JP2009136716A - ガス混合装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ガスの流速を低下させることなく、混合を促進して均一に分散する。
【解決手段】ダクト11内に軸心Oと平行に配置されて混合ガスCを加速するレジューサー12と、レジューサー12の出口12oに対向して設けられた分散空間13と、分散空間13内でレジューサー12の出口12oに対向して配置されて混合ガスを外周側に分散する攪拌部材14と、分散空間13から攪拌部材14の外周部に形成された攪拌通路15を介して連通されて混合ガスCを減圧し攪拌部材14の背面側にうず流を形成する攪拌空間16とを具備し、攪拌部材14は、ダクト11の軸心位置に配置され頂部から下流側外方に傾斜する4枚の案内板14aを有する正四角錐形に形成され、攪拌通路15の開口面積を、レジューサー12の出口12oの開口面積の0.9〜1.1倍とした。
【選択図】図3

Description

本発明は、たとえば排ガス中にアンモニアガスを吹き込んで脱硝触媒に接触させ、排ガス中のNOを分解除去する排ガス脱硝装置などにおいて、排ガス中に吹き込まれたアンモニアガスを均一に混合分散させるために使用されるガス混合装置に関する。
たとえば排ガスのNOなどを除去する場合、排ガス中にアンモニアガスを吹き込んで、後段の脱硝触媒が内装された反応器に導入し、脱硝触媒により排ガス中のNOを分解除去して無害化する脱硝触媒法が実施されている。
ここで、反応器に導入される排ガス中のアンモニア濃度にムラがあると、脱硝効率が低下して、窒素酸化物が分解されずに排出されたり、あるいはアンモニアガスがそのまま排出されたりすることがあった。
このため、排ガスに吹き込んだアンモニアガスの混合を促進するガス混合装置として、たとえば特許文献1が提案されている。このガス混合装置は、還元剤供給ノズルの下流側に大径の混合室を形成し、この混合室の軸心位置に、先端部に流体を周囲に分流する導入流路形成部材を有する内壁管を配置し、内壁管の周囲に、分流された流体を流入させる複数の噴出口を形成したものである。
特開平7−227528号公報
しかしながら、上記構成では、アンモニアガスが混合された排ガスを、混合室の外周部に一旦分流して迂回させ、さらに噴出口を介して内壁管に導入するので、混合室でガスの流速が一旦低下して、排ガスに同伴されたダストなどが混合室に堆積するおそれがあった。
本発明は上記問題点を解決して、ガスに同伴されたダストなどを堆積させることなく、混合ガスの混合攪拌を促進して均一に分散させることができるガス混合装置を提供することを目的とする。
請求項1記載の発明は、ダクト内に、当該ダクトの軸心上に配置され入口から出口に流路断面積が漸次絞られて混合ガスを加速するレジューサーと、当該レジューサーの出口に対向して設けられた分散空間と、前記分散空間内でレジューサーの出口に対向して配置されて混合ガスを外周側に分散させる攪拌部材と、前記分散空間から前記攪拌部材の外周部に形成された攪拌通路を介して連通され混合ガスを減圧し前記攪拌部材の背面側にうず流を形成する混合空間とを具備し、前記攪拌部材は、ダクトの軸心上に頂部が配置され下流側外方に傾斜する案内面を有する錐形に形成され、前記攪拌通路の開口面積を、レジューサーの出口の開口面積の0.9〜1.1倍としたものである。
請求項2記載の発明は、ダクト内に、当該ダクトの軸心と平行でかつ互いに接して並設され入口から出口に流路断面積が漸次絞られて混合ガスを加速する複数のレジューサーと、当該レジューサーの出口に対向して設けられた分散空間と、当該分散空間内で各レジューサーの出口にそれぞれ対向して配置されて混合ガスを外周側に分散させる攪拌部材と、前記分散空間から前記攪拌部材の外周部に形成された攪拌通路を介して連通され混合ガスを減圧し前記攪拌部材の背面側にうず流を形成する混合空間とを具備し、前記攪拌部材は、レジューサーの軸心上に頂部が配置され下流側外方に傾斜する案内面を有する錐形に形成され、前記攪拌通路の開口断面積を、レジューサーの出口の開口面積の0.9〜1.1倍としたものである。
請求項3記載の発明は、ダクト内に、当該ダクトの軸心と平行でかつバイパス通路をあけて並設され入口から出口に流路断面積が漸次絞られて混合ガスを加速する複数のレジューサーと、当該レジューサーの出口に対向して設けられた分散空間と、当該分散空間内でレジューサーの出口にそれぞれ対向して配置されて混合ガスを外周側に分散させる攪拌部材と、前記分散空間から前記攪拌部材の外周部に形成された攪拌通路を介して連通され混合ガスを減圧し前記攪拌部材の背面側にうず流を形成する混合空間とを具備し、前記攪拌部材は、レジューサーの軸心上に頂部が配置され下流側外方に傾斜する案内面を有する錐形に形成され、前記攪拌通路を、各レジューサーの出口の開口面積の0.9〜1.1倍に、前記バイパス通路の流路断面積を加算した開口断面積としたものである。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の構成において、レジューサーの出口の開口面積/レジューサーの入口の開口面積により求められる開口率を0.2〜0.4の範囲とし、攪拌部材は、案内面が、レジューサーの軸心に垂直な面に対して頂部から下流側外方に40°〜60°の範囲で傾斜されたものである。
請求項5記載の発明は、請求項2乃至4のいずれかに記載の構成において、ダクト内で混合ガスの流速が速い部位に、レジューサーの出口の開口面積/レジューサーの入口の開口面積により求められる開口率が大きいレジューサーを配置するとともに、混合ガスの流速が遅い部位に開口率が小さいレジューサーを配置することにより、各レジューサーの出口の混合ガスの流速を均一化するように構成したものである。
請求項1記載の発明によれば、レジューサーにより混合ガスを加速して出口から分散空間に噴出させ、分散空間で錐形の攪拌部材に衝突させて外周側に分散させる。さらに混合ガスの流速を低下させることなく、攪拌部材外周の攪拌通路から混合空間に排出して急激に減圧減速し、混合空間で攪拌部材の背面側にうず流を形成させて混合ガスを効果的に攪拌混合し、均一に分散させることができる。
請求項2記載の発明によれば、大口径のダクト内に送られる混合ガスを、複数のレジューサーによりそれぞれ加速して出口から分散空間に噴出させ、分散空間で錐形の攪拌部材に衝突させて外周側に分散させる。さらに混合ガスの流速を低下させることなく、攪拌部材外周の攪拌通路から混合空間に排出して急激に減圧減速し、混合空間で攪拌部材の背面側にうず流を形成させて、大量の混合ガスを効果的に攪拌混合し均一に分散させることができる。
請求項3記載の発明によれば、大口径のダクト内に送られる混合ガスの一部をバイパス通路に流送し、残りを複数のレジューサーによりそれぞれ加速して出口から分散空間に噴出させ、分散空間で錐形の攪拌部材に衝突させて外周側に分散させる。さらに、攪拌部材外周の攪拌通路から混合空間に排出して減圧減速し、混合空間で攪拌部材の背面側にうず流を形成し、大量の混合ガスを効果的に攪拌混合して均一に分散させることができ、また混合ガスの一部をバイパス通路を通過させることで圧力損失を小さくすることができる。
請求項4記載の発明によれば、レジューサーの開口率を0.2〜0.4とすることで、圧力損失を少なくして、混合ガスを十分に加速し攪拌部材に衝突させることができる。また攪拌部材の案内面を下流側外方に40°〜60°で傾斜させることにより、分散空間内で、流路抵抗を増大させることなく、レジューサーから噴出された混合ガスを周方向に均一に分散させることができる。
請求項4記載の発明によれば、ダクト内で混合ガスの流速が異なる部位では、流速に対応してレジューサーの開口率を変化させ、出口の混合ガスの流速を均一化して攪拌部材に衝突させることにより、均一な分散と効果的な攪拌混合を実現することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1に示すように、本発明に係るガス混合装置3は、たとえば排ガス脱硝装置1に設けられるもので、排ガス脱硝装置1は、ダクト11内の排ガス(流送ガス)B中に還元剤であるアンモニアガス(添加ガス)Aを吹き込む単数または複数の注入ノズル2aを有する還元剤注入装置2と、還元剤注入装置2の下流側に配置されるガス混合装置3と、ガス混合装置3の下流側に配置されて混合ガスを脱硝触媒に接触反応させる触媒反応器4とで構成されている。
[実施の形態1]
ガス混合装置3の実施の形態1を図2〜図4を参照して説明する。
このガス混合装置3は、たとえば流路断面積が1m以下の小口径で、たとえば正方形断面の角筒形ダクト11内に、ダクト11の軸心O上に配置され入口12iから出口12oに流路断面が漸次絞られて混合ガスCを加速するレジューサー12と、レジューサー12の出口12oが開口された分散空間13と、この分散空間13内でレジューサー12の出口12oに対向して配置されて混合ガスCを分散する攪拌部材14と、攪拌部材14の外周部に形成された攪拌通路15と、攪拌部材14の背面側で分散空間13から攪拌通路15を介して連通されて混合ガスCを混合する混合空間16とを具備している。
(レジューサー)
レジューサー12は混合ガスCを加速するためのもので、開口率[出口12oの開口面積/入口12iの開口面積]が0.2〜0.4の範囲に設定されている。これは、開口率が0.2未満では、流路抵抗が大きくなって混合ガスCの圧力損失が大きくなるからであり、また開口率が0.4を越えると、混合ガスCの加速が少なく十分な流速が得られず、攪拌混合が十分に行えないからである。
またダクト11の内面に対向して配置されてレジューサー12を形成する4枚の傾斜板12aは、軸心O上の頂部から下流側外方にそれぞれテーパ角θ1で傾斜されている。ここでテーパ角θ1は、θ1=10°〜45°の範囲に設定されており、好ましくはθ1=10°〜20°の範囲である。これは、θ1=20°以下であれば、損失係数が0.1以下となって混合ガスCの圧力損失を十分に小さくできるが、θ1=10°未満となると、レジューサー22の長さL1が長くなりすぎてダクト11が長く必要となるからである。またダクト11の長さが特に短く制限される場合には、θ1=40°〜45°としても、損失係数が0.2程度とそれほど大きくならずに使用することができるが、θ1=45°を越えると流路抵抗が大きくなって混合ガスCの圧力損失が増大するからである。
(分散空間と攪拌部材)
分散空間13は、レジューサー12の出口12oに対向して設けられて出口12oから噴出される混合ガスCを、攪拌部材14に衝突させて外周部に均一に分散させる空間であり、ここではダクト11(レジューサー12の入口12i)と同一流路断面積に形成されている。
攪拌部材14は、レジューサー12の軸心O上に頂部14cが位置するように出口12oに対向して配置され、ダクト11の4つの内面にそれぞれ対向して、頂部14cから下流側外方に傾斜する4枚の案内板(案内面)14aにより形成されている。これら案内板14aは、レジューサー12の出口12oから噴出される混合ガスCに、軸心O方向の速度成分Fy1に対して、軸心Oに直角な面上の速度成分Fxを付与するもので、速度成分Fx1が大きいほど混合効果が大きくなる。ここでは、Fy1:Fx1=1:1となるように、軸心Oに垂直な面に対する案内板14aの傾斜角α1を45°に設定しており、この傾斜角α1はα1=40°〜60°の範囲が好適である。これはα1が40°未満になると流路抵抗が大きくなりすぎるからであり、また傾斜角α1が60°を越えて大きくなると、攪拌混合効果が小さくなり、ダクト11の占有容積が増加するからである。
また、レジューサー12の出口12oから攪拌部材14までの距離D1は、レジューサー12の開口率により異なり、開口率が0.20以上、0.25未満における距離D1が、レジューサー12の出口12oの開口幅E1×(2/3〜3)の範囲に設定される。また開口率が0.25以上、0.35未満における距離D1が、レジューサー12の出口12oの開口幅E1×(1/2〜2)の範囲に設定され、さらに開口率が0.35以上、0.40以下における距離D1が、レジューサー12の出口12oの開口幅E1×(1/3〜3/2)の範囲に設定されている。
これは、開口率が0.20以上、0.25未満で、距離D1が開口幅E1×2/3未満、または開口率が0.25以上、0.35未満で、距離D1が開口幅E1×1/2未満、あるいは開口率が0.35以上、0.40以下で、距離D1が開口幅E1×1/3未満とすると、出口12oから攪拌部材14までの距離が接近し過ぎて流路抵抗が大きくなり混合ガスCの圧力損失が大きくなるからである。また開口率が0.20以上、0.25未満で、距離D1が開口幅E1×3を越え、または開口率が0.25以上、0.35未満で、距離D1が開口幅E1×2を越え、あるいは開口率が0.35以上、0.40以下で、距離D1が開口幅E1×3/2を越えると、出口12oから攪拌部材14までの距離が離れ過ぎて、混合ガスCが攪拌部材14に衝突する十分な流速が得られず、攪拌混合が十分に行えないからである。
(攪拌通路)
攪拌部材14の外周部には、ダクト11内面との間に一定の間隙dに形成された攪拌通路15が設けられており、この攪拌通路15の開口面積St1は、レジューサー12の出口12oの開口面積So1とほぼ等しいSt1≒So1に設定され、攪拌通路15の開口面積St1は、St1=So1×0.9〜1.1の範囲となる。これにより、分散空間13において混合ガスCを外周部に均等に分散して、流速を低下させることなく、攪拌通路15から混合通路16に噴出させることができ、排ガスBに同伴されたダストが分散空間13に堆積するのを防止することができる。
(混合空間)
攪拌部材14の背面側に形成された混合空間16に攪拌通路15が開口されて、ダクト11(レジューサー12の入口12i)と同一流路断面積に形成されている。そして攪拌通路15から噴出された高速の混合ガスCを、ダクト11の内面に衝突させるとともに急激に減圧減速し、さらに攪拌部材14の背面側に多数のうず流を形成させ、効果的に攪拌混合するように構成されている。
(作用)
上記構成において、ダクト11内に送られる排ガスB中に、注入ノズル2aからアンモニアガスAが吹き込まれ、この混合ガスCがガス混合装置3に送られる。ガス混合装置3では、混合ガスCがレジューサー12に導入されて加速され、出口12oから分散空間13に噴出される。そして混合ガスCが攪拌部材14の案内板14aに衝突して四方に均一に分散され、これら分散流が、速度が低下されることなく攪拌通路15に送られる。またこの分散空間13の前部では、分散流の傍流として混合ガスCのうず流が形成されて混合が促進される。さらに攪拌通路15から混合空間16に噴出された混合ガスは、ダクト11の内面に衝突されるとともに急激に減圧減速され、さらに攪拌部材14の背面側に回り込むうず流を多数形成し、これにより混合ガスCがさらに効果的に混合攪拌されて、排ガスB中にアンモニアガスAが均一に分散される。
(効果)
上記実施の形態1によれば、混合ガスCをレジューサー12に導入して加速し、出口12oから分散空間13に噴出させて錐形の攪拌部材14に衝突させることにより、混合ガスCを外周側に分散させて攪拌し、さらに攪拌部材14の外周部に形成された攪拌通路15から混合空間16に噴出させることにより、急激に減圧減速して攪拌部材14の背面側に回り込むうず流を多数形成させ、混合ガスCを効果的に攪拌混合して、アンモニアガスAを排ガスB中に均一に分散させることができる。また、混合ガスCを高速で攪拌混合できることから、排ガスに同伴されたダストなどの堆積を未然に防止することができる。
(変形例1および2)
実施の形態1では、直状(同一流路断面積)の角筒状ダクト11内にガス混合装置3を設置したが、図5に示すように、ダクト11を形成する外壁板を折り曲げて、レジューサー12’を形成し、レジューサー12’の出口12oから外周側に垂直に広がる端板13aを取り付けて分散空間13’を形成することもできる。
また図6に示すように、円筒形ダクト11”では、円錐形のレジューサー12”と円錐形の攪拌部材14”とを設けて同様に構成することにより、同一の作用効果を奏することができる。これら図5および図6には実施の形態1と同一の作用効果を奏する部材には、同一符号を付して説明を省略する。
[実施の形態2]
流路断面積が1mを越える大口径のダクトに設置されるガス混合装置を図7〜図9を参照して説明する。
大口径で矩形断面のダクト21には、アンモニアガスAを吹き込む注入ノズル2bが所定間隔をあけて複数本横断方向に並設され、各注入ノズル2bの背面に複数の吹込み孔がそれぞれ穿設されている。
このダクト21内を上下方向に3等分、左右方向に2等分して6つの空間部を区画し、各空間部にそれぞれ実施の形態1と同一構造のガス混合装置20を配置している。
このガス混合装置20は、各空間部内に、ダクト21の軸心Oと平行に配置されて入口22iから出口22oに流路断面が漸次絞られて混合ガスCを加速する複数のレジューサー22と、各レジューサー22の出口22oが開口された分散空間23と、この分散空間23内で各レジューサー22の出口22oにそれぞれ対向して配置されて混合ガスCを外周側に分散する攪拌部材24と、各攪拌部材24の外周部にそれぞれ形成された攪拌通路25と、攪拌通路25から噴出された混合ガスCを減圧減速して攪拌部材24の背面側に多数のうず流を形成し攪拌混合する混合空間26とを具備している。
(レジューサー)
ダクト21内に、ダクト21の軸心Oと平行で同一構造の6個のレジューサー22が、ダクト21内面に入口22iが接するとともに、入口22iが互いに接するように配設されている。各レジューサー22は混合ガスCを加速するためのもので、開口率[出口22oの開口面積/入口22iの開口面積]が0.2〜0.4の範囲に設定されている。これは、開口率が0.2未満では、流路抵抗が大きくなって混合ガスCの圧力損失が大きくなるからであり、また開口率が40%を越えると、混合ガスCの加速が少なく十分な流速が得られないために、攪拌混合効果が十分に得られないからである。
またレジューサー22を形成する4枚の傾斜板22aの軸心Oに対するテーパ角θ2は、θ2=10°〜45°の範囲とされ、好ましくはθ2=10°〜20°の範囲に設定されている。これはθ2=20°以下であると、損失係数が0.1以下となって圧力損失を十分に小さくできるが、θ2=10°未満となると、レジューサー22の長さL2が長くなりすぎてダクト21が長く必要となるからである。またダクト21の長さが制限される場合には、θ2=40°〜45°としても、損失係数が0.2程度とそれほど大きくならず、使用可能な範囲となるが、θ2=45°を越えると流路抵抗が大きくなって混合ガスCの圧力損失が増大するからである。
(分散空間と攪拌部材)
分散空間23は、各レジューサー22の出口22oからそれぞれ噴出される混合ガスCを、攪拌部材24に衝突させて外周部に均一に分散させる空間であって、ダクト21(レジューサー22の入口22i)と同一流路断面積に形成されている。
各攪拌部材24は、各レジューサー22の軸心O上に頂部24cが位置するように出口22oに対向してそれぞれ配置され、支持部材24bを介してダクト21内に支持されている。そしてダクト21の4つの内面にそれぞれ対向して、頂部24cから下流側外方に傾斜する4枚の案内板(案内面)24aがそれぞれ設けられている。これら案内板24aは、レジューサー22の出口22oから噴出される混合ガスCに、軸心O方向の速度成分Fy2に対して、軸心Oに直角な面上の速度成分Fx2を付与するもので、速度成分Fx2が大きいほど混合効果が大きくなる。ここでは、速度成分Fy2:速度成分Fx2=1:1となるように、案内板24aの軸心Oに垂直な面に対する傾斜角α2を、α2=45°に設定しており、α2=40°〜60°の範囲に好適である。これはα2=40°未満なると流路抵抗が大きくなりすぎるからであり、α2=60°を越えて大きくなると、攪拌混合効果が小さくなるからである。
また、レジューサー12の出口12oから攪拌部材14までの距離D2は、レジューサー12の開口率により異なり、開口率が0.20以上、0.25未満における距離D2が、レジューサー12の出口12oの開口幅E2×(2/3〜3)の範囲に設定される。また開口率が0.25以上、0.35未満における距離D2が、レジューサー12の出口12oの開口幅E2×(1/2〜2)の範囲に設定され、さらに開口率が0.35以上、0.40以下における距離D2が、レジューサー12の出口12oの開口幅E2×(1/3〜3/2)の範囲に設定されている。
これは、開口率が0.20以上、0.25未満で、距離D2が開口幅E2×2/3未満、または開口率が0.25以上、0.35未満で、距離D2が開口幅E2×1/2未満、あるいは開口率が0.35以上、0.40以下で、距離D2が開口幅E2×1/3未満とすると、出口12oから攪拌部材14までの距離が接近し過ぎて流路抵抗が大きくなり混合ガスCの圧力損失が大きくなるからである。また開口率が0.20以上、0.25未満で、距離D2が開口幅E2×3を越え、または開口率が0.25以上、0.35未満で、距離D2が開口幅E2×2を越え、あるいは開口率が0.35以上、0.40以下で、距離D2が開口幅E2×3/2を越えると、出口12oから攪拌部材14までの距離が離れ過ぎて、混合ガスCが攪拌部材14に衝突する十分な流速が得られず、攪拌混合が十分に行えないからである。
(攪拌通路)
攪拌部材24の外周部には、ダクト21内面との間の一定の間隙d2、または攪拌部材24同士の間の一定の間隙2×d2により形成された攪拌通路25が設けられており、この攪拌通路25の全開口面積So2は、全レジューサー22の出口22oの合計開口面積St2とほぼ等しいSt2=So2×0.9〜1.1の範囲に形成されている。これにより、分散空間23における混合ガスCを、外周部に均等に分散して、流速を低下または加速させることなく、攪拌通路25から混合通路26に噴出させ、排ガスBに同伴されたダストの堆積を防止することができる。
(混合空間)
攪拌部材24の背面側で攪拌通路25が開口された混合空間26は、ダクト21と同一流路断面積に形成されている。ここでは、攪拌通路25から噴出された高速の混合ガスCを、急激に減圧減速して攪拌部材24の背面側にうず流を形成させ、効果的に混合するように構成されている。
(作用)
上記構成において、ダクト21内に送られる排ガスB中に、注入ノズル2bからアンモニアガスAが吹き込まれ、この混合ガスCがガス混合装置20に送られる。ガス混合装置20では、混合ガスCが全てレジューサー22にそれぞれ導入されて加速され、各出口22oから分散空間23に噴出される。そして混合ガスCが各攪拌部材24の案内板24aに衝突してそれぞれ四方に均一に分散され、これら分散流は速度が低下されることなく攪拌通路25に導入され、混合空間26に噴出される。また分散空間23の前部には、分散流の傍流としてうず流が形成されて混合が促進される。さらに攪拌通路25から混合空間26に噴出された混合ガスCは、急激に減圧減速されて攪拌部材24の背面側に回り込むうず流が多数形成され、混合ガスCがさらに効果的に混合攪拌されて排ガスB中にアンモニアガスAが均一に分散される。
(効果)
上記実施の形態2によれば、大口径のダクト21において、混合ガスCを複数のレジューサー22に導入して加速し、出口22oから分散空間23に噴出させて錐形の攪拌部材24にそれぞれ衝突させることにより、混合ガスCを外周側に分散させて攪拌し、さらに攪拌部材24の外周部に形成された攪拌通路25から混合空間26に噴出させることにより、急激に減圧減速されて攪拌部材24の背面側にうず流を形成させ、混合ガスCを効果的に攪拌混合して、排ガスB中にアンモニアガスAを均一に分散させることができる。
[実施の形態3]
さらに流路断面積が1mを越える大口径のダクトに設置されるガス混合装置の実施の形態3を図10〜図12を参照して説明する。なお、実施の形態2と同一部材には、同一符号を付して説明を省略する。
このガス混合装置30は、実施の形態2におけるダクト21内の圧力損失を軽減するために、ダクト31内のレジューサー22間にバイパス通路32を形成し、攪拌通路35にもバイパス通路32の幅分を拡張したものである。
すなわち、ダクト31内に支持部材22bを介して配置されたレジューサー22とダクト31の内面の間にそれぞれ幅eのバイパス通路32を形成するとともに、隣接するレジューサー22との間にそれぞれ幅eの2倍のバイパス通路32を形成している。また攪拌通路35は、ダクト31内面と攪拌部材24との間の攪拌通路35の幅d2は、実施の形態2の攪拌通路25の幅d1にバイパス通路32の幅を加算してd2=d1+eとし、また隣接する攪拌部材24間の攪拌通路35の幅d2を2倍として、d2=2(d1+e)とし、これにより、攪拌通路35の流路断面積は、レジューサー22の出口22oの開口面積×(0.9〜1.1)に、バイパス通路32の流路断面積を加算したものとなる。
上記実施の形態2によれば、レジューサー22間に形成したバイパス通路32と、十分な幅の攪拌通路35とにより、混合ガスCの圧力損失を十分に軽減することができ、またレジューサー22と攪拌部材25とにより混合ガスCを十分に攪拌混合して排ガスB中のアンモニアガスAを均一に分散させることができる。
(実施の形態2,3の変形例)
図13は実施の形態2,3の変形例を説明する縦断面図である。U字形ダクト41やエルボ形ダクトの出口側、あるいはダクト内に障害物があった場合の下流側では、ダクト41内にガス流速が早い部分と遅い部分が生じる。このダクト41に設置されるガス混合装置40は、ガス流速が遅い内径側に、開口率(出口の開口面積/入口の開口面積)を小さいレジューサー43aを配置して混合ガスCを他より加速し、ガス流速が高速となる外径側に開口率が漸次大きくなるレジューサー43b〜43dを配置して混合ガスCの加速を小さくし、各レジューサー43a〜43dの出口からそれぞれ噴出される混合ガスCをほぼ均等な流速で攪拌部材24に衝突させるように構成されている。これにより、混合ガスCの流速を均一化させて攪拌混合を効果的に促進させることができる。なお、図11は実施の形態2のガス混合装置20を適用したが、実施の形態3のガス混合装置30であってもよい。
(攪拌部材の他の実施例)
なお、図14に示すように、攪拌部材54の案内板54aを、一定間隔ごとに多数の貫通孔54bが形成されたパンチングメタルにより形成したものでもよく、多数の貫通孔54bを通過する混合ガスCにより、混合ガスCの攪拌をさらに促進することができる。
また、上記実施の形態1〜3では、正四角錐形の攪拌部材14,24,54としたが、円錐などの他の錐形としてもよい。またここで、「錐形」とは、頂部に球面や平面などの頭部を有する截頭錐形を含むものとする。
(レジューサーの他の実施例)
図15(a)〜(c)に示すように、レジューサー52A〜52Cの傾斜板52a,52c,52eの内面に混合ガスCを攪拌する混合部材を取り付けたり、混合形状に形成して混合を促進することもできる。(a)は傾斜板52aをプレス加工などにより凹凸部52b(混合形状)を形成したレジューサー52Aであり、(b)は傾斜板52cの内面に平面状または曲面状の混合板52d(混合部材)を取り付けたレジューサー52Bであり、(c)は傾斜板52eの内面に多数の突起物52f(混合部材)を取り付けたレジューサー52Cである。
(大口径の円筒形ダクト用の他の実施例)
図16および図17に示すように、流路断面積が1mを越える大口径の円筒形ダクト51の場合、円形断面にレジューサー22と混合部材25とを複数組並設することにより構成することができる。たとえば円筒形ダクト51内に、実施の形態2のガス混合装置20や、実施の形態3のガス混合装置30をそれぞれ必要組数配置すれば、実施の形態2および3と同様の作用効果を奏することができる。
本発明に係るガス混合装置を備えた排ガス脱硝装置を示す構成図である。 ガス混合装置の実施の形態1を示す斜視図である。 ガス混合装置を説明する縦断面図である。 ガス混合装置を示し、(a)は図3に示すa−a端面図、(b)は図3に示すb−b端面図、(c)は図3に示すc−c断面図である。 ガス混合装置の実施の形態1で、ダクトを変形した変形例1を示す縦断面図である。 ガス混合装置を円筒形ダクトに設けた変形例2を示す斜視図である。 実施の形態2のガス混合装置を示す縦断面図である。 ガス混合装置を示す斜視図である。 ガス混合装置を示し、(a)は正面図、(b)は背面図である。 本発明に係る排ガス脱硝装置の実施の形態3を示す概略構成図である。 ガス混合装置の斜視図である。 ガス混合装置を示し、(a)は正面図、(b)は背面図である。 実施の形態2,3の変形例を示し、ガス混合装置の縦断面図である。 混合部材の他の実施の形態を示す正面図である。 レジューサーの他の実施の形態を示す縦断面図で、(a)は傾斜板を凹凸状に形成したもの、(b)は傾斜板の内面に混合板を取り付けたもの、(c)は傾斜板の内面に多数の突起物を取り付けたものである。 大口径の円筒形ダクトに実施の形態2のガス混合装置の一部を設けた変形例3を示す斜視図である。 大口径の円筒形ダクトに実施の形態3のガス混合装置の一部を設けた変形例4を示す斜視図である。
符号の説明
A アンモニアガス
B 排ガス
C 混合ガス
1 排ガス脱硝装置
2 還元剤注入装置
3 ガス混合装置
4 触媒反応器
11 ダクト
12 レジューサー
12i 入口
12o 出口
13 分散空間
14 攪拌部材
14a 案内板
14b 支持部材
14c 頂部
15 攪拌通路
16 混合空間
20 ガス混合装置
21 ダクト
23 分散空間
24 攪拌部材
25 攪拌通路
30 ガス混合装置
31 ダクト
32 バイパス通路
35 攪拌通路
40 ガス混合装置
41 U字形ダクト
43a〜43d レジューサー

Claims (5)

  1. ダクト内に、当該ダクトの軸心上に配置され入口から出口に流路断面積が漸次絞られて混合ガスを加速するレジューサーと、当該レジューサーの出口に対向して設けられた分散空間と、前記分散空間内でレジューサーの出口に対向して配置されて混合ガスを外周側に分散させる攪拌部材と、前記分散空間から前記攪拌部材の外周部に形成された攪拌通路を介して連通され混合ガスを減圧し前記攪拌部材の背面側にうず流を形成する混合空間とを具備し、
    前記攪拌部材は、ダクトの軸心上に頂部が配置され下流側外方に傾斜する案内面を有する錐形に形成され、
    前記攪拌通路の開口面積を、レジューサーの出口の開口面積の0.9〜1.1倍とした
    ことを特徴とするガス混合装置。
  2. ダクト内に、当該ダクトの軸心と平行でかつ互いに接して並設され入口から出口に流路断面積が漸次絞られて混合ガスを加速する複数のレジューサーと、当該レジューサーの出口に対向して設けられた分散空間と、当該分散空間内で各レジューサーの出口にそれぞれ対向して配置されて混合ガスを外周側に分散させる攪拌部材と、前記分散空間から前記攪拌部材の外周部に形成された攪拌通路を介して連通され混合ガスを減圧し前記攪拌部材の背面側にうず流を形成する混合空間とを具備し、
    前記攪拌部材は、レジューサーの軸心上に頂部が配置され下流側外方に傾斜する案内面を有する錐形に形成され、
    前記攪拌通路の開口断面積を、レジューサーの出口の開口面積の0.9〜1.1倍とした
    ことを特徴とするガス混合装置。
  3. ダクト内に、当該ダクトの軸心と平行でかつバイパス通路をあけて並設され入口から出口に流路断面積が漸次絞られて混合ガスを加速する複数のレジューサーと、当該レジューサーの出口に対向して設けられた分散空間と、当該分散空間内でレジューサーの出口にそれぞれ対向して配置されて混合ガスを外周側に分散させる攪拌部材と、前記分散空間から前記攪拌部材の外周部に形成された攪拌通路を介して連通され混合ガスを減圧し前記攪拌部材の背面側にうず流を形成する混合空間とを具備し、
    前記攪拌部材は、レジューサーの軸心上に頂部が配置され下流側外方に傾斜する案内面を有する錐形に形成され、
    前記攪拌通路を、各レジューサーの出口の開口面積の0.9〜1.1倍に、前記バイパス通路の流路断面積を加算した開口断面積とした
    ことを特徴とするガス混合装置。
  4. レジューサーの出口の開口面積/レジューサーの入口の開口面積により求められる開口率を0.2〜0.4の範囲とし、
    攪拌部材は、案内面が、レジューサーの軸心に垂直な面に対して頂部から下流側外方に40°〜60°の範囲で傾斜された
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のガス混合装置。
  5. ダクト内で混合ガスの流速が速い部位に、レジューサーの出口の開口面積/レジューサーの入口の開口面積により求められる開口率が大きいレジューサーを配置するとともに、混合ガスの流速が遅い部位に開口率が小さいレジューサーを配置することにより、各レジューサーの出口の混合ガスの流速を均一化するように構成した
    ことを特徴とする請求項2乃至4のいずれかに記載のガス混合装置。
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