JP2006084332A - Radiological image conversion panel, manufacturing method of radiological image conversion panel, and photographing method of radiological image conversion panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は放射線画像変換パネル、放射線画像変換パネルの製造方法及び放射線画像変換パネルの撮影方法に関する。 The present invention relates to a radiation image conversion panel, a method for manufacturing a radiation image conversion panel, and an imaging method for a radiation image conversion panel.
近年、輝尽性蛍光体を利用した放射線画像変換パネルにより放射線像を画像化する方法が用いられるようになってきた。 In recent years, a method of imaging a radiation image by a radiation image conversion panel using a photostimulable phosphor has been used.
これは例えば米国特許第3,859,527号及び特開昭55−12144号等に開示された様に支持体上に輝尽性蛍光体層を形成した放射線画像変換パネルを使用するものである。この放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線をあてて被写体各部の放射線透過度に対応する放射線エネルギーを輝尽性蛍光体層に蓄積させて潜像(蓄積像)を形成し、この輝尽性蛍光体層を輝尽励起光(レーザ光が用いられる)で走査することによって各部に蓄積された放射線エネルギーを放射させて光に変換し、この光の強弱を読みとって画像を得る。この画像はCRT等各種のディスプレイ上に再生してもよいし、又ハードコピーとして再生してもよい。 This uses a radiation image conversion panel in which a photostimulable phosphor layer is formed on a support as disclosed in, for example, US Pat. No. 3,859,527 and JP-A-55-12144. . A radiation image (accumulated image) is formed by applying radiation transmitted through the subject to the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel and storing radiation energy corresponding to the radiation transmittance of each part of the subject in the stimulable phosphor layer. By forming and scanning this stimulable phosphor layer with stimulating excitation light (laser light is used), the radiation energy accumulated in each part is emitted and converted into light, and the intensity of this light is read. Get an image. This image may be reproduced on various displays such as a CRT, or may be reproduced as a hard copy.
この放射線像変換方法に用いられる放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層には、放射線吸収率及び光変換率が高いこと、画像の粒状性がよく、高鮮鋭性であることが要求される。 The stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel used in this radiation image conversion method is required to have high radiation absorption rate and light conversion rate, good image graininess, and high sharpness. .
通常、放射線感度を高くするには輝尽性蛍光体層の膜厚を厚くする必要があるが、余り厚くなりすぎると、輝尽性蛍光体粒子間での輝尽発光の散乱のため発光が外部に出てこなくなる現象があり限界がある。 Usually, to increase the radiation sensitivity, it is necessary to increase the thickness of the photostimulable phosphor layer. However, if the thickness is too large, light emission is caused by scattering of photostimulated luminescence between photostimulable phosphor particles. There is a phenomenon that does not come out to the outside, there is a limit.
又鮮鋭性については、輝尽性蛍光体層を薄層化するほど向上するが、薄すぎると感度の減少が大きくなる。 The sharpness is improved as the stimulable phosphor layer is made thinner. However, if the thickness is too thin, the sensitivity is greatly reduced.
又粒状性についても画像の粒状性は放射線量子数の場所的ゆらぎ(量子モトル)或いは放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層の構造的乱れ(構造モトル)等によって決定されるので、輝尽性蛍光体層の層厚が薄くなると輝尽性蛍光体層に吸収される放射線量子数が減少してモトルが増加したり、構造的乱れが顕在化して構造モトルが増加したりして画質の低下を生ずる。従って画像の粒状性を向上させるためには輝尽性蛍光体層の層厚が厚い必要があった。 As for the granularity, the granularity of the image is determined by the local fluctuation of the radiation quantum number (quantum motor) or the structural disorder (structural motor) of the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel. When the layer thickness of the phosphor layer is reduced, the radiation quantum number absorbed in the photostimulable phosphor layer decreases and mottle increases, or structural disturbance becomes obvious and the structure mottle increases, resulting in an increase in image quality. Cause a drop. Therefore, in order to improve the graininess of the image, the stimulable phosphor layer needs to be thick.
この様に様々な要因から放射線画像変換パネルを用いた放射線像変換方法の画質及び感度は決定される。これらの感度や画質に関する複数の因子を調整して感度、画質を改良するため、これまで様々な検討がされてきた。 As described above, the image quality and sensitivity of the radiation image conversion method using the radiation image conversion panel are determined from various factors. In order to improve the sensitivity and image quality by adjusting a plurality of factors related to sensitivity and image quality, various studies have been conducted so far.
それらの内放射線画像の鮮鋭性改善の為の手段として、例えば形成される輝尽性蛍光体の形状そのものをコントロールし感度及び鮮鋭性の改良を図る試みがされている。 As means for improving the sharpness of these internal radiation images, for example, attempts have been made to improve the sensitivity and sharpness by controlling the shape of the stimulable phosphor formed.
これらの試みの1つとして、例えば特開昭61−142497号等において行われている様な、微細な凹凸パターンを有する支持体上に輝尽性蛍光体を堆積させ形成した微細な擬柱状ブロックからなる輝尽性蛍光体層を用いる方法がある。 As one of these attempts, for example, a fine pseudo-columnar block formed by depositing a photostimulable phosphor on a support having a fine concavo-convex pattern, as performed in, for example, JP-A No. 61-142497 There is a method using a photostimulable phosphor layer made of
又、特開昭61−142500号に記載のように微細なパターンを有する支持体上に、輝尽性蛍光体を堆積させて得た柱状ブロック間のクラックをショック処理を施して更に発達させた輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−39737号に記載されたような、支持体の面に形成された輝尽性蛍光体層にその表面側から亀裂を生じさせ擬柱状とした放射線画像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−110200号に記載のように、支持体の上面に蒸着により空洞を有する輝尽性蛍光体層を形成した後、加熱処理によって空洞を成長させ亀裂を設ける方法等も提案されている。 Further, as described in JP-A-61-142500, a crack between columnar blocks obtained by depositing a stimulable phosphor on a support having a fine pattern was further developed by applying a shock treatment. A method of using a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer, and further a surface of the photostimulable phosphor layer formed on the surface of a support as described in JP-A-62-39737. A method using a radiation image conversion panel in which a pseudo-columnar shape is formed by cracking from the side, and further, as described in JP-A-62-110200, a photostimulable phosphor layer having a cavity by vapor deposition on the upper surface of a support There has also been proposed a method in which a cavity is grown by heat treatment and a crack is formed after the formation.
又、特開平2−58000号においては、気相堆積法によって支持体上に、支持体の法線方向に対し一定の傾きをもった細長い柱状結晶を形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルが提案されている。 In JP-A-2-58000, radiation having a stimulable phosphor layer in which elongated columnar crystals having a certain inclination with respect to the normal direction of the support are formed on the support by vapor deposition. An image conversion panel has been proposed.
これらの輝尽性蛍光体層の形状をコントロールする試みにおいては、いずれも輝尽性蛍光体層を柱状とすることで、輝尽励起光(又輝尽発光)の横方向への拡散を抑える(クラック(柱状結晶)界面において反射を繰り返しながら支持体面まで到達する)ことができるため、輝尽発光による画像の鮮鋭性を著しく増大させることができるという特徴がある。 In attempts to control the shape of these photostimulable phosphor layers, all of the photostimulable phosphor layers are made columnar to suppress the lateral diffusion of photostimulated excitation light (or photostimulated luminescence). Since it can reach the support surface while repeating reflection at the crack (columnar crystal) interface, it has a feature that the sharpness of an image by stimulated emission can be remarkably increased.
これらの気相成長(堆積)法により形成された輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、得られる放射線画像の画質を劣化させることなく長期間或いは多数回の繰り返しの使用に耐える性能を有することが望ましく、その為には、前記変換パネルの輝尽性蛍光体層が外部からの物理的或いは化学的刺激から充分に保護される必要がある。特に水分による劣化については十分に注意する必要があり、従来から上記の問題を解決するため、変換パネルの支持体の輝尽性蛍光体層面を被覆する保護層を設け、変換パネル周縁を密閉し、輝尽性蛍光体層を保護する方法がとられてきた。 A radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer formed by these vapor phase growth (deposition) methods, capable of withstanding repeated use over a long period or many times without degrading the image quality of the obtained radiation image For this purpose, the photostimulable phosphor layer of the conversion panel needs to be sufficiently protected from external physical or chemical stimulation. In particular, it is necessary to pay sufficient attention to the deterioration due to moisture, and in order to solve the above problems, a protective layer covering the stimulable phosphor layer surface of the support of the conversion panel is provided, and the periphery of the conversion panel is sealed. Methods have been taken to protect the photostimulable phosphor layer.
この保護層は、例えば特開昭59−42500号公報に開示されているように、保護層用塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して形成されるか、或いは予め別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層上に接着する方法により形成されている。 This protective layer is formed, for example, by directly applying a protective layer coating solution on the photostimulable phosphor layer as disclosed in JP-A-59-42500, or separately formed in advance. The protective layer is formed by a method of adhering to the photostimulable phosphor layer.
又、変換パネル周縁の密閉には、例えば有機高分子中溶液中に変換パネルの周縁部のみを浸漬するか、或いは周縁部に有機高分子溶液を塗布して高分子膜を形成してシールする方法、周縁部をシール材により封止し、シール材を固定部材により外側から固定する方法(特開昭61−237099号公報)、周縁部が保護層の延長部分により被覆された状態でシールする方法(特開昭61−237100号公報)等が用いられている。 In order to seal the periphery of the conversion panel, for example, only the periphery of the conversion panel is immersed in a solution in an organic polymer, or an organic polymer solution is applied to the periphery to form a polymer film and sealed. A method, a method in which a peripheral portion is sealed with a sealing material, and the sealing material is fixed from the outside by a fixing member (Japanese Patent Laid-Open No. 61-237099), and sealing is performed in a state where the peripheral portion is covered with an extended portion of a protective layer The method (Japanese Patent Laid-Open No. 61-237100) is used.
更に、内部の湿度を可能な限り低下させるため、保護膜及び支持体の周辺部にスペーサを挟んで接着して内部に輝尽性蛍光体層を密封する際に、スペーサに切り欠き部を設けておいて、内部の水分を例えば、加熱或いは真空により乾燥させた後密封する方法が特開平2−85799号に、又、更に、密封の際、内部に乾燥ガスを封入する方法で耐久性を更に向上させる方法が、特開平1−316697号に記載されている。その他、特開平6−308298号、同7−120598号等にも乾燥を行った後、封着する旨の記載がある。低湿度雰囲気に、輝尽性蛍光体を密封する際には、内部を充分に低湿度とした後でも、内部と外部の気圧差や温度の違いにより、シール材又はスペーサと支持体、保護膜の接着が均一に行われない場合があることから、これを防ぐ上でシール材やスペーサの一部に切り欠き部を設ける方法は有効である。しかしながら、水分の存在或いは侵入に対し特性が響影を受けやすい蛍光体の場合には、例えば、真空乾燥等を行うと、切り欠き部近傍と、切り欠き部より離れた奥の部分の乾燥の不均一が発生し、安定した特性が得られず、封止後に蛍光体の感度が低下したり、画質にも影響を与える場合があり、改善が求められていた。 Furthermore, in order to reduce the internal humidity as much as possible, a notch is provided in the spacer when sealing the photostimulable phosphor layer inside by adhering the spacer around the protective film and the support. For example, a method of sealing the interior moisture after drying it by heating or vacuum, for example, is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-85799. A further improvement method is described in JP-A-1-316697. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 6-308298 and 7-120598 also describe that sealing is performed after drying. When sealing the photostimulable phosphor in a low-humidity atmosphere, the sealing material or spacer and the support, protective film, even after the inside has been made sufficiently low-humidity, due to differences in internal and external atmospheric pressure and temperature In order to prevent this, the method of providing a notch in a part of the sealing material or spacer is effective. However, in the case of a phosphor whose characteristics are easily affected by the presence or intrusion of moisture, for example, when vacuum drying or the like is performed, the vicinity of the notch and the back part away from the notch are dried. Inhomogeneity occurs, stable characteristics cannot be obtained, the sensitivity of the phosphor is lowered after sealing, and the image quality may be affected.
又、スペーサに或いは封着剤による封止時に切り欠き部を設けて封止を行うのは、真空乾燥、更に、ガスの置換を行うなど操作が複雑で、特に輝尽性蛍光体が水分を吸収しやすい場合には手早く各作業を行わないと蛍光体が周囲の雰囲気から吸湿してしまうため作業にも熟練が必要であった。 In addition, providing a notch in the spacer or sealing with a sealing agent is complicated by operations such as vacuum drying and gas replacement. If it is easy to absorb, the phosphor will absorb moisture from the surrounding atmosphere unless each operation is performed quickly.
従って、より簡便な作業で輝尽性蛍光体を外気より密封し、水分による劣化を抑えた放射線画像変換パネルの製造方法、気相成長法で得られた輝尽性蛍光体を湿度の低い環境で密封し、感度が高く安定した特性を有する放射線画像変換パネルを得ることができる放射線画像変換パネルの製造方法が開示されている。(例えば、特許文献1を参照)
しかしながら、作業性の効率化、水分による劣化も無く、感度が高く安定した特性を有する放射線画像変換パネルを得ることができたが、画質のコントラストの面で未だ不十分であった。
However, although it is possible to obtain a radiation image conversion panel having high workability efficiency and no deterioration due to moisture and having high sensitivity and stable characteristics, it is still insufficient in terms of image quality contrast.
従って、本発明の目的は、画質のコントラストに優れた放射線画像変換パネル、その製造方法及び放射線画像変換パネルの撮影方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a radiographic image conversion panel excellent in image quality contrast, a method for manufacturing the same, and a radiographic image conversion panel imaging method.
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(請求項1)
支持体上に輝尽性蛍光体層(蛍光体層)、保護層をこの順に積層しており、且つ、該輝尽性蛍光体層が気相堆積法により形成され、柱状の結晶である輝尽性蛍光体を有する放射線画像変換パネルにおいて、該支持体が2層以上の積層構成の支持体であり、且つ、輝尽性蛍光体層と反対側の支持体層と輝尽性蛍光体層側の支持体層の単位膜厚あたりのX線吸収効率が蛍光体層側の方が高いことを特徴とする放射線画像変換パネル。
(Claim 1)
A photostimulable phosphor layer (phosphor layer) and a protective layer are laminated in this order on a support, and the photostimulable phosphor layer is formed by a vapor deposition method and is a columnar crystal. In a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor, the support is a support having a laminated structure of two or more layers, and a support layer and a stimulable phosphor layer on the opposite side of the stimulable phosphor layer A radiation image conversion panel characterized in that the X-ray absorption efficiency per unit film thickness of the support layer on the side is higher on the phosphor layer side.
(請求項2)
前記支持体の蛍光体層の反対側の支持体の膜厚が蛍光体層側の支持体より厚いことを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネル。
(Claim 2)
The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein a film thickness of the support opposite to the phosphor layer of the support is thicker than that of the support on the phosphor layer side.
(請求項3)
前記支持体の蛍光体層の反対側の支持体がカーボンファイバー又はカーボンを含有する膜厚0.5〜10mmの支持体であり、且つ、蛍光体層側の支持体がアルミニウムであることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線画像変換パネル。
(Claim 3)
The support on the opposite side of the phosphor layer of the support is a carbon fiber or carbon-containing support having a film thickness of 0.5 to 10 mm, and the support on the phosphor layer side is aluminum. The radiation image conversion panel according to claim 1 or 2.
(請求項4)
前記輝尽性蛍光体がCsBr柱状結晶であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の放射線画像変換パネル。
(Claim 4)
The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the photostimulable phosphor is a CsBr columnar crystal.
(請求項5)
請求項1〜4の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルを蛍光体層側の支持体に輝尽性蛍光体層を蒸着法で設けた後、蛍光体層側の支持体の裏面に更に裏面用支持体を密着させて製造することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
(Claim 5)
The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 4 is provided on the support on the phosphor layer side by a vapor-depositing phosphor layer on the support on the phosphor layer side, and then on the back surface of the support on the phosphor layer side. Furthermore, the manufacturing method of the radiographic image conversion panel characterized by sticking and manufacturing the back surface support body.
(請求項6)
請求項1〜4の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルの蛍光体層の反対側の支持体にX線を照射し、被写体の情報を蛍光体層で読みとることを特徴とする放射線画像変換パネルの撮影方法。
(Claim 6)
5. A radiographic image characterized by irradiating a support on the opposite side of the phosphor layer of the radiographic image conversion panel according to any one of claims 1 to 4 with X-rays and reading information on a subject by the phosphor layer. How to shoot the conversion panel.
本発明による放射線画像変換パネル、その製造方法及び放射線画像変換パネルの撮影方法は画質のコントラストに優れた効果を有する。 The radiation image conversion panel, the manufacturing method thereof, and the radiographic image conversion panel photographing method according to the present invention have an excellent image quality contrast.
本発明を更に詳細に述べる。 The present invention will be described in more detail.
本発明の請求項1の発明は、
支持体上に輝尽性蛍光体層(蛍光体層)、保護層をこの順に積層しており、且つ、該輝尽性蛍光体層が気相堆積法により形成され、柱状の結晶である輝尽性蛍光体を有する放射線画像変換パネルにおいて、該支持体が2層以上の積層構成の支持体であり、且つ、輝尽性蛍光体層と反対側の支持体層と輝尽性蛍光体層側の支持体層の単位膜厚あたりのX線吸収効率が蛍光体層側の方が高いことを特徴とする放射線画像変換パネルの発明であり、これらの構成により本発明の目的を達成できたのである。
The invention of claim 1 of the present invention
A photostimulable phosphor layer (phosphor layer) and a protective layer are laminated in this order on a support, and the photostimulable phosphor layer is formed by a vapor deposition method and is a columnar crystal. In a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor, the support is a support having a laminated structure of two or more layers, and a support layer and a stimulable phosphor layer on the opposite side of the stimulable phosphor layer It is an invention of a radiation image conversion panel characterized in that the X-ray absorption efficiency per unit film thickness of the support layer on the side is higher on the phosphor layer side, and the object of the present invention can be achieved by these configurations It is.
また、前記支持体の蛍光体層の反対側の支持体の膜厚が蛍光体層側の支持体の膜厚より厚いことを特徴としており、本発明の効果をより奏する点で好ましい。 Further, the thickness of the support on the opposite side of the phosphor layer of the support is characterized by being thicker than the thickness of the support on the phosphor layer side, which is preferable in that the effect of the present invention is further exhibited.
また、前記支持体の蛍光体層の反対側の支持体がカーボンファイバー又はカーボンを含有する膜厚0.5〜10mmの支持体であり、且つ、蛍光体層側の支持体がアルミニウムであることが、更に本発明の効果をより奏する点で好ましく、後述するが、前記輝尽性蛍光体がCsBr柱状結晶であることが、本発明の効果を奏する点で特に好ましい。 The support on the opposite side of the phosphor layer of the support is a support having a film thickness of 0.5 to 10 mm containing carbon fiber or carbon, and the support on the phosphor layer side is aluminum. However, it is preferable from the viewpoint of further achieving the effects of the present invention, and as will be described later, it is particularly preferable that the stimulable phosphor is a CsBr columnar crystal from the viewpoint of achieving the effects of the present invention.
請求項5の発明は、
請求項1〜4の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルを蛍光体層側の支持体に輝尽性蛍光体層を蒸着法で設けた後、蛍光体層側の支持体の裏面に更に裏面用支持体を密着させて製造することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法であり、該製造方法により本発明の放射線画像変換パネルを得ることができる。
The invention of claim 5
The radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 4 is provided on the support on the phosphor layer side by a vapor-depositing phosphor layer on the support on the phosphor layer side, and then on the back surface of the support on the phosphor layer side. Furthermore, it is a manufacturing method of the radiographic image conversion panel characterized by sticking and manufacturing the back surface support, and the radiographic image conversion panel of the present invention can be obtained by the manufacturing method.
請求項6の発明は、
請求項1〜4の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルの蛍光体層の反対側の支持体にX線を照射し、被写体の情報を蛍光体層で読みとることを特徴とする放射線画像変換の撮影方法の発明であり、これらの構成により、本願の目的を達成することができる撮影方法である。
The invention of claim 6
5. A radiographic image characterized by irradiating a support on the opposite side of the phosphor layer of the radiographic image conversion panel according to any one of claims 1 to 4 with X-rays and reading information on a subject by the phosphor layer. It is an invention of an imaging method for conversion, and by these configurations, it is an imaging method that can achieve the object of the present application.
本発明の支持体は、後述する支持体を用いて作製するのが可能であり、例えば、異なる支持体で予め支持体を作製し、該支持体上に気相堆積法により、所望の輝尽性蛍光体層を得ることができ、また、単一の支持体上に気相堆積法により、所望の輝尽性蛍光体層を途設した後、該支持体の裏面に異なる支持体を接着し、支持体とすることができる。本発明においては、後者の方が好ましい。 The support of the present invention can be prepared using a support described later. For example, a support is prepared in advance with a different support, and a desired photostimulation is performed on the support by vapor deposition. In addition, after a desired stimulable phosphor layer is formed on a single support by vapor deposition, a different support is bonded to the back surface of the support. And can be used as a support. In the present invention, the latter is preferred.
次に、本発明の放射線画像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体としては、例えば、特開昭48−80487号に記載されているBaSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80488号記載のMgSO4:Axで表される蛍光体、特開昭48−80489号に記載されているSrSO4:Axで表される蛍光体、特開昭51−29889号に記載されているNa2SO4、CaSO4及びBaSO4等にMn、Dy及びTbの中少なくとも1種を添加した蛍光体、特開昭52−30487号に記載されているBeO、LiF、MgSO4及びCaF2等の蛍光体、特開昭53−39277号に記載されているLi2B4O7:Cu,Ag等の蛍光体、特開昭54−47883号に記載されているLi2O・(Be2O2)x:Cu,Ag等の蛍光体、米国特許第3,859,527号に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:Eu,Sm及び(Zn,Cd)S:Mnxで表される蛍光体があげられる。又、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb蛍光体、一般式がBaO・xAl2O3:Euであげられるアルミン酸バリウム蛍光体、及び、一般式がM(II)O・xSiO2:Aで表されるアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体があげられる。 Next, examples of the stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention include a phosphor represented by BaSO 4 : Ax described in JP-A-48-80487, and JP-A-48. A phosphor represented by MgSO 4 : Ax described in JP-80488, a phosphor represented by SrSO 4 : Ax described in JP-A 48-80489, and described in JP-A 51-29889 A phosphor obtained by adding at least one of Mn, Dy, and Tb to Na 2 SO 4 , CaSO 4, BaSO 4, and the like, BeO, LiF, MgSO 4, and CaF 2 described in JP-A-52-30487 Phosphors such as Li 2 B 4 O 7 : Cu, Ag described in JP-A-53-39277, Li 2 O. (Be described in JP-A-54-47883 2 O 2) x: Cu, A Phosphors etc., are described in U.S. Pat. No. 3,859,527 SrS: Ce, Sm, SrS : Eu, Sm, La 2 O 2 S: Eu, Sm and (Zn, Cd) S: at Mnx And phosphors represented. Further, a ZnS: Cu, Pb phosphor described in JP-A-55-12142, a barium aluminate phosphor whose general formula is BaO.xAl 2 O 3 : Eu, and a general formula of M (II ) O.xSiO 2 : An alkaline earth metal silicate phosphor represented by A can be used.
又、特開昭55−12143号に記載されている一般式が(Ba1−x−yMgxCay)Fx:Eu2 +で表されるアルカリ土類フッ化ハロゲン化物蛍光体、特開昭55−12144号に記載されている一般式がLnOX:xAで表される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されている一般式が(Ba1−xM(II)x)Fx:yAで表される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されている一般式がBaFX:xCe,yAで表される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されている一般式がM(II)FX・xA:yLnで表される希土類元素賦活二価金属フルオロハライド蛍光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A,Xで表される蛍光体、特開昭59−38278号に記載されている下記いずれかの一般式xM3(PO4)2・NX2:yAxM3(PO4)2:yAで表される蛍光体、特開昭59−155487号に記載されている下記いずれかの一般式nReX3・mAX′2:xEunReX3・mAX′2:xEu,ySmで表される蛍光体等、又、特開昭61−228400号に記載されている一般式M(I)X:xBiで表されるビスマス賦活アルカリハライド蛍光体等があげられる。 Further, an alkaline earth fluorohalide phosphor represented by the general formula (Ba1-x-yMgxCay) Fx: Eu 2 + described in JP-A-55-12143, JP-A-55-12144 A phosphor represented by the general formula LnOX: xA, and a fluorescence represented by (Ba1-xM (II) x) Fx: yA represented by JP-A-55-12145. A phosphor represented by the general formula BaFX: xCe, yA described in JP-A No. 55-84389, and a general formula described in JP-A No. 55-160078 as M (II) FX. Rare earth element activated divalent metal fluorohalide phosphor represented by xA: yLn, phosphor represented by general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, X, JP-A 59- Any of the following listed in 38278 Formula xM 3 (PO 4) 2 · NX 2: yAxM 3 (PO 4) 2: phosphor represented by yA, either of the following general formula nReX that are described in JP-A-59-155487 3- phosphors represented by mAX ' 2 : xEunReX 3 · mAX' 2 : xEu, ySm, etc., and bismuth represented by the general formula M (I) X: xBi described in JP-A-61-2228400 Examples include activated alkali halide phosphors.
しかしながら、特に、特開昭61−72087号、特開平2−58000号等に記載されたような、下記一般式(1)で表されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体が好ましい。 However, alkali halide photostimulable phosphors represented by the following general formula (1) as described in JP-A Nos. 61-72087 and 2-58000 are particularly preferable.
一般式(1)
M1X・aM2X′2・bM3X″3:cA式中、M1はLi,Na,K,Rb及びCsから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属であり、M2はBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Cu及びNiから選ばれる少なくとも1種の2価金属原子であり、M3はSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Ga及びInから選ばれる少なくとも1種の3価金属原子であり、X,X′及びX″はF,Cl,Br及びIから選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu,Tb,In,Ga,Cs,Ce,Tm,Dy,Pr,Ho,Nd,Yb,Er,Gd,Lu,Sm,Y,Tl,Na,Ag,Cu及びMgから選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、又、a,b及びcは、それぞれ0≦a<0.5,0≦b<0.5,0<e≦0.2の範囲の数値を表す。
General formula (1)
M1X · aM2X′2 · bM3X ″ 3: In the formula cA, M1 is at least one alkali metal selected from Li, Na, K, Rb and Cs, and M2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn. , Cd, Cu, and Ni, and M3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, And at least one trivalent metal atom selected from Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least one halogen atom selected from F, Cl, Br and I. Yes, A is selected from Eu, Tb, In, Ga, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg At least one metal atom Ri, also, a, b and c each represents a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.
これらのアルカリハライド系輝尽性蛍光体は気相堆積法により支持体上に成膜することで、支持体の法線方向に対し一定の傾きをもった(勿論、傾きがなく、支持体面に対して垂直でもよいが)細長い柱状結晶を形成する。この様な柱状結晶の形成により、輝尽励起光(又輝尽発光)の横方向への拡散を抑えることができるため、輝尽発光による画像の鮮鋭性がよいことがこれらの蛍光体を用いたときの特徴である。 These alkali halide photostimulable phosphors are formed on a support by vapor deposition, so that they have a certain inclination with respect to the normal direction of the support (of course, there is no inclination and the support surface has It forms an elongated columnar crystal (although it may be perpendicular to it). By forming such columnar crystals, it is possible to suppress the diffusion of stimulated excitation light (or stimulated emission) in the lateral direction. Therefore, it is necessary to use these phosphors that the sharpness of the image by stimulated emission is good. It is a feature when there was.
本発明においてはアルカリハライド系輝尽性蛍光体のなかでもCsBr系蛍光体が高輝度、高画質であり好ましいが、水分に弱いことから、本発明の製造方法との組合せ効果が顕著である。 In the present invention, among alkali halide photostimulable phosphors, CsBr phosphors are preferable because they have high luminance and high image quality, but they are not susceptible to moisture, so the combined effect with the production method of the present invention is remarkable.
本発明において、特に好ましいのはこれらの中でも下記一般式(2)で表されるCsBr系蛍光体である。 Of these, the CsBr phosphors represented by the following general formula (2) are particularly preferable in the present invention.
一般式(2)
CsX:A
式中、XはBr又はIを表し、AはEu,In,Ga又はCeを表す。
General formula (2)
CsX: A
In the formula, X represents Br or I, and A represents Eu, In, Ga, or Ce.
中でもCsBr系蛍光体が特に輝度が高く高画質であり、本発明の封着方法(製造方法)との組合せ効果が顕著で本発明の効果をより奏する点で好ましいこのましい。 Among them, the CsBr phosphor is particularly preferable because it has a particularly high luminance and high image quality, has a remarkable combination effect with the sealing method (manufacturing method) of the present invention, and exhibits the effects of the present invention.
本発明において好ましい、これらの輝尽性蛍光体を用いて得られる柱状結晶、即ち各々の結晶がある間隙をおいて柱状に成長している結晶は、前記、特開平2−58000号に記載された方法により得ることができる。 The columnar crystals obtained by using these photostimulable phosphors that are preferable in the present invention, that is, the crystals growing in columnar form with a certain gap are described in JP-A-2-58000. Can be obtained by different methods.
即ち、支持体上に輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し、蒸着等の気相成長(堆積)させる方法によって独立した細長い柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を得ることができる。 That is, a stimulable phosphor layer composed of independent elongated columnar crystals can be obtained by supplying vapor of the stimulable phosphor or the raw material on the support and performing vapor phase growth (deposition) such as vapor deposition. .
例えば、蒸着時の輝尽性蛍光体の蒸気流を基板に垂直な方向に対し0〜5度の範囲で入射させることにより、基板面に対してほぼ垂直柱状の結晶を得ることが出来る。 For example, by making the vapor flow of the photostimulable phosphor at the time of vapor deposition enter in the range of 0 to 5 degrees with respect to the direction perpendicular to the substrate, it is possible to obtain crystals that are substantially perpendicular to the substrate surface.
これらの場合において、支持体と坩堝との最短部の間隔は輝尽性蛍光体の平均飛程に合わせて概ね10cm〜60cmに設置するのが適当である。 In these cases, it is appropriate that the distance between the shortest part of the support and the crucible is set to approximately 10 cm to 60 cm in accordance with the average range of the stimulable phosphor.
蒸発源となる輝尽性蛍光体は、均一に溶解させるか、プレス、ホットプレスによって成形して坩堝に仕込まれる。この際、脱ガス処理を行うことが好ましい。蒸発源から輝尽性蛍光体を蒸発させる方法は電子銃により発した電子ビームの走査により行われるが、これ以外の方法にて蒸発させることもできる。 The stimulable phosphor as an evaporation source is uniformly dissolved or formed by pressing or hot pressing and charged in a crucible. At this time, it is preferable to perform a degassing treatment. The method for evaporating the photostimulable phosphor from the evaporation source is performed by scanning the electron beam emitted from the electron gun, but it can also be evaporated by other methods.
また、蒸発源は必ずしも輝尽性蛍光体である必要はなく、輝尽性蛍光体原料を混和したものであってもよい。 The evaporation source is not necessarily a stimulable phosphor, and may be a mixture of a stimulable phosphor material.
また、賦活剤は母体(basic substance)に対して賦活剤(actibator)を混合したものを蒸着してもよいし、母体のみを蒸着した後、あとから賦活剤をドープしてもよい。例えば、母体であるCsBrのみを蒸着した後、例えば賦活剤であるInをドープしてもよい。即ち、結晶が独立しているため、膜が厚くとも充分にドープ可能であるし、結晶成長が起こりにくいので、MTFは低下しないからである。 Moreover, what activator mixed the activator with respect to a base substance (basic substance) may be vapor-deposited, and after depositing only a base material, you may dope an activator afterwards. For example, after vapor-depositing only CsBr that is a base material, for example, In that is an activator may be doped. That is, since the crystals are independent, even if the film is thick, it can be sufficiently doped, and crystal growth hardly occurs, so the MTF does not decrease.
ドーピングは形成された蛍光体の母体層中にドーピング剤(賦活剤)を熱拡散、イオン注入法によって行うことが出来る。 Doping can be performed by thermal diffusion and ion implantation of a doping agent (activator) in the base layer of the formed phosphor.
これらの柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層において変調伝達関数(MTF)をよくするためには、柱状結晶の大きさ(柱状結晶を支持体と平行な面から観察したときの各柱状結晶の断面積の円換算した直径の平均値であり、少なくとも100個以上の柱状結晶を視野中に含む顕微鏡写真から計算する)は0.5〜50μm程度がよく、更に好ましくは、0.5〜20μmである。 In order to improve the modulation transfer function (MTF) in the photostimulable phosphor layer composed of these columnar crystals, the size of the columnar crystals (the columnar crystals when the columnar crystals are observed from a plane parallel to the support) is used. The average value of the diameter of the cross-sectional area in terms of a circle, calculated from a micrograph containing at least 100 columnar crystals in the field of view, is preferably about 0.5 to 50 μm, more preferably 0.5 to 20 μm. It is.
即ち、柱状結晶が0.5μmより細い場合は、柱状結晶により輝尽励起光が散乱される為にMTFが低下するし、柱状結晶が50μm以上の場合も輝尽励起光の指向性が低下し、MTFは低下する。 That is, when the columnar crystal is thinner than 0.5 μm, the excitation excitation light is scattered by the columnar crystal, so that the MTF is lowered. When the columnar crystal is 50 μm or more, the directivity of the excitation excitation light is also reduced. , MTF decreases.
該輝尽性蛍光体を気相成長(堆積)させる方法としては蒸着法、スパッタ法及びCVD法がある。 As a method for vapor phase growth (deposition) of the photostimulable phosphor, there are an evaporation method, a sputtering method, and a CVD method.
蒸着法は支持体を蒸着装置内に設置したのち、装置内を排気して1.333×10-4Pa程度の真空とし、次いで、輝尽性蛍光体の少なくとも1つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法などの方法で加熱蒸発させて支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚みに斜め堆積させる。この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて蒸着を行うことも可能である。また蒸着法においては、輝尽性蛍光体原料を複数の抵抗加熱器或いはエレクトロンビームを用いて蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。更に蒸着法においては、蒸着時に必要に応じて被蒸着物を冷却或いは加熱してもよい。また、蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。 In the vapor deposition method, after the support is placed in the vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus is evacuated to a vacuum of about 1.333 × 10 −4 Pa, and then at least one of the photostimulable phosphor is subjected to resistance heating, electron The photostimulable phosphor is obliquely deposited to a desired thickness on the surface of the support by heating and evaporating using a beam method or the like. As a result, a photostimulable phosphor layer containing no binder is formed, but it is also possible to form the photostimulable phosphor layer in a plurality of times in the vapor deposition step. In the vapor deposition step, vapor deposition can be performed using a plurality of resistance heaters or electron beams. In the vapor deposition method, the stimulable phosphor material is deposited using a plurality of resistance heaters or electron beams, and the desired stimulable phosphor layer is synthesized on the support at the same time. It is also possible to form. Further, in the vapor deposition method, the deposition object may be cooled or heated as necessary during vapor deposition. Moreover, you may heat-process a photostimulable phosphor layer after completion | finish of vapor deposition.
スパッタ法は前記蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した後、装置内を一旦排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とし、次いでスパッタ用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスを装置内に導入して1.333×10-1Pa程度のガス圧とする。次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、斜めにスパッタリングすることにより支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに斜めに堆積させる。このスパッタ工程では蒸着法と同様に複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能であるし、それぞれを用いて同時或いは順次、前記ターゲットをスパッタリングして輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、スパッタ法では、複数の輝尽性蛍光体原料をターゲットとして用い、これを同時或いは順次スパッタリングして、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体層を形成する事も可能であるし、必要に応じてO2、H2等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。更に、スパッタ法においては、スパッタ時必要に応じて被蒸着物を冷却或いは加熱してもよい。また、スパッタ終了後に輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。 In the sputtering method, after the support is installed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is once evacuated to a vacuum degree of about 1.333 × 10 −4 Pa, and then Ar, Ne are used as sputtering gases. An inert gas such as is introduced into the apparatus to obtain a gas pressure of about 1.333 × 10 −1 Pa. Next, the stimulable phosphor is obliquely deposited to a desired thickness on the surface of the support by sputtering obliquely using the stimulable phosphor as a target. In this sputtering process, it is possible to form the stimulable phosphor layer by dividing into multiple times as in the vapor deposition method. It is also possible to form In the sputtering method, a plurality of photostimulable phosphor materials can be used as targets, and these can be sputtered simultaneously or sequentially to form the desired photostimulable phosphor layer on the support. If necessary, reactive sputtering may be performed by introducing a gas such as O 2 or H 2 . Furthermore, in the sputtering method, the deposition object may be cooled or heated as necessary during sputtering. Alternatively, the photostimulable phosphor layer may be heat-treated after the end of sputtering.
CVD法は目的とする輝尽性蛍光体或いは輝尽性蛍光体原料を含有する有機金属化合物を熱、高周波電力等のエネルギーで分解することにより、支持体上に結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層を得るものであり、いずれも輝尽性蛍光体層を支持体の法線方向に対して特定の傾きをもって独立した細長い柱状結晶に気相成長させることが可能である。 In the CVD method, the target stimulable phosphor or organometallic compound containing the stimulable phosphor raw material is decomposed with energy such as heat and high-frequency power, so that no stimulant containing a binder is contained on the support. In any case, the stimulable phosphor layer can be vapor-phase grown into independent elongated columnar crystals with a specific inclination with respect to the normal direction of the support.
これらの方法により形成した輝尽性蛍光体層の層厚は目的とする放射線画像変換パネルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異なるが、50μm〜1000μmの範囲から選ばれるのが好ましく、80μm〜800μmから選ばれるのがより好ましい。 The thickness of the stimulable phosphor layer formed by these methods varies depending on the radiation sensitivity of the intended radiation image conversion panel, the type of stimulable phosphor, etc., but is selected from the range of 50 μm to 1000 μm. Preferably, it is selected from 80 μm to 800 μm.
これらの柱状結晶は前記の通り特開平2−58000号に記載された方法、即ち、支持体上に輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し、蒸着等の気相成長(堆積)させる方法で得ることができる。 These columnar crystals are grown by the method described in JP-A-2-58000 as described above, that is, vapor of stimulable phosphor or the raw material is supplied onto a support and vapor phase growth (deposition) such as vapor deposition is performed. Can be obtained by the method.
図1は支持体11上に輝尽性蛍光体層が蒸着により形成される様子の一例を示す概略図である。13は形成される輝尽性蛍光体柱状結晶を模式的に表している。輝尽性蛍光体蒸気流Vの支持体面の法線方向(P)に対する入射角度をθ2とすると、形成される柱状結晶の支持体面の法線方向(P)に対する角度はθ1で表される。入射角度θ2に依存して一定の角度θ1で柱状結晶が形成されるが、本発明において、前記のように、例えば、蒸着時の輝尽性蛍光体の蒸気流を基板に垂直な方向に対し0〜5度の範囲で入射させる(即ちθ2が0〜5度)ことにより、基板面に対してほぼ垂直柱状(θ1がほぼ0度)の結晶を得ることが出来る。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a state in which a photostimulable phosphor layer is formed on a
この様にして支持体上に形成した輝尽性蛍光体層は、結着剤を含有していないので、指向性に優れており、輝尽励起光及び輝尽発光の指向性が高く、輝尽性蛍光体を結着剤中に分散した分散型の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルより層厚を厚くすることができる。更に輝尽励起光の輝尽性蛍光体層中での散乱が減少することで像の鮮鋭性が向上する。 Since the photostimulable phosphor layer formed on the support in this manner does not contain a binder, it has excellent directivity, high directivity of stimulated excitation light and stimulated emission, and high brightness. The layer thickness can be made thicker than that of a radiation image conversion panel having a dispersive stimulable phosphor layer in which a stimulable phosphor is dispersed in a binder. Furthermore, the sharpness of the image is improved by reducing the scattering of the stimulating light in the stimulable phosphor layer.
又、柱状結晶間の間隙に結着剤等充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層の補強となる。又高光吸収率の物質、高光反射率の物質等を充填してもよい。これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散をほぼ完全に防止できる。 In addition, the gap between the columnar crystals may be filled with a filler or the like, which reinforces the photostimulable phosphor layer. Further, a substance having a high light absorption rate, a substance having a high light reflectance, or the like may be filled. As a result, the above-mentioned reinforcing effect can be provided, and the light diffusion in the lateral direction of the stimulated excitation light incident on the stimulable phosphor layer can be almost completely prevented.
高光反射率の物質とは、輝尽励起光(500〜900nm、特に600〜800nm)に対する反射率の高いものをいい、例えばアルミニウム、マグネシウム、銀、インジウムその他の金属など、白色顔料及び緑色から赤色領域の色材を用いることができる。 The substance having high light reflectance means a material having high reflectance with respect to stimulating excitation light (500 to 900 nm, particularly 600 to 800 nm), such as white pigment and green to red, such as aluminum, magnesium, silver, indium and other metals. Area colorants can be used.
白色顔料は輝尽発光も反射することができる。白色顔料として、TiO2(アナターゼ型、ルチル型)、MgO、PbCO3・Pb(OH)2、BaSO4、Al2O3、M(II)FX(但し、M(II)はBa、Sr及びCaの中の少なくとも一種であり、XはCl、及びBrのうちの少なくとも一種である。)、CaCO3、ZnO、Sb2O3、SiO2、ZrO2、リトポン(BaSO4・ZnS)、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸鉛、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウムなどがあげられる。これらの白色顔料は隠蔽力が強く、屈折率が大きいため、光を反射したり、屈折させることにより輝尽発光を容易に散乱し、得られる放射線画像変換パネルの感度を顕著に向上させうる。 White pigments can also reflect stimulated emission. As white pigments, TiO 2 (anatase type, rutile type), MgO, PbCO 3 .Pb (OH) 2 , BaSO 4 , Al 2 O 3 , M (II) FX (where M (II) is Ba, Sr and At least one of Ca, and X is at least one of Cl and Br.), CaCO 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , lithopone (BaSO 4 .ZnS), silicic acid Examples include magnesium, basic lead silicate, basic lead phosphate, and aluminum silicate. Since these white pigments have a strong hiding power and a high refractive index, they can easily scatter scattered light by reflecting or refracting light, and can significantly improve the sensitivity of the resulting radiation image conversion panel.
また、高光吸収率の物質としては、例えば、カーボン、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄など及び青の色材が用いられる。このうちカーボンは輝尽発光も吸収する。 Moreover, as a substance having a high light absorption rate, for example, carbon, chromium oxide, nickel oxide, iron oxide and the like and a blue color material are used. Of these, carbon also absorbs stimulated luminescence.
また、色材は、有機若しくは無機系色材のいずれでもよい。有機系色材としては、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学製)、D&CブルーNo.1(ナショナルアニリン製)、スピリットブルー(保土谷化学製)、オイルブルーNo.603(オリエント製)、キトンブルーA(チバガイギー製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土ヶ谷化学製)、レイクブルーAFH(協和産業製)、プリモシアニン6GX(稲畑産業製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学製)、シアンブルーBNRCS(東洋インク製)、ライオノイルブルーSL(東洋インク製)等が用いられる。またカラーインデクスNo.24411、23160、74180、74200、22800、23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等の有機系金属錯塩色材もあげられる。無機系色材としては群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−Co−NiO系顔料があげられる。 The color material may be either an organic or inorganic color material. Examples of organic colorants include Zavon First Blue 3G (Hoechst), Estrol Brill Blue N-3RL (Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (made by National Aniline), Spirit Blue (made by Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (made by Orient), Kitten Blue A (made by Ciba Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (made by Hodogaya Chemical), Lake Blue AFH (made by Kyowa Sangyo), Primocyanin 6GX (made by Inabata Sangyo), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya) Chemical Blue), Cyan Blue BNRCS (Toyo Ink), Lionoyl Blue SL (Toyo Ink), etc. are used. The color index No. 24411, 23160, 74180, 74200, 22800, 23154, 23155, 24401, 14830, 15050, 15760, 15707, 17941, 74220, 13425, 13361, 13420, 11836, 74140, 74380, 74350, 74460, etc. There are also materials. Examples of inorganic color materials include ultramarine, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—Co—NiO pigments.
本発明の放射線画像変換パネルに用いられる支持体としては水分の透過性の低いものが好ましく、各種のガラス、高分子材料、金属等が用いられるが、例えば石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラス、又、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウムシート、鉄シート、銅シート等の金属シート或いは該金属酸化物の被覆層を有する金属シートが好ましい。これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体との接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。 As the support used in the radiation image conversion panel of the present invention, those having low moisture permeability are preferable, and various glasses, polymer materials, metals, etc. are used. For example, quartz, borosilicate glass, chemically tempered glass, and the like. Sheet glass such as cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyamide film, polyimide film, triacetate film, polycarbonate film and other metal film, aluminum sheet, iron sheet, copper sheet and other metal sheet or the metal oxide A metal sheet having a coating layer of is preferable. The surface of these supports may be a smooth surface, or may be a matte surface for the purpose of improving the adhesion to the stimulable phosphor.
また、本発明においては、支持体と輝尽性蛍光体の接着性を向上させるために、必要に応じて支持体の表面に予め接着層を設けてもよい。 Moreover, in this invention, in order to improve the adhesiveness of a support body and a photostimulable fluorescent substance, you may provide an adhesive layer in advance on the surface of a support body as needed.
これら接着層の厚みは用いる支持体の材質等によって異なるが、一般的には80μm〜2000μmであり、取り扱い上の観点から、更に好ましいのは80μm〜1000μmである。 The thickness of these adhesive layers varies depending on the material of the support used, but is generally 80 μm to 2000 μm, and more preferably 80 μm to 1000 μm from the viewpoint of handling.
又、本発明の保護層としては、透光性がよくシート状に形成できるものを用いることができる。例えば石英、ホウ珪酸ガラス、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、PET、OPP、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子があげられる。 Moreover, as a protective layer of this invention, what can be formed in a sheet form with good translucency can be used. Examples thereof include plate glass such as quartz, borosilicate glass and chemically tempered glass, and organic polymers such as PET, OPP and polyvinyl chloride.
本発明の保護層は単一層であってもよいし、多層であってもよく、材質の異なる2種類以上の層からなっていてもよい。例えば2層以上の高分子膜を複合したフィルムを用いることができる。この様な複合高分子フィルムの製法としては、ドライラミネート、押し出しラミネートまたは共押し出しコーティングラミネートなどの方法があげられる。2層以上の保護層の組合せとしては有機高分子同士に限られるものではなく、板ガラス同士や板ガラスと有機高分子などがあげられる。例えば、板ガラスと高分子層とを組み合わせる方法としては、保護層用塗布液を板ガラス上に直接塗布して形成するか、或いは予め別途形成した高分子保護層を板ガラス上に接着する方法があげられる。尚2層以上の保護層は互いに密着状態にあってもよいし、離れていてもよい。 The protective layer of the present invention may be a single layer, may be a multilayer, or may be composed of two or more types of layers having different materials. For example, a film in which two or more polymer films are combined can be used. Examples of a method for producing such a composite polymer film include dry lamination, extrusion lamination, and coextrusion coating lamination. The combination of two or more protective layers is not limited to organic polymers, and includes plate glasses or plate glasses and organic polymers. For example, as a method of combining the plate glass and the polymer layer, there is a method in which a protective layer coating solution is directly applied on the plate glass, or a method in which a separately formed polymer protective layer is adhered on the plate glass. . Two or more protective layers may be in close contact with each other or may be separated from each other.
本発明の保護層の厚さは、実用上は10μm〜3mmまでである。良好な耐湿性と耐衝撃性を得るためには保護層の厚さは100μm以上が好ましく、特に500μm以上の保護層を設けた場合、耐久性、耐用性に優れた変換パネルが得られて、一層好ましい。 The thickness of the protective layer of the present invention is practically 10 μm to 3 mm. In order to obtain good moisture resistance and impact resistance, the thickness of the protective layer is preferably 100 μm or more, and particularly when a protective layer of 500 μm or more is provided, a conversion panel excellent in durability and durability can be obtained. Even more preferred.
また、保護層として板ガラスを用いた場合には、極めて耐湿性に優れており特に好ましい。 Moreover, when plate glass is used as the protective layer, it is particularly preferable because it is extremely excellent in moisture resistance.
保護層は輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するために、広い波長範囲で高い透過率を示すことが望ましく、透過率は60%以上、好ましくは80%以上である。これを満たすものとしては例えば石英ガラス、ホウ珪酸ガラスなどがあげられる。ホウ珪酸ガラスは330nm〜2.6μmの波長範囲で80%以上の透過率を示し、石英ガラスでは更に短波長においても高い透過率を示す。 The protective layer desirably exhibits high transmittance in a wide wavelength range in order to efficiently transmit stimulated excitation light and stimulated emission, and the transmittance is 60% or more, preferably 80% or more. For example, quartz glass, borosilicate glass, and the like can be given. Borosilicate glass exhibits a transmittance of 80% or more in the wavelength range of 330 nm to 2.6 μm, and quartz glass exhibits a high transmittance even at a shorter wavelength.
また、保護層の表面にMgF2などの反射防止層を設けると、輝尽励起光及び輝尽性発光を効率よく透過すると共に鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい。保護層の屈折率は特に規定しないが、実用的に用いる材質では1.4〜2.0の間にあるものが多い。 In addition, it is preferable to provide an antireflection layer such as MgF 2 on the surface of the protective layer because it effectively transmits the stimulating excitation light and the stimulable light emission and reduces the sharpness reduction. The refractive index of the protective layer is not particularly specified, but many practically used materials are between 1.4 and 2.0.
又、鮮鋭性の向上のため、ガラスに例えばリン酸鉛等の着色剤を含有させ着色し、輝尽励起光を吸収する機能をもたせてもよい。 In order to improve the sharpness, the glass may be colored by containing a colorant such as lead phosphate to absorb the stimulated excitation light.
その為に、ガラスに輝尽励起光を吸収する色材(顔料又は色素)で着色したフィルムを積層したり、ガラスのどちらか一方の面に色素乃至顔料を含有する層を塗布により設けたり、ガラス自身に、色材として、分散された顔料や着色剤を含有させる方法もある。 For that purpose, a film colored with a coloring material (pigment or coloring matter) that absorbs stimulating excitation light is laminated on the glass, or a layer containing a coloring matter or pigment is applied on either side of the glass, There is also a method in which the glass itself contains a dispersed pigment or colorant as a coloring material.
着色したフィルムの製造方法としては、色材を練り込んだプラスチックフィルムやプラスチックフィルムの表面に色材(顔料又は染料)を含有する層を塗布等によって形成する方法があり、着色したプラスチックフィルムを接着剤等を用いて均一にガラス表面に貼り合わせる方法で着色したガラスを得ることが出来る。 As a method for producing a colored film, there is a method of forming a layer containing a coloring material (pigment or dye) on the surface of a plastic film or a plastic film kneaded with a coloring material, and bonding the colored plastic film. Colored glass can be obtained by a method of uniformly bonding to the glass surface using an agent or the like.
又、ガラスに直接ガラスと接着性のよいバインダー(水ガラス、ポリビニルブチラール等の有機ポリマー等)中に分散乃至溶解した顔料又は染料を塗布してもよい。 Alternatively, a pigment or dye dispersed or dissolved in a binder (water glass, organic polymer such as polyvinyl butyral, etc.) having good adhesiveness with glass may be directly applied to the glass.
これらの保護層に用いる励起光を吸収できる色材としては、有機若しくは無機系色材のいずれでもよいが、有機系色材としては、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学製)、D&CブルーNo.1(ナショナルアニリン製)、スピリットブルー(保土谷化学製)、オイルブルーNo.603(オリエント製)、キトンブルーA(チバガイギー製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土ヶ谷化学製)、レイクブルーAFH(協和産業製)、プリモシアニン6GX(稲畑産業製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学製)、シアンブルーBNRCS(東洋インク製)、ライオノイルブルーSL(東洋インク製)等が用いられる。またカラーインデクスNo.24411、23160、74180、74200、22800、23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等の有機系金属錯塩染料又は顔料もあげられる。特に金属フタロシアニン系顔料が好ましい。無機系色材としては群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−Co−NiO系顔料があげられる。 The coloring material that can absorb the excitation light used in these protective layers may be either an organic or inorganic coloring material. Examples of the organic coloring material include Zavon Fast Blue 3G (manufactured by Hoechst), Estrol Brill Blue N- 3RL (manufactured by Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (made by National Aniline), Spirit Blue (made by Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (made by Orient), Kitten Blue A (made by Ciba Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (made by Hodogaya Chemical), Lake Blue AFH (made by Kyowa Sangyo), Primocyanin 6GX (made by Inabata Sangyo), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya) Chemical Blue), Cyan Blue BNRCS (Toyo Ink), Lionoyl Blue SL (Toyo Ink), etc. are used. The color index No. 24411, 23160, 74180, 74200, 22800, 23154, 23155, 24401, 14830, 15050, 15760, 15707, 17941, 74220, 13425, 13361, 13420, 11836, 74140, 74380, 74350, 74460, etc. Or a pigment is also mentioned. In particular, metal phthalocyanine pigments are preferred. Examples of inorganic color materials include ultramarine, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—Co—NiO pigments.
又、スペーサとしては、輝尽性蛍光体層を外部雰囲気から遮断した状態で保持することができるものであれば特に限定されず、ガラス、セラミックス、金属、プラスチック等を用いることができる。 The spacer is not particularly limited as long as it can hold the photostimulable phosphor layer in a state of being blocked from the external atmosphere, and glass, ceramics, metal, plastic, or the like can be used.
又、スペーサは、その透湿度が30g/m2・24hr以下であることが好ましい。この透湿度が余り大きすぎる場合には、外部から進入する水分により輝尽性蛍光体が劣化する。 The spacer preferably has a moisture permeability of 30 g / m 2 · 24 hr or less. When this moisture permeability is too large, the photostimulable phosphor is deteriorated by moisture entering from the outside.
スペーサの厚さは、輝尽性蛍光体層の厚さ以上であることが好ましく、幅は主に、このスペーサと支持体及び保護層との密着部分の防湿性(透湿度)に関連して決定されるものであり、1〜30mmが好ましい。スペーサの幅が余り小さすぎる場合にはスペーサの安定性、強度及び防湿性の点から好ましくない。又、余り大きすぎる場合には必要以上に放射線画像変換パネルが大型化するので好ましくない。 The thickness of the spacer is preferably equal to or greater than the thickness of the stimulable phosphor layer, and the width is mainly related to the moisture resistance (moisture permeability) of the contact portion between the spacer and the support and the protective layer. 1 to 30 mm is preferable. If the width of the spacer is too small, it is not preferable from the viewpoint of the stability, strength and moisture resistance of the spacer. On the other hand, if the size is too large, the radiation image conversion panel becomes unnecessarily large, which is not preferable.
尚、スペーサと支持体及び保護層との密着部分の透湿度は、30g/m2・24hr以下であることが好ましい。 In addition, it is preferable that the moisture permeability of the adhesion part of a spacer, a support body, and a protective layer is 30 g / m < 2 > * 24hr or less.
スペーサは、支持体と保護層に密着していることが変換パネルに防湿性を与える点及び低屈折率層の層厚を一定に保持する点から必要である。ここでスペーサを支持体及び保護層に密着・封着するには封着剤を用いる。 The spacer is necessary from the point that the support and the protective layer are in close contact with each other to provide moisture resistance to the conversion panel and to keep the layer thickness of the low refractive index layer constant. Here, a sealing agent is used to adhere and seal the spacer to the support and the protective layer.
本発明において、封着剤とはスペーサを支持体及び保護層に、又、支持体と保護層を直接接着するものであり接着剤が用いられてもよく、この接着剤としては防湿性を有するものが好ましい。 In the present invention, the sealing agent means that the spacer is directly bonded to the support and the protective layer, and the support and the protective layer are directly bonded, and an adhesive may be used, and the adhesive has moisture resistance. Those are preferred.
具体的には、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、オレフィン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴム等の有機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤、アルミナ、シリカ等を主成分とする無機系接着剤等が挙げられる。これらの中でも半導体や電子部品の封止に用いられるエポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂が耐湿性に優れ好ましく、特にエポキシ系接着剤は透湿度が低く好適である。 Specifically, epoxy resin, phenol resin, cyanoacrylate resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride resin, urethane resin, acrylic resin, ethylene vinyl acetate resin, olefin resin, chloroprene rubber, Examples include organic polymer adhesives such as nitrile rubber, inorganic adhesives mainly composed of silicone adhesives, alumina, silica, and the like. Among these, epoxy resins and silicone resins used for sealing semiconductors and electronic components are excellent in moisture resistance, and epoxy adhesives are particularly preferable because of low moisture permeability.
尚、スペーサと支持体又はスペーサと保護層との密着部分の接着性を向上させる目的で、スペーサ、支持体及び保護層の層との接着面に下引き層を設けたり、粗面化処理を施すことも好ましい。 In addition, for the purpose of improving the adhesion of the contact portion between the spacer and the support or between the spacer and the protective layer, an undercoat layer is provided on the adhesion surface between the spacer, the support and the protective layer, or a roughening treatment is performed. It is also preferable to apply.
又、スペーサなしに、上記封着剤のみで、支持体と保護層を接着し封着することも可能である。 Further, it is possible to adhere and seal the support and the protective layer using only the above-mentioned sealing agent without a spacer.
又、本発明においては低屈折率層を設けてもよい。低屈折率層は保護層よりも屈折率の低い素材からなり、この層が存在することにより、保護層を厚くしても鮮鋭性の低下を小さくすることができる。 In the present invention, a low refractive index layer may be provided. The low refractive index layer is made of a material having a refractive index lower than that of the protective layer, and the presence of this layer can reduce the reduction in sharpness even if the protective layer is thickened.
又、本発明に好ましく用いられる低屈折率層として、空気、窒素、アルゴンなどの気体層や真空層など屈折率が実質的に1である層を用いると、鮮鋭性の低下を防止する効果が高く特に好ましい。 Further, when a layer having a refractive index of substantially 1, such as a gas layer such as air, nitrogen, argon, or a vacuum layer, is used as the low refractive index layer preferably used in the present invention, the effect of preventing a reduction in sharpness can be obtained. High and particularly preferred.
本発明に好ましく用いられる低屈折率層の厚さは0.05μmから3mmまでが実用的である。本発明の低屈折率層は、輝尽層と密着状態にあってもよいし、離れていてもよい。低屈折率層と輝尽層を密着させるためには、接着剤を用いるのが1つの方法であるが、その場合、接着剤の屈折率は輝尽層の屈折率または低屈折率層の屈折率に近いことが好ましい。 The thickness of the low refractive index layer preferably used in the present invention is practical from 0.05 μm to 3 mm. The low refractive index layer of the present invention may be in close contact with the photostimulable layer or may be separated. In order to adhere the low refractive index layer and the stimulating layer, one method is to use an adhesive. In that case, the refractive index of the adhesive is the refractive index of the stimulating layer or the refractive index of the low refractive index layer. It is preferable to be close to the rate.
図2に、本発明の放射線画像変換パネルを用いた放射線像変換方法の一例を示す概略図である。 FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a radiation image conversion method using the radiation image conversion panel of the present invention.
即ち、図2において、21は放射線発生装置、22は被写体、23は本発明に係わる放射線画像変換パネル、24は(レーザ等の)輝尽励起光源、25は該変換パネルにより放射された輝尽蛍光を検出する光電変換装置、26は25で検出された信号を画像として再生する装置、27は再生された画像を表示する装置、28は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し、輝尽蛍光のみを透過させるフィルタである。尚、25以降は23からの光情報を何らかの形で画像として再生できるものであればよく、上記に限定されるものではない。 That is, in FIG. 2, 21 is a radiation generating device, 22 is a subject, 23 is a radiation image conversion panel according to the present invention, 24 is a stimulating excitation light source (such as a laser), and 25 is a stimulating light emitted by the converting panel. A photoelectric conversion device that detects fluorescence, 26 is a device that reproduces the signal detected in 25 as an image, 27 is a device that displays the reproduced image, and 28 is a device that separates stimulated excitation light and stimulated fluorescence. This is a filter that transmits only exhaust fluorescent light. It should be noted that anything after 25 can be used as long as the optical information from 23 can be reproduced as an image in some form, and is not limited to the above.
図2に示されるように、放射線発生装置21からの放射線(R)は被写体22を通して放射線画像変換パネル23に入射する(RI)。この入射した放射線はパネル23の輝尽層に吸収され、そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形成される。
As shown in FIG. 2, the radiation (R) from the
次にこの蓄積像を輝尽励起光源24からの輝尽励起光で励起して輝尽発光として放出せしめる。
Next, this accumulated image is excited by stimulated excitation light from the stimulated
放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー量に比例するので、この光信号を例えば光電子倍増管等の光電変換装置25で光電変換し、画像生成装置26によって画像として再生し画像表示装置27によって表示することにより、被写体の放射線透過像を観察することができる。 Since the intensity of stimulated emission emitted is proportional to the amount of accumulated radiation energy, this optical signal is photoelectrically converted by a photoelectric conversion device 25 such as a photomultiplier tube, and reproduced as an image by an image generation device 26 to display an image. By displaying on the apparatus 27, a radiation transmission image of the subject can be observed.
以下実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが本発明の実施態様はこれらにより限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.
実施例1《放射線画像変換パネル試料1〜7の作製》
4mm厚、面積410mm×410mmのカーボン(東レ(株)社製)支持体11の表面に図1に示すように輝尽性蛍光体(CsBr:Eu)を有する輝尽性蛍光体層を形成した。
Example 1 << Preparation of Radiation Image Conversion Panel Samples 1-7 >>
A stimulable phosphor layer having a stimulable phosphor (CsBr: Eu) as shown in FIG. 1 was formed on the surface of a carbon (Toray Industries, Inc.)
図1において、スリットとしてアルミニウム製スリットを用い、但し、θ2=0度とし、支持体とスリットとの距離dを60cmとして、支持体と平行な方向に支持体を搬送しながら蒸着を行なった。電子顕微鏡観察により、θ1=0度、結晶径3μmの柱状結晶13からなる厚み300μmの輝尽性蛍光体層が途設されていることを確認した。
In FIG. 1, an aluminum slit was used as the slit, provided that θ2 = 0 °, the distance d between the support and the slit was 60 cm, and vapor deposition was performed while the support was transported in a direction parallel to the support. By observation with an electron microscope, it was confirmed that a stimulable phosphor layer having a thickness of 300 μm composed of
尚、蒸着にあたっては、前記支持体を蒸着器内に設置し、次いで、蛍光体原料(CsBr:Eu)を蒸着源としてプレス成形し水冷したルツボにいれた。 In the vapor deposition, the support was placed in a vapor deposition device, and then, the phosphor raw material (CsBr: Eu) was pressed using a vapor deposition source and placed in a water-cooled crucible.
その後、蒸着器内を排気し、器内の真空度を6.55×10-4Paに維持した後、支持体の温度(基板温度ともいう)を約300℃に保持しながら、蒸着を開始した。輝尽性蛍光体層の膜厚が300μmとなったところで蒸着を終了させた。 After that, the inside of the vapor deposition unit is evacuated, and after maintaining the degree of vacuum in the vessel at 6.55 × 10 −4 Pa, vapor deposition is started while maintaining the temperature of the support (also called the substrate temperature) at about 300 ° C. did. Deposition was terminated when the thickness of the photostimulable phosphor layer reached 300 μm.
この様にして得られた輝尽性蛍光体層を形成した支持体を直ちに作業室(絶対湿度2.66×103Pa)に移し、該支持体の裏面に該支持体と異なる1mm厚のアルミニウム(日本金属(株)社製)支持体を接着剤(チバガイギー(株)製エポキシ系接着剤ARALDITE AW136H及びHARDENER HY994)を用いて、密着、接着、することにより、支持体上に輝尽性蛍光体層を有する試料1を得た。塗
更に、保護層を設けた試料1を接着剤樹脂を塗布した封止用の樹脂フィルム(ポリエチレンテレフタレートの透明フィルム厚み30μm)を用い、減圧下で保護層及び蛍光体層又支持体と封止用の樹脂フィルム間を充分密着させた。このようにして封止された状態の放射線画像変換パネル試料1(試料No.1)を得た。
The support on which the photostimulable phosphor layer thus obtained was formed was immediately transferred to a working chamber (absolute humidity 2.66 × 10 3 Pa), and the back surface of the support had a thickness of 1 mm different from that of the support. An aluminum (made by Nippon Metals Co., Ltd.) support is adhered and bonded using adhesives (epoxy adhesives ALARDITE AW136H and HARDENER HY994 made by Ciba Geigy Co., Ltd.), thereby producing stimuli on the support. Sample 1 having a phosphor layer was obtained. Coating Sample 1 with a protective layer is sealed with a protective resin film and a phosphor layer or a support under reduced pressure using a sealing resin film (polyethylene terephthalate transparent film thickness 30 μm) coated with an adhesive resin. The resin film for use was sufficiently adhered. Thus, the radiation image conversion panel sample 1 (sample No. 1) in the sealed state was obtained.
放射線画像変換パネル試料1の作製において、表1に示すように蛍光体層側の支持体及び蛍光体層の反対側の支持体を用いたいた以外は放射線画像変換パネル試料1の作製と同様にして放射線画像変換パネル試料2〜7(試料No.2〜7)を作製し。以下の評価を行った。 Preparation of the radiation image conversion panel sample 1 was performed in the same manner as the preparation of the radiation image conversion panel sample 1 except that the support on the phosphor layer side and the support on the opposite side of the phosphor layer were used as shown in Table 1. Radiation image conversion panel samples 2 to 7 (sample Nos. 2 to 7) were prepared. The following evaluation was performed.
(画質のコントラストの評価)
X線照射は80kVとし、1cm厚みのアクリル板を撮影し、レーザーイメージャーでアクリル部分が濃度1になるように出力し、周辺部との濃度差を測定した。(濃度差が大きい程コントラストが高い)
結果を以下に示す。
(Evaluation of image quality contrast)
X-ray irradiation was set to 80 kV, a 1 cm thick acrylic plate was photographed, and output with a laser imager so that the acrylic part had a density of 1, and the difference in density from the peripheral part was measured. (The greater the density difference, the higher the contrast)
The results are shown below.
表の結果から明らかなように、本発明の放射線画像変換パネル、その製造方法及び撮影方法が比較に比して優れていることが分かる。 As is apparent from the results of the table, it can be seen that the radiation image conversion panel of the present invention, its manufacturing method and imaging method are superior to the comparison.
11 支持体
22 被写体
23 放射線画像変換パネル
11
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