JP2009133949A - Front filter for plasma display and plasma display using the same - Google Patents

Front filter for plasma display and plasma display using the same Download PDF

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Yasuko Sone
康子 曽根
Setsuko Fukuhara
世津子 福原
Nobuhiko Ichikawa
信彦 市川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a front filter for plasma display, which has preferable transparency, permits remarkable improvement of the contrast and is excellent in electromagnetic wave shielding property, and to provide a plasma display which is excellent in image quality and also can reduce a manufacturing cost. <P>SOLUTION: The front filter for plasma display is formed as a laminate provided with a transparent resin layer 3 on one side surface of a transparent film base material 2, the transparent resin layer 3 has a plurality of groove parts 4 on the surface 3a of the opposite side to the transparent film base material 2 such that the plurality of groove parts are disposed in parallel to one another, and black resin 5 and such conductive material 6 as to be located over the black resin 5 and fill the groove parts are arranged in the groove parts, wherein the black resin 5 is caused to exist so as to cover at least wall surfaces of the groove parts 4 by at least one half of the depth from the innermost part 4a of the groove parts 4. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイ用前面フィルター、特にプラズマディスプレイパネルからの電磁波の放出を防止し、かつ、コントラストを向上するための前面フィルターと、これを用いたプラズマディスプレイに関する。   The present invention relates to a front filter for a plasma display, and more particularly to a front filter for preventing emission of electromagnetic waves from a plasma display panel and improving contrast, and a plasma display using the front filter.

近年、画像表示媒体の大型化、薄型化に対する要求が高まり、これに対応可能な表示媒体としてプラズマディスプレイパネル(PDP)が急速に市場を伸ばしつつある。しかし、プラズマディスプレイパネルは高輝度な表示特性が得られるものの、強度の電磁波を放出し、各種の計器類や人体に対して障害を及ぼす可能性が示唆されつつある。
また、プラズマディスプレイパネルはキセノンやヘリウムの不活性ガス放電を利用するため、波長800〜1000nmの近赤外線を放出する。このような近赤外線は、コードレス電話、赤外線方式のリモートコントローラー等の誤作動を引き起こす可能性がある。また、不活性ガスに含まれるNe成分のオレンジ色の発光(Ne光)による色純度の低下が生じるという問題があった。
さらに、PDPは外部が明るい条件、すなわち明室条件では、コントラストが不十分となり画像品質が低下するという問題があった。
In recent years, there has been an increasing demand for larger and thinner image display media, and the plasma display panel (PDP) is rapidly growing as a display medium that can cope with this demand. However, although a plasma display panel can provide high-luminance display characteristics, it has been suggested that the plasma display panel may emit strong electromagnetic waves and may cause damage to various instruments and the human body.
Further, since the plasma display panel uses an inert gas discharge of xenon or helium, it emits near infrared rays having a wavelength of 800 to 1000 nm. Such near infrared rays may cause malfunction of cordless telephones, infrared remote controllers, and the like. Further, there has been a problem that the color purity is lowered due to orange light emission (Ne light) of the Ne component contained in the inert gas.
Furthermore, the PDP has a problem that the contrast is insufficient and the image quality is deteriorated under a bright external condition, that is, in a bright room condition.

このような問題を解消するために、上記のような電磁波や近赤外線、Ne光の放出を抑え、また、明室でのコントラストを向上させることができる前面フィルターに対する要望が高まっており、それぞれの機能を有する層からなる多層構造の前面フィルターが開発されている(特許文献1)。
特開2006−189867号公報
In order to solve such problems, there is a growing demand for front filters that can suppress the emission of electromagnetic waves, near infrared rays, and Ne light as described above, and can improve contrast in a bright room. A front filter having a multilayer structure composed of functional layers has been developed (Patent Document 1).
JP 2006-189867 A

しかし、従来の前面フィルターは、電磁波を遮蔽するための層、近赤外線を遮蔽するための層、Ne光を遮蔽するための層、外光を遮蔽してコントラストを向上させるための層を樹脂フィルムに積層した構造であるため、光透過率の低下を来たし、また、層構成が複雑であるため、製造コストの低減に限界があった。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、良好な透明性を有し電磁波シールド性に優れ、かつ、コントラスト向上に優れるプラズマディスプレイ用前面フィルタと、画像品質に優れ製造コストの低減も可能なプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
However, the conventional front filter is a resin film having a layer for shielding electromagnetic waves, a layer for shielding near infrared rays, a layer for shielding Ne light, and a layer for shielding external light to improve contrast. Since the structure is laminated, the light transmittance is lowered, and the layer structure is complicated, so that there is a limit to the reduction in manufacturing cost.
The present invention has been made in view of such circumstances, and has a front filter for plasma display that has excellent transparency, excellent electromagnetic wave shielding properties, and excellent contrast improvement, and excellent image quality and manufacturing cost. An object is to provide a plasma display that can be reduced.

このような目的を達成するために、本発明のプラズマディスプレイ用前面フィルターは、透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に設けられ透明樹脂層とを備え、該透明樹脂層は前記透明フィルム基材と反対側の表面に複数の溝部を平行に備え、該溝部には、黒色樹脂と該黒色樹脂上に位置する導電材が充填され、前記黒色樹脂は前記溝部の最奥部から深さの1/2以上となるように少なくとも前記溝部の壁面を被覆するよう配設されているような構成とした。
本発明の他の態様として、相互に平行な複数の導電性ストライプが前記溝部と交差するように前記透明樹脂層の表面に配設され、かつ、該導電性ストライプは前記溝部内に位置する前記導電材と接触するような構成とした。
In order to achieve such an object, the front filter for plasma display of the present invention comprises a transparent film substrate, and a transparent resin layer provided on one surface of the transparent film substrate, the transparent resin layer comprising: A plurality of grooves are provided in parallel on the surface opposite to the transparent film substrate, the grooves are filled with a black resin and a conductive material located on the black resin, and the black resin is the innermost portion of the grooves. It was set as the structure arrange | positioned so that the wall surface of the said groove part might be coat | covered at least so that it might become 1/2 or more of depth from.
As another aspect of the present invention, a plurality of conductive stripes parallel to each other are disposed on the surface of the transparent resin layer so as to intersect the groove, and the conductive stripe is located in the groove. It was set as the structure which contacts a electrically conductive material.

また、本発明のプラズマディスプレイ用前面フィルターは、透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に設けられ透明樹脂層とを備え、該透明樹脂層は前記透明フィルム基材と反対側の表面に格子形状に形成された溝部を備え、該溝部には、黒色樹脂と該黒色樹脂上に位置する導電材が充填され、前記黒色樹脂は前記溝部の最奥部から深さの1/2以上となるように少なくとも前記溝部の壁面を被覆するように配設されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明樹脂層の厚みは50〜500μmの範囲であり、前記溝部の深さは75〜300μm、幅は10〜80μm、ピッチは50〜300μmの範囲であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明樹脂層が形成されていない前記透明フィルム基材面に、近赤外線遮蔽層、Ne光遮蔽層、紫外線吸収層の少なくとも1層を有するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明樹脂層が形成されていない前記透明フィルム基材面に、最外層となるように反射防止層を有するような構成とした。
The front filter for plasma display of the present invention comprises a transparent film substrate and a transparent resin layer provided on one surface of the transparent film substrate, and the transparent resin layer is opposite to the transparent film substrate. The groove portion is formed in a lattice shape on the surface, and the groove portion is filled with a black resin and a conductive material located on the black resin, and the black resin has a depth of 1 / depth from the innermost portion of the groove portion. It was set as the structure arrange | positioned so that the wall surface of the said groove part might be covered at least so that it might become two or more.
As another aspect of the present invention, the thickness of the transparent resin layer is in the range of 50 to 500 μm, the depth of the groove is 75 to 300 μm, the width is 10 to 80 μm, and the pitch is in the range of 50 to 300 μm. The configuration.
As another aspect of the present invention, the transparent film substrate surface on which the transparent resin layer is not formed has at least one of a near-infrared shielding layer, a Ne light shielding layer, and an ultraviolet absorption layer.
As another aspect of the present invention, the transparent film substrate surface on which the transparent resin layer is not formed has an antireflection layer so as to be the outermost layer.

本発明のプラズマディスプレイは、平行に対向して配設された前面板および背面板と、前記前面板と背面板との間に形成された多数のセルとを有するプラズマディスプレイパネルと、該プラズマディスプレイパネルの前面板側に配設された前面フィルターとを備え、該前面フィルターは請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルターであり、前面フィルターの透明樹脂層側をプラズマディスプレイパネルの前面板に対向するように配設されているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記前面板と前記前面フィルターとの間に他の基材が介在するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材は、前記前面板と空間を設けて配設されたガラス基板であるような構成とした。
The plasma display of the present invention includes a plasma display panel having a front plate and a back plate disposed in parallel and facing each other, and a number of cells formed between the front plate and the back plate, and the plasma display. And a front filter disposed on the front plate side of the panel. The front filter is a front filter for a plasma display according to any one of claims 1 to 6, wherein the transparent resin layer side of the front filter is plasma. It was set as the structure arrange | positioned so as to oppose the front plate of a display panel.
As another aspect of the present invention, another base material is interposed between the front plate and the front filter.
As another aspect of the present invention, the base material is configured to be a glass substrate provided with a space with the front plate.

本発明では、前面フィルターを構成する透明樹脂層の溝部に位置する黒色樹脂が、外部からの入射光を有効に吸収してプラズマディスプレイのコントラストを向上させる機能を発現するとともに、溝部に位置する導電材が電磁波遮蔽機能を発現し、これにより、従来の前面フィルターでは個々の層として存在していたコントラストを向上させる層と電磁波遮蔽層とが1つの透明樹脂層に集約されて層構造が簡便なものとなり、したがって、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。
また、透明フィルム基材面に近赤外線遮蔽層、Ne光遮蔽層、紫外線吸収層の少なくとも1層を有する場合には、上記のコントラストを向上させる機能と電磁波遮蔽機能に加えて所望の近赤外線遮蔽機能、Ne光遮蔽機能、紫外線吸収機能を発現することが可能となり、かつ、同じ機能を具備した従来の前面フィルターに比べて層構造が簡便であるため、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。
さらに、透明フィルム基材面に反射防止層を最外層となるように有する場合には、反射防止機能を発現することが可能となり、かつ、同じ機能を具備した従来の前面フィルターに比べて層構造が簡便であるため、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。
In the present invention, the black resin located in the groove portion of the transparent resin layer constituting the front filter exhibits a function of effectively absorbing incident light from the outside and improving the contrast of the plasma display, and the conductive material located in the groove portion. The material exhibits an electromagnetic wave shielding function, and as a result, the layer for improving contrast and the electromagnetic wave shielding layer, which existed as individual layers in the conventional front filter, are combined into one transparent resin layer, and the layer structure is simple. Therefore, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced.
When the transparent film substrate has at least one of a near-infrared shielding layer, a Ne light shielding layer, and an ultraviolet absorption layer, the desired near-infrared shielding in addition to the above-described contrast improving function and electromagnetic wave shielding function. Function, Ne light shielding function, ultraviolet absorption function can be expressed, and the layer structure is simpler than the conventional front filter having the same function, so the light transmittance is high and at the same time the manufacturing cost Can be reduced.
Furthermore, when it has an antireflection layer on the surface of the transparent film base so as to be the outermost layer, it is possible to express an antireflection function and has a layer structure as compared with a conventional front filter having the same function. However, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced.

また、本発明のプラズマディスプレイは、電磁波の放出が抑制され、かつ、明室条件でのコントラストが高く画像品質に優れるものである。そして、使用する前面フィルターが近赤外線遮蔽層、Ne光遮蔽層、紫外線吸収層の少なくとも1層を有する場合には、さらに、近赤外線の放出抑制、Ne光の放出抑制、紫外線の曝露防止が可能となり、また、使用する前面フィルターが最外層に反射防止層を備える場合には、外光の影響を抑制して高品質の画像表示が可能となる。   In addition, the plasma display of the present invention suppresses the emission of electromagnetic waves and has high contrast under bright room conditions and excellent image quality. If the front filter to be used has at least one of a near-infrared shielding layer, a Ne light shielding layer, and an ultraviolet absorption layer, it is possible to further suppress near-infrared emission, Ne light emission, and ultraviolet exposure prevention. In addition, when the front filter used has an antireflection layer as the outermost layer, it is possible to suppress the influence of external light and display a high quality image.

次に、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
[前面フィルター]
(第1の実施形態)
図1は、本発明の前面フィルターの一実施形態を示す部分平面図であり、図2は図1に示される本発明の前面フィルターのA−A線矢視拡大断面図である。図1および図2において、前面フィルター1は、透明フィルム基材2と、この透明フィルム基材2の一方の面2aに設けられた透明樹脂層3とを備えたものである。この前面フィルター1を構成する透明樹脂層3は、透明フィルム基材2と反対側の表面3aに複数の溝部4を平行に備えている。この溝部4には、黒色樹脂5と導電材6とが充填され、導電材6は黒色樹脂5の上に位置していて、透明樹脂層3の表面3aに露出している。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Front filter]
(First embodiment)
FIG. 1 is a partial plan view showing an embodiment of the front filter of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the front filter of the present invention shown in FIG. 1 and 2, the front filter 1 includes a transparent film substrate 2 and a transparent resin layer 3 provided on one surface 2 a of the transparent film substrate 2. The transparent resin layer 3 constituting the front filter 1 includes a plurality of groove portions 4 in parallel on the surface 3 a opposite to the transparent film base 2. The groove 4 is filled with a black resin 5 and a conductive material 6, and the conductive material 6 is located on the black resin 5 and exposed on the surface 3 a of the transparent resin layer 3.

図3は、溝部4に充填されている黒色樹脂5を説明するための図である。本発明では、溝部4に充填されている黒色樹脂5は、溝部4の最奥部4aから深さの1/2以上となるように少なくとも溝部4の壁面を被覆するよう配設されている。図3(A)では、黒色樹脂5が、断面楔形の溝部4の最奥部4aから深さの1/2以上となる部位まで密に充填され、その上の溝部4の開口部4b近傍には、導電材6が充填されるための断面が樋形状の空間を残している。図3(B)では、黒色樹脂5が溝部4の最奥部4aから深さの1/2以上となる部位まで密に充填されて、その上に導電材6が充填されるための断面が方形の空間を残している。また、図3(C)では、黒色樹脂5が最奥部4aから開口部4bまで溝部4の壁面を被覆するように配設されており、溝部4内には導電材6が充填されるための空間を残している。さらに、図3(D)では、黒色樹脂5が最奥部4aから深さの1/2以上となる部位まで溝部4の壁面を被覆するように配設されており、溝部4内には導電材6が充填されるための空間を残している。   FIG. 3 is a view for explaining the black resin 5 filled in the groove 4. In the present invention, the black resin 5 filled in the groove portion 4 is disposed so as to cover at least the wall surface of the groove portion 4 so as to be 1/2 or more of the depth from the innermost portion 4a of the groove portion 4. In FIG. 3A, the black resin 5 is densely filled from the deepest portion 4a of the groove portion 4 having a wedge-shaped cross section to a portion having a depth of ½ or more, and in the vicinity of the opening portion 4b of the groove portion 4 above it. The cross-section for filling the conductive material 6 leaves a space having a bowl shape. In FIG. 3 (B), the cross section for the black resin 5 to be densely filled from the deepest part 4a of the groove part 4 to a part that is ½ or more of the depth and to be filled with the conductive material 6 is shown. Leaves a square space. In FIG. 3C, the black resin 5 is disposed so as to cover the wall surface of the groove portion 4 from the innermost portion 4a to the opening portion 4b, and the groove portion 4 is filled with the conductive material 6. Leaving the space. Further, in FIG. 3D, the black resin 5 is disposed so as to cover the wall surface of the groove portion 4 from the innermost portion 4a to a portion having a depth of ½ or more of the depth. A space for filling the material 6 is left.

本発明の前面フィルター1を構成する透明フィルム基材2は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、透明性は波長400nmでの光線透過率が80%以上であり、また、耐熱性はガラス転移温度が65℃以上であることが好ましい。使用する透明フィルム基材2の具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ノルボルネン、ポリアリレート、フッ素系樹脂(PTFE、CTFE、ETFE)、透明ポリイミド、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニルスルフォン、トリアセチルセルロース等が挙げられる。また、透明フィルム基材2の厚みは特に制限されないが、機械的強度の点から50〜300μm、好ましくは75〜200μm程度の範囲のものが使用される。   The transparent film substrate 2 constituting the front filter 1 of the present invention needs to have appropriate transparency and heat resistance. For example, the transparency has a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 nm. In addition, the heat resistance is preferably such that the glass transition temperature is 65 ° C. or higher. Specific examples of the transparent film substrate 2 to be used include, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyolefin, cyclic polyolefin, norbornene, polyarylate, fluororesin (PTFE, CTFE, ETFE), transparent Examples include polyimide, polyamide, polypropylene, polyether sulfone, polyether ether ketone, polyether imide, polyphenyl sulfone, and triacetyl cellulose. The thickness of the transparent film substrate 2 is not particularly limited, but a film having a thickness in the range of about 50 to 300 μm, preferably about 75 to 200 μm is used from the viewpoint of mechanical strength.

本発明の前面フィルター1を構成する透明樹脂層3は、適度な透明性と耐熱性を有していることが必要であり、例えば、透明性は波長400nmでの光線透過率が80%以上であり、また、耐熱性はガラス転移温度が90℃以上であることが好ましい。このような透明樹脂層3としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができ、透明フィルム基材2との密着性等を考慮して適宜選択することができる。また、透明樹脂層3の厚みは特に制限されないが、溝部4に形成される黒色樹脂によるコントラスト向上機能を有効に発現させる点から50〜500μm、好ましくは75〜200μm程度の範囲で設定することができる。   The transparent resin layer 3 constituting the front filter 1 of the present invention needs to have appropriate transparency and heat resistance. For example, the transparency has a light transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 nm. In addition, the heat resistance is preferably such that the glass transition temperature is 90 ° C. or higher. Examples of such transparent resin layer 3 include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, melamine resin, and phenol resin. Alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin and the like, and can be appropriately selected in consideration of adhesion to the transparent film substrate 2 and the like. The thickness of the transparent resin layer 3 is not particularly limited, but may be set in the range of 50 to 500 μm, preferably about 75 to 200 μm from the viewpoint of effectively expressing the contrast improving function by the black resin formed in the groove 4. it can.

透明樹脂層3の形成される溝部4の断面形状は、上述の例では楔形であるが、これに限定されるものではなく、例えば、図4(A)、図4(B)、図4(C)に示すような断面形状とすることができる。このような溝部4の深さDは75〜300μm、好ましくは100〜150μm、幅W1は10〜80μm、好ましくは15〜40μm、また、ピッチP1は50〜300μm、好ましくは50〜100μmの範囲で適宜設定することができる。溝部4の寸法が上記のような範囲から外れると、コントラストを向上させる機能や電磁波遮蔽機能が不十分となったり、前面フィルターの光透過率が低下するので好ましくない。
溝部4内に位置する黒色樹脂5は、コントラストを向上させる機能を発現するものであり、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等の樹脂材料に、カーボンブラック等の黒色顔料、あるいは染料を添加したものを使用することができる。また、上述の図3(C)、図3(D)に示したように、溝部4の壁面を被覆するように黒色樹脂5が配設されている場合、黒色樹脂5の厚みは0.1μm以上、好ましくは0.5μm以上となるように設定できる。
The cross-sectional shape of the groove 4 in which the transparent resin layer 3 is formed is a wedge shape in the above-described example, but is not limited to this, and for example, FIG. 4 (A), FIG. 4 (B), FIG. The cross-sectional shape as shown in C) can be obtained. The depth D of the groove 4 is 75 to 300 μm, preferably 100 to 150 μm, the width W1 is 10 to 80 μm, preferably 15 to 40 μm, and the pitch P1 is 50 to 300 μm, preferably 50 to 100 μm. It can be set appropriately. If the dimension of the groove portion 4 is out of the above range, the function of improving the contrast and the electromagnetic wave shielding function are insufficient, and the light transmittance of the front filter is not preferable.
The black resin 5 located in the groove portion 4 expresses a function of improving contrast. For example, polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, A material obtained by adding a black pigment such as carbon black or a dye to a resin material such as polyamide resin can be used. Further, as shown in FIGS. 3C and 3D, when the black resin 5 is disposed so as to cover the wall surface of the groove portion 4, the thickness of the black resin 5 is 0.1 μm. As described above, it can be set to be preferably 0.5 μm or more.

溝部4内に位置し、透明樹脂層3の表面に露出している導電材6は、電磁波遮蔽機能を発現するものであり、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル等の導電性微粒子を含有させた導電性ペーストを溝部4内に充填し、その後、樹脂成分を除去して形成することができる。また、金、銀、銅、アルミニウム、クロム等の導電性材料を真空成膜法等によって溝部4内に充填して導電材6とすることもできる。このような導電材6は、厚み(最大厚み)が0.05μm、好ましくは0.1μm以上であることが望ましい。導電材6の厚みが0.05μm未満であると、十分な導電性が得られず電磁波シールド性能の低下を来たし好ましくない。そして、前面フィルター1の透明樹脂層3側のシート抵抗は0.001〜0.5Ω/□の範囲であることが好ましい。尚、シート抵抗は三菱化学(株)製 ロレスタを用いて4端子法により測定する。   The conductive material 6 located in the groove 4 and exposed on the surface of the transparent resin layer 3 exhibits an electromagnetic wave shielding function. For example, gold, silver, copper, aluminum, chromium, titanium, zinc, tin The conductive paste containing conductive fine particles such as nickel is filled in the groove portion 4 and then the resin component is removed to form the conductive paste. Alternatively, the conductive material 6 can be formed by filling the groove portion 4 with a conductive material such as gold, silver, copper, aluminum, or chromium by a vacuum film forming method or the like. Such a conductive material 6 has a thickness (maximum thickness) of 0.05 μm, preferably 0.1 μm or more. If the thickness of the conductive material 6 is less than 0.05 μm, sufficient conductivity cannot be obtained and the electromagnetic shielding performance is lowered, which is not preferable. The sheet resistance on the transparent resin layer 3 side of the front filter 1 is preferably in the range of 0.001 to 0.5Ω / □. Sheet resistance is measured by the 4-terminal method using Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

このような本発明の前面フィルター1は、透明樹脂層3の溝部4に位置する黒色樹脂5が外部からの入射光を有効に吸収して、プラズマディスプレイのコントラストを向上させる機能を発現するとともに、溝部4に位置する導電材6が電磁波遮蔽機能を発現し、これにより、従来の前面フィルターでは個々の層として存在していたコントラストを向上させる層と電磁波遮蔽層とが透明樹脂層3に集約されているので層構造が簡便なものとなり、したがって、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。   In such a front filter 1 of the present invention, the black resin 5 located in the groove 4 of the transparent resin layer 3 effectively absorbs incident light from the outside, and exhibits a function of improving the contrast of the plasma display. The conductive material 6 positioned in the groove portion 4 exhibits an electromagnetic wave shielding function, whereby the layer for improving contrast and the electromagnetic wave shielding layer, which existed as individual layers in the conventional front filter, are collected in the transparent resin layer 3. Therefore, the layer structure is simple, and therefore the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced.

(第2の実施形態)
図5は、本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す部分平面図であり、図6は図5に示される本発明の前面フィルターのB−B線矢視断拡大面図である。図5および図6において、前面フィルター11は、透明フィルム基材12と、この透明フィルム基材12の一方の面12aに設けられた透明樹脂層13とを備えたものである。この前面フィルター11を構成する透明樹脂層13は、透明フィルム基材12と反対側の表面13aに複数の溝部14を平行に備えている。この溝部14には、黒色樹脂15と導電材16とが充填され、導電材16は黒色樹脂15の上に位置していて、透明樹脂層13の表面13aに露出している。溝部14に充填されている黒色樹脂15は、溝部14の最奥部14aから深さの1/2以上となるように少なくとも溝部14の壁面を被覆するよう配設されている。さらに、前面フィルター11は、相互に平行な複数の導電性ストライプ17(図5において斜線を付している)を、溝部14と交差するように透明樹脂層13の表面13aに備えている。この導電性ストライプ17は、溝部14内に位置する導電材16と接触している。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a partial plan view showing another embodiment of the front filter of the present invention, and FIG. 6 is an enlarged sectional view taken along line BB of the front filter of the present invention shown in FIG. 5 and 6, the front filter 11 includes a transparent film substrate 12 and a transparent resin layer 13 provided on one surface 12 a of the transparent film substrate 12. The transparent resin layer 13 constituting the front filter 11 includes a plurality of groove portions 14 in parallel on the surface 13a opposite to the transparent film substrate 12. The groove portion 14 is filled with a black resin 15 and a conductive material 16, and the conductive material 16 is located on the black resin 15 and exposed on the surface 13 a of the transparent resin layer 13. The black resin 15 filled in the groove portion 14 is disposed so as to cover at least the wall surface of the groove portion 14 so as to be 1/2 or more of the depth from the innermost portion 14a of the groove portion 14. Further, the front filter 11 is provided with a plurality of conductive stripes 17 (hatched in FIG. 5) parallel to each other on the surface 13 a of the transparent resin layer 13 so as to intersect the groove 14. The conductive stripe 17 is in contact with the conductive material 16 located in the groove portion 14.

このような前面フィルター11は、導電性ストライプ17を備えている点を除いて、上述の第1の実施形態の前面フィルター1と同様である。したがって、透明フィルム基材12、透明樹脂層13、溝部14、黒色樹脂15、導電材16は、前面フィルター1の透明フィルム基材2、透明樹脂層3、溝部4、黒色樹脂5、導電材6と同様とすることができ、ここでの説明は省略する。
前面フィルター11を構成する導電性ストライプ17は、導電材16と協働して電磁波遮蔽機能を発現するものである。このような導電性ストライプ17は、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル等の導電性微粒子を含有させた導電性ペーストを用いてスクリーン印刷法等により印刷し、樹脂成分を除去して形成することができる。また、金、銀、銅、アルミニウム、クロム等の導電性材料を真空成膜法等によってマスクパターンを介して透明樹脂層13上に成膜して導電性ストライプ17とすることができる。このような導電性ストライプ17の幅W2は10〜80μm、好ましくは10〜40μm、また、ピッチP2は50〜300μm、好ましくは50〜100μmの範囲で適宜設定することができる。導電性ストライプ17の寸法が上記のような範囲から外れると、電磁波遮蔽機能が不十分となったり、前面フィルターの光透過率が低下するので好ましくない。
Such a front filter 11 is the same as the front filter 1 of the first embodiment described above except that the conductive filter 17 is provided. Therefore, the transparent film substrate 12, the transparent resin layer 13, the groove portion 14, the black resin 15, and the conductive material 16 are the transparent film substrate 2, the transparent resin layer 3, the groove portion 4, the black resin 5, and the conductive material 6 of the front filter 1. The description here is omitted.
The conductive stripes 17 constituting the front filter 11 exhibit an electromagnetic wave shielding function in cooperation with the conductive material 16. Such a conductive stripe 17 is printed by a screen printing method using a conductive paste containing conductive fine particles such as gold, silver, copper, aluminum, chromium, titanium, zinc, tin, and nickel. It can be formed by removing the resin component. Alternatively, a conductive material such as gold, silver, copper, aluminum, or chromium can be formed on the transparent resin layer 13 through a mask pattern by a vacuum film forming method or the like to form the conductive stripe 17. The width W2 of the conductive stripe 17 can be appropriately set in the range of 10 to 80 μm, preferably 10 to 40 μm, and the pitch P2 is 50 to 300 μm, preferably 50 to 100 μm. If the size of the conductive stripe 17 is out of the above range, the electromagnetic wave shielding function is insufficient, or the light transmittance of the front filter is not preferable.

また、導電性ストライプ17の厚みTは、導電性ペーストを用いた場合には、0.2〜30μm、好ましくは1〜15μmの範囲とすることができ、真空成膜法により形成したものである場合は、0.05〜5μm、好ましくは0.1〜2μmの範囲とすることができる。導電性ストライプ17の厚みが上記の厚み未満であると、十分な導電性が得られず電磁波シールド性能の低下を来たし、また、上記の範囲を超えると、導電性ストライプ17と透明樹脂層13との密着性が低くなって剥離等が生じることがあり好ましくない。そして、前面フィルター11の透明樹脂層13側のシート抵抗は0.001〜0.5Ω/□の範囲であることが好ましい。
さらに、導電性ストライプ17と溝部14(導電材16)とが交差する角度は、通常、90°とすることができ、例えば、90°±45°の範囲で適宜設定することができる。
Moreover, the thickness T of the conductive stripe 17 can be set to a range of 0.2 to 30 μm, preferably 1 to 15 μm, when a conductive paste is used, and is formed by a vacuum film forming method. In the case, it can be in the range of 0.05 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm. If the thickness of the conductive stripe 17 is less than the above-mentioned thickness, sufficient conductivity cannot be obtained and the electromagnetic shielding performance is deteriorated. If the thickness exceeds the above range, the conductive stripe 17 and the transparent resin layer 13 It is not preferable because the adhesiveness of the resin becomes low and peeling or the like may occur. The sheet resistance on the transparent resin layer 13 side of the front filter 11 is preferably in the range of 0.001 to 0.5Ω / □.
Furthermore, the angle at which the conductive stripes 17 and the groove portions 14 (conductive material 16) intersect can usually be 90 °, and can be set as appropriate within a range of 90 ° ± 45 °, for example.

このような本発明の前面フィルター11は、透明樹脂層13の溝部14に位置する黒色樹脂15が外部からの入射光を有効に吸収して、プラズマディスプレイのコントラストを向上させる機能を発現するとともに、溝部14に位置する導電材16と透明樹脂層13上に位置する導電性ストライプ17が電磁波遮蔽機能を発現し、これにより、従来の前面フィルターでは個々の層として存在していたコントラストを向上させる層と電磁波遮蔽層とが1つの透明樹脂層13に集約されて層構造が簡便なものとなり、したがって、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。   In such a front filter 11 of the present invention, the black resin 15 located in the groove 14 of the transparent resin layer 13 effectively absorbs incident light from the outside, and exhibits a function of improving the contrast of the plasma display, The conductive material 16 located in the groove 14 and the conductive stripe 17 located on the transparent resin layer 13 exhibit an electromagnetic wave shielding function, thereby improving the contrast existing as individual layers in the conventional front filter. And the electromagnetic wave shielding layer are integrated into one transparent resin layer 13 to make the layer structure simple. Therefore, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced.

(第3の実施形態)
図7は、本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す部分平面図であり、図8(A)は図7に示される本発明の前面フィルターのC−C線矢視拡大断面図、図8(B)は図7に示される本発明の前面フィルターのD−D線矢視拡大断面図である。図7および図8において、前面フィルター21は、透明フィルム基材22と、この透明フィルム基材22の一方の面22aに設けられた透明樹脂層23とを備えたものである。この前面フィルター21を構成する透明樹脂層23は、透明フィルム基材22と反対側の表面23aに格子形状に形成された溝部24を備えている。この溝部24には、黒色樹脂25と導電材26とが充填され、導電材26は黒色樹脂25の上に位置していて、透明樹脂層23の表面23aに露出している。また、溝部24に充填されている黒色樹脂25は、溝部24の最奥部24aから深さの1/2以上となるように少なくとも溝部24の壁面を被覆するよう配設されている。
(Third embodiment)
FIG. 7 is a partial plan view showing another embodiment of the front filter of the present invention, and FIG. 8A is an enlarged cross-sectional view of the front filter of the present invention shown in FIG. 8 (B) is an enlarged sectional view taken along line D-D of the front filter of the present invention shown in FIG. 7 and 8, the front filter 21 includes a transparent film base material 22 and a transparent resin layer 23 provided on one surface 22 a of the transparent film base material 22. The transparent resin layer 23 constituting the front filter 21 includes grooves 24 formed in a lattice shape on the surface 23 a opposite to the transparent film substrate 22. The groove 24 is filled with a black resin 25 and a conductive material 26, and the conductive material 26 is located on the black resin 25 and exposed on the surface 23 a of the transparent resin layer 23. Further, the black resin 25 filled in the groove portion 24 is disposed so as to cover at least the wall surface of the groove portion 24 so as to be 1/2 or more of the depth from the innermost portion 24 a of the groove portion 24.

このような前面フィルター21は、溝部24が相互に平行なストライプ形状ではなく、格子形状である点を除いて、上述の第1の実施形態の前面フィルター1と同様である。したがって、透明フィルム基材22、透明樹脂層23、溝部24、黒色樹脂25、導電材26は、前面フィルター1の透明フィルム基材2、透明樹脂層3、溝部4、黒色樹脂5、導電材6と同様とすることができ、ここでの説明は省略する。尚、前面フィルター21の透明樹脂層23側のシート抵抗は0.001〜0.5Ω/□の範囲であることが好ましい。
このような本発明の前面フィルター21は、透明樹脂層23の格子形状の溝部24に位置する黒色樹脂25が外部からの入射光を有効に吸収して、プラズマディスプレイのコントラストを向上させる機能を発現するとともに、溝部24に位置する導電材26が電磁波遮蔽機能を発現し、これにより、従来の前面フィルターでは個々の層として存在していたコントラストを向上させる層と電磁波遮蔽層とが透明樹脂層23に集約されて層構造が簡便なものとなり、したがって、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。
Such a front filter 21 is the same as the front filter 1 of the first embodiment described above except that the grooves 24 are not in a stripe shape parallel to each other but in a lattice shape. Therefore, the transparent film substrate 22, the transparent resin layer 23, the groove 24, the black resin 25, and the conductive material 26 are the transparent film substrate 2, the transparent resin layer 3, the groove 4, the black resin 5, and the conductive material 6 of the front filter 1. The description here is omitted. The sheet resistance on the transparent resin layer 23 side of the front filter 21 is preferably in the range of 0.001 to 0.5Ω / □.
Such a front filter 21 of the present invention exhibits a function in which the black resin 25 located in the lattice-shaped grooves 24 of the transparent resin layer 23 effectively absorbs incident light from the outside and improves the contrast of the plasma display. At the same time, the conductive material 26 located in the groove 24 exhibits an electromagnetic wave shielding function, so that the layer for improving contrast and the electromagnetic wave shielding layer, which existed as individual layers in the conventional front filter, are transparent resin layer 23. Therefore, the layer structure is simple and the light transmittance is high. At the same time, the manufacturing cost can be reduced.

(第4の実施形態)
図9は、本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す図2相当の断面図である。図9において、前面フィルター31は、上述の前面フィルター1の透明フィルム基材2の表面2bに、さらに、粘着剤層32を介して近赤外線・Ne光遮蔽層33と、紫外線吸収層34とを積層して備えたものである。
また、図10は、本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す図2相当の断面図である。図10において、前面フィルター31′は、上記の前面フィルター31の紫外線吸収層34に粘着剤層35を介して反射防止層36を配設したものである。
この前面フィルター31、31′を構成する近赤外線・Ne光遮蔽層33と紫外線吸収層34は、例えば、紫外線吸収層34を、紫外線吸収剤を含有した紫外線吸収フィルムで構成し、この紫外線吸収フィルム上に近赤外線・Ne光遮蔽層33を形成した積層フィルムとすることができる。
(Fourth embodiment)
FIG. 9 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing another embodiment of the front filter of the present invention. In FIG. 9, the front filter 31 further includes a near-infrared / Ne-light shielding layer 33 and an ultraviolet absorption layer 34 on the surface 2 b of the transparent film substrate 2 of the above-described front filter 1 via an adhesive layer 32. It is prepared by stacking.
FIG. 10 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing another embodiment of the front filter of the present invention. In FIG. 10, the front filter 31 ′ is obtained by disposing an antireflection layer 36 via an adhesive layer 35 on the ultraviolet absorbing layer 34 of the front filter 31.
The near-infrared / Ne-light shielding layer 33 and the ultraviolet absorbing layer 34 constituting the front filters 31 and 31 'are constituted by, for example, an ultraviolet absorbing film containing an ultraviolet absorber, and the ultraviolet absorbing film. It can be set as the laminated | multilayer film which formed the near-infrared and Ne light shielding layer 33 on it.

紫外線吸収剤を分散含有する紫外線吸収フィルムとしては、例えば、従来公知の紫外線吸収剤を含有するポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム等を使用することができる。
また、近赤外線・Ne光遮蔽層33は、近赤外波長領域に吸収極大を有する近赤外線吸収材と、Neの発光スペクトル帯域である570〜600nmの波長領域に吸収極大を有するNe光吸収材料とをバインダ樹脂に分散含有させたものとすることができる。近赤外線吸収材は、800〜1100nmの波長域の光に対する吸収性を有する材料であり、例えば、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、アルミニウム塩系化合物、金属錯体化合物等を挙げることができる。また、Ne光吸収材料としては、例えば、シアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素、テトラアザポルフィリン系色素等を挙げることができる。さらに、バインダ樹脂は透明性を有し、硬化後の機械的強度が高いものであれば特に制限はなく、例えば、アクリル系樹脂、アルキド系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、メラミン系樹脂等の熱硬化型樹脂、あるいは、光硬化型樹脂を挙げることができる。
As the ultraviolet absorbing film containing the ultraviolet absorber in a dispersed manner, for example, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polyvinyl alcohol film or the like containing a conventionally known ultraviolet absorber can be used.
The near-infrared / Ne-light shielding layer 33 includes a near-infrared absorber having an absorption maximum in the near-infrared wavelength region and a Ne light-absorbing material having an absorption maximum in the wavelength region of 570 to 600 nm that is the emission spectrum band of Ne. Can be dispersed in a binder resin. The near-infrared absorbing material is a material having absorptivity to light in the wavelength range of 800 to 1100 nm, and examples thereof include an immonium compound, a diimmonium compound, a phthalocyanine compound, an aluminum salt compound, and a metal complex compound. Can do. Examples of the Ne light absorbing material include cyanine dyes, subphthalocyanine dyes, porphyrin dyes, and tetraazaporphyrin dyes. Further, the binder resin is not particularly limited as long as it has transparency and has high mechanical strength after curing. For example, an acrylic resin, an alkyd resin, a urethane resin, an epoxy resin, a silicon resin, Examples thereof include thermosetting resins such as fluorine resins and melamine resins, and photocurable resins.

このような近赤外線・Ne光遮蔽層33は、近赤外線吸収材とNe光吸収材料を含有する樹脂組成物を紫外線吸収フィルム上に塗布し硬化させる方法、近赤外線吸収材とNe光吸収材料を含有する樹脂組成物を用いて形成されたシートを紫外線吸収フィルムにラミネートする方法等により形成することができる。近赤外線・Ne光遮蔽層33の厚みは、0.5〜200μm、好ましくは2〜30μmの範囲内で適宜設定することができる。尚、近赤外線・Ne光遮蔽層33は、近赤外線遮蔽層とNe光遮蔽層とが個々に形成され積層されたものであってもよい。   Such a near-infrared / Ne-light shielding layer 33 is formed by applying a resin composition containing a near-infrared absorbing material and a Ne light-absorbing material on an ultraviolet-absorbing film, and curing the near-infrared absorbing material and the Ne light-absorbing material. It can form by the method of laminating | stacking the sheet | seat formed using the resin composition to contain on a ultraviolet absorption film. The thickness of the near infrared / Ne light shielding layer 33 can be appropriately set within a range of 0.5 to 200 μm, preferably 2 to 30 μm. The near infrared / Ne light shielding layer 33 may be formed by laminating a near infrared shielding layer and a Ne light shielding layer individually.

また、反射防止層36は、本発明の前面フィルター31′を装着したプラズマディスプレイにおいて、光の反射により画像の視認性が低下するのを防止するための層である。このような反射防止層36は、波長400〜700nmの可視光領域での光線反射率が1〜50%となるような層が好ましい。反射防止層36としては、従来公知の反射防止層とすることができ、例えば、表面の凹凸を有し、外光を散乱するような層とすることができる。また、反射防止層36は、屈折率の高い層、屈折率の低い層、中間の屈折率をもつ層を積層し、光の干渉を生じさせ、反射、透過、吸収の光学物性のうち、反射強度を低減させる方法を用いた層とすることもできる。具体的には、低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層を積層して反射防止層36としたり、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層を積層して反射防止層36とすることができる。   The antireflection layer 36 is a layer for preventing the visibility of the image from being deteriorated due to light reflection in the plasma display equipped with the front filter 31 ′ of the present invention. Such an antireflection layer 36 is preferably a layer having a light reflectance of 1 to 50% in a visible light region having a wavelength of 400 to 700 nm. As the antireflection layer 36, a conventionally known antireflection layer can be used. For example, the antireflection layer 36 can have a surface irregularity and can scatter external light. In addition, the antireflection layer 36 includes a layer having a high refractive index, a layer having a low refractive index, and a layer having an intermediate refractive index to cause interference of light, and among the optical properties of reflection, transmission, and absorption, reflection. A layer using a method for reducing the strength can also be used. Specifically, a low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer are laminated to form an antireflection layer 36, or a middle refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer are laminated to prevent reflection. Layer 36 may be used.

尚、ここでの高屈折率、中屈折率、低屈折率とは、可視光領域における屈折率の相対的な高低を意味しており、通常、550nmでの屈折率を指して定義される。また、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層は、透明であることが必要であり、例えば、金属の酸化膜、酸化窒化膜、酸化炭化膜、酸化フッ化膜、酸化炭化フッ化膜等を使用することができる。これらの各層に用いられる金属元素は1種類に限定されず、2種以上の金属や、それらの合金を用いることができ、例えば、インジウム錫酸化膜(ITO)を挙げることができる。
粘着剤層32は、透明フィルム基材2と近赤外線・Ne光遮蔽層33とを固着できるものであれば、その種類等には特に制限はない。また、粘着剤層35も、紫外線吸収層34と反射防止層36とを固着できるものであれば、その種類等には特に制限はない。具体的には、粘着剤層32、35として、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
Here, the high refractive index, medium refractive index, and low refractive index mean the relative high and low refractive indexes in the visible light region, and are usually defined by the refractive index at 550 nm. In addition, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the low refractive index layer must be transparent. A chemical film or the like can be used. The metal element used for each of these layers is not limited to one type, and two or more types of metals and alloys thereof can be used, and examples thereof include an indium tin oxide film (ITO).
The type of the adhesive layer 32 is not particularly limited as long as it can fix the transparent film substrate 2 and the near infrared / Ne light shielding layer 33. The pressure-sensitive adhesive layer 35 is not particularly limited as long as it can fix the ultraviolet absorbing layer 34 and the antireflection layer 36. Specifically, as the adhesive layers 32 and 35, acrylic resin, polyester resin, polyvinyl alcohol, polyurethane resin, polyimide resin, epoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, and the like can be given. It is done.

このような本発明の前面フィルター31、31′は、透明樹脂層3の溝部4に位置する黒色樹脂5が外部からの入射光を有効に吸収して、プラズマディスプレイのコントラストを向上させる機能を発現するとともに、溝部4に位置する導電材6が電磁波遮蔽機能を発現し、これにより、従来の前面フィルターでは個々の層として存在していたコントラストを向上させる層と電磁波遮蔽層とが1つの透明樹脂層3に集約されて層構造が簡便なものとなり、また、近赤外線・Ne光遮蔽層33、紫外線吸収層34によって近赤外線遮蔽機能、Ne光遮蔽機能、紫外線吸収機能を発現することが可能となり、同じ機能を具備した従来の前面フィルターに比べて層構造が簡便であるため、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。   Such front filters 31 and 31 ′ of the present invention exhibit a function that the black resin 5 positioned in the groove 4 of the transparent resin layer 3 effectively absorbs incident light from the outside and improves the contrast of the plasma display. In addition, the conductive material 6 positioned in the groove 4 exhibits an electromagnetic wave shielding function, and thereby, a layer for improving contrast and an electromagnetic wave shielding layer, which existed as individual layers in the conventional front filter, are one transparent resin. The layer structure is integrated into a simple layer structure, and the near-infrared / Ne-light shielding layer 33 and the ultraviolet-absorbing layer 34 can exhibit a near-infrared shielding function, an Ne-light shielding function, and an ultraviolet-absorbing function. Since the layer structure is simpler than a conventional front filter having the same function, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced.

さらに、反射防止層36を最外層となるように有する前面フィルター31′では、上記の機能に加えて反射防止機能を発現することが可能となり、かつ、同じ機能を具備した従来の前面フィルターに比べて層構造が簡便であるため、光透過率が高く、同時に、製造コストの低減が可能となる。
尚、上記の例では、前面フィルター1の透明フィルム基材2の表面2bに、さらに、粘着剤層32を介して近赤外線・Ne光遮蔽層33と、紫外線吸収層34とを積層して備えたもの、あるいは、さらに反射防止層36を積層して備えたものであるが、前面フィルター1の換わりに上述の前面フィルター11,21を使用してもよいことは勿論である。
Further, the front filter 31 ′ having the antireflection layer 36 as the outermost layer can exhibit an antireflection function in addition to the above functions, and compared with a conventional front filter having the same function. Since the layer structure is simple, the light transmittance is high, and at the same time, the manufacturing cost can be reduced.
In the above example, the near-infrared / Ne-light shielding layer 33 and the ultraviolet absorbing layer 34 are further laminated on the surface 2 b of the transparent film substrate 2 of the front filter 1 via the adhesive layer 32. However, it is a matter of course that the front filters 11 and 21 described above may be used in place of the front filter 1.

(製造方法)
次に、本発明の前面フィルターの製造方法の一例を、上述の前面フィルター1を例として、図11を参照しながら説明する。
まず、透明フィルム基材2上に透明樹脂層用の放射線硬化型の樹脂組成物を塗布して透明樹脂塗膜3′を形成する(図11(A))。次に、この透明樹脂塗膜3′に溝部形成用の金型51を押圧し、この状態で透明フィルム基材2側から放射線を照射して透明樹脂塗膜3′を硬化させ(図11(B))、その後、金型51を取り外して、複数の溝部4を平行に備えた透明樹脂層3を形成する(図11(C))。
次いで、透明樹脂層3上に放射線硬化型の黒色樹脂組成物を塗布し、ドクターで余分な黒色樹脂組成物を掻き取って、溝部4に黒色樹脂組成物を充填し、その後、放射線を照射して硬化させる。これにより、黒色樹脂5が、断面楔形の溝部4の最奥部4aから深さの1/2以上となる部位まで密に充填される(図11(D))。この黒色樹脂5は、その上の溝部4の開口部4b近傍に導電材6を充填するための断面樋形状の空間を残している。
(Production method)
Next, an example of a method for manufacturing a front filter according to the present invention will be described with reference to FIG.
First, a radiation curable resin composition for a transparent resin layer is applied on the transparent film substrate 2 to form a transparent resin coating film 3 '(FIG. 11A). Next, the mold 51 for groove formation is pressed against this transparent resin coating film 3 ', and in this state, the transparent resin coating film 3' is cured by irradiating radiation from the transparent film substrate 2 side (FIG. 11 ( B)) Then, the metal mold | die 51 is removed and the transparent resin layer 3 provided with the some groove part 4 in parallel is formed (FIG.11 (C)).
Next, a radiation curable black resin composition is applied onto the transparent resin layer 3, the excess black resin composition is scraped off with a doctor, the groove portion 4 is filled with the black resin composition, and then irradiated with radiation. To cure. Thereby, the black resin 5 is densely filled from the deepest portion 4a of the groove portion 4 having a wedge-shaped cross section to a portion that is 1/2 or more of the depth (FIG. 11D). This black resin 5 leaves a space having a bowl-shaped cross section for filling the conductive material 6 in the vicinity of the opening 4b of the groove 4 on it.

次に、透明樹脂層3上に導電性ペーストを塗布し、ドクターで余分な導電性ペーストを掻き取って、溝部4内の上記の空間に導電性ペーストを充填し、その後、焼成処理を施して有機成分を除去して導電材6とすることにより、本発明の前面フィルター1が得られる(図11(E))。
尚、硬化収縮性の大きい黒色樹脂組成物を使用することにより、導電材6を充填する空間がさらに大きい図3(B)に示すような黒色樹脂5を形成することができる。また、上記のようなドクターで余分な黒色樹脂組成物を掻き取る方法ではなく、溝部4に注入する黒色樹脂組成物の量を制御することによっても、図3(B)に示すような黒色樹脂5を形成することができる。
また、図12は、本発明の前面フィルターの製造方法の他の例を説明するための工程図である。この製造方法では、溝部4の形成(図11(C))までは上述の製造方法と同様である。
Next, a conductive paste is applied onto the transparent resin layer 3, and the excess conductive paste is scraped off with a doctor, and the space in the groove 4 is filled with the conductive paste, followed by baking treatment. By removing the organic component to form the conductive material 6, the front filter 1 of the present invention can be obtained (FIG. 11E).
In addition, by using a black resin composition having a high cure shrinkage, a black resin 5 as shown in FIG. 3B can be formed in which the space for filling the conductive material 6 is larger. Further, the black resin as shown in FIG. 3B can be obtained by controlling the amount of the black resin composition injected into the groove portion 4 instead of the method of scraping off the excess black resin composition with the doctor as described above. 5 can be formed.
Moreover, FIG. 12 is process drawing for demonstrating the other example of the manufacturing method of the front filter of this invention. This manufacturing method is the same as the manufacturing method described above up to the formation of the groove 4 (FIG. 11C).

次に、透明樹脂層3に形成された溝部4に黒色樹脂組成物を適量注入することにより、溝部4の壁面のみに黒色樹脂組成物を付着させ、その後、放射線を照射して硬化させる。これにより、黒色樹脂5が最奥部4aから開口部4bまで溝部4の壁面を被覆する(図3(C)参照)ように形成される(図12(A))。この黒色樹脂5は、溝部4の中央に導電材6が充填されるための空間を残している。次に、透明樹脂層3上に導電性ペーストを塗布し、ドクターで余分な導電性ペーストを掻き取って、溝部4内の上記の空間に導電性ペーストを充填し、その後、焼成処理を施して有機成分を除去し導電材6とすることにより、本発明の前面フィルター1が得られる(図12(B))。
尚、溝部4に注入する黒色樹脂組成物の量を制御することにより、図3(D)に示すように、黒色樹脂5を最奥部4aから開口部4bの途中(深さの1/2以上)まで溝部4の壁面を被覆するように形成することができる。
Next, an appropriate amount of a black resin composition is injected into the groove 4 formed in the transparent resin layer 3 so that the black resin composition is attached only to the wall surface of the groove 4, and then cured by irradiation with radiation. Thereby, the black resin 5 is formed so as to cover the wall surface of the groove 4 from the innermost portion 4a to the opening 4b (see FIG. 3C) (FIG. 12A). The black resin 5 leaves a space for filling the conductive material 6 at the center of the groove 4. Next, a conductive paste is applied onto the transparent resin layer 3, and the excess conductive paste is scraped off with a doctor, and the space in the groove 4 is filled with the conductive paste, followed by baking treatment. By removing the organic component to obtain the conductive material 6, the front filter 1 of the present invention can be obtained (FIG. 12B).
By controlling the amount of the black resin composition injected into the groove portion 4, as shown in FIG. 3D, the black resin 5 is moved from the innermost portion 4a to the middle of the opening portion 4b (1/2 of the depth). Up to the above, it can be formed so as to cover the wall surface of the groove portion 4.

[プラズマディスプレイ]
本発明のプラズマディスプレイは、プラズマディスプレイパネルの前面板に本発明の前面フィルターを備えたものである。すなわち、上述の各実施形態で示した前面フィルター1、11、21、31、31′を例とすれば、各前面フィルターを構成する透明樹脂層3、13、23側をプラズマディスプレイパネルの前面板に固着したものである。
図13は、本発明のプラズマディスプレイの一例を示す概略構成図であり、プラズマディスプレイ71は、プラズマディスプレイパネル72の前面板側に粘着層73を介して本発明の前面フィルター31′を固着して備えたものである。本発明のプラズマディスプレイ71に使用するプラズマディスプレイパネル72は、平行に対向して配設された前面板および背面板と、この前面板と背面板との間に形成された多数のセルとを有するものであり、従来公知のAC型プラズマディスプレイパネル、DC型プラズマディスプレイパネルを使用することができる。また、粘着層73はプラズマディスプレイパネル72と前面フィルター31′とを固着でき光透過性の高いものであれば、その種類等には特に制限はない。
[Plasma display]
The plasma display according to the present invention includes the front filter of the present invention on the front plate of the plasma display panel. That is, if the front filters 1, 11, 21, 31, 31 'shown in the above embodiments are taken as an example, the transparent resin layers 3, 13, 23 constituting each front filter are connected to the front plate of the plasma display panel. It is fixed to.
FIG. 13 is a schematic configuration diagram showing an example of the plasma display of the present invention. The plasma display 71 has a front filter 31 ′ of the present invention fixed to the front plate side of the plasma display panel 72 through an adhesive layer 73. It is provided. A plasma display panel 72 used in the plasma display 71 of the present invention has a front plate and a back plate arranged in parallel and facing each other, and a large number of cells formed between the front plate and the back plate. Conventionally known AC type plasma display panels and DC type plasma display panels can be used. The adhesive layer 73 is not particularly limited as long as it can fix the plasma display panel 72 and the front filter 31 'and has high light transmittance.

このような本発明のプラズマディスプレイ71では、前面フィルター31′によって、電磁波の放出が抑制されるとともに、明室条件でのコントラストが高く、また、近赤外線の放出抑制、Ne光の放出抑制、紫外線の曝露防止が可能となり、さらに、外光の影響を抑制して高品質の画像表示が可能となる。
また、本発明のプラズマディスプレイは、プラズマディスプレイパネルの前面板と前面フィルターとの間に他の基材が介在するものであってもよい。このような基材としては、例えば、プラズマディスプレイパネルの前面板と空間を設けて配設されたガラス基板であってよく、また、調色層等であってもよい。
尚、上述の実施形態は例示であり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
In such a plasma display 71 of the present invention, the front filter 31 'suppresses the emission of electromagnetic waves and has high contrast under bright room conditions, and also suppresses near-infrared emission, Ne light emission, and ultraviolet light. Exposure can be prevented, and furthermore, high-quality image display can be achieved while suppressing the influence of external light.
Further, the plasma display of the present invention may be one in which another substrate is interposed between the front plate and the front filter of the plasma display panel. Such a base material may be, for example, a glass substrate provided with a space and a front plate of a plasma display panel, or a toning layer or the like.
In addition, the above-mentioned embodiment is an illustration and this invention is not limited to these embodiment.

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
[実施例1]
透明フィルム基材としてポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製ルミラーT−60、厚み188μm)を準備し、この透明フィルム基材の一方の面に、紫外線硬化型の樹脂組成物(JSR(株)製 オプトマー)をダイコーターで塗布して透明樹脂塗膜(厚み200μm)を形成した。
次に、この透明樹脂塗膜に溝部形成用の金型を押圧し、この状態で透明フィルム基材側から放射線を照射して透明樹脂塗膜を硬化させ、その後、金型を取り外して、複数の溝部を平行に備えた透明樹脂層(厚み180μm)を形成した。使用した溝部形成用の金型は、断面が楔形(底辺が20μm、高さ105μm)の連続凸状体が平板上に75μmのピッチで相互に平行に配設されたものであり、形成された溝部は、この金型の楔形の連続凸状体の形状を反映したものであった。すなわち、溝部は、深さが105μm、幅が20μm、ピッチが75μmの断面楔形をなすものであった。
Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
[Example 1]
A polyethylene terephthalate film (Lumirror T-60 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 188 μm) is prepared as a transparent film substrate, and an ultraviolet curable resin composition (manufactured by JSR Corporation) is formed on one surface of the transparent film substrate. Optomer) was applied with a die coater to form a transparent resin coating (thickness: 200 μm).
Next, the mold for groove formation is pressed against this transparent resin coating film, and in this state, the transparent resin coating film is irradiated with radiation from the transparent film substrate side to cure the transparent resin coating film. A transparent resin layer (thickness: 180 μm) having parallel grooves was formed. The groove forming mold used was formed by a continuous convex body having a wedge-shaped cross section (bottom 20 μm, height 105 μm) arranged on a flat plate in parallel with each other at a pitch of 75 μm. The groove portion reflected the shape of the wedge-shaped continuous convex body of this mold. That is, the groove portion had a cross-sectional wedge shape with a depth of 105 μm, a width of 20 μm, and a pitch of 75 μm.

次いで、透明樹脂層上に紫外線硬化型の黒色樹脂組成物(JSR(株)製 黒色顔料分散オプトマー)をダイコーターで塗布し、ドクターで余分な黒色樹脂組成物を掻き取って上記の溝部に黒色樹脂組成物を充填し、その後、紫外線を照射して硬化させた。これにより、黒色樹脂が、断面楔形の溝部の最奥部から開口部近傍まで密に充填されたものとなり、溝部内の黒色樹脂上には深さが5μmの断面樋形状の空間が形成された。
次に、透明樹脂層上に銀ペースト(藤倉化成(株)製 ナノドータイト)をノズルより滴下しながら、ドクターで余分な銀ペーストを掻き取って、溝部内の上記の空間に銀ペーストを充填し、その後、焼成処理(130℃、30分間)を施して銀ペーストの有機成分を焼成除去した。これにより、黒色樹脂上に導電材が形成され、本発明の前面フィルターが得られた。
Next, an ultraviolet curable black resin composition (black pigment dispersion optomer manufactured by JSR Co., Ltd.) is applied on the transparent resin layer with a die coater, and the excess black resin composition is scraped off with a doctor to blacken the groove. The resin composition was filled, and then cured by irradiation with ultraviolet rays. As a result, the black resin was densely filled from the deepest part of the groove portion having a wedge-shaped cross section to the vicinity of the opening, and a space having a cross-sectional shape with a depth of 5 μm was formed on the black resin in the groove portion. .
Next, while dropping silver paste (Nanodote from Fujikura Chemical Co., Ltd.) from the nozzle onto the transparent resin layer, scrape off the excess silver paste with a doctor and fill the above space in the groove with the silver paste. Thereafter, baking treatment (130 ° C., 30 minutes) was performed to remove the organic components of the silver paste by baking. Thereby, a conductive material was formed on the black resin, and the front filter of the present invention was obtained.

このように得られた前面フィルターの透明樹脂層側のシート抵抗を、三菱化学(株)製 ロレスタを用いて4端子法により測定した結果、0.45Ω/□であり、良好な電磁波遮蔽性能を有することが確認された。また、波長400nmでの光線透過率を、(株)島津製作所製の分光光度計を用いて測定した結果、75%であり、良好な透明性を備えることが確認された。   The sheet resistance on the transparent resin layer side of the front filter thus obtained was measured by a 4-terminal method using a Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. As a result, it was 0.45Ω / □, and good electromagnetic shielding performance was obtained. It was confirmed to have. Moreover, as a result of measuring the light transmittance in wavelength 400nm using the spectrophotometer made from Shimadzu Corporation, it was 75%, and it was confirmed that it has favorable transparency.

[実施例2]
実施例1で作成した前面フィルターの透明樹脂層上に、実施例1で使用した銀ペーストを用いて、スクリーン印刷により溝部に直交するように複数のストライプを形成した。その後、焼成処理(120℃、30分間)を施して銀ペーストの有機成分を焼成除去した。これにより、線幅30μm、ピッチ300μmで相互に平行となる複数の導電性ストライプ(厚み μm)が形成され、本発明の前面フィルターが得られた。
このように得られた前面フィルターの透明樹脂層側のシート抵抗を実施例1と同様に測定した結果、0.08Ω/□であり、良好な電磁波遮蔽性能を有することが確認された。また、光線透過率を実施例1と同様に測定した結果、72%であり、良好な透明性を備えることが確認された。
[Example 2]
On the transparent resin layer of the front filter prepared in Example 1, a plurality of stripes were formed by screen printing so as to be orthogonal to the groove using the silver paste used in Example 1. Then, the baking process (120 degreeC, 30 minutes) was performed, and the organic component of the silver paste was baked and removed. As a result, a plurality of conductive stripes (thickness μm) parallel to each other with a line width of 30 μm and a pitch of 300 μm were formed, and the front filter of the present invention was obtained.
The sheet resistance on the transparent resin layer side of the front filter thus obtained was measured in the same manner as in Example 1. As a result, it was 0.08Ω / □, and it was confirmed that the sheet had good electromagnetic shielding performance. Moreover, as a result of measuring light transmittance similarly to Example 1, it is 72%, and it was confirmed that it has favorable transparency.

[実施例3]
溝部形成用の金型として、断面が楔形(底辺が20μm、高さ105μm)の連続凸状体が平板上に140μmのピッチで格子形状に配設されたものを使用した他は、実施例1と同様にして、本発明の前面フィルターを作製した。
このように得られた前面フィルターの透明樹脂層側のシート抵抗を実施例1と同様に測定した結果、0.02Ω/□であり、良好な電磁波遮蔽性能を有することが確認された。また、光線透過率を実施例1と同様に測定した結果、64%であり、良好な透明性を備えることが確認された。
[Example 3]
Example 1 except that a continuous convex body having a wedge-shaped cross section (bottom side of 20 μm, height of 105 μm) is disposed in a lattice shape at a pitch of 140 μm on a flat plate is used as a groove forming die. The front filter of the present invention was produced in the same manner as described above.
The sheet resistance on the transparent resin layer side of the front filter thus obtained was measured in the same manner as in Example 1. As a result, it was 0.02Ω / □, and it was confirmed that the sheet had good electromagnetic wave shielding performance. Moreover, as a result of measuring light transmittance similarly to Example 1, it is 64%, and it was confirmed that it has favorable transparency.

プラズマディスプレイの製造において有用である。   Useful in the manufacture of plasma displays.

本発明の前面フィルターの一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of the front filter of this invention. 図1に示される前面フィルターのA−A線矢視拡大断面図である。It is an AA arrow expanded sectional view of the front filter shown by FIG. 本発明の前面フィルターを構成する黒色樹脂を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the black resin which comprises the front filter of this invention. 本発明の前面フィルターを構成する溝部の断面形状を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the cross-sectional shape of the groove part which comprises the front filter of this invention. 本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す部分平面図である。It is a fragmentary top view which shows other embodiment of the front filter of this invention. 図5に示される前面フィルターのB−B線矢視拡大断面図である。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the front filter shown in FIG. 本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す部分平面図である。It is a fragmentary top view which shows other embodiment of the front filter of this invention. (A)は図7に示される前面フィルターのC−C線矢視拡大断面図であり、(B)は図7に示される前面フィルターのD−D線矢視拡大断面図である。(A) is CC sectional view expanded sectional drawing of the front filter shown by FIG. 7, (B) is DD sectional view enlarged sectional view of the front filter shown by FIG. 本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す図2相当の断面図である。It is sectional drawing equivalent to FIG. 2 which shows other embodiment of the front filter of this invention. 本発明の前面フィルターの他の実施形態を示す図2相当の断面図である。It is sectional drawing equivalent to FIG. 2 which shows other embodiment of the front filter of this invention. 本発明の前面フィルターの製造方法の一例を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the front filter of this invention. 本発明の前面フィルターの製造方法の他の例を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the other example of the manufacturing method of the front filter of this invention. 本発明のプラズマディスプレイの一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the plasma display of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,11,21,31,31′…前面フィルター
2,12,22…透明フィルム基材
3,13,23…透明樹脂層
4,14,24…溝部
4a,14a,24a…溝部の最奥部
5,15,25…黒色樹脂
6,16,26…導電材
17…導電性ストライプ
33…近赤外線・Ne光遮蔽層
34…紫外線吸収層
36…反射防止層
71…プラズマディスプレイ
72…プラズマディスプレイパネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11, 21, 31, 31 '... Front filter 2, 12, 22 ... Transparent film base material 3, 13, 23 ... Transparent resin layer 4, 14, 24 ... Groove part 4a, 14a, 24a ... Deepest part of a groove part 5, 15, 25 ... Black resin 6, 16, 26 ... Conductive material 17 ... Conductive stripe 33 ... Near infrared / Ne light shielding layer 34 ... Ultraviolet absorbing layer 36 ... Antireflection layer 71 ... Plasma display 72 ... Plasma display panel

Claims (9)

透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に設けられ透明樹脂層とを備え、該透明樹脂層は前記透明フィルム基材と反対側の表面に複数の溝部を平行に備え、該溝部には、黒色樹脂と該黒色樹脂上に位置する導電材が充填され、前記黒色樹脂は前記溝部の最奥部から深さの1/2以上となるように少なくとも前記溝部の壁面を被覆するよう配設されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルター。   A transparent film substrate and a transparent resin layer provided on one surface of the transparent film substrate, the transparent resin layer having a plurality of grooves in parallel on the surface opposite to the transparent film substrate, The groove portion is filled with a black resin and a conductive material located on the black resin, and the black resin covers at least the wall surface of the groove portion so as to be 1/2 or more of the depth from the innermost portion of the groove portion. A front filter for a plasma display, characterized by being arranged as described above. 相互に平行な複数の導電性ストライプが前記溝部と交差するように前記透明樹脂層の表面に配設され、かつ、該導電性ストライプは前記溝部内に位置する前記導電材と接触することを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。   A plurality of conductive stripes parallel to each other are disposed on the surface of the transparent resin layer so as to intersect the groove portions, and the conductive stripes are in contact with the conductive material located in the groove portions. The front filter for a plasma display according to claim 1. 透明フィルム基材と、該透明フィルム基材の一方の面に設けられ透明樹脂層とを備え、該透明樹脂層は前記透明フィルム基材と反対側の表面に格子形状に形成された溝部を備え、該溝部には、黒色樹脂と該黒色樹脂上に位置する導電材が充填され、前記黒色樹脂は前記溝部の最奥部から深さの1/2以上となるように少なくとも前記溝部の壁面を被覆するように配設されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルター。   A transparent film substrate and a transparent resin layer provided on one surface of the transparent film substrate, the transparent resin layer having grooves formed in a lattice shape on the surface opposite to the transparent film substrate The groove is filled with a black resin and a conductive material positioned on the black resin, and the black resin has at least the wall surface of the groove so as to be at least half of the depth from the innermost part of the groove. A front filter for a plasma display, wherein the front filter is disposed so as to cover. 前記透明樹脂層の厚みは50〜500μmの範囲であり、前記溝部の深さは75〜300μm、幅は10〜80μm、ピッチは50〜300μmの範囲であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。   The thickness of the transparent resin layer is in the range of 50 to 500 µm, the depth of the groove is 75 to 300 µm, the width is 10 to 80 µm, and the pitch is in the range of 50 to 300 µm. Item 4. The front filter for plasma display according to any one of Items 3 to 4. 前記透明樹脂層が形成されていない前記透明フィルム基材面に、近赤外線遮蔽層、Ne光遮蔽層、紫外線吸収層の少なくとも1層を有することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。   5. The transparent film substrate surface on which the transparent resin layer is not formed has at least one of a near infrared shielding layer, a Ne light shielding layer, and an ultraviolet absorption layer. A front filter for a plasma display according to claim 1. 前記透明樹脂層が形成されていない前記透明フィルム基材面に、最外層となるように反射防止層を有することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルター。   6. The front surface for a plasma display according to claim 1, further comprising an antireflection layer on the surface of the transparent film base on which the transparent resin layer is not formed so as to be an outermost layer. filter. 平行に対向して配設された前面板および背面板と、前記前面板と背面板との間に形成された多数のセルとを有するプラズマディスプレイパネルと、該プラズマディスプレイパネルの前面板側に配設された前面フィルターとを備え、該前面フィルターは請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用前面フィルターであり、前面フィルターの透明樹脂層側をプラズマディスプレイパネルの前面板に対向するように配設されていることを特徴とするプラズマディスプレイ。   A plasma display panel having a front plate and a back plate disposed in parallel to each other, and a large number of cells formed between the front plate and the back plate, and disposed on the front plate side of the plasma display panel The front filter is a front filter for a plasma display according to any one of claims 1 to 6, wherein the transparent resin layer side of the front filter faces the front plate of the plasma display panel. A plasma display, characterized by being arranged to do so. 前記前面板と前記前面フィルターとの間に他の基材が介在することを特徴とする請求項7に記載のプラズマディスプレイ。   The plasma display according to claim 7, wherein another base material is interposed between the front plate and the front filter. 前記基材は、前記前面板と空間を設けて配設されたガラス基板であることを特徴とする請求項8に記載のプラズマディスプレイ。   The plasma display according to claim 8, wherein the base material is a glass substrate provided with a space with the front plate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011085938A (en) * 2009-10-16 2011-04-28 Samsung Corning Precision Materials Co Ltd Optical filter for display apparatus and display apparatus equipped with the same
JP2011189548A (en) * 2010-03-12 2011-09-29 Dainippon Printing Co Ltd Mold, method of producing mold, prism sheet, optically functional sheet, optical filter and video display apparatus
JP2011242730A (en) * 2010-05-21 2011-12-01 Wise Micro Technology Corp Color display device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032686A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacturing method of conductor layer pattern and electromagnetic wave shielding body
JP2006201794A (en) * 2005-01-21 2006-08-03 Lg Electronics Inc Heat dissipation sheet for flat display apparatus, and flat display apparatus including the same
WO2007037329A1 (en) * 2005-09-28 2007-04-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electromagnetic wave shield filter
JP2007183645A (en) * 2005-12-30 2007-07-19 Samsung Corning Co Ltd External light-shielding layer, display filter including external light-shielding layer and display apparatus including display filter
JP2007243185A (en) * 2006-03-08 2007-09-20 Samsung Corning Co Ltd Display filter and display device including the same
JP2007272161A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Dainippon Printing Co Ltd Front filter for pdp
JP2008277808A (en) * 2007-04-26 2008-11-13 Samsung Corning Precision Glass Co Ltd Optical member for display apparatus and filter for display apparatus having the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032686A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Hitachi Chem Co Ltd Manufacturing method of conductor layer pattern and electromagnetic wave shielding body
JP2006201794A (en) * 2005-01-21 2006-08-03 Lg Electronics Inc Heat dissipation sheet for flat display apparatus, and flat display apparatus including the same
WO2007037329A1 (en) * 2005-09-28 2007-04-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electromagnetic wave shield filter
JP2007183645A (en) * 2005-12-30 2007-07-19 Samsung Corning Co Ltd External light-shielding layer, display filter including external light-shielding layer and display apparatus including display filter
JP2007243185A (en) * 2006-03-08 2007-09-20 Samsung Corning Co Ltd Display filter and display device including the same
JP2007272161A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Dainippon Printing Co Ltd Front filter for pdp
JP2008277808A (en) * 2007-04-26 2008-11-13 Samsung Corning Precision Glass Co Ltd Optical member for display apparatus and filter for display apparatus having the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011085938A (en) * 2009-10-16 2011-04-28 Samsung Corning Precision Materials Co Ltd Optical filter for display apparatus and display apparatus equipped with the same
KR101195848B1 (en) * 2009-10-16 2012-10-30 삼성코닝정밀소재 주식회사 Optical filter for display device and display device having the same
JP2011189548A (en) * 2010-03-12 2011-09-29 Dainippon Printing Co Ltd Mold, method of producing mold, prism sheet, optically functional sheet, optical filter and video display apparatus
JP2011242730A (en) * 2010-05-21 2011-12-01 Wise Micro Technology Corp Color display device

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