JP2009133869A - Radiation image conversion panel and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、蛍光体を用いた放射線画像変換パネル及びその製造方法に関し、詳しくは蒸着法により形成された蛍光体層と支持体との接着性の向上した放射線画像変換パネル及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a radiation image conversion panel using a phosphor and a method for producing the same, and more particularly to a radiation image conversion panel having improved adhesion between a phosphor layer formed by vapor deposition and a support and a method for producing the same.
X線画像のような放射線画像は、病気診断用等の分野で多く用いられている。このX線画像を得る方法としては、被写体を通過したX線を蛍光体層(蛍光スクリーン)に照射し、これにより可視光を生じさせた後、この可視光を通常の写真を撮るときと同様にして、ハロゲン化銀写真感光材料(以下、単に感光材料ともいう)に照射し、次いで現像処理を施して可視銀画像を得る、いわゆる放射線写真方式が広く利用されている。 Radiation images such as X-ray images are often used in fields such as disease diagnosis. The X-ray image is obtained by irradiating the phosphor layer (phosphor screen) with X-rays that have passed through the subject, thereby generating visible light, and then using this visible light as when taking a normal photograph. Thus, a so-called radiographic method in which a silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter also simply referred to as a light-sensitive material) is irradiated and then developed to obtain a visible silver image is widely used.
しかしながら、近年では、ハロゲン化銀塩を有する感光材料による画像形成方法に代わり、蛍光体層から直接画像を取り出す新たな方法が提案されている。 However, in recent years, a new method for taking out an image directly from a phosphor layer has been proposed instead of an image forming method using a photosensitive material having a silver halide salt.
この方法としては被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収せしめ、しかる後この蛍光体を例えば光または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が上記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出し画像化する方法がある。 In this method, the radiation transmitted through the subject is absorbed by the phosphor, and then the phosphor is excited by light or heat energy, for example, so that the radiation energy accumulated by the absorption is emitted as fluorescence. There is a method for detecting and imaging this fluorescence.
具体的には、例えば、米国特許第3,859,527号及び特開昭55−12144号等に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線画像変換方法が知られている。 Specifically, for example, a radiation image conversion method using a stimulable phosphor as described in U.S. Pat. No. 3,859,527 and JP-A-55-12144 is known.
この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線画像変換パネルを使用するもので、この放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線を当てて、被写体各部の放射線透過密度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて、その後、輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線等の電磁波(励起光)で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを輝尽発光として放出させ、この光の強弱による信号を、例えば、光電変換して、電気信号を得て、この信号をハロゲン化銀写真感光材料等の記録材料、CRT等の表示装置上に可視像として再生するものである。 This method uses a radiation image conversion panel containing a photostimulable phosphor. The radiation transmission density of each part of the subject is obtained by applying radiation transmitted through the subject to the photostimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel. Is stored in the stimulable phosphor by chronologically exciting the stimulable phosphor with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared light. Radiation energy is emitted as stimulated emission, and a signal based on the intensity of the light is photoelectrically converted to obtain an electrical signal, which is then used as a recording material such as a silver halide photographic material, or a display device such as a CRT. It is reproduced as a visible image on the top.
上記の放射線画像の再生方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せによる放射線写真法と比較して、はるかに少ない被曝線量で、かつ情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点を有している。 According to the above radiographic image reproduction method, it is possible to obtain a radiographic image with a much smaller exposure dose and abundant information as compared with the radiographic method using a combination of a conventional radiographic film and an intensifying screen. Has the advantage of being able to
このように輝尽性蛍光体は、放射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的には、波長が400〜900nmの範囲にある励起光によって、300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体が一般的に利用される。 Thus, the stimulable phosphor is a phosphor that exhibits stimulating light emission when irradiated with excitation light after being irradiated with radiation, but practically, with excitation light having a wavelength in the range of 400 to 900 nm, Phosphors exhibiting stimulated emission in the wavelength range of 300 to 500 nm are generally used.
これらの輝尽性蛍光体を使用した放射線画像変換パネルは、放射線画像情報を蓄積した後、励起光の走査によって蓄積エネルギーを放出するので、走査後に再度放射線画像の蓄積を行うことができ、繰り返し使用が可能である。つまり従来の放射線写真法では、一回の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線画像変換方法では放射線画像変換パネルを繰り返し使用するので、資源保護、経済効率の面からも有利である。 Radiation image conversion panels using these photostimulable phosphors release accumulated energy by scanning excitation light after accumulating radiation image information, so that radiation images can be accumulated again after scanning. Can be used. In other words, the conventional radiographic method consumes a radiographic film for each photographing, whereas this radiographic image conversion method repeatedly uses a radiographic image conversion panel, so that also from the viewpoint of resource protection and economic efficiency. It is advantageous.
放射線画像変換パネルを使用した放射線画像変換方式の優劣は、放射線画像変換パネルの輝尽性発光輝度及びパネルの発光均一性に大きく左右され、特に、これらの特性は用いる輝尽性蛍光体の特性が大きく支配されていることが知られている。 The superiority or inferiority of the radiation image conversion method using the radiation image conversion panel depends greatly on the stimulable emission luminance of the radiation image conversion panel and the light emission uniformity of the panel. In particular, these characteristics are the characteristics of the stimulable phosphor used. Is known to be largely dominated.
また、さまざま条件下で用いられる放射線画像変換パネルにおいて、支持体と蛍光体層との接着性が重要な特性の1つであり、特公平4−44959号では支持体と蛍光体層間に架橋剤を含有する下引き層を設ける方法が開示されているが、単に下引き層を設けるだけでは、その上に塗設される蛍光体層の乾燥過程で、蛍光体層に含まれる溶剤の拡散により、下引き層が溶解したり、あるいは変形により蛍光体層の面質が不均一となり、画像ムラを招く結果となる。 In the radiation image conversion panel used under various conditions, the adhesion between the support and the phosphor layer is one of the important characteristics. Japanese Patent Publication No. 4-44959 discloses a cross-linking agent between the support and the phosphor layer. Although a method for providing a subbing layer containing benzene is disclosed, simply providing a subbing layer causes a diffusion of a solvent contained in the phosphor layer during the drying process of the phosphor layer coated thereon. The surface layer of the phosphor layer becomes non-uniform due to dissolution or deformation of the undercoat layer, resulting in image unevenness.
また、蛍光体シートの製造過程において、支持体上に下引き層を形成後、一旦ロール状に積層した状態で巻き取ったり、あるいは規定のサイズのシート状とし、それらを積層して保存させる場合、積層された状態で一定期間保存されると下引き層と上部の支持体裏面とでブロッキング現象を起こし、接着してしまう故障がしばしば発生する。 In addition, in the process of manufacturing the phosphor sheet, after forming the undercoat layer on the support, it is wound up in a state where it is once laminated in a roll shape, or is formed into a sheet size of a prescribed size, and these are laminated and stored. When stored in a laminated state for a certain period of time, a failure occurs that causes a blocking phenomenon between the undercoat layer and the back surface of the upper support and causes adhesion.
このように、放射線画像変換パネルにおいては、支持体との接着性が改良された放射線画像変換パネルの開発が切望されている。 Thus, in the radiographic image conversion panel, development of the radiographic image conversion panel improved in adhesiveness with a support is desired.
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、蒸着法により形成された蛍光体層と支持体との接着性の向上した放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a radiation image conversion panel having improved adhesion between a phosphor layer formed by vapor deposition and a support, and a method for producing the same. is there.
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
1.支持体上に膜厚50μm以上の蛍光体層を蒸着法により形成する放射線画像変換パネルの製造方法において、該蛍光体層が母体と賦活剤を蒸着することにより形成され、排気装置、調圧ガス導入装置及び調圧ガス流量調節装置を有する蒸着装置内の真空度が1.33×10−2〜1.33Paで、かつ調圧ガスの流量が0.001〜1000sccm(sccm:standard cc/min(1×10−6m3/min))であり、かつ蛍光体層に含まれる蛍光体が柱状結晶を含有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 1. In a method for manufacturing a radiation image conversion panel in which a phosphor layer having a thickness of 50 μm or more is formed on a support by vapor deposition, the phosphor layer is formed by vapor-depositing a base material and an activator, and an exhaust device, pressure-regulating gas The degree of vacuum in the vapor deposition apparatus having the introduction apparatus and the pressure adjusting gas flow rate adjusting apparatus is 1.33 × 10 −2 to 1.33 Pa, and the pressure adjusting gas flow rate is 0.001 to 1000 sccm (sccm: standard cc / min). (1 × 10 −6 m 3 / min)), and the phosphor contained in the phosphor layer contains a columnar crystal.
2.調圧ガスが窒素またはアルゴンであることを特徴とする上記1記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 2. 2. The method for producing a radiation image conversion panel as described in 1 above, wherein the pressure adjusting gas is nitrogen or argon.
3.蛍光体層が、前記一般式(1)で表される蛍光体を含有することを特徴とする上記1または2記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 3. 3. The method for producing a radiation image conversion panel according to 1 or 2 above, wherein the phosphor layer contains a phosphor represented by the general formula (1).
4.前記一般式(1)におけるM1がK、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であることを特徴とする上記3記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 4). 4. The method for producing a radiation image conversion panel as described in 3 above, wherein M 1 in the general formula (1) is at least one alkali metal selected from the group consisting of K, Rb and Cs.
5.前記一般式(1)におけるXがBr及びIから選ばれる少なくとも1種のハロゲンであることを特徴とする上記3または4記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 5. 5. The method for producing a radiation image conversion panel as described in 3 or 4 above, wherein X in the general formula (1) is at least one halogen selected from Br and I.
6.前記一般式(1)におけるM2がBe、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれる少なくとも1種の2価金属であることを特徴とする上記3〜5のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 6). M 2 in the general formula (1) is at least one divalent metal selected from Be, Mg, Ca, Sr and Ba, The radiation image according to any one of 3 to 5 above, A method for manufacturing a conversion panel.
7.前記一般式(1)におけるM3がY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であることを特徴とする上記3〜6のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 7. M 3 in the general formula (1) is at least one trivalent metal selected from the group consisting of Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In The manufacturing method of the radiographic image conversion panel of any one of 3-6.
8.前記一般式(1)におけるbが0≦b≦10−2であることを特徴とする上記3〜7のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 8). B in the said General formula (1) is 0 <= b <= 10 < -2 >, The manufacturing method of the radiation image conversion panel of any one of said 3-7 characterized by the above-mentioned.
9.前記一般式(1)におけるAが、Eu、Ce、Sm、Tl及びNaからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であることを特徴とする上記3〜8のいずれか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 9. The radiation according to any one of 3 to 8, wherein A in the general formula (1) is at least one metal selected from the group consisting of Eu, Ce, Sm, Tl, and Na. Manufacturing method of image conversion panel.
10.柱状結晶が下記一般式(2)で表される蛍光体を含有することを特徴とする上記9記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 10. 10. The method for producing a radiation image conversion panel as described in 9 above, wherein the columnar crystal contains a phosphor represented by the following general formula (2).
一般式(2)
CsX:yA
〔式中、XはBrまたはIを表し、AはEu、In、TbまたはCeを表す。yは1×10−7〜1×10−2までの数値を表す。〕
11.上記1〜10のいずれか1項に記載の製造方法で製造されることを特徴とする放射線画像変換パネル。
General formula (2)
CsX: yA
[Wherein, X represents Br or I, and A represents Eu, In, Tb or Ce. y represents a numerical value from 1 × 10 −7 to 1 × 10 −2 . ]
11. A radiation image conversion panel produced by the production method according to any one of 1 to 10 above.
本発明により、蒸着法により形成された蛍光体層と支持体との接着性の向上した放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供することができた。 According to the present invention, a radiation image conversion panel having improved adhesion between a phosphor layer formed by vapor deposition and a support and a method for producing the same can be provided.
本発明者は、支持体上に膜厚50μm以上の蛍光体層を蒸着法により形成する放射線画像変換パネルの製造方法において、該蛍光体層が母体と賦活剤を蒸着することにより形成され、排気装置、調圧ガス導入装置及び調圧ガス流量調節装置を有する蒸着装置内の真空度を1.33×10−2〜1.33Paとし、かつ調圧ガスの流量を0.001〜1000sccm(sccm:standard cc/min(1×10−6m3/min))とし、かつ蛍光体層に含まれる蛍光体が柱状結晶を含有することにより、感度及び鮮鋭性の劣化をほとんど引き起こすことなく、蛍光体と支持体との接着性が改良されることを見出した。 In the method for manufacturing a radiation image conversion panel in which a phosphor layer having a thickness of 50 μm or more is formed on a support by a vapor deposition method, the present inventor forms the phosphor layer by vapor-depositing a base material and an activator. The degree of vacuum in the vapor deposition apparatus having the apparatus, the pressure adjusting gas introducing device and the pressure adjusting gas flow rate adjusting device is 1.33 × 10 −2 to 1.33 Pa, and the flow rate of the pressure adjusting gas is 0.001 to 1000 sccm (sccm). : Standard cc / min (1 × 10 −6 m 3 / min)), and the phosphor contained in the phosphor layer contains columnar crystals, so that the sensitivity and sharpness are hardly deteriorated. It has been found that the adhesion between the body and the support is improved.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
はじめに、気相堆積法による輝尽性蛍光体層の形成について説明する。 First, formation of the photostimulable phosphor layer by the vapor deposition method will be described.
輝尽性蛍光体を気相堆積させる方法としては蒸着法がある。 As a method for vapor-depositing the photostimulable phosphor, there is an evaporation method.
蒸着法は、支持体を蒸着装置内に設置し、装置内を排気して一旦1.33×10−4Pa程度の真空とした後、調圧ガスを導入して蒸着装置内の真空度を1.33×10−2〜1.33Pa程度の真空とし、次いで、輝尽性蛍光体の母体と賦活剤を抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて支持体表面に輝尽性蛍光体層を所望の厚みに堆積させる。この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成される。 In the vapor deposition method, a support is placed in a vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus is evacuated to a vacuum of about 1.33 × 10 −4 Pa, and then a pressure-regulating gas is introduced to increase the degree of vacuum in the vapor deposition apparatus. A vacuum of about 1.33 × 10 −2 to 1.33 Pa is applied, and then the photostimulable phosphor matrix and activator are heated and evaporated by a resistance heating method, an electron beam method, or the like to stimulate the surface of the support. The phosphor layer is deposited to a desired thickness. As a result, a photostimulable phosphor layer that does not contain a binder is formed.
本発明においては、これら気相堆積法により輝尽性蛍光体層を形成するが、複数回に分けて蛍光体層を形成することもできる。 In the present invention, the photostimulable phosphor layer is formed by these vapor deposition methods, but the phosphor layer can be formed in a plurality of times.
本発明においては、蒸着法が用いられる。以下、蒸着法による輝尽性蛍光体層の形成について詳しく説明する。なお、以下においては柱状結晶を成長させる場合について説明する。 In the present invention, a vapor deposition method is used. Hereinafter, formation of the photostimulable phosphor layer by vapor deposition will be described in detail. In the following, the case of growing columnar crystals will be described.
蒸着法によって輝尽性蛍光体層を形成する方法としては、蒸着装置内の真空度を1.33×10−2〜1.33Paになるように調圧ガスを導入しながら、支持体上にある入射角で輝尽性蛍光体及び賦活剤の蒸気または原料を供給し、結晶を気相成長させる方法によって独立した細長い柱状結晶構造を有する輝尽性蛍光体層を得ることができる。 As a method for forming a photostimulable phosphor layer by vapor deposition, a pressure control gas is introduced so that the degree of vacuum in the vapor deposition apparatus is 1.33 × 10 −2 to 1.33 Pa. A stimulable phosphor layer having an independent elongated columnar crystal structure can be obtained by a method in which vapor or raw materials of a stimulable phosphor and an activator are supplied at a certain incident angle and a crystal is grown in a vapor phase.
真空度を1.33×10−2〜1.33Paになるようにする調圧ガスの流量は0.001〜1000sccmであることが必要である。調圧ガスの流量が1000sccmを越えると、ガスの流れにより蒸気流が乱れ蛍光体の成長に悪影響を与える。また、調圧ガスの流量が0.001sccm未満では付着性低下が発生する。 It is necessary that the flow rate of the pressure adjusting gas that makes the degree of vacuum 1.33 × 10 −2 to 1.33 Pa be 0.001 to 1000 sccm. When the flow rate of the regulated gas exceeds 1000 sccm, the vapor flow is disturbed by the gas flow, which adversely affects the growth of the phosphor. Further, if the flow rate of the pressure adjusting gas is less than 0.001 sccm, the adhesiveness is reduced.
真空度の調整に用いる調圧ガスは窒素またはアルゴンが好ましい。 The pressure adjusting gas used for adjusting the degree of vacuum is preferably nitrogen or argon.
輝尽性蛍光体または輝尽性蛍光体原料の蒸気流を支持体面に対しある入射角をつけて供給する方法には、支持体を、蒸発源を仕込んだ坩堝に対し互いに傾斜させる配置を取る、または、支持体と坩堝を互いに平行に設置し、蒸発源を仕込んだ坩堝の蒸発面からスリット等により斜め成分のみ支持体上に蒸着させるよう規制する等の方法を採ることができる。 In the method of supplying the vapor flow of the stimulable phosphor or the stimulable phosphor raw material at an incident angle with respect to the support surface, the support is arranged to be inclined with respect to the crucible charged with the evaporation source. Alternatively, it is possible to adopt a method in which the support and the crucible are installed in parallel with each other, and only an oblique component is regulated to be deposited on the support by a slit or the like from the evaporation surface of the crucible charged with the evaporation source.
これらの場合において、支持体と坩堝との最短部の間隔は輝尽性蛍光体の平均飛程に合わせて概ね10〜60cmに設置するのが好ましい。 In these cases, it is preferable that the distance between the shortest part of the support and the crucible is set to approximately 10 to 60 cm in accordance with the average range of the stimulable phosphor.
これらの柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層において変調伝達関数(MTF)をよくするためには、柱状結晶の大きさ(柱状結晶を支持体と平行な面から観察したときの各柱状結晶の断面積の円換算した直径の平均値であり、少なくとも100個以上の柱状結晶を視野中に含む顕微鏡写真から計算する)は1〜50μm程度がよく、更に好ましくは1〜30μmである。即ち、柱状結晶が1μmより細い場合は、柱状結晶により輝尽励起光が散乱されるためにMTFが低下するし、柱状結晶が50μmを越える場合も輝尽励起光の指向性が低下し、MTFは低下する。 In order to improve the modulation transfer function (MTF) in the photostimulable phosphor layer composed of these columnar crystals, the size of the columnar crystals (the columnar crystals when the columnar crystals are observed from a plane parallel to the support) is used. The average diameter of the cross-sectional area in terms of a circle, calculated from a micrograph containing at least 100 columnar crystals in the field of view, is preferably about 1 to 50 μm, and more preferably 1 to 30 μm. That is, when the columnar crystal is thinner than 1 μm, the excitation excitation light is scattered by the columnar crystal, so that the MTF decreases. When the columnar crystal exceeds 50 μm, the directivity of the excitation excitation light decreases, and the MTF Will decline.
また各柱状結晶間の間隙の大きさは30μm以下がよく、更に好ましくは5μm以下がよい。即ち、間隙が30μmを越える場合は輝尽性蛍光体層中の輝尽性蛍光体の充填率が低くなり、感度が低下してしまう。 Further, the size of the gap between the columnar crystals is preferably 30 μm or less, more preferably 5 μm or less. That is, when the gap exceeds 30 μm, the filling rate of the photostimulable phosphor in the photostimulable phosphor layer is lowered and the sensitivity is lowered.
上記方法により形成した輝尽性蛍光体層の膜厚は、目的とする放射線画像変換パネルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異なるが、10〜1000μmが好ましく、更に好ましくは20〜800μmである。 The thickness of the stimulable phosphor layer formed by the above method varies depending on the sensitivity of the intended radiation image conversion panel to radiation, the type of stimulable phosphor, etc., but is preferably 10 to 1000 μm, more preferably 20 ˜800 μm.
また、上記蒸着法を用いて輝尽性蛍光体層の作製時、蒸発源となる輝尽性蛍光体の母体と賦活剤は、均一に溶解させるか、プレス、ホットプレスによって成形して坩堝に仕込まれる。この際、脱ガス処理を行うことが好ましい。蒸発源から輝尽性蛍光体の母体と賦活剤を蒸発させる方法は電子銃により発した電子ビームの走査により行われるが、これ以外の方法で蒸発させることもできる。 In addition, when the stimulable phosphor layer is produced using the above-described vapor deposition method, the stimulable phosphor base material and activator that becomes the evaporation source are uniformly dissolved or molded by pressing or hot pressing into a crucible. Prepared. At this time, it is preferable to perform a degassing treatment. The method of evaporating the stimulable phosphor matrix and the activator from the evaporation source is performed by scanning an electron beam emitted by an electron gun, but it can also be evaporated by other methods.
また、蒸発源は必ずしも輝尽性蛍光体である必要はなく、輝尽性蛍光体原料を混和したものであってもよい。 The evaporation source is not necessarily a stimulable phosphor, and may be a mixture of a stimulable phosphor material.
また、賦活剤は母体(basic substance)に対して賦活剤(actibator)を混合したものを蒸着してもよい。 Further, the activator may be vapor-deposited by mixing an activator with a basic substance.
また、柱状結晶間の間隙に結着剤等充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層の補強となる。また高光吸収率の物質、高光反射率の物質等を充填してもよい。これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層に入射した励起光の横方向への光拡散をほぼ完全に防止できる。 In addition, the gap between the columnar crystals may be filled with a filler or the like, which reinforces the photostimulable phosphor layer. Further, a substance having a high light absorption rate, a substance having a high light reflectance, or the like may be filled. As a result, the reinforcing effect can be provided, and the lateral diffusion of the excitation light incident on the stimulable phosphor layer can be almost completely prevented.
高光反射率の物質とは、輝尽励起光(500〜900nm、特に600〜800nm)に対する反射率の高いものをいい、例えばアルミニウム、マグネシウム、銀、インジウムその他の金属等、白色顔料及び緑色から赤色領域の色材を用いることができる。 A substance having high light reflectance means a material having a high reflectance with respect to stimulated excitation light (500 to 900 nm, particularly 600 to 800 nm), such as white pigment and green to red, such as aluminum, magnesium, silver, indium and other metals. Area colorants can be used.
白色顔料は輝尽発光も反射することができる。白色顔料として、TiO2(アナターゼ型、ルチル型)、MgO、PbCO3・Pb(OH)2、BaSO4、Al2O3、M(II)FX(但し、M(II)はBa、Sr及びCaの中の少なくとも1種であり、XはCl、及びBrのうちの少なくとも1種である。)、CaCO3、ZnO、Sb2O3、SiO2、ZrO2、リトポン(BaSO4・ZnS)、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸鉛、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウム等が挙げられる。これらの白色顔料は隠蔽力が強く、屈折率が大きいため、光を反射したり、屈折させることにより輝尽発光を容易に散乱し、得られる放射線画像変換パネルの感度を顕著に向上させ得る。 White pigments can also reflect stimulated emission. As white pigments, TiO 2 (anatase type, rutile type), MgO, PbCO 3 .Pb (OH) 2 , BaSO 4 , Al 2 O 3 , M (II) FX (where M (II) is Ba, Sr and At least one of Ca, and X is at least one of Cl and Br.), CaCO 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , lithopone (BaSO 4 .ZnS) , Magnesium silicate, basic lead silicic acid sulfate, basic lead phosphate, aluminum silicate and the like. Since these white pigments have strong hiding power and a high refractive index, they can easily scatter stimulated luminescence by reflecting or refracting light, and can significantly improve the sensitivity of the resulting radiation image conversion panel.
また、高光吸収率の物質としては、例えば、カーボン、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄等及び青の色材が用いられる。このうちカーボンは発光も吸収する。 Moreover, as a substance having a high light absorption rate, for example, carbon, chromium oxide, nickel oxide, iron oxide and the like and a blue color material are used. Among these, carbon absorbs light emission.
また、色材は、有機または無機系色材のいずれでもよい。有機系色材としては、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学製)、D&CブルーNo.1(ナショナルアニリン製)、スピリットブルー(保土谷化学製)、オイルブルーNo.603(オリエント製)、キトンブルーA(チバガイギー製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土ヶ谷化学製)、レイクブルーAFH(協和産業製)、プリモシアニン6GX(稲畑産業製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学製)、シアンブルーBNRCS(東洋インク製)、ライオノイルブルーSL(東洋インク製)等が用いられる。またカラーインデクスNo.24411、23160、74180、74200、22800、23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等の有機系金属錯塩色材も挙げられる。無機系色材としては群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−Co−NiO系顔料が挙げられる。 The color material may be either an organic or inorganic color material. Examples of organic colorants include Zavon First Blue 3G (Hoechst), Estrol Brill Blue N-3RL (Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (made by National Aniline), Spirit Blue (made by Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (made by Orient), Kitten Blue A (made by Ciba Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (made by Hodogaya Chemical), Lake Blue AFH (made by Kyowa Sangyo), Primocyanin 6GX (made by Inabata Sangyo), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya) Chemical Blue), Cyan Blue BNRCS (Toyo Ink), Lionoyl Blue SL (Toyo Ink), etc. are used. The color index No. 24411, 23160, 74180, 74200, 22800, 23154, 23155, 24401, 14830, 15050, 15760, 15707, 17941, 74220, 13425, 13361, 13420, 11836, 74140, 74380, 74350, 74460, etc. Materials are also mentioned. Examples of inorganic color materials include ultramarine blue, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—Co—NiO pigments.
本発明の放射線画像変換パネルに用いられる支持体としては、各種のガラス、高分子材料、金属等が用いられるが、例えば石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラス等の板ガラス、また、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウムシート、鉄シート、銅シート等の金属シートまたは該金属酸化物の被覆層を有する金属シートが好ましい。これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。 As the support used in the radiation image conversion panel of the present invention, various glasses, polymer materials, metals and the like are used. For example, plate glass such as quartz, borosilicate glass and chemically tempered glass, and cellulose acetate film , Polyester film, polyethylene terephthalate film, polyamide film, polyimide film, triacetate film, polycarbonate film and other plastic films, aluminum sheets, iron sheets, copper sheets and other metal sheets or metal sheets having a coating layer of the metal oxide are preferable. . The surface of these supports may be a smooth surface, or may be a mat surface for the purpose of improving the adhesion to the stimulable phosphor layer.
また、本発明においては、支持体と輝尽性蛍光体層の接着性を向上させるために、必要に応じて支持体の表面に予め接着層を設けてもよい。これら支持体の厚みは用いる支持体の材質等によって異なるが、一般的には80〜2000μmであり、取り扱い上の観点から更に好ましいのは80〜1000μmである。 Moreover, in this invention, in order to improve the adhesiveness of a support body and a photostimulable phosphor layer, you may provide an adhesive layer in advance on the surface of a support body as needed. The thickness of these supports varies depending on the material of the support used, but is generally 80 to 2000 μm, and more preferably 80 to 1000 μm from the viewpoint of handling.
本発明に係る放射線画像変換パネルは輝尽性蛍光体層の上に保護層を有していてもよい。 The radiation image conversion panel according to the present invention may have a protective layer on the photostimulable phosphor layer.
保護層は、保護層用塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して形成してもよいし、あらかじめ別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層上に接着してもよい。あるいは別途形成した保護層上に輝尽性蛍光体層を形成する手順を取ってもよい。保護層の材料としては酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等の通常の保護層用材料が用いられる。他に透明なガラス基板を保護層として用いることもできる。また、この保護層は蒸着法、スパッタリング法等により、SiC、SiO2、SiN、Al2O3等の無機物質を積層して形成してもよい。これらの保護層の層厚は一般的には0.1〜2000μm程度が好ましい。 The protective layer may be formed by directly applying a coating solution for the protective layer on the photostimulable phosphor layer, or a protective layer separately formed in advance may be adhered on the photostimulable phosphor layer. Or you may take the procedure of forming a photostimulable phosphor layer on the protective layer formed separately. Materials for the protective layer include cellulose acetate, nitrocellulose, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, nylon, polytetrafluoroethylene, polytrifluoride-ethylene chloride Ordinary protective layer materials such as tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer are used. In addition, a transparent glass substrate can be used as the protective layer. Further, this protective layer may be formed by laminating inorganic substances such as SiC, SiO 2 , SiN, Al 2 O 3 by vapor deposition, sputtering, or the like. The thickness of these protective layers is generally preferably about 0.1 to 2000 μm.
蒸着法に用いることのできる輝尽性蛍光体としては、例えば、特開昭48−80487号に記載されているBaSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80488号記載のMgSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80489号に記載されているSrSO4:Axで表される蛍光体、特開昭51−29889号に記載されているNa2SO4、CaSO4及びBaSO4等にMn、Dy及びTbの中少なくとも1種を添加した蛍光体、特開昭52−30487号に記載されているBeO、LiF、MgSO4及びCaF2等の蛍光体、特開昭53−39277号に記載されているLi2B4O7:Cu,Ag等の蛍光体、特開昭54−47883号に記載されているLi2O・(Be2O2)x:Cu,Ag等の蛍光体、米国特許第3,859,527号に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:Eu,Sm及び(Zn,Cd)S:Mnxで表される蛍光体が挙げられる。また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍光体、一般式がBaO・xAl2O3:Euで表されるアルミン酸バリウム蛍光体、及び、一般式がM(II)O・xSiO2:Aで表されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。 Examples of stimulable phosphors that can be used in the vapor deposition method include phosphors represented by BaSO 4 : Ax described in JP-A-48-80487, and MgSO described in JP-A-48-80488. 4 : phosphor represented by Ax, SrSO 4 described in JP-A-48-80489: phosphor represented by Ax, Na 2 SO 4 described in JP-A-51-29889, CaSO 4 and Mn to BaSO 4 and the like, Dy and phosphor prepared by adding at least one among Tb, BeO, which is described in JP-a-52-30487, LiF, MgSO 4 and the phosphor, such as CaF 2, especially Li 2 B 4 O 7 : Phosphor such as Cu, Ag described in Kaisho 53-39277, Li 2 O. (Be 2 O 2 ) x described in JP 54-47883: Cu, A Phosphors etc., are described in U.S. Pat. No. 3,859,527 SrS: Ce, Sm, SrS : Eu, Sm, La 2 O 2 S: Eu, Sm and (Zn, Cd) S: at Mnx And phosphors represented. Further, a ZnS: Cu, Pb phosphor described in JP-A-55-12142, a barium aluminate phosphor represented by the general formula BaO.xAl 2 O 3 : Eu, and a general formula represented by M ( II) Alkaline earth metal silicate phosphors represented by O.xSiO 2 : A are mentioned.
また、特開昭55−12143号に記載されている一般式が(Ba1−xーyMgxCay)Fx:Eu2+で表されるアルカリ土類フッ化ハロゲン化物蛍光体、特開昭55−12144号に記載されている一般式がLnOX:xAで表される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている一般式が(Ba1−xM(II)x)Fx:yAで表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されている一般式がBaFX:xCe,yAで表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されている一般式がM(II)FX・xA:yLnで表される希土類元素賦活2価金属フルオロハライド蛍光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載されている下記いずれかの一般式
xM3(PO4)2・NX2:yA
xM3(PO4)2:yA
で表される蛍光体、特開昭59−155487号に記載されている下記いずれかの一般式
nReX3・mAX′2:xEu
nReX3・mAX′2:xEu,ySm
で表される蛍光体、特開昭61−72087号に記載されている下記一般式
M(I)X・aM(II)X′2・bM(III)X″3:cA
で表されるアルカリハライド蛍光体、及び特開昭61−228400号に記載されている一般式M(I)X:xBiで表されるビスマス賦活アルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特に、アルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等の方法で柱状の輝尽性蛍光体層を形成させやすく好ましい。
Further, an alkaline earth fluorohalide phosphor represented by the general formula (Ba 1-xy Mg x Ca y ) F x : Eu 2+ described in JP-A No. 55-12143, A phosphor in which the general formula described in JP-A-55-12144 is represented by LnOX: xA, and a general formula described in JP-A-55-12145 is (Ba 1-x M (II) x ) F a phosphor represented by x : yA, a phosphor represented by BaFX: xCe, yA having a general formula described in JP-A-55-84389, a general compound described in JP-A-55-160078 Rare earth element activated divalent metal fluorohalide phosphor represented by the formula M (II) FX.xA: yLn, represented by the general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, X Phosphor, described in JP-A-59-38278 Any one of the following general formulas xM 3 (PO 4 ) 2 .NX 2 : yA
xM 3 (PO 4 ) 2 : yA
A phosphor represented by the general formula nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu described in JP-A-59-155487
nReX 3 · mAX ′ 2 : xEu, ySm
A phosphor represented by the following general formula M (I) X · aM (II) X ′ 2 · bM (III) X ″ 3 : cA described in JP-A-61-72087
And a bismuth-activated alkali halide phosphor represented by the general formula M (I) X: xBi described in JP-A No. 61-228400. In particular, the alkali halide phosphor is preferable because a columnar photostimulable phosphor layer can be easily formed by a method such as vapor deposition or sputtering.
本発明では、下記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体粒子が好ましい。 In the present invention, stimulable phosphor particles represented by the following general formula (1) are preferred.
一般式(1)
M1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
一般式(1)において、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の2価金属であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であり、X、X′及びX″は各々F、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲンであり、Aは、Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA
In the general formula (1), M 1 is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd. , Cu and Ni, and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er. , Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In, at least one trivalent metal selected from the group consisting of In, X, X ′ and X ″ are each selected from the group consisting of F, Cl, Br and I At least one halogen, and A is Eu, Tb, In, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu And at least selected from the group consisting of Mg A seed metal, also, a, b, e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.
更に、前記一般式(1)においては、M1がK、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であること、XがBr及びIから選ばれる少なくとも1種のハロゲンであること、M2がBe、Mg、Ca、Sr及びBaから選ばれる少なくとも1種の2価金属であること、M3がY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であること、bが0≦b≦10−2であること、Aが、Eu、Cs、Sm、Tl及びNaからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であることが好ましい。 Further, in the general formula (1), M 1 is at least one alkali metal selected from the group consisting of K, Rb and Cs, and X is at least one halogen selected from Br and I. M 2 is at least one divalent metal selected from Be, Mg, Ca, Sr and Ba, M 3 is Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In At least one trivalent metal selected from the group consisting of: b is 0 ≦ b ≦ 10 −2 ; and A is at least one selected from the group consisting of Eu, Cs, Sm, Tl and Na. A seed metal is preferred.
また、本発明においては、輝尽性蛍光体が柱状結晶を有することが好ましく、柱状結晶が、主成分として下記一般式(2)で表される輝尽性蛍光体を有することが好ましい。 In the present invention, the stimulable phosphor preferably has a columnar crystal, and the columnar crystal preferably has a stimulable phosphor represented by the following general formula (2) as a main component.
一般式(2)
CsX:yA
一般式(2)において、XはBrまたはIを表し、AはEu、In、TbまたはCeを表す。yは1×10−7〜1×10−2までの数値を表す。
General formula (2)
CsX: yA
In the general formula (2), X represents Br or I, and A represents Eu, In, Tb, or Ce. y represents a numerical value from 1 × 10 −7 to 1 × 10 −2 .
本発明の実施の形態を図をもって説明する。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は輝尽性蛍光体プレートの断面図である。10は支持体、11は輝尽性蛍光体層であり、柱状結晶を示している。なお、12は柱状結晶間に形成された間隙を示している。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a photostimulable phosphor plate.
図2は支持体上に輝尽性蛍光体層を蒸着により形成する様子を示す図である。輝尽性蛍光体蒸気流Vを支持体面の法線方向に入射すると、支持体面の法線方向に垂直な柱状結晶が形成される。輝尽性蛍光体蒸気流Vの支持体面の法線方向に対する入射角度をθ2とすると、形成される柱状結晶の支持体面の法線方向に対する角度はθ1で表され、この角度で柱状結晶が形成される。本発明においては0≦θ1、θ2≦20の垂直な柱状結晶が好ましい。 FIG. 2 is a diagram showing a state in which a photostimulable phosphor layer is formed on a support by vapor deposition. When the stimulable phosphor vapor flow V is incident in the normal direction of the support surface, columnar crystals perpendicular to the normal direction of the support surface are formed. Assuming that the incident angle of the stimulable phosphor vapor flow V with respect to the normal direction of the support surface is θ 2 , the angle of the formed columnar crystal with respect to the normal direction of the support surface is represented by θ 1 , and at this angle the columnar crystal Is formed. In the present invention, vertical columnar crystals of 0 ≦ θ 1 and θ 2 ≦ 20 are preferable.
図3は、本発明の放射線画像変換パネルの使用例を示す概略図である。 FIG. 3 is a schematic view showing an example of use of the radiation image conversion panel of the present invention.
図3において21は放射線発生装置、22は被写体、23は輝尽性蛍光体を含有する可視光ないし赤外光輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネル、24は放射線画像変換パネル23の放射線潜像を発光として放出させるための輝尽励起光源、25は放射線画像変換パネル23より放出された輝尽発光を検出する光電変換装置、26は光電変換装置25で検出された光電変換信号を画像として再生する装置、27は再生された画像を表示する装置、28は光源24からの反射光をカットし、放射線画像変換パネル23より放出された光のみを透過させるためのフィルタである。なお、図3は被写体の放射線透過像を得る場合の例であるが、被写体22自体が放射線を放射する場合には、放射線発生装置21は特に必要ない。また、光電変換装置25以降は放射線画像変換パネル23からの光情報を何らかの形で画像として再生できるものであればよく、前記に限定されない。
In FIG. 3, 21 is a radiation generator, 22 is a subject, 23 is a radiation image conversion panel having a visible or infrared photostimulable phosphor layer containing a stimulable phosphor, and 24 is a radiation of the radiation
輝尽励起光源24としては、放射線画像変換パネル23に使用される輝尽性蛍光体の励起波長を含む光源が使用される。特にレーザ光を用いると光学系が簡単になり、また、輝尽励起光強度を大きくすることができるために輝尽発光効率を上げることができ、より好ましい結果が得られる。
As the stimulated
レーザとしては、He−Neレーザ、He−Cdレーザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、N2レーザ、YAGレーザ及びその第2高調波、ルビーレーザ、半導体レーザ、各種の色素レーザ、銅蒸気レーザ等の金属蒸気レーザ等がある。通常はHe−NeレーザやArイオンレーザのような連続発振のレーザが望ましいが、パネル1画素の走査時間とパルスを同期させればパルス発振のレーザを用いることもできる。また、フィルタ28を用いずに特開昭59−22046号に示されるような、発光の遅延を利用して分離する方法によるときは、連続発振レーザを用いて変調するよりもパルス発振のレーザを用いる方が好ましい。
Lasers include He—Ne laser, He—Cd laser, Ar ion laser, Kr ion laser, N 2 laser, YAG laser and its second harmonic, ruby laser, semiconductor laser, various dye lasers, copper vapor laser, etc. There are metal vapor lasers. Normally, a continuous wave laser such as a He—Ne laser or an Ar ion laser is desirable, but a pulsed laser can also be used if the scanning time and pulse of one pixel of the panel are synchronized. Further, when using a method of separating light emission using a delay of light emission as shown in Japanese Patent Laid-Open No. 59-22046 without using the
上記の各種レーザ光源の中でも、半導体レーザは小型で安価であり、しかも変調器が不要であるので特に好ましく用いられる。 Among the various laser light sources described above, the semiconductor laser is particularly preferably used because it is small and inexpensive and does not require a modulator.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to them.
実施例1
以下の方法に従って、蒸着型蛍光体層を有する蛍光体プレートを作製した。
Example 1
A phosphor plate having a vapor deposition type phosphor layer was produced according to the following method.
(支持体の作製)
500μm厚の透明結晶化ガラスの表面に、酸化チタン(フルウチ化学社製)と酸化ジルコニウム(フルウチ化学社製)を用い、400nmでの反射率が85%、660nmでの反射率が20%となるように、蒸着装置を用いて膜形成を行い、光反射層を有するガラス支持体を作製した。
(Production of support)
Using titanium oxide (manufactured by Furuuchi Chemical Co., Ltd.) and zirconium oxide (manufactured by Furuuchi Chemical Co., Ltd.) on the surface of a transparent crystallized glass having a thickness of 500 μm, the reflectance at 400 nm is 85% and the reflectance at 660 nm is 20%. As described above, a film was formed using a vapor deposition apparatus to produce a glass support having a light reflection layer.
(蛍光体プレート11の作製)
図4は蒸着装置の概略図である。上記支持体を図4に示す蒸着装置の真空チャンバ中に設置し、加熱ランプ(図示せず)を用いて120℃に加熱した。その後、真空ポンプを用いて排気しながら、窒素ガスを調圧ガス流量調節装置(図示せず)を経てガス導入部から1000sccmの流量で導入して真空度を1.33Paとし、支持体の一方の面に、CsBr:0.0001Euからなるアルカリハライド蛍光体を支持体表面の法線方向から、アルミニウム製のスリットを用いて、支持体と蒸発源の距離を60cmとして、支持体と平行な方向に支持体を搬送しながら蒸着を行い、400μm厚の柱状結晶構造を有する蛍光体層を形成し、蛍光体プレート11を作製した。
(Preparation of phosphor plate 11)
FIG. 4 is a schematic view of a vapor deposition apparatus. The said support body was installed in the vacuum chamber of the vapor deposition apparatus shown in FIG. 4, and it heated at 120 degreeC using the heating lamp (not shown). Thereafter, while evacuating using a vacuum pump, nitrogen gas is introduced from a gas introduction part at a flow rate of 1000 sccm through a pressure-regulating gas flow rate control device (not shown), and the degree of vacuum is 1.33 Pa. On the surface of the substrate, an alkali halide phosphor made of CsBr: 0.0001Eu is used from the normal direction of the support surface, using an aluminum slit, the distance between the support and the evaporation source is 60 cm, and the direction parallel to the support Then, vapor deposition was carried out while conveying the support to form a phosphor layer having a columnar crystal structure with a thickness of 400 μm, and a
(蛍光体プレート12〜18の作製)
真空度及び調圧用の窒素ガス流量を表1のように変えた以外は蛍光体プレート11と同様にして蛍光体プレート12〜18を作製した。
(Preparation of phosphor plates 12-18)
得られた各蛍光体プレートの蛍光体層と支持体ガラスとの接着性を下記の方法で評価した。 The adhesion between the phosphor layer of each obtained phosphor plate and the support glass was evaluated by the following method.
(接着性の評価)
上記作製した各蛍光体プレート11〜18の蛍光体層塗設面に接着テープを張り付け、テープをはがしたときに蛍光体層が支持体に付着した面積%を測定し、以下に示す基準により接着性の評価を行った。評価の結果を表1に示す。
(Adhesive evaluation)
Adhesive tape was attached to the phosphor layer coating surface of each of the
5:蛍光体層が支持体に付着した面積が100%
4:蛍光体層が支持体に付着した面積が80%以上100%未満
3:蛍光体層が支持体に付着した面積が60%以上80%未満
2:蛍光体層が支持体に付着した面積が40%以上60%未満
1:蛍光体層が支持体に付着した面積が20%以上40%未満
0:蛍光体層が支持体に付着した面積が20%未満
5: The area where the phosphor layer adheres to the support is 100%
4: The area where the phosphor layer adheres to the support is 80% or more and less than 100% 3: The area where the phosphor layer adheres to the support 60% or more and less than 80% 2: The area where the phosphor layer adheres to the support 40% or more and less than 60% 1: The area where the phosphor layer adheres to the support is 20% or more and less than 40% 0: The area where the phosphor layer adheres to the support is less than 20%
表1から、真空度及び真空度調整用ガス流量が本発明の範囲内にある蛍光体プレートは接着性が良好であることが分かる。 From Table 1, it can be seen that the phosphor plate having the degree of vacuum and the gas flow for adjusting the degree of vacuum within the range of the present invention has good adhesion.
実施例2
以下の方法に従って、蒸着型蛍光体層を有する蛍光体プレート及び放射線画像変換パネルを作製した。
Example 2
According to the following method, a phosphor plate having a vapor deposition type phosphor layer and a radiation image conversion panel were produced.
(支持体の作製)
実施例1と同じガラス支持体を作製した。
(Production of support)
The same glass support as in Example 1 was produced.
(蛍光体プレート21の作製)
上記支持体を図4に示す蒸着装置の真空チャンバ中に設置し、加熱ランプを用いて240℃に加熱した。その後、真空ポンプを用いて排気装置(図示せず)から排気しながら、窒素ガスを調圧ガス流量調節装置(図示せず)を経て調圧ガス導入装置(図示せず)から1sccmの流量で導入して真空度を0.133Paとし、支持体の一方の面に、CsBr:0.0001Euからなるアルカリハライド蛍光体を支持体表面の法線方向から、アルミニウム製のスリットを用いて、支持体と蒸発源の距離を60cmとして、支持体と平行な方向に支持体を搬送しながら蒸着を行い、400μm厚の柱状構造を有する蛍光体層を形成し、蛍光体プレート21を作製した。
(Preparation of phosphor plate 21)
The said support body was installed in the vacuum chamber of the vapor deposition apparatus shown in FIG. 4, and it heated at 240 degreeC using the heating lamp. Then, while exhausting from an exhaust device (not shown) using a vacuum pump, nitrogen gas is passed through a regulated gas flow rate control device (not shown) at a flow rate of 1 sccm from a regulated gas introduction device (not shown). The degree of vacuum is set to 0.133 Pa, and an alkali halide phosphor made of CsBr: 0.0001Eu is formed on one side of the support from the normal direction of the support surface using an aluminum slit. The distance between the evaporation source and the evaporation source was set to 60 cm, and vapor deposition was performed while transporting the support in a direction parallel to the support to form a phosphor layer having a columnar structure with a thickness of 400 μm, thereby producing a
(蛍光体プレート22、23の作製)
真空度調整用のガスの種類を表2のように変えた以外は蛍光体プレート21と同様にして蛍光体プレート22、23を作製した。
(Preparation of
得られた蛍光体プレートの蛍光体層と支持体ガラスとの接着性を実施例1と同様にして評価した。評価の結果を表2に示す。 The adhesion between the phosphor layer of the obtained phosphor plate and the support glass was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.
(放射線画像変換パネル21〜23の作製)
下記のようにして、上記作製した各蛍光体プレート21〜23を用い、それぞれ放射線画像変換パネル21〜23を作製した。
(Preparation of radiation
Radiation
上記蛍光体プレートの作製に用いたガラス支持体(光反射層を有しない)をガラス保護層として用い、上記作製した蛍光体プレートの側縁部にスペーサを介して、堆積した輝尽性蛍光体層の表面と保護層ガラス板との間に、低屈折率層として空気層が100μmの厚みになるように、ガラス製の保護層を設けた。なお、スペーサとしてはガラスセラミックス製で、ガラス支持体及び保護層ガラスの間に蛍光体層及び低屈折率層(空気層)が所定の厚みとなるように厚みを調整したものを用い、ガラス支持体及びガラス製の保護層の側縁部は、エポキシ系接着剤を用いて接着し、各放射線画像変換パネルを作製した。 The photostimulable phosphor deposited on the side edge portion of the produced phosphor plate through a spacer using the glass support (without the light reflection layer) used for the production of the phosphor plate as a glass protective layer. A protective layer made of glass was provided between the surface of the layer and the protective layer glass plate so that the air layer had a thickness of 100 μm as a low refractive index layer. The spacer is made of glass ceramics, and the glass support is used by adjusting the thickness so that the phosphor layer and the low refractive index layer (air layer) have a predetermined thickness between the glass support and the protective layer glass. The side edges of the body and the protective layer made of glass were bonded using an epoxy adhesive to prepare each radiation image conversion panel.
上記作製した放射線画像変換パネルの感度について、下記のようにして評価した。評価の結果を表3に示す。 The sensitivity of the prepared radiation image conversion panel was evaluated as follows. Table 3 shows the evaluation results.
(感度の評価)
各放射線画像変換パネルについて、管電圧80kVpのX線を蛍光体プレート支持体の裏面側から照射した後、パネルをHe−Neレーザ光(633nm)で操作して励起し、蛍光体層から放射される発光を受光器(分光感度S−5の光電子像倍管)で受光して、その強度を測定して、これを感度と定義し、放射線画像変換パネル23の感度を1.00とした相対値で表示した。
(Evaluation of sensitivity)
For each radiation image conversion panel, X-rays with a tube voltage of 80 kVp were irradiated from the back side of the phosphor plate support, and then the panel was excited by operating with He-Ne laser light (633 nm) and emitted from the phosphor layer. The received light is received by a light receiver (photoelectron image multiplier with spectral sensitivity S-5), the intensity is measured, this is defined as sensitivity, and the sensitivity of the radiation
10 支持体
11 輝尽性蛍光体層
12 柱状結晶間に形成された間隙
21 放射線発生装置
22 被写体
23 放射線画像変換パネル
24 輝尽励起光源
25 光電変換装置
26 画像再生装置
27 画像表示装置
28 フィルタ
DESCRIPTION OF
Claims (11)
一般式(1)
M1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
〔式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ばれる少なくとも1種の2価金属であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも1種の3価金属であり、X、X′及びX″は各々F、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲンであり、Aは、Eu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。〕 The method for producing a radiation image conversion panel according to claim 1 or 2, wherein the phosphor layer contains a phosphor represented by the following general formula (1).
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ′ 2 · bM 3 X ″ 3 : eA
[Wherein M 1 is at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and At least one divalent metal selected from the group consisting of Ni, and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In are at least one trivalent metal selected from the group consisting of In, and X, X ′ and X ″ are at least one selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, respectively. A is a group consisting of Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg At least one metal selected from , A, b, e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.]
一般式(2)
CsX:yA
〔式中、XはBrまたはIを表し、AはEu、In、TbまたはCeを表す。yは1×10−7〜1×10−2までの数値を表す。〕 The method for producing a radiation image conversion panel according to claim 9, wherein the columnar crystal contains a phosphor represented by the following general formula (2).
General formula (2)
CsX: yA
[Wherein, X represents Br or I, and A represents Eu, In, Tb or Ce. y represents a numerical value from 1 × 10 −7 to 1 × 10 −2 . ]
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