality of semiconductor chips, and the plurality of adhesive members. The width of the upper first layer semiconductor chip is smaller than the width of the second layer semiconductor chip to which the first layer semiconductor chip is bonded, and the upper surface of the second layer semiconductor chip has an angle with the lower surface of the sealing resin. The center of the first layer semiconductor chip is shifted from the center of the second layer semiconductor chip in a direction in which the thickness from the upper surface of the second layer semiconductor chip to the lower surface of the sealing resin decreases.

また、好ましくは、第1層半導体チップを除く複数の半導体チップの少なくとも1つの上面と下面とは、平行でない。   Preferably, at least one upper surface and lower surface of the plurality of semiconductor chips excluding the first layer semiconductor chip are not parallel.

また、第1層半導体チップと第2層半導体チップとを接着する接着部材を除く複数の接着部材の少なくとも1つの上面と下面とを、平行でないものとしてもよい。   Further, at least one upper surface and lower surface of the plurality of adhesive members excluding the adhesive member that bonds the first layer semiconductor chip and the second layer semiconductor chip may be not parallel.

また、上面と下面とが平行でない接着部材の少なくとも1つには、接着工程において、硬化前の当該接着部材よりも硬い材質から成る桁が入れ込まれてもよい。   In addition, a girder made of a material harder than the adhesive member before curing may be inserted into at least one of the adhesive members whose upper surface and lower surface are not parallel.

また、ダイパッド部の上面と下面とを、平行でないものとしてもよい。   In addition, the upper surface and the lower surface of the die pad portion may not be parallel.

また、第1層半導体チップを除く複数の半導体チップ、第1層半導体チップと第2層半導体チップとを接着する接着部材を除く複数の接着部材、及びダイパッド部の上面と下面とを、それぞれ平行としてもよい。   In addition, the plurality of semiconductor chips excluding the first layer semiconductor chip, the plurality of adhesive members excluding the adhesive member that bonds the first layer semiconductor chip and the second layer semiconductor chip, and the upper surface and the lower surface of the die pad portion are parallel to each other. It is good.

また、好ましくは、ダイパッド部と複数の半導体チップと複数の接着部材とで成る積層体の上方に形成される封止樹脂量と下方に形成される封止樹脂量とが等しくなる方向に、当該積層体をずらして配置する。   Preferably, the sealing resin amount formed above the laminated body composed of the die pad portion, the plurality of semiconductor chips, and the plurality of adhesive members is equal to the sealing resin amount formed below. Laminate the stacks.

上述した発明によれば、ダミー半導体チップを用いて部品点数を増やすことなく封止樹脂の体積を低減し、かつ、樹脂封止領域内の封止樹脂と半導体チップとの分布の偏りを低減することによって、半導体パッケージの反り、特に、ねじれを伴った反りを低減する半導体装置を提供することができる。   According to the above-described invention, the volume of the sealing resin is reduced without increasing the number of parts using the dummy semiconductor chip, and the uneven distribution of the sealing resin and the semiconductor chip in the resin sealing region is reduced. Accordingly, it is possible to provide a semiconductor device capable of reducing the warpage of the semiconductor package, in particular, the warp accompanied by the twist.

(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体パッケージ100の構成例を示す断面図である。図1に示す通り、半導体パッケージ100は、BGAタイプである。半導体パッケージ100は、複数のはんだボール101と、配線基板102と、半導体チップ103〜105と、接着部材106〜108と、ボンディングワイヤ109〜112と、封止樹脂113とを備える。なお、図1の黒矢印で示す通り、半導体チップの上層に向かう方向を上方向とし、上方向と反対の方向を下方向とする。また、図1の白矢印で示すそれぞれの方向を、右方向及び左方向とする。また、破線Xは、上下方向に延びる直線であり、半導体パッケージ100の中央を通る直線である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of a semiconductor package 100 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor package 100 is a BGA type. The semiconductor package 100 includes a plurality of solder balls 101, a wiring substrate 102, semiconductor chips 103 to 105, adhesive members 106 to 108, bonding wires 109 to 112, and a sealing resin 113. As indicated by the black arrows in FIG. 1, the direction toward the upper layer of the semiconductor chip is the upward direction, and the direction opposite to the upward direction is the downward direction. In addition, the directions indicated by the white arrows in FIG. 1 are the right direction and the left direction. The broken line X is a straight line extending in the vertical direction and passing through the center of the semiconductor package 100.

配線基板102の下方向の面(以下、下面という)には、複数のはんだボール101が配列される。配線基板102の上方向の面(以下、上面という)には、半導体チップ103が接着部材106を介して接着される。半導体チップ103の上面には、半導体チップ104が接着部材107を介して接着される。半導体チップ104の上面には、半導体チップ105が接着部材108を介して接着される。配線基板102と半導体チップ103とは、ボンディングワイヤ109によって接続される。半導体チップ103と半導体チップ104とは、ボンディングワイヤ110及び111によって接続される。配線基板102と半導体チップ105とは、ボンディングワイヤ112によって接続される。なお、ボンディングワイヤの数量及び接続は、一例であり、他の数量及び接続であってもよい。   A plurality of solder balls 101 are arranged on a lower surface (hereinafter referred to as a lower surface) of the wiring board 102. A semiconductor chip 103 is bonded to an upper surface (hereinafter referred to as an upper surface) of the wiring substrate 102 via an adhesive member 106. A semiconductor chip 104 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 103 via an adhesive member 107. A semiconductor chip 105 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 104 via an adhesive member 108. The wiring board 102 and the semiconductor chip 103 are connected by a bonding wire 109. The semiconductor chip 103 and the semiconductor chip 104 are connected by bonding wires 110 and 111. The wiring board 102 and the semiconductor chip 105 are connected by bonding wires 112. In addition, the quantity and connection of a bonding wire are examples, and another quantity and connection may be sufficient.

最上層の半導体チップ105は、接着された半導体チップ104よりも小さい。より詳しくは、最上層の半導体チップ105の幅Aは、半導体チップ105が接着された半導体チップ104の幅Bよりも小さい。図1には、一例として、幅Aが幅Bの4分の1程度の場合を示している。また、半導体チップ105に接続されるボンディングワイヤ112の長さを短くするために、最上層の半導体チップ105は、半導体チップ104の中央(図1では、当該中央は破線Xと一致する)から左側にずらして設置される。より詳細には、半導体チップ105の中央を通り破線Xと平行な線を破線Yとした場合、破線Yは、破線Xから左方向にずれて位置する。   The uppermost semiconductor chip 105 is smaller than the bonded semiconductor chip 104. More specifically, the width A of the uppermost semiconductor chip 105 is smaller than the width B of the semiconductor chip 104 to which the semiconductor chip 105 is bonded. FIG. 1 shows a case where the width A is about one-fourth of the width B as an example. Further, in order to shorten the length of the bonding wire 112 connected to the semiconductor chip 105, the uppermost semiconductor chip 105 is located on the left side from the center of the semiconductor chip 104 (in FIG. 1, the center coincides with the broken line X). It is installed in a staggered manner. More specifically, when a line passing through the center of the semiconductor chip 105 and parallel to the broken line X is a broken line Y, the broken line Y is shifted from the broken line X to the left.

半導体チップ104の下面と上面とは、平行ではなく、角度を有する。このことによって、半導体チップ104の体積は、図1から解る通り、半導体チップ105が設置されている破線Xの左側では小さく、一方で半導体チップ105が設置されてない破線Xの右側では大きくなる。なお、半導体チップ103及び接着部材106の上面と下面とは、いずれも平行であるので、配線基板102の上面と半導体チップ104の上面とは、平行ではなく、角度を有することとなる。   The lower surface and the upper surface of the semiconductor chip 104 are not parallel but have an angle. Thus, as can be seen from FIG. 1, the volume of the semiconductor chip 104 is small on the left side of the broken line X where the semiconductor chip 105 is installed, and on the right side of the broken line X where the semiconductor chip 105 is not installed. Since the upper surface and the lower surface of the semiconductor chip 103 and the adhesive member 106 are both parallel, the upper surface of the wiring substrate 102 and the upper surface of the semiconductor chip 104 are not parallel but have an angle.

最上層の半導体チップ105の下面と上面とは、半導体チップ104の下面と上面と同様に、平行ではなく、角度を有する。このことによって、図1に示す通り、半導体チップ105の上面は、配線基板102の上面と概ね並行になる。なお、接着部材108の上面と下面とは、平行である。   Similar to the lower surface and the upper surface of the semiconductor chip 104, the lower surface and the upper surface of the uppermost semiconductor chip 105 are not parallel but have an angle. As a result, as shown in FIG. 1, the upper surface of the semiconductor chip 105 is substantially parallel to the upper surface of the wiring substrate 102. Note that the upper surface and the lower surface of the adhesive member 108 are parallel to each other.

封止樹脂113は、半導体チップ103〜105と、接着部材106〜108と、ボンディングワイヤ109〜112とを一体的に覆う状態で、配線基板102の上面に形成される。   The sealing resin 113 is formed on the upper surface of the wiring substrate 102 so as to integrally cover the semiconductor chips 103 to 105, the adhesive members 106 to 108, and the bonding wires 109 to 112.

ここで、半導体チップ104及び105の下面と上面とを、平行でない形状とする加工方法の例について、簡単に説明する。まず、半導体ウエハを、縦方向或いは横方向の一方向のみにダイシング(切断)することによって、半導体チップが一列に並んだ帯状の基板を作製する。その後、当該帯状の基板の下面を、当該帯状の基板の上面と角度を有する様に研磨する。その後、当該帯状の基板を切断して、互いに同形状の半導体チップを作製する。なお、半導体ウエハを縦方向及び横方向にダイシングすることによって半導体チップの個片を切り出した後に、当該半導体チップ毎に、下面を、上面と角度を有するように研磨してもよい。   Here, an example of a processing method in which the lower surface and the upper surface of the semiconductor chips 104 and 105 are not parallel will be briefly described. First, the semiconductor wafer is diced (cut) in only one direction, ie, a vertical direction or a horizontal direction, to produce a belt-like substrate in which semiconductor chips are arranged in a line. After that, the lower surface of the band-shaped substrate is polished so as to have an angle with the upper surface of the band-shaped substrate. Thereafter, the belt-like substrate is cut to produce semiconductor chips having the same shape. Note that after the semiconductor chip is cut out by dicing the semiconductor wafer in the vertical and horizontal directions, the lower surface of each semiconductor chip may be polished so as to have an angle with the upper surface.

以上に説明した構成とすることによって、第1の実施形態に係る半導体パッケージ100は、半導体パッケージ100の中央(破線X)から右側と左側とを比較した場合に、図1に示す通り、封止樹脂113の樹脂分布の偏りを低減することができる。このことによって、第1の実施形態に係る半導体パッケージ100は、従来の半導体パッケージ850(図11を参照)と同様に、封止樹脂の体積を低減し、かつ、半導体パッケージの反り、特に、ねじれを伴った反りを低減することができる。更に、第1の実施形態に係る半導体パッケージ100は、従来の半導体パッケージ850とは異なり、ダミー半導体チップを設置しないので、部品点数の増加を回避でき、また、半導体チップ上面の応力集中個所の増加を回避できる。   With the configuration described above, the semiconductor package 100 according to the first embodiment is sealed as shown in FIG. 1 when comparing the right side and the left side from the center (broken line X) of the semiconductor package 100. The uneven distribution of the resin 113 can be reduced. As a result, the semiconductor package 100 according to the first embodiment reduces the volume of the sealing resin and warps the semiconductor package, in particular, twists, similarly to the conventional semiconductor package 850 (see FIG. 11). It is possible to reduce the warp accompanied by. Furthermore, unlike the conventional semiconductor package 850, the semiconductor package 100 according to the first embodiment can avoid an increase in the number of components since no dummy semiconductor chip is installed, and an increase in stress concentration points on the upper surface of the semiconductor chip. Can be avoided.

なお、最上層の半導体チップ105は、下面と上面とが平行である通常の半導体チップの形状でもよい。しかし、最上層の半導体チップ105の下面と上面とに角度を持たせることによって、半導体チップ105の上面と配線基板102の上面とを概ね平行にした場合(図1を参照)の方が、封止樹脂113内の樹脂分布の偏りを、より低減できる。これは、封止樹脂113成形の際に、樹脂の湯流れが良くなる等の理由からである。   The uppermost semiconductor chip 105 may be in the form of a normal semiconductor chip whose bottom surface and top surface are parallel. However, when the lower surface and the upper surface of the uppermost semiconductor chip 105 are provided with an angle, the upper surface of the semiconductor chip 105 and the upper surface of the wiring substrate 102 are substantially parallel (see FIG. 1). The uneven distribution of resin in the stop resin 113 can be further reduced. This is because the hot water flow of the resin is improved when the sealing resin 113 is molded.

また、以上では、一例として、最上層の半導体チップ105は、半導体チップ104の中央から左側にずらして設置される場合について説明した。しかし、最上層の半導体チップ105は、半導体チップ104の中心から右側にずらして設置されてもよい。この場合には、半導体チップ104は、半導体チップ105が設置されている右側の体積は小さく、一方で半導体チップ105が設置されてない左側の体積は大きくなるように、上面と下面とが角度を有する形状となる。   In the above, as an example, the case where the uppermost semiconductor chip 105 is shifted from the center of the semiconductor chip 104 to the left side has been described. However, the uppermost semiconductor chip 105 may be installed shifted from the center of the semiconductor chip 104 to the right side. In this case, the upper surface and the lower surface of the semiconductor chip 104 have an angle so that the volume on the right side where the semiconductor chip 105 is installed is small, while the volume on the left side where the semiconductor chip 105 is not installed is large. It becomes the shape which has.

また、第1の実施形態では、半導体チップの積層数が3個の場合について説明した。しかし、半導体チップの積層数は、2個以上であればよい。また、半導体チップの積層数が3個以上の場合には、最上層の半導体チップを除く半導体チップのうち少なくとも1つが、当該半導体チップの下面と上面とに角度を有する形状であればよい。   In the first embodiment, the case where the number of stacked semiconductor chips is three has been described. However, the number of stacked semiconductor chips may be two or more. When the number of stacked semiconductor chips is three or more, at least one of the semiconductor chips other than the uppermost semiconductor chip may have a shape having an angle between the lower surface and the upper surface of the semiconductor chip.

(第2の実施形態)
図2は、本発明の第2の実施形態に係る半導体パッケージ200の構成例を示す断面図である。半導体パッケージ200は、接着部材の下面と上面とに角度を持たせることによって、封止樹脂の分布の偏りを低減することに特徴を有する。なお、第2の実施形態の半導体パッケージ200において、第1の実施形態の半導体パッケージ100(図1を参照)と同様の構成要素については、同様の参照符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of a semiconductor package 200 according to the second embodiment of the present invention. The semiconductor package 200 is characterized in that the bias in the distribution of the sealing resin is reduced by providing an angle between the lower surface and the upper surface of the adhesive member. In the semiconductor package 200 of the second embodiment, the same reference numerals are given to the same components as those of the semiconductor package 100 (see FIG. 1) of the first embodiment, and detailed description thereof is omitted. To do.

図2に示す通り、半導体パッケージ200は、BGAタイプである。半導体パッケージ200は、複数のはんだボール101と、配線基板102と、半導体チップ103、203〜205と、接着部材106、214、207及び208と、ボンディングワイヤ209〜212と、封止樹脂213とを備える。なお、破線Xは、上下方向に延びる直線であり、半導体パッケージ200の中央を通る直線である。   As shown in FIG. 2, the semiconductor package 200 is a BGA type. The semiconductor package 200 includes a plurality of solder balls 101, a wiring board 102, semiconductor chips 103, 203 to 205, adhesive members 106, 214, 207 and 208, bonding wires 209 to 212, and a sealing resin 213. Prepare. The broken line X is a straight line extending in the vertical direction and passing through the center of the semiconductor package 200.

配線基板102の下面には、複数のはんだボール101が配列される。配線基板102の上面には、半導体チップ103が接着部材106を介して接着される。半導体チップ103の上面には、半導体チップ203が接着部材214を介して接着される。半導体チップ203の上面には、半導体チップ204が接着部材207を介して接着される。半導体チップ204の上面には、半導体チップ205が接着部材208を介して接着される。配線基板102と半導体チップ103とは、ボンディングワイヤ209によって接続される。半導体チップ103と半導体チップ203とは、ボンディングワイヤ210によって接続される。半導体チップ203と半導体チップ204とは、ボンディングワイヤ211によって接続される。配線基板102と半導体チップ205とは、ボンディングワイヤ212によって接続される。なお、ボンディングワイヤの数量及び接続は、一例であり、他の数量及び接続であってもよい。   A plurality of solder balls 101 are arranged on the lower surface of the wiring board 102. A semiconductor chip 103 is bonded to the upper surface of the wiring substrate 102 via an adhesive member 106. The semiconductor chip 203 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 103 via an adhesive member 214. A semiconductor chip 204 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 203 via an adhesive member 207. A semiconductor chip 205 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 204 via an adhesive member 208. The wiring substrate 102 and the semiconductor chip 103 are connected by bonding wires 209. The semiconductor chip 103 and the semiconductor chip 203 are connected by a bonding wire 210. The semiconductor chip 203 and the semiconductor chip 204 are connected by a bonding wire 211. The wiring board 102 and the semiconductor chip 205 are connected by bonding wires 212. In addition, the quantity and connection of a bonding wire are examples, and another quantity and connection may be sufficient.

最上層の半導体チップ205の幅Aは、半導体チップ205が接着された半導体チップ204の幅Bよりも小さい。図2には、一例として、幅Aが幅Bの4分の1程度の場合を示している。また、半導体チップ205に接続されるボンディングワイヤ212の長さを短くするために、最上層の半導体チップ205は、半導体チップ204の中央(図2では、当該中央は破線Xと一致する)から左側にずらして設置される。より詳細には、半導体チップ205の中央を通り破線Xと平行な線を破線Yとした場合、破線Yは、破線Xから左方向にずれて位置する。   The width A of the uppermost semiconductor chip 205 is smaller than the width B of the semiconductor chip 204 to which the semiconductor chip 205 is bonded. FIG. 2 shows a case where the width A is about one-fourth of the width B as an example. In order to shorten the length of the bonding wire 212 connected to the semiconductor chip 205, the uppermost semiconductor chip 205 is located on the left side from the center of the semiconductor chip 204 (in FIG. 2, the center coincides with the broken line X). It is installed in a staggered manner. More specifically, when a line passing through the center of the semiconductor chip 205 and parallel to the broken line X is a broken line Y, the broken line Y is shifted from the broken line X to the left.

接着部材214及び207の下面と上面とは、平行ではなく、角度を有している。このことによって、接着部材214及び207の体積は、図2から解る通り、半導体チップ205が設置されている左側では小さく、一方で半導体チップ205が設置されてない右側では大きくなる。なお、半導体チップ103、203及び204の上面と下面とは、いずれも平行であるので、配線基板102の上面と半導体チップ204の上面とは、平行ではなく、角度を有することとなる。   The lower surface and the upper surface of the adhesive members 214 and 207 are not parallel but have an angle. Thus, as can be seen from FIG. 2, the volume of the adhesive members 214 and 207 is small on the left side where the semiconductor chip 205 is installed, while it is large on the right side where the semiconductor chip 205 is not installed. Since the upper and lower surfaces of the semiconductor chips 103, 203, and 204 are all parallel, the upper surface of the wiring board 102 and the upper surface of the semiconductor chip 204 are not parallel but have an angle.

接着部材208の下面と上面とは、接着部材214及び207の下面と上面と同様に、平行ではなく、角度を有している。このことによって、図2に示す通り、半導体チップ205の上面は、配線基板102の上面と概ね平行になる。なお、半導体チップ205の下面と上面とは、平行である。   The lower surface and the upper surface of the adhesive member 208 are not parallel, but have an angle, like the lower surfaces and the upper surface of the adhesive members 214 and 207. As a result, as shown in FIG. 2, the upper surface of the semiconductor chip 205 is substantially parallel to the upper surface of the wiring substrate 102. Note that the lower surface and the upper surface of the semiconductor chip 205 are parallel to each other.

封止樹脂213は、半導体チップ103、203〜205と、接着部材106、214、207及び208と、ボンディングワイヤ209〜212とを一体的に覆う状態で、配線基板102の上面に形成される。   The sealing resin 213 is formed on the upper surface of the wiring substrate 102 so as to integrally cover the semiconductor chips 103 and 203 to 205, the adhesive members 106, 214, 207, and 208 and the bonding wires 209 to 212.

ここで、接着部材214、207及び208の下面と上面とを、角度を有した形状とする方法の例について、簡単に説明する。ペーストタイプの接着部材を用いる場合は、塗布量を増加させることによって、接着部材の一端から他端に向けて厚さを徐々に増加させる。フィルムタイプの接着部材を用いる場合は、接着部材の一端から他端に向けて厚さが徐々に増加する形状のものを用いる。   Here, an example of a method of forming the bottom surface and the top surface of the adhesive members 214, 207, and 208 with an angle will be briefly described. When using a paste-type adhesive member, the thickness is gradually increased from one end of the adhesive member to the other end by increasing the amount of application. When a film-type adhesive member is used, one having a shape in which the thickness gradually increases from one end to the other end of the adhesive member is used.

以上に説明した構成とすることによって、第2の実施形態に係る半導体パッケージ200は、半導体パッケージ200の中心(破線X)から右側と左側とを比較した場合に、図2に示す通り、封止樹脂213の樹脂分布の偏りを低減することができる。この結果として、第2の実施形態に係る半導体パッケージ200は、第1の実施形態に係る半導体パッケージ100(図1を参照)と同様の効果を奏することができる。   With the configuration described above, the semiconductor package 200 according to the second embodiment is sealed as shown in FIG. 2 when the right side and the left side are compared from the center (broken line X) of the semiconductor package 200. The unevenness of the resin distribution of the resin 213 can be reduced. As a result, the semiconductor package 200 according to the second embodiment can achieve the same effects as the semiconductor package 100 according to the first embodiment (see FIG. 1).

なお、接着部材208は、下面と上面とが平行である通常の接着部材の形状でもよい。しかし、接着部材208の下面と上面とに角度を持たせることによって、半導体チップ205の上面と配線基板102の上面とを概ね平行にした場合(図2を参照)の方が、封止樹脂213内の樹脂分布の偏りを、より低減できる。これは、封止樹脂213成形の際に、樹脂の湯流れが良くなる等の理由からである。   The adhesive member 208 may have a normal adhesive member shape in which the lower surface and the upper surface are parallel. However, when the lower surface and the upper surface of the adhesive member 208 are provided with an angle so that the upper surface of the semiconductor chip 205 and the upper surface of the wiring substrate 102 are substantially parallel (see FIG. 2), the sealing resin 213 is used. The deviation of the resin distribution inside can be further reduced. This is because the hot water flow of the resin is improved when the sealing resin 213 is molded.

また、以上では、一例として、最上層の半導体チップ205は、半導体チップ204の中心から左側にずらして設置される場合について説明した。しかし、最上層の半導体チップ205は、半導体チップ204の中心から右側にずらして設置されてもよい。この場合には、接着部材214及び207は、半導体チップ205が設置されている右側の体積は小さく、一方で半導体チップ205が設置されてない左側の体積は大きくなるように、それぞれ上面と下面とが角度を有する形状となる。   In the above, as an example, the case where the uppermost semiconductor chip 205 is shifted from the center of the semiconductor chip 204 to the left side has been described. However, the uppermost semiconductor chip 205 may be installed shifted from the center of the semiconductor chip 204 to the right side. In this case, the adhesive members 214 and 207 have an upper surface and a lower surface so that the volume on the right side where the semiconductor chip 205 is installed is small, while the volume on the left side where the semiconductor chip 205 is not installed is large. Becomes a shape having an angle.

また、第2の実施形態では、半導体チップの積層数が4個の場合について説明した。しかし、半導体チップの積層数は、2個以上であればよい。また、第2の実施形態では、接着部材214及び207が、それぞれ下面と上面とに角度を有する形状として説明した。しかし、最上層の半導体チップを接着する接着部材(図2の208を参照)を除く接着部材のうち少なくとも1つが、当該接着部材の下面と上面とに角度を有する形状であればよい。   In the second embodiment, the case where the number of stacked semiconductor chips is four has been described. However, the number of stacked semiconductor chips may be two or more. Further, in the second embodiment, the adhesive members 214 and 207 have been described as shapes having an angle between the lower surface and the upper surface, respectively. However, at least one of the adhesive members excluding the adhesive member (see 208 in FIG. 2) that adheres the uppermost semiconductor chip only needs to have a shape having an angle between the lower surface and the upper surface of the adhesive member.

また、下面と上面とに角度を有する形状の接着部材を形成する方法として、桁を設ける方法がある。図3は、桁を設けて接着部材を形成する場合の半導体パッケージ200−1の構成例を示す断面図である。なお、半導体パッケージ200−1において、半導体パッケージ200(図2を参照)と同様の構成要素については、同様の参照符号を付して、その説明は省略する。また、説明の簡単のために、半導体パッケージ200−1が半導体チップを2個備える場合を例に挙げて、説明する。図3に示す通り、接着部材207は、接着部材207内部の厚さが大きい位置(接着部材207の中央から右側の位置)に、桁270を備える。同様に、接着部材208は、接着部材208内部の厚さが大きい位置(接着部材208の中央から左側の位置)に、桁280を備える。桁270及び280は、半導体チップの接着工程において、流動性を有する接着部材207及び208が半導体チップの重み等で潰されることを防止する。このことによって、接着部材207及び208は、図2で説明した場合よりも大きな傾きを持った形状に形成でき、また、図2で説明した場合よりも厚さの精度が向上する。   Further, as a method of forming an adhesive member having an angle between the lower surface and the upper surface, there is a method of providing a girder. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration example of the semiconductor package 200-1 when an adhesive member is formed by providing a girder. In the semiconductor package 200-1, the same components as those of the semiconductor package 200 (see FIG. 2) are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. For simplicity of explanation, the case where the semiconductor package 200-1 includes two semiconductor chips will be described as an example. As illustrated in FIG. 3, the adhesive member 207 includes a girder 270 at a position where the thickness inside the adhesive member 207 is large (a position on the right side from the center of the adhesive member 207). Similarly, the adhesive member 208 includes a girder 280 at a position where the thickness inside the adhesive member 208 is large (position on the left side from the center of the adhesive member 208). The girders 270 and 280 prevent the adhesive members 207 and 208 having fluidity from being crushed by the weight of the semiconductor chip or the like in the semiconductor chip bonding process. Accordingly, the adhesive members 207 and 208 can be formed in a shape having a larger inclination than that described with reference to FIG. 2, and the thickness accuracy is improved as compared with the case described with reference to FIG.

以下に、桁270を備える接着部材207及び桁280を備える接着部材208の形成方法の例について、簡単に説明する。桁270及び280には、ポリイミドテープ等を用いる。まず、桁270を配線基板102の上面に配置した後に、ペーストタイプの接着部材を配線基板102の上面に塗布する。その後、塗布した接着部材の上面に半導体チップ204を設置し、接着部材を固める。この方法によって、接着部材207は形成される。なお、配線基板102の上面に配置した桁270に半導体チップ204を傾けて乗せた後に、半導体チップ204と配線基板102との間の空間に、接着部材を注入して接着部材207を形成してもよい。同様に、接着部材208も形成されるので、説明は省略する。   Below, the example of the formation method of the adhesive member 207 provided with the girder 270 and the adhesive member 208 provided with the girder 280 is demonstrated easily. For the girders 270 and 280, polyimide tape or the like is used. First, after placing the girders 270 on the upper surface of the wiring substrate 102, a paste-type adhesive member is applied to the upper surface of the wiring substrate 102. Thereafter, the semiconductor chip 204 is placed on the upper surface of the applied adhesive member, and the adhesive member is hardened. By this method, the adhesive member 207 is formed. Note that after the semiconductor chip 204 is inclined and placed on the girders 270 disposed on the upper surface of the wiring substrate 102, an adhesive member is injected into the space between the semiconductor chip 204 and the wiring substrate 102 to form the adhesive member 207. Also good. Similarly, since the adhesive member 208 is also formed, description thereof is omitted.

また、以上では、下面と上面とに角度を持たせた半導体チップ104を備えることで封止樹脂113の偏りを低減する半導体パッケージ100(第1の実施形態;図1を参照)と、下面と上面とに角度を持たせた接着部材207、214及び208を備えることによって封止樹脂213の偏りを低減する半導体パッケージ200及び200−1(第2の実施形態;図2及び図3を参照)とについて、説明した。しかし、図4に示す半導体パッケージ300のように、半導体チップ及び接着部材の下面と上面とに、それぞれ角度を持たせた構成としてもよい。なお、図4に示す半導体パッケージ300において、図1〜3に示す半導体パッケージ100、200及び200−1と同様の構成要素については、同様の参照符号を付している。   Also, in the above, the semiconductor package 100 (first embodiment; see FIG. 1) in which the bias of the sealing resin 113 is reduced by providing the semiconductor chip 104 having an angle between the lower surface and the upper surface; Semiconductor packages 200 and 200-1 that reduce the bias of the sealing resin 213 by providing adhesive members 207, 214, and 208 having an angle with the upper surface (second embodiment; see FIGS. 2 and 3) And explained. However, as in the semiconductor package 300 illustrated in FIG. 4, the semiconductor chip and the lower surface and the upper surface of the adhesive member may have an angle. In the semiconductor package 300 shown in FIG. 4, the same components as those of the semiconductor packages 100, 200, and 200-1 shown in FIGS.

また、以上では、BGAタイプの半導体パッケージ100、200、200−1及び300を例に挙げて説明した。しかし、封止樹脂が配線基板102の上面に一体的に形成されるタイプの半導体パッケージであれば、半導体パッケージのタイプは、BGAタイプには限られない。   In the above description, the BGA type semiconductor packages 100, 200, 200-1, and 300 are described as examples. However, the type of the semiconductor package is not limited to the BGA type as long as the sealing resin is a type of semiconductor package that is integrally formed on the upper surface of the wiring substrate 102.

(第3の実施形態)
図5は、本発明の第3の実施形態に係る半導体パッケージ400の構成例を示す断面図である。図5に示す通り、半導体パッケージ400は、リードフレームタイプである。半導体パッケージ400は、リードフレーム411を構成するリード部401及びダイパッド部402と、接着部材403及び405と、半導体チップ404及び406と、ボンディングワイヤ407〜409と、封止樹脂410とを備える。リード部401において、封止樹脂410に覆われた部分はインナーリード部401−1であり、封止樹脂410に覆われていない部分はアウターリード部401−2である。なお、図5の黒矢印で示す通り、半導体チップの上層に向かう方向を上方向とし、上方向と反対の方向を下方向とする。また、図5の白矢印で示すそれぞれの方向を、右方向及び左方向とする。また、破線Xは、上下方向に延びる直線であり、半導体パッケージ400の中央を通る直線である。また、実装面490は、半導体パッケージ400の実装面である。
(Third embodiment)
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration example of a semiconductor package 400 according to the third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the semiconductor package 400 is a lead frame type. The semiconductor package 400 includes a lead part 401 and a die pad part 402 that constitute a lead frame 411, adhesive members 403 and 405, semiconductor chips 404 and 406, bonding wires 407 to 409, and a sealing resin 410. In the lead part 401, the part covered with the sealing resin 410 is the inner lead part 401-1, and the part not covered with the sealing resin 410 is the outer lead part 401-2. As shown by the black arrows in FIG. 5, the direction toward the upper layer of the semiconductor chip is the upward direction, and the direction opposite to the upward direction is the downward direction. In addition, the directions indicated by white arrows in FIG. 5 are the right direction and the left direction. The broken line X is a straight line extending in the vertical direction and passing through the center of the semiconductor package 400. The mounting surface 490 is a mounting surface of the semiconductor package 400.

図5に示す通り、ダイパッド部402の上方向の面(以下、上面という)には、半導体チップ404が接着部材403を介して接着される。半導体チップ404の上面には、半導体チップ406が接着部材405を介して接着される。半導体チップ404とインナーリード部401−1とは、ボンディングワイヤ407及び409によって接続される。半導体チップ406とインナーリード部401−1とは、ボンディングワイヤ408によって接続される。封止樹脂410は、インナーリード部401−1と、ダイパッド部402と、接着部材403及び405と、半導体チップ404及び406と、ボンディングワイヤ407〜409とを覆う。なお、ボンディングワイヤの数量及び接続は、一例であり、他の数量及び接続であってもよい。   As shown in FIG. 5, a semiconductor chip 404 is bonded to an upper surface (hereinafter referred to as an upper surface) of the die pad unit 402 via an adhesive member 403. A semiconductor chip 406 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 404 via an adhesive member 405. The semiconductor chip 404 and the inner lead part 401-1 are connected by bonding wires 407 and 409. The semiconductor chip 406 and the inner lead part 401-1 are connected by a bonding wire 408. The sealing resin 410 covers the inner lead part 401-1, the die pad part 402, the adhesive members 403 and 405, the semiconductor chips 404 and 406, and the bonding wires 407 to 409. In addition, the quantity and connection of a bonding wire are examples, and another quantity and connection may be sufficient.

最上層の半導体チップ406は、接着された半導体チップ404よりも小さい。より詳しくは、最上層の半導体チップ406の幅Aは、半導体チップ406が接着された半導体チップ404の幅Bよりも小さい。図5には、一例として、幅Aが幅Bの4分の1程度の場合を示している。また、半導体チップ406に接続されるボンディングワイヤ408の長さを短くするために、最上層の半導体チップ406は、半導体チップ404の中央(図5では、当該中央は破線Xと一致する)から左側にずらして設置される。より詳細には、半導体チップ406の中央を通り破線Xと平行な線を破線Yとした場合、破線Yは、破線Xから左方向にずれて位置する。   The uppermost semiconductor chip 406 is smaller than the bonded semiconductor chip 404. More specifically, the width A of the uppermost semiconductor chip 406 is smaller than the width B of the semiconductor chip 404 to which the semiconductor chip 406 is bonded. FIG. 5 shows a case where the width A is about one-fourth of the width B as an example. Further, in order to shorten the length of the bonding wire 408 connected to the semiconductor chip 406, the uppermost semiconductor chip 406 is located on the left side from the center of the semiconductor chip 404 (in FIG. 5, the center coincides with the broken line X). It is installed in a staggered manner. More specifically, when a line passing through the center of the semiconductor chip 406 and parallel to the broken line X is a broken line Y, the broken line Y is shifted from the broken line X to the left.

アウターリード部401−2は、実装面490に半導体パッケージ400を据え付けることができる形状である。封止樹脂410の下方向の面(以下、下面という)は、一般に、実装面490と平行である。ダイパッド部402の下面は、封止樹脂410の下面と平行である。ダイパッド部402の上面は、ダイパッド部402の下面と平行ではなく、角度を有する。このことによって、ダイパッド部402の体積は、図5から解る通り、半導体チップ406が設置されている破線Xの左側では小さく、一方で半導体チップ406が設置されてない破線Xの右側では大きくなる。なお、半導体チップ404及び接着部材403の上面と下面とは、いずれも平行であるので、封止樹脂410の下面と半導体チップ404の上面とは、平行ではなく、角度を有することとなる。また、半導体チップ406及び接着部材405の下面と上面とは、いずれも平行である。   The outer lead portion 401-2 has a shape that allows the semiconductor package 400 to be installed on the mounting surface 490. A lower surface (hereinafter referred to as a lower surface) of the sealing resin 410 is generally parallel to the mounting surface 490. The lower surface of the die pad portion 402 is parallel to the lower surface of the sealing resin 410. The upper surface of the die pad unit 402 is not parallel to the lower surface of the die pad unit 402 and has an angle. As a result, as can be seen from FIG. 5, the volume of the die pad unit 402 is small on the left side of the broken line X where the semiconductor chip 406 is installed, and on the right side of the broken line X where the semiconductor chip 406 is not installed. Since the upper surface and the lower surface of the semiconductor chip 404 and the adhesive member 403 are both parallel, the lower surface of the sealing resin 410 and the upper surface of the semiconductor chip 404 are not parallel but have an angle. Further, the lower surface and the upper surface of the semiconductor chip 406 and the adhesive member 405 are both parallel.

ここで、ダイパッド部402と半導体チップ404及び406と接着部材403及び405とで成る積層体491(図5には参照符号を付さない)の配置位置について、説明する。積層体491は、積層体491の上方向に形成される封止樹脂α(破線を参照)の体積と積層体491の下方向に形成される封止樹脂β(破線を参照)の体積とが概ね等しくなる位置に配置される。この結果として、半導体パッケージ400においては、ダイパッド部402の下面は、インナーリード部401−1の下面よりも下方向に位置することとなる。   Here, the arrangement position of the laminated body 491 (not shown in FIG. 5) composed of the die pad portion 402, the semiconductor chips 404 and 406, and the adhesive members 403 and 405 will be described. The laminated body 491 has a volume of the sealing resin α (see the broken line) formed above the laminated body 491 and a volume of the sealing resin β (see the broken line) formed below the laminated body 491. It arrange | positions in the position which becomes substantially equal. As a result, in the semiconductor package 400, the lower surface of the die pad portion 402 is positioned below the lower surface of the inner lead portion 401-1.

以上に説明した構成とすることによって、第3の実施形態に係る半導体パッケージ400は、図5に示す通り、封止樹脂410の左右方向及び上下方向の樹脂分布の偏りを低減することができる。このことによって、第3の実施形態に係る半導体パッケージ400は、従来の半導体パッケージ950(図13を参照)と異なり、ダミー半導体チップを設置することによって部品点数を増加させず、また、半導体パッケージの反り、特に、ねじれを伴った反りを低減することができる。また、第3の実施形態に係る半導体パッケージ400は、ダミー半導体チップを設置することで生じる、半導体チップ上面の応力集中を回避できる。   With the configuration described above, the semiconductor package 400 according to the third embodiment can reduce the unevenness of the resin distribution in the horizontal direction and the vertical direction of the sealing resin 410 as shown in FIG. Thus, unlike the conventional semiconductor package 950 (see FIG. 13), the semiconductor package 400 according to the third embodiment does not increase the number of parts by installing dummy semiconductor chips, and the semiconductor package 400 Warpage, in particular, warpage accompanied by twisting can be reduced. Further, the semiconductor package 400 according to the third embodiment can avoid stress concentration on the upper surface of the semiconductor chip, which is caused by installing the dummy semiconductor chip.

なお、積層体491の形状等に影響されるが、一般に、積層体491は、既に説明した通り、封止樹脂αの体積と封止樹脂βの体積とが等しくなる位置に配置されるのが最も好ましい。そして、封止樹脂αの体積と封止樹脂βの体積とが等しくなる位置に、積層体491の配置位置が近づく程に、封止樹脂410の上下方向の樹脂分布の偏りを低減することができる。   In addition, although it is influenced by the shape of the laminated body 491 etc., generally the laminated body 491 is arrange | positioned in the position where the volume of sealing resin (alpha) and the volume of sealing resin (beta) become equal as already demonstrated. Most preferred. Then, as the arrangement position of the laminate 491 approaches the position where the volume of the sealing resin α and the volume of the sealing resin β are equal, the deviation in the vertical resin distribution of the sealing resin 410 can be reduced. it can.

また、第1の実施形態で説明した下面と上面とが角度を有する半導体チップ104(図1を参照)を、半導体パッケージ400に適用してもよい。また、第2の実施形態で説明した下面と上面とが角度を有する接着部材214及び207等(図2〜図4を参照)を、半導体パッケージ400に適用してもよい。また、第1の実施形態の半導体チップ104及び第2の実施形態の接着部材214及び207等を半導体パッケージ400に適用してもよい。図6は、下面と上面とが角度を有する半導体チップ及び接着部材を半導体パッケージ400に適用した半導体パッケージ400−1の構成例を示す断面図である。図6に示す通り、半導体パッケージ400−1は、下面と上面とが角度を有する半導体チップ431と接着部材430及び432とを備える。接着部材432は、桁433を含む。   In addition, the semiconductor chip 104 (see FIG. 1) having an angle between the lower surface and the upper surface described in the first embodiment may be applied to the semiconductor package 400. In addition, the adhesive members 214 and 207 (see FIGS. 2 to 4) having an angle between the lower surface and the upper surface described in the second embodiment may be applied to the semiconductor package 400. Further, the semiconductor chip 104 of the first embodiment and the adhesive members 214 and 207 of the second embodiment may be applied to the semiconductor package 400. FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a semiconductor package 400-1 in which a semiconductor chip and an adhesive member having an angle between the lower surface and the upper surface are applied to the semiconductor package 400. As shown in FIG. 6, the semiconductor package 400-1 includes a semiconductor chip 431 and adhesive members 430 and 432 having an angle between the lower surface and the upper surface. The adhesive member 432 includes a girder 433.

また、下面と上面とが角度を有する半導体チップ及び/又は下面と上面とが角度を有する接着部材を備える場合には、半導体パッケージ400−1は、ダイパッド部402の代わりに、下面と上面とが平行であるダイパッド部434を備えてもよい。図7は、図6の半導体パッケージ400−1において、ダイパッド部402を、下面と上面とが平行であるダイパッド部434に置き換えた半導体パッケージ400−2の構成例を示す断面図である。   When the semiconductor chip 400-1 includes a semiconductor chip having an angle between the lower surface and the upper surface and / or an adhesive member having an angle between the lower surface and the upper surface, the semiconductor package 400-1 has a lower surface and an upper surface instead of the die pad portion 402. You may provide the die pad part 434 which is parallel. FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a semiconductor package 400-2 in which the die pad portion 402 is replaced with a die pad portion 434 whose bottom surface and top surface are parallel to each other in the semiconductor package 400-1 of FIG.

また、第3の実施形態では、最上層の半導体チップを除く半導体チップ、最上層の半導体チップを接着する接着部材を除く接着部材、ダイパッド部のうちの少なくとも1つが、下面と上面との間に角度を持つ形状である場合を説明した。しかし、最上層の半導体チップを除く半導体チップ、最上層の半導体チップを接着する接着部材を除く接着部材、ダイパッド部の全てが、下面と上面とが平行である形状であってもよい。図8は、半導体パッケージ400(図5を参照)において、ダイパッド部406を、下面と上面とが平行であるダイパッド部434に置き換えた半導体パッケージ400−3の構成例を示す断面図である。図8に示す通り、半導体パッケージ400−3は、ダイパッド部434の下面が封止樹脂410に下面と角度を有する。また、半導体パッケージ400−3は、半導体パッケージ400と同様に、封止樹脂αの体積と封止樹脂βの体積とが概ね等しくなる位置に配置される。このことによって、半導体パッケージ400−3は、封止樹脂410の左右方向及び上下方向の樹脂分布の偏りを低減することができる。なお、図5の半導体パッケージ400は、図8の半導体パッケージ400−3よりも、封止樹脂410の樹脂分布の偏りを低減できる。   Further, in the third embodiment, at least one of the semiconductor chip excluding the uppermost semiconductor chip, the adhesive member excluding the adhesive member that adheres the uppermost semiconductor chip, and the die pad portion is provided between the lower surface and the upper surface. The case where the shape has an angle has been described. However, all of the semiconductor chip excluding the uppermost semiconductor chip, the adhesive member excluding the adhesive member for adhering the uppermost semiconductor chip, and the die pad portion may have a shape in which the lower surface and the upper surface are parallel. FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a semiconductor package 400-3 in which the die pad portion 406 is replaced with a die pad portion 434 whose bottom surface and top surface are parallel in the semiconductor package 400 (see FIG. 5). As shown in FIG. 8, in the semiconductor package 400-3, the lower surface of the die pad portion 434 has an angle with the lower surface of the sealing resin 410. Similarly to the semiconductor package 400, the semiconductor package 400-3 is disposed at a position where the volume of the sealing resin α and the volume of the sealing resin β are approximately equal. Thereby, the semiconductor package 400-3 can reduce the unevenness of the resin distribution in the horizontal direction and the vertical direction of the sealing resin 410. Note that the semiconductor package 400 of FIG. 5 can reduce the uneven distribution of the resin distribution of the sealing resin 410 as compared to the semiconductor package 400-3 of FIG.

また、第3の実施形態では、一例として、最上層の半導体チップ406は、半導体チップ404、431の中央から左側にずらして設置される場合について説明した。しかし、最上層の半導体チップ406は、半導体チップ404、431の中心から右側にずらして設置されてもよい。この場合には、半導体チップ404、431の上面は、右方向に行く程に封止樹脂410の下面から遠ざかる状態で、封止樹脂410の下面と角度を有することとなる。   In the third embodiment, as an example, the case where the uppermost semiconductor chip 406 is shifted from the center of the semiconductor chips 404 and 431 to the left side has been described. However, the uppermost semiconductor chip 406 may be shifted from the center of the semiconductor chips 404 and 431 to the right. In this case, the upper surfaces of the semiconductor chips 404 and 431 have an angle with the lower surface of the sealing resin 410 in a state in which the upper surfaces of the semiconductor chips 404 and 431 are farther away from the lower surface of the sealing resin 410 in the right direction.

また、第3の実施形態では、半導体チップの積層数が2個の場合について説明した。しかし、半導体チップの積層数は、2個以上であればよい。   In the third embodiment, the case where the number of stacked semiconductor chips is two has been described. However, the number of stacked semiconductor chips may be two or more.

本発明は、半導体チップを積層した構造の半導体チップ積層型の半導体装置等に利用可能であり、特に、樹脂封止領域内の封止樹脂と半導体チップとの分布の偏りを低減することによって半導体パッケージの反りを低減する場合等に有用である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for a semiconductor device having a structure in which semiconductor chips are stacked, and particularly, a semiconductor by reducing the uneven distribution of a sealing resin and a semiconductor chip in a resin sealing region. This is useful for reducing package warpage.

本発明の第1の実施形態に係る半導体パッケージ100の構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the semiconductor package 100 which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る半導体パッケージ200の構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the semiconductor package 200 which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 桁を設けて接着部材を形成する場合の、本発明の第2の実施形態に係る半導体パッケージ200−1の構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the semiconductor package 200-1 which concerns on the 2nd Embodiment of this invention when providing a girder and forming an adhesive member 半導体チップ及び接着部材の下面と上面とにそれぞれ角度を持たせた場合の、本発明の第2の実施形態に係る半導体パッケージ300の構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the semiconductor package 300 which concerns on the 2nd Embodiment of this invention when the angle is given to the lower surface and upper surface of a semiconductor chip and an adhesive member, respectively. 本発明の第3の実施形態に係る半導体パッケージ400の構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the semiconductor package 400 which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 下面と上面とが角度を有する半導体チップ及び接着部材を、半導体パッケージ400に適用した本発明の第3の実施形態に係る半導体パッケージ400−1の構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the semiconductor package 400-1 which concerns on the 3rd Embodiment of this invention which applied the semiconductor chip and adhesive member in which a lower surface and an upper surface have an angle to the semiconductor package 400 図6の半導体パッケージ400−1において、ダイパッド部402を、下面と上面とが平行であるダイパッド部434に置き換えた本発明の第3の実施形態に係る半導体パッケージ400−2の構成例を示す断面図6 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of a semiconductor package 400-2 according to the third embodiment of the present invention in which the die pad portion 402 is replaced with a die pad portion 434 whose bottom surface and top surface are parallel in the semiconductor package 400-1 of FIG. Figure 半導体パッケージ400において、ダイパッド部406を、下面と上面とが平行であるダイパッド部434に置き換えた本発明の第3の実施形態に係る半導体パッケージ400−3の構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the semiconductor package 400-3 based on the 3rd Embodiment of this invention which replaced the die pad part 406 in the semiconductor package 400 with the die pad part 434 whose lower surface and upper surface are parallel. 従来の半導体チップ積層型の半導体パッケージ800を示す断面図Sectional drawing which shows the conventional semiconductor chip lamination type semiconductor package 800 図9に示す半導体パッケージ800に対して、最上層の半導体チップ805の設置位置を半導体パッケージの中心からずらした従来の半導体パッケージ820を示す断面図9 is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor package 820 in which the installation position of the uppermost semiconductor chip 805 is shifted from the center of the semiconductor package with respect to the semiconductor package 800 shown in FIG. 特許文献1に記載された従来の半導体パッケージ850を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the conventional semiconductor package 850 described in patent document 1 従来の半導体チップ積層型の半導体パッケージ900を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the conventional semiconductor chip laminated | stacked semiconductor package 900 半導体パッケージ900に特許文献2の技術を適用した従来の半導体パッケージ950を示す断面図Sectional drawing which shows the conventional semiconductor package 950 which applied the technique of patent document 2 to the semiconductor package 900

符号の説明Explanation of symbols

100、200、200−1、300、400、400−1、400−2、400−3、800、820、850、900、950 半導体パッケージ
101、801 はんだボール
102、802 配線基板
103、104、105、203〜205、404、406、431、803〜805、902、903 半導体チップ
106〜108、203、207、208、214、403、405、430、432、806〜808、904、905 接着部材
109〜112、209〜212、407〜409、809〜812、906〜908 ボンディングワイヤ
113、213、410、813、909 封止樹脂
270、280、433 桁
401 リード部
402、434 ダイパッド部
401−1 インナーリード部
401−2 アウターリード部
411、901 リードフレーム
490 実装面
491 積層体
851、910、911 ダミー半導体チップ
100, 200, 200-1, 300, 400, 400-1, 400-2, 400-3, 800, 820, 850, 900, 950 Semiconductor package 101, 801 Solder ball 102, 802 Wiring substrate 103, 104, 105 , 203 to 205, 404, 406, 431, 803 to 805, 902, 903 Semiconductor chip 106 to 108, 203, 207, 208, 214, 403, 405, 430, 432, 806 to 808, 904, 905 Adhesive member 109 -112, 209-212, 407-409, 809-812, 906-908 Bonding wire 113, 213, 410, 813, 909 Sealing resin 270, 280, 433 Digit 401 Lead part 402, 434 Die pad part 401-1 Inner Lead part 401-2 Tarido portion 411,901 lead frame 490 mounting surface 491 laminate 851,910,911 dummy semiconductor chip

Claims (11)

半導体チップ積層型の半導体装置であって、
配線基板と、
前記配線基板の上面に積層される複数の半導体チップと、
前記半導体チップ同士又は、前記半導体チップと前記配線基板とを接着する複数の接着部材と、
前記配線基板の上面に形成され、前記複数の半導体チップと前記複数の接着部材とを覆う封止樹脂とを備え、
前記複数の半導体チップのうち最上層の第1層半導体チップの幅は、当該第1層半導体チップが接着される第2層半導体チップの幅より小さく、
前記第2層半導体チップの上面は、前記配線基板の上面と角度を有し、
前記第1層半導体チップの中央は、前記第2層半導体チップの中央に対して、前記第2層半導体チップの上面から前記配線基板の上面までの厚さが薄くなる方向にずれて位置することを特徴とする、半導体装置。
A semiconductor device of a semiconductor chip stacking type,
A wiring board;
A plurality of semiconductor chips stacked on the upper surface of the wiring board;
A plurality of adhesive members for bonding the semiconductor chips or the semiconductor chip and the wiring board,
A sealing resin formed on an upper surface of the wiring board and covering the plurality of semiconductor chips and the plurality of adhesive members;
The width of the uppermost first layer semiconductor chip among the plurality of semiconductor chips is smaller than the width of the second layer semiconductor chip to which the first layer semiconductor chip is bonded.
The upper surface of the second layer semiconductor chip has an angle with the upper surface of the wiring board,
The center of the first layer semiconductor chip is shifted from the center of the second layer semiconductor chip in a direction in which the thickness from the upper surface of the second layer semiconductor chip to the upper surface of the wiring board becomes thinner. A semiconductor device characterized by the above.
前記第1層半導体チップを除く前記複数の半導体チップの少なくとも1つの上面と下面とは、平行でないことを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein an upper surface and a lower surface of at least one of the plurality of semiconductor chips excluding the first layer semiconductor chip are not parallel to each other. 前記第1層半導体チップと前記第2層半導体チップとを接着する接着部材を除く前記複数の接着部材の少なくとも1つの上面と下面とは、平行でないことを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置。   2. The upper surface and the lower surface of at least one of the plurality of adhesive members excluding an adhesive member that bonds the first layer semiconductor chip and the second layer semiconductor chip are not parallel to each other. Semiconductor device. 上面と下面とが平行でない前記接着部材の少なくとも1つには、接着工程において、硬化前の当該接着部材よりも硬い材質から成る桁が入れ込まれることを特徴とする、請求項3に記載の半導体装置。   The girder made of a material harder than the adhesive member before curing is inserted in at least one of the adhesive members whose upper surface and lower surface are not parallel to each other in the bonding step. Semiconductor device. 半導体チップ積層型の半導体装置であって、
リード部とダイパッド部とで構成されるリードフレームと、
前記ダイパッド部の上面に積層される複数の半導体チップと、
前記半導体チップ同士又は、前記半導体チップと前記ダイパッド部とを接着する複数の接着部材と、
前記リード部の一部と前記ダイパッド部と前記複数の半導体チップと前記複数の接着部材とを覆う封止樹脂とを備え、
前記複数の半導体チップのうち最上層の第1層半導体チップの幅は、当該第1層半導体チップが接着される第2層半導体チップの幅より小さく、
前記第2層半導体チップの上面は、前記封止樹脂の下面と角度を有し、
前記第1層半導体チップの中央は、前記第2層半導体チップの中央に対して、前記第2層半導体チップの上面から前記封止樹脂の下面までの厚さが薄くなる方向にずれて位置することを特徴とする、半導体装置。
A semiconductor device of a semiconductor chip stacking type,
A lead frame composed of a lead portion and a die pad portion;
A plurality of semiconductor chips stacked on the upper surface of the die pad portion;
A plurality of adhesive members for bonding the semiconductor chips or the semiconductor chip and the die pad part,
A sealing resin that covers a part of the lead part, the die pad part, the plurality of semiconductor chips, and the plurality of adhesive members;
The width of the uppermost first layer semiconductor chip among the plurality of semiconductor chips is smaller than the width of the second layer semiconductor chip to which the first layer semiconductor chip is bonded.
The upper surface of the second layer semiconductor chip has an angle with the lower surface of the sealing resin,
The center of the first layer semiconductor chip is shifted from the center of the second layer semiconductor chip in a direction in which the thickness from the upper surface of the second layer semiconductor chip to the lower surface of the sealing resin is reduced. A semiconductor device.
前記第1層半導体チップを除く前記複数の半導体チップの少なくとも1つの上面と下面とは、平行でないことを特徴とする、請求項5に記載の半導体装置。   6. The semiconductor device according to claim 5, wherein an upper surface and a lower surface of at least one of the plurality of semiconductor chips excluding the first layer semiconductor chip are not parallel to each other. 前記第1層半導体チップと前記第2層半導体チップとを接着する接着部材を除く前記複数の接着部材の少なくとも1つの上面と下面とは、平行でないことを特徴とする、請求項5に記載の半導体装置。   The upper surface and the lower surface of at least one of the plurality of adhesive members excluding an adhesive member that bonds the first layer semiconductor chip and the second layer semiconductor chip are not parallel to each other. Semiconductor device. 上面と下面とが平行でない前記接着部材の少なくとも1つには、接着工程において、硬化前の当該接着部材よりも硬い材質から成る桁が入れ込まれることを特徴とする、請求項7に記載の半導体装置。   The girder made of a material harder than the adhesive member before curing is inserted into at least one of the adhesive members whose upper surface and lower surface are not parallel in the bonding step. Semiconductor device. 前記ダイパッド部の上面と下面とは平行でないことを特徴とする、請求項5に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 5, wherein an upper surface and a lower surface of the die pad portion are not parallel. 前記第1層半導体チップを除く前記複数の半導体チップ、前記第1層半導体チップと前記第2層半導体チップとを接着する接着部材を除く前記複数の接着部材、及び前記ダイパッド部の上面と下面とは、それぞれ平行であることを特徴とする、請求項5に記載の半導体装置。   A plurality of semiconductor chips excluding the first layer semiconductor chip; a plurality of adhesive members excluding an adhesive member that bonds the first layer semiconductor chip and the second layer semiconductor chip; and upper and lower surfaces of the die pad portion; The semiconductor devices according to claim 5, wherein each is parallel to each other. 前記ダイパッド部と前記複数の半導体チップと前記複数の接着部材とで成る積層体の上方に形成される封止樹脂量と下方に形成される封止樹脂量とが等しくなる方向に、当該積層体をずらして配置したことを特徴とする、請求項5に記載の半導体装置。   The laminated body in a direction in which the amount of sealing resin formed above and the amount of sealing resin formed below is equal to the laminated body composed of the die pad portion, the plurality of semiconductor chips, and the plurality of adhesive members. The semiconductor device according to claim 5, wherein the semiconductor devices are arranged to be shifted from each other.
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