JP2009130187A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶接部を、ガス化学反応から遮蔽する、その反応に耐性を有する素材からなる、溶接部をガス化学反応から遮蔽するカバー手段を、基板処理装置内に付設することで、運用コストを含め低コストにそのパーティクル発生およびウエハへの付着を防ぐ。カバー手段としては、例えば、石英によって、溶接部をガス化学反応から遮蔽する板状の遮蔽部と、処理室中へのガス導入開口に挿入する筒状の挿入部とを組合せて構成する。
【選択図】図4
Description
少なくとも反応管と、ガス導入ポートを具備するマニホールドフランジとで排気可能な処理室を構成してガス化学反応を伴う基板処理装置であって、
前記ガス導入ポートが前記マニホールドフランジの側壁を貫通して前記処理室側壁面で開口するように前記側壁に溶接されることで、前記処理室内に表出している溶接部と、
前記溶接部を覆う溶接部カバー手段とを有することを特徴とする。
前記溶接部カバー手段は、前記ガス化学反応に耐性を有することを特徴とする。
前記溶接部カバー手段は、前記溶接部の表面の前記ガス化学反応に曝露するのを遮蔽する遮蔽部と、
前記ガス導入ポートの開口に挿入する円筒状の挿入部とからなることを特徴とする。
図3(1)、(2)、(3)に、いずれもガス噴出口への挿入部と溶接部を遮蔽する遮蔽部との組合せで構成する3種のインサート構造のカバー15の例の断面模式図を示す。図3(1)は、反応ガスがガス噴射口から処理室内に導入可能で、かつガス導入管に挿入しOリングなどで真空シール可能でポートに固定可能の外径を有する円筒形をした挿入部16と、その外径の開口を有する遮蔽部17とからなり、図示するように両者を組合せてカバー15とした。図のように挿入部と遮蔽部との交差する領域周辺Xが、フランジとガス導入管部との溶接部と相対ないし接する場所となる。
図5は、耐熱・耐薬品性があり、かつ弾性を有する素材(例えばテフロンなど)を用いた溶接部に対するカバー21の例の断面模式図である。これも基本的に挿入部と遮蔽部からなり、ガス導入ポートの処理室内へのガス噴出口に挿入可能な構造(インサート構造)である。図5(1)は、ガス管に挿入する筒状の挿入部22と溶接部を遮蔽する遮蔽部23が上記の同一素材で一体形成、ないし組立一体化されたカバー21である。これは、更にこのカバー21のみで容易に装置への装着可能なように、挿入部22の先端には素材の弾性を用いてガス管の内側の壁に固定可能とする、例えば断面が円錐台形の形状をしたガス管内壁固定部221と、遮蔽部23の挿入部側の外縁の内側に、溶接部へのガスの流入や溶接部からの剥離物の放出の遮断レベルを向上する、例えば断面円錐形の円周状突起からなる突起遮断部231を備えている。
2 マニホールドフランジ
201 外側筒部
202 内側筒部
3 フランジ
4 キャップ
5、10、18、20 Oリング
6、11 冷却水路
7 ガス導入ポート
701 ガス導入管部
8 ガス配管
9 処理室
12 排気用配管
13 ヒータ
14 溶接部
15、21 カバー
16、22 挿入部
221 ガス管内壁固定部
17、23 遮蔽部
231 突起遮断部
19 ポートエンド
Claims (5)
- 少なくとも反応管と、ガス導入ポートを具備するマニホールドフランジとで排気可能な処理室を構成してガス化学反応を伴う基板処理装置であって、
前記ガス導入ポートが前記マニホールドフランジの側壁を貫通して前記処理室側壁面で開口するように前記側壁に溶接されることで、前記処理室内に表出している溶接部と、
前記溶接部を覆う溶接部カバー手段とを有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記溶接部カバー手段は、前記ガス化学反応に耐性を有することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記溶接部カバー手段は、前記溶接部の表面の前記ガス化学反応に曝露するのを遮蔽する遮蔽部と、
前記ガス導入ポートの開口に挿入する円筒状の挿入部とからなることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 - 前記挿入部は、弾性を有する材料からなることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 前記溶接部カバー手段は、石英、テフロン、SUSのいずれか、ないしそれらの組合せ材料からなることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007304528A JP2009130187A (ja) | 2007-11-26 | 2007-11-26 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007304528A JP2009130187A (ja) | 2007-11-26 | 2007-11-26 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009130187A true JP2009130187A (ja) | 2009-06-11 |
Family
ID=40820794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007304528A Pending JP2009130187A (ja) | 2007-11-26 | 2007-11-26 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2009130187A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01278718A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-09 | Matsushita Electron Corp | 半導体ウェーハの処理装置 |
JPH07147247A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-06 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2001358080A (ja) * | 2000-06-12 | 2001-12-26 | Hitachi Ltd | 縦型cvd装置 |
JP2007147247A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-06-14 | Daikin Ind Ltd | 閉鎖弁取付構造、及びこれを備える空気調和装置の室外ユニット |
-
2007
- 2007-11-26 JP JP2007304528A patent/JP2009130187A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01278718A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-09 | Matsushita Electron Corp | 半導体ウェーハの処理装置 |
JPH07147247A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-06 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2001358080A (ja) * | 2000-06-12 | 2001-12-26 | Hitachi Ltd | 縦型cvd装置 |
JP2007147247A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-06-14 | Daikin Ind Ltd | 閉鎖弁取付構造、及びこれを備える空気調和装置の室外ユニット |
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