JP2009051009A - Front filter for plasma display panel and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、層構成が簡単で製造工程が少なく生産性に優れ、全光線透過率が高く、低コストで実現できるプラズマディスプレイパネル用前面フィルター、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a front filter for a plasma display panel that has a simple layer structure, has few manufacturing steps, is excellent in productivity, has high total light transmittance, and can be realized at low cost, and a method for manufacturing the same.
プラズマディスプレイ(PDP, Plasma Display Panel)は、発光にプラズマ放電を利用していることから広い周波数領域にわたる電磁波が輻射される。
近年、デジタル機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されるようになっており、米国のFCC(連邦通信委員会:Federal Communications Commission)規格や日本のVCCI(情報処理装置等電波障害自主規制協議会:Voluntary Control Council for Information Technology Equipment)による基準値内に抑えることが必要となる。
また、PDPは近赤外線を発することが知られており、コードレスヘッドフォン、リモコン等の電子機器の誤作動を引き起こすことがある。そのため、近赤外線を実用上問題ないレベルまで抑える必要がある。
更に、PDPは、その視認性を高めるために蛍光灯などの外部光源から照射された光源の反射が少ないことが求められる。また、発光色の色調補正をすることも重要であり、更には、使用上の観点からディスプレイ表面に埃が付着しないように帯電防止機能が必要とされている。
Since a plasma display (PDP, Plasma Display Panel) uses plasma discharge for light emission, electromagnetic waves over a wide frequency range are radiated.
In recent years, the influence of leakage electromagnetic waves from digital devices on the human body and other devices has been studied, and the FCC (Federal Communications Commission) standard in the United States and the Japanese VCCI (information processing equipment, etc.) It is necessary to keep it within the standard value by Voluntary Control Council for Information Technology Equipment.
Moreover, it is known that PDP emits near-infrared rays, which may cause malfunction of electronic devices such as cordless headphones and remote controllers. For this reason, it is necessary to suppress near infrared rays to a level where there is no practical problem.
Furthermore, the PDP is required to have less reflection of a light source irradiated from an external light source such as a fluorescent lamp in order to improve its visibility. It is also important to correct the color tone of the luminescent color. Furthermore, from the viewpoint of use, an antistatic function is required so that dust does not adhere to the display surface.
これらの要求に対して、一般に表示画面に、電磁波遮蔽フィルム、近赤外線遮蔽フィルム及び帯電防止機能を有する反射防止フィルムの少なくとも3枚の機能性フィルムを有する前面板を、前記反射防止フィルムが、最表面になるように配置する処置が講ぜられている(例えば特許文献1参照)。
しかしながら、この場合、少なくとも3枚の機能性フィルムを別々に作製して、それらを貼り合いしなければならず、生産性が悪かった。
In response to these requirements, a front plate having at least three functional films of an electromagnetic wave shielding film, a near-infrared shielding film, and an antireflection film having an antistatic function is generally used on the display screen. Measures have been taken to arrange the surfaces (see, for example, Patent Document 1).
However, in this case, at least three functional films must be prepared separately and bonded to each other, resulting in poor productivity.
これに対し、近年、コストダウンの面から、最表面の反射防止フィルムにおいて、その基材の反射防止層とは反対側の面に近赤外線遮蔽層を設けることにより、1枚のフィルムで、反射防止性能と近赤外線遮蔽層を兼ね備えた機能性フィルムが開発されている(例えば特許文献2参照)。 On the other hand, in recent years, from the viewpoint of cost reduction, in the outermost antireflection film, by providing a near-infrared shielding layer on the surface opposite to the antireflection layer of the base material, it is possible to reflect with one film A functional film having a prevention performance and a near-infrared shielding layer has been developed (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、特許文献2に記載の機能性フィルムを用いてPDP用前面フィルターを作成した場合においても、特許文献1に記載があるように、従来、電磁波遮蔽層は透明樹脂フィルム上に形成されていることから、最低2枚のフィルムと2度の貼り合わせ工程を必要とするため、製造工程が多く、製造歩留まりが悪かった。更には、機能として必要でないフィルムと粘着剤層を多用するため、全光線透過率の悪化、材料コストの増加といった問題が生じていた。
加えて、従来電磁波遮蔽層に用いられる電磁波遮蔽層としては、フォトリソグラフィ等のリソグラフィにより得られるエッチングメッシュや、スパッタ等で基材上に薄膜形成して作製した透明導電膜、触媒を含有したペーストをフィルム上にメッシュパターン印刷した後、メッキして作製したメッキメッシュが挙げられるが、これらの作製方法では、製造工程が多く、製造歩留まりが悪く、コストが高かった。また、メッキメッシュはメッキ工程を必要とすることから、環境汚染の問題が懸念される。
However, even when a front filter for PDP is prepared using the functional film described in
In addition, as an electromagnetic wave shielding layer conventionally used for an electromagnetic wave shielding layer, an etching mesh obtained by lithography such as photolithography, a transparent conductive film prepared by forming a thin film on a substrate by sputtering, a paste containing a catalyst A plating mesh produced by printing a mesh pattern on a film and then plating is mentioned. However, in these production methods, there are many production steps, production yield is poor, and cost is high. Moreover, since the plating mesh requires a plating process, there is a concern about the problem of environmental pollution.
本発明は、このような事情のもとで、帯電防止性能、紫外線遮蔽性能、近赤外線遮蔽性能及び電磁波遮蔽性能、好ましくは反射防止性能の全てを十分に満足し、層構成が簡単で製造工程が少なく生産性に優れ、全光線透過率が高く、低コストで実現できるPDP用前面フィルターを提供することを目的としてなされたものである。 Under such circumstances, the present invention sufficiently satisfies all of antistatic performance, ultraviolet shielding performance, near infrared shielding performance and electromagnetic shielding performance, preferably antireflection performance, and has a simple layer structure and a production process. The purpose of the present invention is to provide a front filter for a PDP that has a small amount, excellent productivity, high total light transmittance, and can be realized at low cost.
前記の目的を達成するために、本発明における第1の発明のPDP用前面フィルターは、紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムの前面側に直接もしくは1層以上の層を介して帯電防止性能を有するハードコート層を設けると共に、後面側に近赤外線遮蔽層を設けた透明積層フィルムと、電磁波遮蔽層を備えた透明基材とを粘着剤層を介して貼り合わせてなることを特徴とするものである。 In order to achieve the above object, the PDP front filter of the first invention in the present invention has antistatic performance directly or through one or more layers on the front side of the transparent resin film having ultraviolet shielding performance. A hard coat layer is provided, and a transparent laminated film provided with a near-infrared shielding layer on the rear surface side and a transparent substrate provided with an electromagnetic wave shielding layer are bonded together via an adhesive layer. is there.
尚、前面(側)、後面(側)とは、PDPに対する位置を指し、ディスプレイを見る者側を前面側、ディスプレイの内側(装置内部側)を後面側とする。 The front surface (side) and the rear surface (side) refer to positions relative to the PDP, and the viewer side is the front surface side, and the inside of the display (inside the apparatus) is the rear surface side.
第2の発明のPDP用前面フィルターは、前記電磁波遮蔽層が、導電性材料を格子状にパターン印刷してなる層(メッシュ状金属層)であることを特徴とするものである。 The front filter for PDP of the second invention is characterized in that the electromagnetic wave shielding layer is a layer (mesh-like metal layer) formed by pattern-printing a conductive material in a grid pattern.
第3の発明のPDP用前面フィルターは、前記粘着剤層が、色補正機能を有する層であることを特徴とするものである。 In the front filter for PDP of the third invention, the pressure-sensitive adhesive layer is a layer having a color correction function.
第4の発明のPDP用前面フィルターは、前記ハードコート層の前面側に減反射層が設けられていることを特徴とするものである。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a PDP front filter, wherein a dereflection layer is provided on the front side of the hard coat layer.
第5の発明のPDP用前面フィルターは、前記PDP用前面フィルターを構成する各層を全てウエットコーティングにより形成することを特徴とするものである。 The PDP front filter according to a fifth aspect of the present invention is characterized in that all the layers constituting the PDP front filter are all formed by wet coating.
第6の発明のPDP用前面フィルターの製造方法は、前記PDP用前面フィルターを構成する各層を全てウエットコーティングにより形成することを特徴とするものである。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for producing a PDP front filter, wherein all the layers constituting the PDP front filter are formed by wet coating.
本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
第1の発明のPDP用前面フィルターは、1枚のフィルム(透明積層フィルム)が紫外線遮蔽性能、帯電防止性能、近赤外線遮蔽性能を有しているので、層構成が簡単で製造工程が少なく生産性に優れる。更に、前記透明積層フィルムと、電磁波遮蔽性能を備えた透明基材とを粘着剤層を介して貼り合わせてPDP用前面フィルターを構成するため、透明樹脂フィルムを一枚しか使用しなくて良く、前記従来の複数枚のフィルムを用いた構成に比べて全光線透過率が向上し、更には、歩留まりを低下させる貼り合わせ工程を1回しか必要とせず、生産性に優れ、低コストに実現できる。
According to the present invention, the following effects can be exhibited.
The front filter for PDP according to the first aspect of the invention is produced with a single layer (transparent laminated film) having ultraviolet shielding performance, antistatic performance, and near infrared shielding performance, so the layer structure is simple and the number of manufacturing processes is small. Excellent in properties. Furthermore, in order to construct the front filter for PDP by laminating the transparent laminated film and a transparent base material having electromagnetic wave shielding performance via an adhesive layer, it is necessary to use only one transparent resin film, Compared to the conventional configuration using a plurality of films, the total light transmittance is improved, and furthermore, only one bonding step for reducing the yield is required, which is excellent in productivity and can be realized at low cost. .
第2の発明のPDP用前面フィルターは、前記効果に加えて、電磁波遮蔽層が導電材料を格子状にパターン印刷してなる層(メッシュ状金属層)であることから、エッチングやメッキからなる電磁波遮蔽層と比較し、製造工程が少なく、生産性に優れ低コストに実現できる。 In addition to the above-described effect, the PDP front filter according to the second aspect of the invention is an electromagnetic wave formed by etching or plating because the electromagnetic wave shielding layer is a layer (mesh-like metal layer) obtained by pattern-printing a conductive material in a grid pattern. Compared to the shielding layer, the number of manufacturing steps is small, and it is excellent in productivity and can be realized at low cost.
第3の発明のPDP用前面フィルターは、前記効果に加えて、粘着剤層が色補正機能を備えていることから、色純度に優れたPDP用前面フィルターを提供することができる。 In addition to the above effects, the PDP front filter of the third invention can provide a PDP front filter having excellent color purity because the pressure-sensitive adhesive layer has a color correction function.
第4の発明のPDP用前面フィルターは、前記効果に加えて、ハードコート層の前面側に減反射層を設けていることから、蛍光灯などの外部光源から照射された光源の反射が少なく、視認性を向上させることができる。 In addition to the above effects, the front filter for PDP of the fourth invention has a reflection-reducing layer on the front surface side of the hard coat layer, so that there is little reflection of the light source irradiated from an external light source such as a fluorescent lamp Visibility can be improved.
第5の発明のPDP用前面フィルターは、前記効果に加えて、前記PDP用前面フィルターを構成する各層が、全てウエットコーティングにより形成されていることから、生産性に優れ低コストを実現できる。 In addition to the above effects, the PDP front filter according to the fifth aspect of the invention is excellent in productivity and low cost because all the layers constituting the PDP front filter are all formed by wet coating.
第6の発明のPDP用前面フィルターの製造方法は、前記第5の発明にて説明したように前記PDP用前面フィルターを構成する各層を、全てウエットコーティングにより形成することから、前記の優れた特性を有するPDP用前面フィルターを容易に量産でき、実用的価値が高いものである。 Since the manufacturing method of the front filter for PDP of 6th invention forms all the layers which comprise the said front filter for PDP by wet coating as demonstrated in the said 5th invention, the said outstanding characteristic The front filter for PDP having the above can be easily mass-produced and has high practical value.
図1には本発明のPDP用前面フィルターの例の縦断面説明図が示されている。尚、各図においては、上方が表面側(前面側)、下方側が裏面側(後面側=PDPを配する側)となる。図1において、PDP用前面フィルター1は、紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルム6と、その表面側に形成された帯電防止性能を有するハードコート層5(図面では更にその表面側に減反射層11が設けられている)と、裏面側に形成された近赤外線遮蔽層7と、更にその裏面側に色補正能を有する粘着剤層8を設けた透明積層フィルム3と、電磁波遮蔽層9を備えた透明基材(ガラス基材)10とを貼り合わせることで形成される。尚、図面符号2はハードコートフィルム、4は電磁波遮蔽層付ガラスである。
尚、本明細書における透明又は透明性とは、光透過率や透明度を限定するものではなく、PDPの視認に支障を極力与えることがない意味で用いている。
FIG. 1 shows a longitudinal sectional view of an example of a front filter for PDP of the present invention. In each figure, the upper side is the front side (front side), and the lower side is the back side (rear side = side where the PDP is arranged). In FIG. 1, a PDP front filter 1 includes a
In the present specification, the term “transparency” or “transparency” does not limit the light transmittance or transparency, and is used in the sense that it does not impede the visual recognition of the PDP as much as possible.
(紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルム6)
本発明における透明樹脂フィルムとしては、透明性及び紫外線遮蔽性能を有している限り特に限定するものではないが、反射を抑えるため、屈折率(n)が1.55〜1.70の範囲内のものが好ましい。係る透明樹脂フィルムの材質としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET、n=1.65)等のポリエステル、ポリカーボネート(PC、n=1.59)、ポリアリレート(PAR、n=1.60)及びポリエーテルスルフォン(PES、n=1.65)等が好ましい。これらのうち、ポリエステルフィルム特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性、入手の容易性及びコストの点で好ましい。
また、透明樹脂フィルムの厚さは、好ましくは25〜400μm、さらに好ましくは50〜200μmである。
この紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムとしては、透明樹脂フィルム中に透明性を損なわない範囲で紫外線吸収剤が混入されていればよい。この紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤が用いられ、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物等が好ましく、これらのうちベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が特に好ましい。これらの紫外線吸収剤の含有量としては、波長380nm以下の紫外線の光線透過率が5%以下になるように添加するのがよく、3%以下になるように添加するのがより好ましく、1%以下になるように添加するのが特に好ましい。波長380nm以下の光線透過率が5%を越える場合、粘着剤層中の色素に対して十分な紫外線遮蔽効果が望めないため好ましくない。加えて、透明樹脂フィルムには、各種の添加剤が含有されていても良い。そのような添加剤として例えば前記以外の紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。尚、この紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムとしては、既に紫外線吸収剤を練り込んだPETフィルムが市場に供されているので、それを用いてもよい(後述する実施例にて使用している)。
(
Although it does not specifically limit as a transparent resin film in this invention as long as it has transparency and ultraviolet-ray shielding performance, In order to suppress reflection, refractive index (n) exists in the range of 1.55-1.70. Are preferred. Examples of the material of the transparent resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET, n = 1.65), polycarbonate (PC, n = 1.59), polyarylate (PAR, n = 1.60), and polyether. Sulfone (PES, n = 1.65) or the like is preferable. Among these, a polyester film, particularly a polyethylene terephthalate film is preferable in terms of ease of molding, availability, and cost.
Moreover, the thickness of a transparent resin film becomes like this. Preferably it is 25-400 micrometers, More preferably, it is 50-200 micrometers.
As the transparent resin film having the ultraviolet shielding performance, an ultraviolet absorber may be mixed in the transparent resin film as long as the transparency is not impaired. As this ultraviolet absorber, a known ultraviolet absorber is used, for example, a salicylic acid compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, a cyclic imino ester compound, etc., among which a benzophenone compound and a benzotriazole compound are preferable. A cyclic imino ester compound is particularly preferable. The content of these ultraviolet absorbers is preferably added so that the light transmittance of ultraviolet rays having a wavelength of 380 nm or less is 5% or less, more preferably 3% or less. It is particularly preferable to add so as to be as follows. When the light transmittance at a wavelength of 380 nm or less exceeds 5%, a sufficient ultraviolet shielding effect cannot be expected for the dye in the pressure-sensitive adhesive layer, which is not preferable. In addition, the transparent resin film may contain various additives. Examples of such additives include ultraviolet absorbers other than those mentioned above, antistatic agents, stabilizers, plasticizers, lubricants, flame retardants and the like. In addition, as the transparent resin film having the ultraviolet shielding performance, since a PET film already kneaded with an ultraviolet absorber is available on the market, it may be used (used in Examples described later). ).
(ハードコート層5)
本発明におけるハードコート層は、帯電防止性能を有するものであって、好ましくは紫外線硬化型樹脂、帯電防止剤、光重合開始剤を含有する材料(=ハードコート層形成用組成物)から形成される。
(Hard coat layer 5)
The hard coat layer in the present invention has antistatic properties, and is preferably formed from a material (= hard coat layer forming composition) containing an ultraviolet curable resin, an antistatic agent, and a photopolymerization initiator. The
前記ハードコート層形成用組成物に添加される紫外線硬化型樹脂は、紫外線を照射することにより、硬化反応を生じる樹脂であり、その種類は特に限定するものではない。具体的には、例えば単官能(メタ)アクリレート〔ここで、本明細書では(メタ)アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの双方を含む総称を意味する。〕、多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。これらのうち生産性及び硬度を両立させる観点より、紫外線硬化性多官能アクリレートを主成分として含む組成物が好ましい。そのような紫外線硬化性多官能アクリレートを含む組成物としては特に限定されるものではなく、例えば公知の紫外線硬化性多官能アクリレートを2種類以上混合したもの、紫外線硬化性ハードコート材として市販されているものが挙げられる。
前記紫外線硬化性多官能アクリレートとしては、特に限定するものではないが、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ビス(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ヘキサン等の多官能アルコールのアクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジアクリレート及びポリウレタンアクリレート等が好ましい。
The ultraviolet curable resin added to the composition for forming a hard coat layer is a resin that undergoes a curing reaction when irradiated with ultraviolet rays, and the type thereof is not particularly limited. Specifically, for example, monofunctional (meth) acrylate [in the present specification, (meth) acrylate means a generic name including both acrylate and methacrylate. ], Polyfunctional (meth) acrylates. Among these, from the viewpoint of achieving both productivity and hardness, a composition containing an ultraviolet curable polyfunctional acrylate as a main component is preferable. The composition containing such an ultraviolet curable polyfunctional acrylate is not particularly limited. For example, a mixture of two or more known ultraviolet curable polyfunctional acrylates is commercially available as an ultraviolet curable hard coat material. The thing that is.
The ultraviolet curable polyfunctional acrylate is not particularly limited, and examples thereof include dipentaerythritol hexaacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, tetramethylol methane triacrylate, trimethylol propane triacrylate, and 1,6-hexanediol diester. Acrylic derivatives of polyfunctional alcohols such as acrylate and 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane, polyethylene glycol diacrylate and polyurethane acrylate are preferred.
前記ハードコート層形成用組成物に添加される帯電防止剤は、公知のものが使用できるが、金属酸化物としては、例えばITO(インジウム−錫複合酸化物)、ATO(アンチモン−錫複合酸化物)、酸化錫、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化チタン、アンチモン酸亜鉛、及び酸化アルミニウムなどが挙げられる。また、その配合量は、前記紫外線硬化型樹脂100質量部に対し、通常1〜20質量部の範囲で選ばれることが好ましい。 As the antistatic agent added to the hard coat layer forming composition, known ones can be used. Examples of the metal oxide include ITO (indium-tin composite oxide) and ATO (antimony-tin composite oxide). ), Tin oxide, antimony pentoxide, zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, zinc antimonate, and aluminum oxide. Moreover, it is preferable that the compounding quantity is normally selected in the range of 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said ultraviolet curable resins.
続いて、前記構成を有するハードコート層の形成方法は、好ましくはウエットコーティングにより形成され、具体的にはロールコート法、コイルバー法、ダイコート法、インクジェット法等、一般的なウェットコート法が採用される。
また、ハードコート層には前記の化合物(紫外線硬化型樹脂、帯電防止剤)以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分としては、前記の各成分の作用を阻害しない限り特に限定するものではないが、例えば無機又は有機顔料、重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。
さらに、このハードコート層は、好ましくはウェットコーティング法により成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って形成することができる。このような活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。
このハードコート層の厚さは、通常1〜20μmの範囲であることが好ましい。この厚さが1μm未満の場合には、十分な硬度を持たせることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが20μmを越える場合には、耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。
Subsequently, the method for forming the hard coat layer having the above-described configuration is preferably formed by wet coating, and specifically, a general wet coat method such as a roll coat method, a coil bar method, a die coat method, an ink jet method or the like is employed. The
Further, the hard coat layer may contain other components in addition to the above compounds (ultraviolet curable resin, antistatic agent) as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components are not particularly limited as long as they do not hinder the action of each of the above components, for example, inorganic or organic pigments, polymers, polymerization initiators, photopolymerization initiators, polymerization inhibitors, antioxidants, Examples thereof include additives such as a dispersant, a surfactant, a light stabilizer, and a leveling agent. Further, any amount of solvent can be added as long as it is dried after film formation by the wet coating method.
Furthermore, this hard coat layer can be formed by preferably carrying out a curing reaction by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams and heating, if necessary, after being formed by a wet coating method. Such a curing reaction using active energy rays is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.
The thickness of the hard coat layer is usually preferably in the range of 1 to 20 μm. When the thickness is less than 1 μm, it is difficult to impart sufficient hardness, which is not preferable. On the other hand, when the thickness exceeds 20 μm, problems such as a decrease in flex resistance occur, which is not preferable.
(近赤外線遮蔽層7)
次に、近赤外線遮蔽層について説明する。
本発明における近赤外線遮蔽層に含まれる近赤外線吸収剤は、有機系近赤外線吸収剤と無機系近赤外線吸収剤に分けられる。
前記無機系近赤外線吸収剤としては、例えば酸化タングステン系、酸化チタン系、酸化ジルコニウム系、酸化タンタル系、酸化亜鉛系、酸化インジウム系、錫ドープ酸化インジウム系、酸化錫系、アンチモンドープ酸化錫系、酸化セシウム系、酸化亜鉛系などが挙げられる。中でも、近赤外線の透過率が低く、可視光線の透過率が高いことから、酸化タングステン系が好ましく、特にセシウム含有酸化タングステンが好適である。
前記有機系近赤外線吸収剤としては、例えばポリメチン系、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール金属錯塩系、ナフトキノン系、アントロキノン系、トリフェニルメタン系、アミニウム系、ジインモニウム系等の色素が挙げられる。中でも、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム塩が好ましく用いられる。ジイモニウム塩としては、ビス{ビス(トリフルオロメタンスルホン)イミド酸}−N,N,N‘,N’−テトラキス(p−ジベンジルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム、ビス(1,3−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸)−N,N,N‘,N’−テトラキス(p−ジベンジルアミノフェニル)−p−フェニレンジイモニウム等が挙げられる。これらのジイモニウム塩は、単独又は2種類以上を併用しても良い。
上記ジイモニウム塩は、単独で用いることができるが、本発明の効果を損なわない限り、その他の有機系近赤外線吸収剤と組み合わせて用いることができる。近赤外線遮蔽層を形成する際には、前記近赤外線吸収剤を、溶解又は分散させた有機バインダーを用いて行うことができる。有機バインダーとしては、例えば、ポリオレフィン、ポリスチレン系化合物、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル、エポキシ樹脂や前記紫外線硬化性多官能アクリレート等が挙げられる。
上記近赤外線遮蔽層には、有機バインダー以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても良い。その他の成分は特に限定されるものではなく、例えば重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光重合開始剤等の添加剤当が挙げられる。
続いて、上記近赤外線遮蔽層の形成方法は、ウエットコーティングによるものであれば特に制限されず、ロールコート法、コイルバー法、ダイコート法、インクジェット法等、一般的なウェットコート法が採用される。
この近赤外線遮蔽層の厚さは、通常2〜20μmの範囲であることが好ましい。この厚さが2μm未満の場合には、近赤外線遮蔽性能を十分に発現させることが難しくなるため好ましくない。一方、厚さが20μmを越える場合には、耐屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。
(Near-infrared shielding layer 7)
Next, the near infrared shielding layer will be described.
The near-infrared absorber contained in the near-infrared shielding layer in this invention is divided into an organic near-infrared absorber and an inorganic near-infrared absorber.
Examples of the inorganic near infrared absorber include tungsten oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, tin-doped indium oxide, tin oxide, and antimony-doped tin oxide. Cesium oxide, zinc oxide, and the like. Among them, a tungsten oxide type is preferable because the transmittance of near infrared rays is low and the transmittance of visible light is high, and cesium-containing tungsten oxide is particularly preferable.
Examples of the organic near-infrared absorber include dyes such as polymethine, cyanine, phthalocyanine, naphthalocyanine, dithiol metal complex, naphthoquinone, anthroquinone, triphenylmethane, aminium, and diimmonium. Can be mentioned. Of these, diimonium salts containing sulfonimide as an anionic component are preferably used. As the diimonium salt, bis {bis (trifluoromethanesulfone) imidic acid} -N, N, N ′, N′-tetrakis (p-dibenzylaminophenyl) -p-phenylenediimonium, bis (1,3-disulfonyl) Hexafluoropropylimidic acid) -N, N, N ', N'-tetrakis (p-dibenzylaminophenyl) -p-phenylenediimonium and the like. These diimonium salts may be used alone or in combination of two or more.
Although the said diimonium salt can be used independently, unless the effect of this invention is impaired, it can be used in combination with another organic near-infrared absorber. When forming a near-infrared shielding layer, it can carry out using the organic binder which dissolved or disperse | distributed the said near-infrared absorber. Examples of the organic binder include polyolefins, polystyrene compounds, styrene-acrylic acid ester copolymers, poly (meth) acrylate alkyls, epoxy resins, and ultraviolet curable polyfunctional acrylates.
The near-infrared shielding layer may contain other components in addition to the organic binder as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components are not particularly limited, and examples thereof include additives such as a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dispersant, a surfactant, and a photopolymerization initiator.
Subsequently, the method for forming the near-infrared shielding layer is not particularly limited as long as it is based on wet coating, and general wet coating methods such as a roll coating method, a coil bar method, a die coating method, and an ink jet method are employed.
The thickness of the near infrared shielding layer is preferably in the range of usually 2 to 20 μm. When this thickness is less than 2 μm, it is difficult to sufficiently exhibit near-infrared shielding performance, which is not preferable. On the other hand, when the thickness exceeds 20 μm, problems such as a decrease in flex resistance occur, which is not preferable.
(粘着剤層8)
本発明における粘着剤層を構成する粘着剤としては、透明性を有している限り特に限定するものではないが、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤が好ましく用いられ、必要に応じて適宜硬化剤(架橋剤)等を配合してもよい。この粘着剤層の厚さは、通常5〜50μmの範囲であることが好ましい。また、この粘着剤層には、表示装置の発光色を色調補正するために、色素を含有させることが好ましい。この色素としては、可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定するものではないが、例えばアントラキノン系、フタロシアニン系、アゾ系、ポルフィリン系等の有機色素が挙げられる。その種類・濃度は、色素の吸収波長・吸収係数、そして分散させる媒体または塗膜の種類・厚さ等から決まり、特に限定されるものではない。尚、この粘着剤層は、前記図示実施例では透明積層フィルムの近赤外線遮蔽層の裏面側に設けたが、透明基材の電磁波遮蔽層の表面側に設けるようにしてもよい。
(Adhesive layer 8)
The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer in the present invention is not particularly limited as long as it has transparency. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, and a silicone pressure-sensitive adhesive are preferably used. You may mix | blend a hardening | curing agent (crosslinking agent) etc. suitably as needed. The thickness of this pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of 5 to 50 μm. The pressure-sensitive adhesive layer preferably contains a dye in order to correct the color tone of the display device. The dye may be a general dye or pigment having a desired absorption wavelength in the visible region, and the kind thereof is not particularly limited. For example, organic dyes such as anthraquinone, phthalocyanine, azo, and porphyrin are used. Can be mentioned. The type / concentration is determined by the absorption wavelength / absorption coefficient of the dye and the type / thickness of the medium or coating film to be dispersed, and is not particularly limited. In addition, although this adhesive layer was provided in the back surface side of the near-infrared shielding layer of a transparent laminated film in the said illustration example, you may make it provide in the surface side of the electromagnetic wave shielding layer of a transparent base material.
(電磁波遮蔽層9)
本発明における電磁波遮蔽層は、構成・組成などに格別の制限はなく、電磁波遮蔽性能と画像の透過性を有するように形成されたものであればよく、例えば金属箔をエッチングすることで作製したエッチングメッシュ、金属物質を蒸着、スパッタ等で透明基材の表面に薄膜形成して作製した透明導電膜、パラジウムなどの触媒を含有するペーストを透明基材の表面に格子状にパターン印刷してそれに金属メッキを施したメッキメッシュ、更には、導電性ペーストを透明基材の表面に格子状にパターン印刷した後焼成して形成したコーティングメッシュ等を用いることができる。
中でも、導電性ペーストを透明基材の表面に格子状にパターン印刷した後、焼成して形成したコーティングメッシュが電磁波遮蔽層には好ましい。導電性ペースト中に含まれる金属微粒子としては、金、銀、銅などの導電性に優れる金属が挙げられる。更に、金属微粒子の粒径は、印刷の観点から5μm以下が好ましく、1μm以下がより好ましい。
更に、前記のエッチングメッシュ及びメッキメッシュ、コーティングメッシュの電磁波遮蔽層の厚さは、1〜10μmである事が好ましく、線幅は30μm以下が好ましい。
この電磁波遮蔽層の形成方法は、ウエットコーティングによるものであれば特に限定するものではなく、ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビア印刷、インクジェット印刷等、一般的なウェットコート法が採用される。
(Electromagnetic wave shielding layer 9)
The electromagnetic wave shielding layer in the present invention is not particularly limited in composition and composition, and may be any film formed so as to have electromagnetic wave shielding performance and image transparency. For example, the electromagnetic wave shielding layer was produced by etching a metal foil. Etching mesh, transparent conductive film prepared by forming a thin film on the surface of a transparent substrate by vapor deposition, sputtering, etc., paste containing catalyst such as palladium is printed on the surface of the transparent substrate in a grid pattern A plating mesh subjected to metal plating, and a coating mesh formed by baking a conductive paste after pattern printing on the surface of a transparent base material in a grid pattern can be used.
In particular, a coating mesh formed by pattern-printing a conductive paste on the surface of a transparent base material and then baking it is preferable for the electromagnetic wave shielding layer. Examples of the metal fine particles contained in the conductive paste include metals having excellent conductivity such as gold, silver, and copper. Furthermore, the particle diameter of the metal fine particles is preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less from the viewpoint of printing.
Furthermore, the thickness of the electromagnetic shielding layer of the etching mesh, plating mesh, and coating mesh is preferably 1 to 10 μm, and the line width is preferably 30 μm or less.
The method for forming the electromagnetic wave shielding layer is not particularly limited as long as it is based on wet coating, and general wet coating methods such as direct gravure printing, offset gravure printing, and ink jet printing are employed.
(透明基材10)
本発明における透明基材としては、透明性を有している限り特に限定するものではないが前記電磁波遮蔽層を形成できるものが好ましく、主としてガラス基材を指すが、耐熱性に優れた透明樹脂成形体等でもよく、より具体的には例えば非強化のソーダライム系フロートガラス基材等を用いることができる。
(Transparent substrate 10)
The transparent substrate in the present invention is not particularly limited as long as it has transparency, but preferably can form the electromagnetic wave shielding layer, and mainly refers to a glass substrate, but is a transparent resin excellent in heat resistance. A molded body or the like may be used. More specifically, for example, a non-strengthened soda lime float glass substrate or the like can be used.
(減反射層11)
本発明における減反射層は、単層構成又は多層構成とすることができる。単層構成の場合には、ハードコート層の前面側に該ハードコート層よりも低い屈折率の層(低屈折率層)を1層形成する。また多層構成の場合には、ハードコート層の前面側に屈折率の異なる層を多層形態で積層する。多層構成とすることにより、反射率をより効果的に下げることができる。反射防止の効果の観点からは3層以上の構成が好ましく、生産性及び生産コストの観点からは単層構成又は2層構成が好ましい。
減反射層の形成方法は特に限定するものではなく、例えばドライコーティング法、ウェットコーティング法等の方法が採用される。これらの方法のうち、生産性及び生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法でよく、例えばロールコート法、スピンコート法、コイルバー法、ディップコート法等が代表的な方法である。これらの中では、ロールコート法等、連続的に減反射層を形成できる方法が生産性及び生産コストの点より好ましい。この減反射層の機能を発現させるために、形成される層がその直下の層よりも低屈折率であることを要件とし、その低屈折率層の屈折率としては1.20〜1.55の範囲にあることが好ましい。屈折率が1.55を越える場合にはウェットコーティング法では十分な反射防止効果を得ることが難しく、一方1.20未満の場合は十分に硬い層を形成することが困難となる傾向にある。
このような低屈折率層を構成する材料としては、例えば中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム等の無機微粒子や、有機重合体微粒子や、含フッ素有機化合物の単体又は混合物を用いることができる。また、フッ素を含まない有機化合物(以下、非フッ素系有機化合物と略記する)の単体若しくは混合物又は重合体をバインダー樹脂として用いることができる。
また、減反射層には、上記化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分は特に限定するものではなく、例えば無機又は有機顔料、重合体、重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤などの添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法によって成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。
さらに、この減反射層は、好ましくはウェットコーティング法により成膜した後、必要に応じて紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行って形成することができる。このような活性エネルギー線による硬化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下にて行うことが好ましい。
(Non-reflection layer 11)
The anti-reflection layer in the present invention can have a single layer structure or a multilayer structure. In the case of a single layer configuration, one layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer (low refractive index layer) is formed on the front side of the hard coat layer. In the case of a multilayer structure, layers having different refractive indexes are laminated in a multilayer form on the front side of the hard coat layer. By adopting a multilayer structure, the reflectance can be lowered more effectively. From the viewpoint of the antireflection effect, a structure of three or more layers is preferable, and from the viewpoint of productivity and production cost, a single-layer structure or a two-layer structure is preferable.
The method for forming the antireflection layer is not particularly limited, and for example, a dry coating method, a wet coating method, or the like is employed. Among these methods, the wet coating method is particularly preferable in terms of productivity and production cost. The wet coating method may be a known method, and for example, a roll coating method, a spin coating method, a coil bar method, a dip coating method, etc. are representative methods. In these, the method which can form a low reflection layer continuously, such as a roll coat method, is preferable from the point of productivity and production cost. In order to express the function of the reduced reflection layer, it is a requirement that the formed layer has a lower refractive index than the layer immediately below, and the refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55. It is preferable that it exists in the range. When the refractive index exceeds 1.55, it is difficult to obtain a sufficient antireflection effect by the wet coating method, whereas when it is less than 1.20, it tends to be difficult to form a sufficiently hard layer.
Examples of the material constituting the low refractive index layer include inorganic fine particles such as hollow silicon oxide, colloidal silicon oxide, lanthanum fluoride, and magnesium fluoride, organic polymer fine particles, and a simple substance or a mixture of fluorine-containing organic compounds. Can be used. In addition, a simple substance, a mixture, or a polymer of an organic compound not containing fluorine (hereinafter abbreviated as a non-fluorine organic compound) can be used as the binder resin.
The antireflection layer may contain other components in addition to the above compounds as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components are not particularly limited. For example, inorganic or organic pigments, polymers, polymerization initiators, photopolymerization initiators, polymerization inhibitors, antioxidants, dispersants, surfactants, light stabilizers, leveling agents. And additives. Further, any amount of solvent can be added as long as it is dried after film formation by the wet coating method.
Further, the anti-reflection layer can be formed by preferably performing a curing reaction by irradiation with an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam or heating, if necessary, after being formed by a wet coating method. Such a curing reaction using active energy rays is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.
(PDP用前面フィルターの製造方法)
本発明のPDP用前面フィルターの製造方法を、図面を参照しつつ説明する。
図1に例示したPDP用前面フィルター1の製造方法を説明する。
まず、前記構成の紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルム6の表面側(前面側)にハードコート層形成用組成物(塗布液)を塗布した後、紫外線を照射して硬化させることにより前記構成のハードコート層5が得られる。図面ではさらにそのその表面側(前面側)に前記構成の減反射層11を形成している。
また、前記透明樹脂フィルム6の裏面側(後面側)に近赤外線遮蔽層塗布液を塗布した後に乾燥することで前記構成の近赤外線遮蔽層7が得られる。
尚、前記表面側(前面側)のハードコート層5の形成(及び減反射層11の形成)と、上記裏面側(後面側)の近赤外線遮蔽層7の形成は、何れを先に行ってハードコートフィルム2を作製してもよい。
さらに、前記の近赤外線遮蔽層7の裏面側(後面側)に粘着剤としての塗布液を塗布し、乾燥、エージングすることで前記構成の粘着剤層8を形成して透明積層フィルム3とする。
更に、前記構成の透明基材(ガラス基材)10の表面側(前面側)に導電性ペーストを格子状にパターン印刷し、焼成することで前記構成の電磁波遮蔽層9を形成し、電磁波遮蔽層付きガラス4とする。
最後に、前記透明積層フィルム3と、電磁波遮蔽層9を形成した前記透明基材(ガラス基材)10とをラミネートすることにより、本発明のPDP用前面フィルター1を得ることができる。
(PDP front filter manufacturing method)
The manufacturing method of the front filter for PDP of this invention is demonstrated referring drawings.
A method for manufacturing the PDP front filter 1 illustrated in FIG. 1 will be described.
First, after applying the composition for forming a hard coat layer (coating solution) to the surface side (front side) of the
Moreover, the near-
The formation of the
Furthermore, the
Further, the conductive paste is pattern-printed in a lattice pattern on the front side (front side) of the transparent substrate (glass substrate) 10 having the above-described configuration, and the electromagnetic wave shielding layer 9 having the above-described configuration is formed by baking. Let it be the
Finally, the PDP front filter 1 of the present invention can be obtained by laminating the transparent
以下に、製造例、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。各例におけるPDP用前面フィルターの性能は、下記の方法に従って評価した。 Hereinafter, the embodiment will be described more specifically with reference to production examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. The performance of the front filter for PDP in each example was evaluated according to the following method.
[評価方法]
(1)全光線透過率:
ヘイズメーター(日本電色社製、型式:NDH 2000)を用いて測定
(2)ヘイズ値:
ヘイズメーター(日本電色社製、型式:NDH 2000)を用いて測定
(3)最小反射率:
紫外可視分光光度計(日本分光製、型式:V−560)を用いて測定
(4)紫外線、近赤外線透過率:
サンプルを紫外可視分光光度計(日本分光製、型式:V−560)を用いて測定し、380nm以下、590nm、850nm、950nmの各波長における紫外線、近赤外線透過率(%)を読み取った。
(5)密着性:
ハードコート層を設けた面側をJIS D0202−1998に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。セロハンテープ(ニチバン(株)製、CT24)を用い、フィルムに密着させた後、剥離した。判定は100マスの内、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を100/100、完全に剥離する場合を0/100として表した。
(6)鉛筆硬度:
JISK5400に準拠して鉛筆で引っかき試験を行った。
(7)表面抵抗率:
JISK6911−1995に準拠して、デジタル絶縁計([SM−8220]、東亜ディーケーケー(株)製)を用いて測定した。
(8)電磁波遮蔽性:
KEC法を用いて測定した。
[Evaluation methods]
(1) Total light transmittance:
Measured using a haze meter (Nippon Denshoku Co., Ltd., model: NDH 2000) (2) Haze value:
Measured using a haze meter (Nippon Denshoku, Model: NDH 2000) (3) Minimum reflectance:
Measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by JASCO, model: V-560) (4) UV and near-infrared transmittance:
The sample was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by JASCO, model: V-560), and ultraviolet and near-infrared transmittances (%) at wavelengths of 380 nm or less, 590 nm, 850 nm, and 950 nm were read.
(5) Adhesion:
A cross-cut peeling tape test was performed on the surface side provided with the hard coat layer in accordance with JIS D0202-1998. After using cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., CT24) to adhere to the film, it was peeled off. Judgment is represented by the number of squares that do not peel out of 100 squares, and the case where peeling does not occur is 100/100, and the case where peeling completely occurs is represented as 0/100.
(6) Pencil hardness:
A scratch test was performed with a pencil in accordance with JISK5400.
(7) Surface resistivity:
Based on JISK6911-1995, it measured using the digital insulation meter ([SM-8220], the Toa DK Corporation make).
(8) Electromagnetic wave shielding properties:
Measurements were made using the KEC method.
〔実施例1〕
紫外線遮蔽性能を有する透明樹脂フィルムとして厚み100μmのPETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製、商品名;HB3)を用い、その表面側(前面側)にジペンタエリスリトールヘキサアクリレート95質量部、帯電防止剤としてアンチモンドープ酸化錫(石原産業(株)製、商品名;SNS−10M)17質量部、光重合開始剤(チバスペシャルティケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア184)4質量部を含むハードコート層用塗料を、乾燥膜厚が5μm程度になるように塗工し、乾燥後、紫外線を照射することでハードコート層を形成した。
次に、裏面側(後面側)に有機系近赤外線吸収剤(日本カーリット(株)製、商品名;CIR−1085F)5.0質量部、バインダー樹脂としてアクリル系樹脂(三菱レイヨン(株)製、商品名:ダイヤナールBR−80)100質量部、メチルエチルケトン450質量部及びトルエン450質量部を含む近赤外線遮蔽層塗布液を、乾燥膜厚が10μm程度になるように塗工し、乾燥することで近赤外線遮蔽層を形成した。
続いて、前記近赤外線遮蔽層上に粘着剤(主剤)(綜研化学(株)製、商品名;SK−2094)100質量部、架橋剤(綜研化学(株)製、商品名;E−AX)2.7質量部を含む塗料を、乾燥膜厚が25μm程度になるように塗工し、乾燥後、エージングすることで粘着剤層を形成し、透明積層フィルムを得た。
更に続いて、電磁波遮蔽層を、ガラス基材上に形成した。導電性ペースト(大研化学工業(株)、商品名;NAG−10)を乾燥膜厚が10μmとなるようL/S(線幅/スペース幅)=30/270(μm)の格子状にパターン印刷し、その後、300℃で10分間乾燥し作製した。
最後に、前記のように得られた透明積層フィルムと前記のように得られた電磁波遮蔽層を形成したガラス基材とをラミネートすることにより前記図1構成(但し、減反射層は設けていない)のPDP用前面フィルターを形成した。
得られたPDP用前面フィルターの「全光線透過率」、「最小反射率」、「透過率」、「密着性」、「鉛筆硬度」、「表面抵抗率」、「電磁波遮蔽性」を評価した。その評価結果を表1に示す。
[Example 1]
A 100 μm thick PET film (trade name: HB3, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) is used as a transparent resin film having an ultraviolet shielding property, and 95 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate on the surface side (front side), antistatic Hardware containing 17 parts by mass of antimony-doped tin oxide (Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name: SNS-10M) and 4 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184) The coating material for the coat layer was applied so that the dry film thickness was about 5 μm, and after drying, a hard coat layer was formed by irradiating with ultraviolet rays.
Next, 5.0 parts by mass of an organic near-infrared absorber (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd., trade name; CIR-1085F) on the back side (rear side), an acrylic resin (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) as a binder resin , Trade name: Dianal BR-80) A near-infrared shielding layer coating solution containing 100 parts by weight, 450 parts by weight of methyl ethyl ketone and 450 parts by weight of toluene is applied so that the dry film thickness is about 10 μm and dried. A near-infrared shielding layer was formed.
Subsequently, 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive (main agent) (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name; SK-2094) on the near-infrared shielding layer, a cross-linking agent (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: E-AX) ) A coating containing 2.7 parts by mass was applied so that the dry film thickness was about 25 μm, and after drying, an adhesive layer was formed by aging to obtain a transparent laminated film.
Subsequently, an electromagnetic wave shielding layer was formed on the glass substrate. Conductive paste (Daiken Chemical Co., Ltd., trade name: NAG-10) is patterned in a lattice pattern of L / S (line width / space width) = 30/270 (μm) so that the dry film thickness is 10 μm. It was printed and then dried at 300 ° C. for 10 minutes.
Finally, by laminating the transparent laminated film obtained as described above and the glass substrate on which the electromagnetic wave shielding layer obtained as described above is laminated, the structure shown in FIG. 1 (however, no antireflection layer is provided). ) PDP front filter was formed.
The obtained front filter for PDP was evaluated for “total light transmittance”, “minimum reflectance”, “transmittance”, “adhesion”, “pencil hardness”, “surface resistivity”, and “electromagnetic wave shielding”. . The evaluation results are shown in Table 1.
〔実施例2〕
粘着剤層の粘着剤を色補正粘着剤とした以外は、前記実施例1と同様にしてPDP用前面フィルターを形成した。この色補正粘着剤としては、粘着剤(主剤)(綜研化学(株)製、商品名;SK−2094)100質量部、架橋剤(綜研化学(株)製、商品名;E−AX)2.7質量部、色素1(山田化学工業(株)製、商品名;TAP−2)0.02質量部、色素2(オリエント化学工業(株)、商品名;V.R.3304)0.02質量部、色素3(オリエント化学工業(株)、商品名;O.B.613)0.01質量部、色素4(オリエント化学工業(株)、商品名;V.G.2520)0.01質量部、溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)23質量部を含む粘着剤層用塗料を用いた。その評価結果を表1に示す。
[Example 2]
A front filter for PDP was formed in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive in the pressure-sensitive adhesive layer was changed to a color correction pressure-sensitive adhesive. As this color correction adhesive, 100 parts by mass of an adhesive (main agent) (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: SK-2094), a crosslinking agent (trade name: E-AX, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 2 0.7 parts by mass, dye 1 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd., trade name: TAP-2) 0.02 parts by mass, dye 2 (Orient Chemical Co., Ltd., trade name: VR. 3304) 02 parts by mass, Dye 3 (Orient Chemical Industry Co., Ltd., trade name: OB 613) 0.01 part by mass, Dye 4 (Orient Chemical Industry Co., Ltd., trade name; VG 2520) 0. A coating material for an adhesive layer containing 01 parts by mass and 23 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent was used. The evaluation results are shown in Table 1.
〔実施例3〕
ハードコート層の表面側に減反射層を形成した以外は、前記実施例2と同様にしてPDP用前面フィルターを形成した。この減反射層は次の通り形成した。パーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビスフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)104質量部及びビス(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7−ドデカフルオロヘプタノイル)パーオキサイドの8質量%パーフルオロヘキサン溶液11質量部の重合反応により得られるヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテル重合体(数平均分子量72,000、質量平均分子量118,000)5質量部、メチルエチルケトン(MEK)43質量部、ピリジン1質量部、及びα−フルオロアクリル酸フルオライド1質量部より重合性二重結合を有する含フッ素反応性重合体溶液(固形分13質量%、α‐フルオロアクリロイル基の導入率40モル%)を調製した。また、中空シリカゾル(触媒化成工業(株)製、商品名;ELCOM NY−1001SIV、イソプロピルアルコールによる中空シリカゾルの25%分散液、平均粒径:60nm)2000質量部、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名;KBM5103)70質量部、及び蒸留水80質量部を混合して変性中空シリカ微粒子(ゾル)(平均粒子径:60nm)を調製した。そして、前記含フッ素反応性重合体溶液50質量部と、変性中空シリカ微粒子50質量部と、光重合開始剤(チバスペシャルティケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア907)2質量部と、イソプロピルアルコール2000質量部とを混合して、低屈折率層塗布液を得た。そして、前記ハードコート層の表面側に前記のように得られた低屈折率層塗布液を、乾燥後の光学膜厚が110〜125nmになるようにグラビアコート法で塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で400mJ/cm2の出力で紫外線を照射して硬化させることにより、減反射層を作製した。その評価結果を表1に示す。
Example 3
A front filter for PDP was formed in the same manner as in Example 2 except that the antireflection layer was formed on the surface side of the hard coat layer. This antireflection layer was formed as follows. 104 parts by mass of perfluoro- (1,1,9,9-tetrahydro-2,5-bisfluoromethyl-3,6-dioxanonenol) and bis (2,2,3,3,4,4,4) 5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptanoyl) peroxide-containing fluorine-containing allyl ether polymer (number average molecular weight 72) obtained by polymerization reaction of 11 parts by mass of an 8% by mass perfluorohexane solution Fluorine-containing reactive heavy having a polymerizable double bond from 5 parts by mass, 43 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK), 1 part by mass of pyridine, and 1 part by mass of α-fluoroacrylic acid fluoride. A combined solution (solid content 13% by mass, α-fluoroacryloyl group introduction rate 40 mol%) was prepared. Also, hollow silica sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: ELCOM NY-1001SIV, 25% dispersion of hollow silica sol with isopropyl alcohol, average particle size: 60 nm) 2000 parts by mass, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM5103) 70 parts by mass and 80 parts by mass of distilled water were mixed to prepare modified hollow silica fine particles (sol) (average particle size: 60 nm). And 50 parts by mass of the fluorine-containing reactive polymer solution, 50 parts by mass of the modified hollow silica fine particles, 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 907), and isopropyl alcohol 2000 parts by mass was mixed to obtain a low refractive index layer coating solution. Then, the low refractive index layer coating solution obtained as described above is applied to the surface side of the hard coat layer by a gravure coating method so that the optical film thickness after drying becomes 110 to 125 nm, and after drying, nitrogen A reduced reflection layer was prepared by irradiating and curing ultraviolet rays at an output of 400 mJ /
表1の実施例1の結果から明らかなように、本発明のPDP用前面フィルターは、帯電防止性、近赤外線遮蔽性、紫外線遮蔽性、電磁波遮蔽性を十分に満足し、更には、全ての層はウエットコーティングにより形成されているため、低コストで実現できる。
また、色補正機能を有する粘着剤を使用した実施例2の結果より、590nmの透過率を適度にカットし、色再現性に優れたPDP用前面フィルターが作製可能であることが確認された。
最後に、実施例3では減反射層を形成していることから、更に、外光の反射や映り込みを抑えたPDP用前面フィルターの提供が可能となる。
As is apparent from the results of Example 1 in Table 1, the front filter for PDP of the present invention sufficiently satisfies the antistatic property, the near infrared shielding property, the ultraviolet shielding property, and the electromagnetic wave shielding property. Since the layer is formed by wet coating, it can be realized at low cost.
Moreover, it was confirmed from the result of Example 2 using the adhesive which has a color correction function that the transmittance | permeability of 590 nm is cut moderately and the front filter for PDP excellent in color reproducibility is producible.
Finally, since the anti-reflection layer is formed in Example 3, it is possible to provide a front filter for PDP that further suppresses reflection and reflection of external light.
1 PDP用前面フィルター
2 ハードコートフィルム
3 透明積層フィルム
4 電磁波遮蔽層付ガラス
5 ハードコート層
6 透明樹脂フィルム
7 近赤外線遮蔽層
8 粘着剤層
9 電磁波遮蔽層
10 透明基材(ガラス基材)
11 減反射層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front filter for
11 Anti-reflection layer
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007216949A JP2009051009A (en) | 2007-08-23 | 2007-08-23 | Front filter for plasma display panel and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2007216949A JP2009051009A (en) | 2007-08-23 | 2007-08-23 | Front filter for plasma display panel and method of manufacturing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009051009A true JP2009051009A (en) | 2009-03-12 |
Family
ID=40502543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007216949A Pending JP2009051009A (en) | 2007-08-23 | 2007-08-23 | Front filter for plasma display panel and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009051009A (en) |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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