JP2009107870A - Method for manufacturing silica particle and silica particle - Google Patents

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弘樹 森
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing spherical silica particles free from a crack, a flaw and coloring (blackening). <P>SOLUTION: The method for manufacturing the silica particles includes: hydrolyzing and polycondensing an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group to form polyorganosiloxane particles; and firing the polyorganosiloxane particles to manufacture silica particles, wherein the firing is carried out in a firing atmosphere while keeping the oxygen concentration in the firing atmosphere at 1-15%. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、シリカ粒子の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing silica particles.

アルコキシシランを加水分解、重縮合反応させてポリオルガノシロキサン粒子を作製し、これを焼成してシリカ粒子を作製する方法が知られている。この方法によって作製されるシリカ粒子は、微小な真球状粒子であるため、その特徴を生かして種々の用途に使用されている。例えば半導体の樹脂封止材のフィラーとして、また液晶ディスプレイパネルのスペーサーとして使用されている。
特開平8−183610号公報
A method is known in which alkoxysilane is hydrolyzed and polycondensed to produce polyorganosiloxane particles, which are fired to produce silica particles. Since the silica particles produced by this method are fine spherical particles, they are used in various applications by taking advantage of their characteristics. For example, it is used as a filler for semiconductor resin sealing materials and as a spacer for liquid crystal display panels.
JP-A-8-183610

シリカ粒子の作製に用いるアルコキシシランとしては、テトラアルコキシシラン(Si原子の4つの基が全て加水分解基。TEOS:テトラエトキシシラン等)が最も一般的である。ところがTEOSは水との反応性が低く、高濃度の塩基性触媒(pH12程度)を添加しないと粒子成長させることができないため、一度の反応(1回の原料添加による反応)では1μm未満の小さな粒子しか得ることができない。それゆえ1回目の反応で粒子を成長させた後に、この粒子をシード粒子として、更に複数回に分けて原料を添加して繰り返し反応させて、粒子を徐々に成長させていくという手法が採られている。このため所望の粒径に成長させるまでに時間がかかる。またこの方法では、粒径が大きくなるほど、原料添加に対する粒子の成長効率が悪くなることから、粒径の大きなシリカ粒子(例えば7μm以上の粒子)を得ることは困難である。   Tetraalkoxysilane (all four groups of Si atoms are all hydrolyzable groups, TEOS: tetraethoxysilane, etc.) is the most common alkoxysilane used for the production of silica particles. However, TEOS has low reactivity with water, and particle growth cannot be achieved unless a high concentration basic catalyst (about pH 12) is added. Therefore, a small reaction of less than 1 μm in a single reaction (reaction by one addition of raw materials). Only particles can be obtained. Therefore, after growing the particles in the first reaction, this particle is used as a seed particle, and then the raw material is added in multiple batches and reacted repeatedly to gradually grow the particles. ing. For this reason, it takes time to grow to a desired particle size. Further, in this method, the larger the particle size, the worse the efficiency of particle growth with respect to the addition of the raw material. Therefore, it is difficult to obtain silica particles having a large particle size (for example, particles of 7 μm or more).

そこでTEOSの代わりに、メチルトリメトキシシラン(MTMS)等の非加水分解基を有するアルコキシシランを用いる方法が提案されている。MTMSは、TEOSに比べて水との反応性が高いために、粒子成長が容易であり、短時間で所望の大きさの粒子を得ることができるという特徴がある。ところがMTMSを使用する従来の方法では、焼成によってシリカ粒子にクラックが入ったり、割れが生じたりすることがある。またシリカ粒子が黒化してしまう場合がある。   Therefore, a method using an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group such as methyltrimethoxysilane (MTMS) instead of TEOS has been proposed. Since MTMS has higher reactivity with water than TEOS, it has a feature that particle growth is easy and particles having a desired size can be obtained in a short time. However, in the conventional method using MTMS, the silica particles may be cracked or cracked by firing. In addition, the silica particles may be blackened.

特許文献1には、酸素の希薄な状態で焼成することによって、着色シリカ粒子が得られることが記載されている。しかし同特許文献には、クラックや割れがなく、また着色のないシリカ粒子の製造方法については記載がない。   Patent Document 1 describes that colored silica particles can be obtained by firing in a dilute state of oxygen. However, this patent document does not describe a method for producing silica particles which are free from cracks and cracks and which are not colored.

本発明は、クラックや割れ、さらには着色(黒化)のない真球状のシリカ粒子を製造する方法を提供することを課題とする。   This invention makes it a subject to provide the method of manufacturing a spherical silica particle without a crack, a crack, and coloring (blackening).

本発明のシリカ粒子の製造方法は、非加水分解基を有するアルコキシシランを加水分解、重縮合させてポリオルガノシロキサン粒子を作製し、これを焼成してシリカ粒子を製造するシリカ粒子の製造方法であって、焼成雰囲気中の酸素濃度を1〜15%に維持しながら焼成することを特徴とする。   The method for producing silica particles of the present invention is a method for producing silica particles in which an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group is hydrolyzed and polycondensed to produce polyorganosiloxane particles, which are fired to produce silica particles. Thus, firing is performed while maintaining the oxygen concentration in the firing atmosphere at 1 to 15%.

本発明において、非加水分解基を有するアルコキシシランは、メチルトリメトキシシランであることが好ましい。   In the present invention, the alkoxysilane having a non-hydrolyzable group is preferably methyltrimethoxysilane.

本発明においては、400〜1000℃で焼成することが好ましい。   In the present invention, firing at 400 to 1000 ° C. is preferable.

本発明においては、空気と不活性ガスの混合ガスを雰囲気中に流入させながら焼成することが好ましい。   In the present invention, firing is preferably performed while flowing a mixed gas of air and an inert gas into the atmosphere.

本発明のシリカ粒子は、上記方法で製造されてなることを特徴とする。   The silica particles of the present invention are produced by the above method.

また本発明のシリカ粒子は、非加水分解基を有するアルコキシシランを加水分解、重縮合反応させてポリオルガノシロキサン粒子を作製し、これを焼成して得られるシリカ粒子であって、クラックの入った粒子と割れた粒子の含有率の合計が0.1体積%未満、且つ黒化した粒子の含有率が0.01体積%未満であることを特徴とする。   The silica particles of the present invention are silica particles obtained by hydrolyzing and polycondensation reaction of alkoxysilane having a non-hydrolyzable group to produce polyorganosiloxane particles, which are obtained by firing, and are cracked. The total content of particles and cracked particles is less than 0.1% by volume, and the content of blackened particles is less than 0.01% by volume.

焼成雰囲気中の酸素濃度が高い場合、ポリオルガノシロキサン粒子に含まれる有機基の分解反応が活発に起こり、その反応熱によって粒子温度が急激に上昇し、粒子が急激に収縮してクラックが入ったり、割れたりする。一方、酸素濃度が低すぎる雰囲気で焼成すると、有機基の分解が抑制されて炭素原子がシリカ粒子中に残留し、粒子が黒化する場合がある。   When the oxygen concentration in the firing atmosphere is high, the decomposition reaction of the organic groups contained in the polyorganosiloxane particles occurs actively, and the heat of reaction causes the particle temperature to rise rapidly, causing the particles to shrink rapidly and cracks. It breaks. On the other hand, when firing in an atmosphere where the oxygen concentration is too low, decomposition of the organic group is suppressed, carbon atoms may remain in the silica particles, and the particles may be blackened.

本発明の方法によれば、酸素濃度の低い雰囲気で焼成することから、有機基の分解反応が緩やかに進み、その反応熱による粒子温度の急激な上昇を抑えることができる。また雰囲気を所定の酸素濃度に保ちながら焼成するため、有機基の分解が抑制されることはない。それゆえ、クラックや割れの発生がなく、また黒化のないシリカ粒子を得ることができる。   According to the method of the present invention, since the firing is performed in an atmosphere having a low oxygen concentration, the decomposition reaction of the organic group proceeds slowly, and a rapid increase in the particle temperature due to the reaction heat can be suppressed. In addition, since the firing is performed while maintaining the atmosphere at a predetermined oxygen concentration, the decomposition of the organic group is not suppressed. Therefore, it is possible to obtain silica particles which are free from cracks and cracks and are not blackened.

以下、本発明のシリカ粒子の製造方法を詳述する。   Hereinafter, the manufacturing method of the silica particle of this invention is explained in full detail.

本発明の方法は、まず、非加水分解基を有するアルコキシシランを加水分解、重縮合させてポリオルガノシロキサン粒子を作製する工程を含む。この工程はさらに細分化することができる。以下にその好適な例を紹介する。ただし本発明の方法は以下の工程に制限されるものではない。
(1)水系溶媒に、非加水分解基を有するアルコキシシランとアルコールの混合溶液を添加して反応液を用意する準備工程と、
(2)反応液にアンモニア水を添加してポリオルガノシロキサン粒子を析出、成長させる析出・成長工程と、
(3)反応液にアンモニア水を添加してポリオルガノシロキサン粒子を熟成させる熟成工程と、
(4)反応液からポリオルガノシロキサン粒子を回収する回収工程と、
を含み、これによってポリオルガノシロキサン粒子を得る。
The method of the present invention first includes a step of preparing polyorganosiloxane particles by hydrolyzing and polycondensing an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group. This process can be further subdivided. A suitable example is introduced below. However, the method of the present invention is not limited to the following steps.
(1) A preparation step of preparing a reaction solution by adding a mixed solution of an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group and an alcohol to an aqueous solvent,
(2) A precipitation / growth step in which aqueous ammonia is added to the reaction solution to precipitate and grow polyorganosiloxane particles;
(3) an aging step of aging polyorganosiloxane particles by adding aqueous ammonia to the reaction solution;
(4) a recovery step of recovering polyorganosiloxane particles from the reaction solution;
Thus, polyorganosiloxane particles are obtained.

まず準備工程について説明する。   First, the preparation process will be described.

準備工程は、水系溶媒にアルコキシシランとアルコールの混合溶液を添加して反応液を調製する工程である。   The preparation step is a step of preparing a reaction solution by adding a mixed solution of alkoxysilane and alcohol to an aqueous solvent.

水系溶媒としては水とアルコールの混合溶媒を使用することが好ましい。ここでアルコールを水に添加しておく理由は、MTMS等のアルコキシシランと水系溶媒との混合性を良くし、径が均一に揃った粒子を成長させるためである。   As the aqueous solvent, it is preferable to use a mixed solvent of water and alcohol. The reason why the alcohol is added to the water here is to improve the mixing property between the alkoxysilane such as MTMS and the aqueous solvent and to grow particles having a uniform diameter.

アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの低級アルコール類が使用可能である。これらの中でも、nブタノールを使用することが特に好ましい。その理由は、nブタノール以外のアルコール類を使用した場合、大径(例えば5μm以上)の粒子が成長し難い傾向がある。これはメタノールやエタノール、プロパノールに比べて、ブタノールは分子のサイズが大きく、この点が大径粒子の成長に寄与していると考えられる。また、ブタノール以上に分子サイズの大きい(炭素原子の多い)アルコールでは水との溶解性が非常に悪く、アルコキシシラン(MTMS等)と水との混合性を悪化させ、結果としてシリカ粒子の径がばらついてしまうと考えられる。nブタノールの添加割合は、水に対して3〜7質量%程度であることが望ましい。これよりもnブタノール濃度が低いと、アルコキシシランとの混合性が悪くなり、成長する粒子の径がばらつき易い。また、これよりもnブタノール濃度が高いと、nブタノールの水への溶解度である7.7%を超えてしまうため、nブタノールと水を完全に混合することができず、水系溶媒の均質性が損なわれ、反応液中で成長する粒子の径がばらついてしまう。   As the alcohol, lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol can be used. Among these, it is particularly preferable to use n-butanol. The reason is that when alcohols other than n-butanol are used, particles having a large diameter (for example, 5 μm or more) tend to hardly grow. This is because butanol has a larger molecular size than methanol, ethanol, and propanol, and this point is thought to contribute to the growth of large particles. In addition, alcohol having a molecular size larger than that of butanol (having many carbon atoms) has very poor solubility in water, resulting in poor mixing of alkoxysilane (MTMS, etc.) and water. It is thought that it will vary. The addition ratio of n-butanol is preferably about 3 to 7% by mass with respect to water. If the n-butanol concentration is lower than this, the mixing property with the alkoxysilane is deteriorated, and the diameters of the growing particles are likely to vary. If the n-butanol concentration is higher than this, the solubility of n-butanol in water exceeds 7.7%, so that n-butanol and water cannot be completely mixed, and the homogeneity of the aqueous solvent And the diameter of particles growing in the reaction solution varies.

混合溶液は、非加水分解基を有するアルコキシシランとアルコールを含む。   The mixed solution contains an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group and an alcohol.

非加水分解基を有するアルコキシシランを用いる理由は、この材料の水との反応性が高いために、低い塩基性触媒濃度(pH9程度)の条件下で加水分解、重縮合反応によるポリオルガノシロキサン粒子の成長を進めることができるためである。それゆえ一度の反応(一回の原料添加による反応)で径の大きいポリオルガノシロキサン粒子を得ることができる。この種のアルコキシシランを使用すれば、直径15μm程度のシリカ粒子を得ることも可能になる。   The reason why alkoxysilane having non-hydrolyzable groups is used is that polyorganosiloxane particles by hydrolysis and polycondensation reaction under the condition of low basic catalyst concentration (about pH 9) because of the high reactivity of this material with water This is because it is possible to advance the growth. Therefore, polyorganosiloxane particles having a large diameter can be obtained by a single reaction (a reaction by adding a raw material once). If this type of alkoxysilane is used, silica particles having a diameter of about 15 μm can be obtained.

非加水分解基を有するアルコキシシランは、下記の式で表される。   The alkoxysilane having a non-hydrolyzable group is represented by the following formula.

R1nSi(OR2)4−n (式中、nは1〜3の整数である。)
上記式中、R1は、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基を表す。このうち、非置換炭化水素としては、アルキル基(鎖状アルキル基または環状アルキル基)、アルケニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられ、置換炭化水素としては、炭化水素の水素原子の一部または全部が非炭化水素基または水素以外の原子で置換された基で、具体的にはクロロアルキル基、γ−メタクリロキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、アミノプロピル基、3,4−エポキシシクロへキシルエチル基、γ−メルカプトロプロピル基、トリフルオロプロピル基、フルオロカーボン基などが挙げられる。
R1nSi (OR2) 4-n (wherein n is an integer of 1 to 3)
In the above formula, R1 represents an organic group having 1 to 10 carbon atoms selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group. Among these, the unsubstituted hydrocarbon includes an alkyl group (chain alkyl group or cyclic alkyl group), an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, and the like, and the substituted hydrocarbon includes a part of hydrocarbon hydrogen atoms. Or all of them are non-hydrocarbon groups or groups substituted with atoms other than hydrogen, specifically, chloroalkyl groups, γ-methacryloxypropyl groups, γ-glycidoxypropyl groups, aminopropyl groups, 3,4- Examples thereof include an epoxycyclohexylethyl group, a γ-mercaptropropyl group, a trifluoropropyl group, and a fluorocarbon group.

上記式中、R2は、水素原子またはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基である。このような、有機ケイ素化合物として具体的に、メチルトリメトキシシラン(MTMS)、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリス(メトキシエトキシ)シラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン等(上記式中n=1の有機ケイ素化合物)、ジメトキシジメチルシラン、ジエトキシ−3−グリシドキシプロピルメチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、ジフェニルシランジオール等(上記式中n=2の有機ケイ素化合物)、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、アセトキシトリメチルシラン、トリメチルシラノール等(上記式中n=3の有機ケイ素化合物)が挙げられる。   In said formula, R2 is a C1-C10 organic group chosen from a hydrogen atom or an alkyl group, an alkoxyalkyl group, and an acyl group. Specific examples of such organosilicon compounds include methyltrimethoxysilane (MTMS), methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltris (methoxyethoxy) silane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane. Methoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, etc. (in the above formula, n = 1 organosilicon compound), dimethoxydimethylsilane, diethoxy- 3-glycidoxypropylmethylsilane, dimethoxydiphenylsilane, diacetoxydimethylsilane, diphenylsilanediol, etc. (organosilicon compound of n = 2 in the above formula), trimethylmethoxysilane, trimethyl And ruethoxysilane, acetoxytrimethylsilane, trimethylsilanol and the like (organosilicon compound wherein n = 3 in the above formula).

これらの中でもメチルトリメトキシシラン(MTMS)及びビニルトリメトキシシランが好ましく、特にメチルトリメトキシシランが好適である。その理由は、ポリオルガノシロキサン粒子を得た後、焼成によってシリカ化する工程において、その粒子収縮が少ないことや有機分除去によるシリカ化の際の効率などから、有機成分の少ないものが好ましいためである。   Among these, methyltrimethoxysilane (MTMS) and vinyltrimethoxysilane are preferable, and methyltrimethoxysilane is particularly preferable. The reason for this is that, after obtaining polyorganosiloxane particles, in the step of silicidation by firing, those with less organic components are preferred because of their small particle shrinkage and efficiency during silicification by removing organic components. is there.

アルコキシシランに混合するアルコールの量は、混合液添加後の反応液に対して1〜5質量%程度が望ましい。これよりもアルコール濃度が低いと、水系溶媒との混合性が悪くなり、成長する粒子の径がばらつき易い。また、これよりもアルコール濃度が高いと、相対的に反応液中でのアルコキシシランと水の濃度が薄くなり、ポリオルガノシロキサン粒子の成長速度が遅くなる、あるいはポリオルガノシロキサン粒子が成長し難くなるといった問題が発生し易くなる。   The amount of alcohol mixed with alkoxysilane is preferably about 1 to 5% by mass with respect to the reaction solution after addition of the mixture. If the alcohol concentration is lower than this, the miscibility with the aqueous solvent is deteriorated, and the diameters of the growing particles tend to vary. If the alcohol concentration is higher than this, the concentration of alkoxysilane and water in the reaction solution becomes relatively thin, and the growth rate of the polyorganosiloxane particles becomes slow, or the polyorganosiloxane particles are difficult to grow. Such a problem is likely to occur.

アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノールなどの水への溶解性に優れる低級アルコール類が使用可能であるが、メタノールは安全面での問題があるため、エタノールやプロパノールが特に好ましい。   As the alcohol, lower alcohols having excellent solubility in water, such as methanol, ethanol, and propanol, can be used, but ethanol and propanol are particularly preferable because methanol has a safety problem.

予め非加水分解基を有するアルコキシシランにアルコールを添加して混合溶液を作製しておく理由は、アルコキシシランにアルコールを添加しておくと、混合溶液の水系溶媒に対する溶解性が改善され、短時間でアルコキシシランが水系溶媒中に均一に混合されるためである。アルコキシシランが水系溶媒中に均一に存在していると、ポリオルガノシロキサン粒子が均一に成長し易くなり、粒度分布のばらつきが小さいシリカ粒子を作製することが可能になる。   The reason why an alcohol is added to an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group in advance to prepare a mixed solution is that if the alcohol is added to the alkoxysilane, the solubility of the mixed solution in an aqueous solvent is improved and the mixed solution is shortened. This is because the alkoxysilane is uniformly mixed in the aqueous solvent. When the alkoxysilane is uniformly present in the aqueous solvent, the polyorganosiloxane particles are easily grown uniformly, and silica particles having a small variation in particle size distribution can be produced.

次に析出・成長工程について説明する。   Next, the precipitation / growth process will be described.

この工程は、塩基性触媒であるアンモニア水を反応液に添加して、アルコキシシランを加水分解、重縮合させてポリオルガノシロキサン粒子を成長させる工程である。この工程で得られるポリオルガノシロキサン粒子は、ほぼ真球状の形状を有している。   This step is a step of growing polyorganosiloxane particles by adding ammonia water as a basic catalyst to the reaction solution to hydrolyze and polycondense alkoxysilane. The polyorganosiloxane particles obtained in this step have a substantially spherical shape.

塩基性触媒としては、アンモニア以外にアミン類等が考えられるが、毒性が少なく、除去が容易で、かつ安価なことから、本発明ではアンモニアを選択している。   As the basic catalyst, amines and the like can be considered in addition to ammonia, but ammonia is selected in the present invention because of its low toxicity, easy removal and low cost.

添加するアンモニア水のアンモニア濃度が濃すぎる場合、アンモニア水が反応液全体に均一に混合される前に、アンモニア水が添加された領域のアンモニア濃度が非常に高くなるため、局所的にアルコキシシランと水との反応が促進されてしまい、反応液中のポリオルガノシロキサン粒子の成長スピードが均一でなくなり、結果として得られるシリカ粒子の径がばらついてしまう。一方、添加するアンモニア水のアンモニア濃度が薄すぎる場合には、アンモニア水の添加量を多くする必要があり、作業性の上で不利である。以上の点を考慮すると、添加するアンモニア水のアンモニア濃度は概ね0.1〜0.5質量%が好ましい。   If the ammonia concentration of the ammonia water to be added is too high, the ammonia concentration in the region where the ammonia water is added becomes very high before the ammonia water is uniformly mixed with the whole reaction solution. The reaction with water is promoted, the growth speed of the polyorganosiloxane particles in the reaction solution is not uniform, and the diameter of the resulting silica particles varies. On the other hand, when the ammonia concentration of the ammonia water to be added is too thin, it is necessary to increase the amount of ammonia water added, which is disadvantageous in terms of workability. Considering the above points, the ammonia concentration of the ammonia water to be added is preferably about 0.1 to 0.5% by mass.

アンモニア水添加後の反応液のアンモニア濃度は、0.0015〜0.015質量%であることが好ましい。この濃度を調節することにより、得られるシリカ粒子の径を調節することができる。反応液のアンモニア濃度が濃すぎると、得られるシリカ粒子が1μm未満にしか成長しない。それゆえ液晶ディスプレイパネルのシール部用スペーサーとして好適な直径2〜10μmの粒子を作製することができなくなる。一方、アンモニア濃度が薄すぎると、アルコキシシランの加水分解、重縮合反応の速度が遅くなり、シリカ粒子の径のばらつきが大きくなる。   It is preferable that the ammonia concentration of the reaction liquid after adding ammonia water is 0.0015 to 0.015 mass%. By adjusting this concentration, the diameter of the silica particles obtained can be adjusted. If the ammonia concentration in the reaction solution is too high, the resulting silica particles grow only below 1 μm. Therefore, it becomes impossible to produce particles having a diameter of 2 to 10 μm suitable as a spacer for a seal portion of a liquid crystal display panel. On the other hand, when the ammonia concentration is too low, the rate of hydrolysis and polycondensation reaction of alkoxysilane is slowed, and the variation in the diameter of silica particles becomes large.

次に熟成工程を説明する。   Next, the aging process will be described.

この工程は、成長させたポリオルガノシロキサン粒子を硬化、安定させる工程である。析出・成長工程で得られたポリオルガノシロキサン粒子は、そのままの状態では表面が非常に柔らかく、粒子を回収するために自然沈降させたり、遠心分離機によって粒子を沈殿させたりすると、粒子同士の押し合いによって粒子が容易に潰れて真球形状を維持できなくなる。それゆえ本発明においては、アンモニア水を再度添加して、反応液の塩基性触媒濃度を上昇させ、ポリオルガノシロキサン粒子を硬化させ、形状を安定させる。   This step is a step of curing and stabilizing the grown polyorganosiloxane particles. The polyorganosiloxane particles obtained in the precipitation / growth process have a very soft surface as they are, and when the particles are naturally settled to collect the particles or are precipitated by a centrifuge, the particles are pressed against each other. As a result, the particles are easily crushed and the spherical shape cannot be maintained. Therefore, in the present invention, ammonia water is added again to increase the concentration of the basic catalyst in the reaction solution, to cure the polyorganosiloxane particles, and to stabilize the shape.

塩基性触媒としては、アミン類等が考えられるが、毒性が少なく、除去が容易で、かつ安価なことから、本発明ではアンモニアを選択している。   As the basic catalyst, amines and the like can be considered. However, ammonia is selected in the present invention because it is less toxic, easy to remove, and inexpensive.

添加するアンモニア水のアンモニア濃度が高すぎる場合、アンモニア水が反応液全体に均一に混合される前に、アンモニア水が添加された領域のアンモニア濃度が非常に高くなるため、ポリオルガノシロキサン粒子の凝集を促進させてしまう。一方、添加するアンモニア水のアンモニア濃度が低すぎる場合には、アンモニア水の添加割合を多くする必要があり、作業性の上で不利である。以上の点を考慮すると、添加するアンモニア水のアンモニア濃度は概ね1〜5質量%が好ましい。   If the ammonia concentration to be added is too high, the ammonia concentration in the region where the ammonia water is added becomes very high before the ammonia water is uniformly mixed with the whole reaction solution. Will be promoted. On the other hand, when the ammonia concentration of the ammonia water to be added is too low, it is necessary to increase the ammonia water addition ratio, which is disadvantageous in terms of workability. Considering the above points, the ammonia concentration of the ammonia water to be added is preferably approximately 1 to 5% by mass.

アンモニア水添加後の反応液のアンモニア濃度は、0.05〜0.2質量%であることが好ましい。反応液のアンモニア濃度が濃すぎると、アンモニア水添加直後にポリオルガノシロキサン粒子が凝集してしまう。一方、アンモニア濃度が薄すぎると、ポリオルガノシロキサン粒子を十分に硬化させることができず、粒子が容易に潰れてしまう。   The ammonia concentration of the reaction solution after addition of aqueous ammonia is preferably 0.05 to 0.2% by mass. If the ammonia concentration in the reaction solution is too high, the polyorganosiloxane particles will aggregate immediately after the addition of aqueous ammonia. On the other hand, if the ammonia concentration is too thin, the polyorganosiloxane particles cannot be sufficiently cured and the particles are easily crushed.

アンモニア水を添加するタイミング、即ち、ポリオルガノシロキサン粒子の成長停止の判断方法は、例えば次のようにして行うことができる。まずポリオルガノシロキサン粒子成長中の反応液をサンプル採取し、顕微鏡観察する。次に顕微鏡画像を画像処理し、ポリオルガノシロキサン粒子の径を測定する。この作業を10分毎に繰り返し、ポリオルガノシロキサン粒子の径の変化がなくなった時点で成長停止と判断し、硬化のためのアンモニア水添加を実施すればよい。   The timing of adding the ammonia water, that is, the method for determining the growth stop of the polyorganosiloxane particles can be performed, for example, as follows. First, a sample of the reaction solution during the growth of polyorganosiloxane particles is collected and observed with a microscope. Next, the microscopic image is image-processed, and the diameter of the polyorganosiloxane particles is measured. This operation is repeated every 10 minutes, and when there is no change in the diameter of the polyorganosiloxane particles, it is determined that the growth is stopped, and ammonia water for curing may be added.

なお粒子成長が止まるまでの時間は、反応液のアンモニア濃度によって異なり、30分間(アンモニア濃度が濃い場合)〜70分間(アンモニア濃度が薄い場合)程度である。   The time until the particle growth stops depends on the ammonia concentration of the reaction solution, and is about 30 minutes (when the ammonia concentration is high) to 70 minutes (when the ammonia concentration is low).

熟成工程においては、アンモニア水添加後に攪拌を行うことが好ましい。これは反応液とアンモニア水の混合を速やかに行うためである。また攪拌時間は短時間であることが好ましく、1〜15分間、特に5〜10分間であることが望ましい。アンモニア水を添加すると、ポリオルガノシロキサン粒子の表面が粘着性を帯びて粒子同士が凝集し易くなる。この状態で長時間攪拌を続けると、反応液中で粒子同士がぶつかり合って巨大な凝集体を形成し、単分散したシリカ粒子を得ることが困難になる。そこで攪拌を速やかに停止させて、反応液を流れのない状態にして凝集を防ぎつつ、ポリオルガノシロキサン粒子を熟成させる。この状態で熟成が進むと、ポリオルガノシロキサン粒子表面の粘着性はやがてなくなるため、沈殿した粒子が凝集することはない。   In the aging step, stirring is preferably performed after the addition of aqueous ammonia. This is to quickly mix the reaction solution and aqueous ammonia. The stirring time is preferably a short time, preferably 1 to 15 minutes, particularly 5 to 10 minutes. When ammonia water is added, the surface of the polyorganosiloxane particles becomes sticky, and the particles easily aggregate. If stirring is continued for a long time in this state, the particles collide with each other in the reaction solution to form huge aggregates, making it difficult to obtain monodispersed silica particles. Therefore, the stirring is quickly stopped to ripen the polyorganosiloxane particles while preventing the aggregation by preventing the reaction solution from flowing. When ripening proceeds in this state, the adhesiveness of the polyorganosiloxane particle surface will eventually disappear, and the precipitated particles will not aggregate.

攪拌終了後、そのまま反応液を静置し、ポリオルガノシロキサン粒子を熟成させる。熟成時間は、8〜24時間、特に12〜16時間であることが好ましい。熟成が完了したポリオルガノシロキサン粒子は、表面が安定化しており、傷、欠け、凝集等のない状態で回収することが可能になる。   After completion of the stirring, the reaction solution is allowed to stand as it is, and polyorganosiloxane particles are aged. The aging time is preferably 8 to 24 hours, particularly 12 to 16 hours. The polyorganosiloxane particles that have been aged have a stabilized surface, and can be recovered without scratches, chips, or aggregation.

次に回収工程を説明する。   Next, the recovery process will be described.

回収工程は、反応液からポリオルガノシロキサン粒子を回収し、乾燥する工程である。ポリオルガノシロキサン粒子を回収するには、例えばポリオルガノシロキサン粒子を自然沈降、沈殿させた後、或いは遠心分離機により粒子を沈殿させた後、反応液の上澄み液を除去し、その後、容器内に残っているポリオルガノシロキサン粒子を乾燥させる方法を採用することができる。   The recovery step is a step of recovering and drying polyorganosiloxane particles from the reaction solution. In order to recover the polyorganosiloxane particles, for example, after the polyorganosiloxane particles are naturally settled and precipitated, or after the particles are precipitated by a centrifuge, the supernatant of the reaction solution is removed, and then placed in a container. A method of drying the remaining polyorganosiloxane particles can be employed.

本発明の方法は、得られたポリオルガノシロキサン粒子を、雰囲気中の酸素濃度を1〜10%に維持しながら焼成する工程を含む。   The method of the present invention includes a step of firing the obtained polyorganosiloxane particles while maintaining the oxygen concentration in the atmosphere at 1 to 10%.

以下にこの焼成工程を説明する。   This firing step will be described below.

焼成は、酸素濃度が1〜15%、好ましくは1〜10%、より好ましくは1〜7%、さらに好ましくは1〜3%の雰囲気を維持しながら行う。酸素濃度が高い雰囲気(例えば空気中)で焼成すると、有機基の分解反応が活発に起こり、その反応熱によって粒子温度が(例えば700℃程度まで)急激に上昇してしまうおそれがある。粒子温度が急激に上昇すると、粒子が急激に収縮してクラックが入ったり、割れたりする。それゆえ酸素濃度の低い雰囲気で焼成することが重要である。酸素濃度の低い雰囲気で焼成すると、有機基の分解反応が緩やかに進み、粒子温度の急激な上昇を抑えることが容易になる。酸素濃度が低い程、クラックや割れの発生が少なくなる。ただし酸素濃度が低すぎる、或いは酸素が全く存在しない雰囲気で焼成すると、有機基の分解が抑制されて炭素原子がシリカ粒子中に残留し、粒子が黒化する場合がある。このため焼成雰囲気内が酸素欠乏にならないように、雰囲気中の酸素濃度を所定濃度に保つ必要がある。   Firing is performed while maintaining an atmosphere having an oxygen concentration of 1 to 15%, preferably 1 to 10%, more preferably 1 to 7%, and still more preferably 1 to 3%. When firing in an atmosphere having a high oxygen concentration (for example, in the air), the organic group decomposition reaction occurs actively, and the particle temperature may increase rapidly (for example, up to about 700 ° C.) due to the reaction heat. When the particle temperature rises rapidly, the particles shrink rapidly and cracks or cracks. Therefore, it is important to fire in an atmosphere having a low oxygen concentration. When firing in an atmosphere having a low oxygen concentration, the decomposition reaction of the organic group proceeds slowly, and it becomes easy to suppress a rapid increase in particle temperature. The lower the oxygen concentration, the fewer cracks and cracks are generated. However, when firing in an atmosphere where the oxygen concentration is too low or oxygen is not present at all, decomposition of the organic group is suppressed, carbon atoms may remain in the silica particles, and the particles may be blackened. Therefore, it is necessary to keep the oxygen concentration in the atmosphere at a predetermined concentration so that the firing atmosphere does not become deficient in oxygen.

酸素濃度を維持するには、例えば所定の酸素濃度に調整したガスを、焼成雰囲気中に供給し続ければよい。酸素濃度を調整する方法としては、例えば空気と不活性ガス(窒素、ヘリウム、アルゴン等)を混合して、酸素濃度を低下させる方法を採用することができる。不活性ガスを空気に混合すれば、酸素濃度を空気以下の値に容易に調節することが可能である。不活性ガスとしては、安価な窒素を使用することが好ましい。   In order to maintain the oxygen concentration, for example, a gas adjusted to a predetermined oxygen concentration may be continuously supplied into the firing atmosphere. As a method of adjusting the oxygen concentration, for example, a method of reducing the oxygen concentration by mixing air and an inert gas (nitrogen, helium, argon, etc.) can be employed. If an inert gas is mixed with air, the oxygen concentration can be easily adjusted to a value below air. As the inert gas, it is preferable to use inexpensive nitrogen.

焼成温度は、例えば400〜1000℃、特に450〜900℃が好ましく、焼成時間は6〜20時間、特に8〜14時間であることが好ましい。焼成温度が低すぎると十分な強度(圧縮強度)が得られない場合がある。一方、焼成温度が高すぎると、シリカ粒子が硬くなりすぎて、液晶ディスプレイ用スペーサーとして使用した場合に、液晶基板上の薄膜を傷つける可能性があることから好ましくない。また焼成時間が短すぎる場合、焼成温度に応じた粒子の収縮が完了しておらず、焼成位置によって粒子の収縮の進行具合が異なり、焼成後のシリカ粒子の径がばらついてしまう場合がある。そのため、少なくとも、最も熱の伝わりが遅い位置のシリカ粒子が完全に収縮するまでの間、焼成温度を保持する必要がある。また焼成時間が長すぎる場合、リードタイムが長くなるため好ましくない。   The firing temperature is preferably 400 to 1000 ° C., particularly 450 to 900 ° C., and the firing time is preferably 6 to 20 hours, particularly 8 to 14 hours. If the firing temperature is too low, sufficient strength (compressive strength) may not be obtained. On the other hand, if the firing temperature is too high, the silica particles become too hard, which is not preferable because they may damage the thin film on the liquid crystal substrate when used as a spacer for a liquid crystal display. When the firing time is too short, the shrinkage of the particles according to the firing temperature is not completed, and the progress of the shrinkage of the particles varies depending on the firing position, and the diameter of the silica particles after firing may vary. Therefore, it is necessary to maintain the firing temperature at least until the silica particles at the position where the heat transfer is slowest contract completely. Moreover, since a lead time becomes long when baking time is too long, it is unpreferable.

このようにして、シリカ粒子を得ることができる。得られるシリカ粒子は、平均粒径が2.0〜10.0μm程度、CV値が0.5〜1.5%程度である。またクラックの入った粒子、割れた粒子、及び黒化した粒子を殆ど含んでおらず、望ましくは、クラックの入った粒子及び割れた粒子の合計が、粒子全体の5体積%未満、0.5体積%未満、特に0.1体積%未満であり、また黒化した粒子が、粒子全体の0.3体積%未満、0.02体積%未満、特に0.01体積%未満である。   In this way, silica particles can be obtained. The obtained silica particles have an average particle size of about 2.0 to 10.0 μm and a CV value of about 0.5 to 1.5%. Further, it contains almost no cracked particles, cracked particles, and blackened particles. Preferably, the total of cracked particles and cracked particles is less than 5% by volume of the total particles, 0.5% Less than volume%, especially less than 0.1 volume%, and blackened particles are less than 0.3 volume%, less than 0.02 volume%, especially less than 0.01 volume% of the total particles.

なお「クラックの入った粒子」とは、顕微鏡観察した際に、粒子の直径方向に線(クラック)が確認できる粒子を意味する(図1参照)。「割れた粒子」とは、顕微鏡観察した際に半球状に見える粒子を意味する(図2参照)。「黒化した粒子」とは、顕微鏡観察した際に、光を通さず、黒い球に見える粒子を意味する。(図3参照)
また平均粒径及びCV値の測定方法は、以下の方法(イメージシェアリング法)を用いて求めた値である。まず乾燥させたシリカ粒子の顕微鏡画像をCCDカメラで取り込み、画像処理によってシリカ粒子の径を測定する。具体的には、モニタ上で粒子の像を上下二つの像に分け、上の像の下端と下の像の上端が接する座標Aを記録する。次に、上下の像を上下逆にし、再度上の像の下端と下の像の上端が接する座標Bを記録する。A−Bはモニタ上のシリカ粒子の直径を表す値であり、この値(A−B)を実際のサイズに補正して対象のシリカ粒子の直径を算出する(図4参照)この方法で60粒子分の直径を測定し、平均粒径及び標準偏差を算出する。さらに下記の式からCV値を求める。
“Cracked particles” mean particles that can be confirmed to have lines (cracks) in the diameter direction of the particles when observed with a microscope (see FIG. 1). “Cracked particles” means particles that appear hemispherical when observed under a microscope (see FIG. 2). “Blackened particles” mean particles that do not transmit light and appear as black spheres when observed under a microscope. (See Figure 3)
Moreover, the measuring method of an average particle diameter and a CV value is the value calculated | required using the following method (image sharing method). First, a microscope image of the dried silica particles is captured with a CCD camera, and the diameter of the silica particles is measured by image processing. Specifically, the particle image is divided into two upper and lower images on the monitor, and the coordinates A where the lower end of the upper image and the upper end of the lower image are in contact are recorded. Next, the upper and lower images are turned upside down, and the coordinates B where the lower end of the upper image and the upper end of the lower image contact again are recorded. AB is a value representing the diameter of the silica particles on the monitor, and this value (AB) is corrected to the actual size to calculate the diameter of the target silica particles (see FIG. 4). The diameter of particles is measured, and the average particle diameter and standard deviation are calculated. Furthermore, CV value is calculated | required from the following formula.

CV値=標準偏差値/平均粒径×100(%)   CV value = standard deviation value / average particle size × 100 (%)

以下、実施例に基づいて本発明を詳述する。
(準備工程)
まず水系溶媒として、純水34373.8gとnブタノール1865.2gを均一に混合したものを用意した。また混合溶液として、MTMS1418.0とエタノール736.7gを均一に混合したものを用意した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples.
(Preparation process)
First, as an aqueous solvent, a solution obtained by uniformly mixing 34373.8 g of pure water and 1865.2 g of n-butanol was prepared. Moreover, what mixed MTMS1418.0 and ethanol 736.7g uniformly was prepared as a mixed solution.

次に、混合溶液の調製から15分後に、水系溶媒に混合溶液を添加して反応液とした。なお混合溶液添加後も攪拌(100rpm)を継続した。
(析出・成長工程)
まず0.3%アンモニア水825.6gを用意し、これを、混合溶液の添加から5分後の反応液に添加した。これにより、MTMSと水を加水分解、重縮合させ、ポリオルガノシロキサン粒子を析出、成長させた。なお0.3%アンモニア水の添加後も、攪拌(100rpm)を継続した。
(熟成工程)
まず3.1%アンモニア水621.5gを用意した。次に反応液中のポリオルガノシロキサン粒子の成長が止まったことを確認した後、用意した3.1%アンモニア水を添加した。5分後に攪拌を停止し、反応容器を直ちに60℃に保温した恒温機内に静置し、16時間保持した。これにより、ポリオルガノシロキサン粒子を熟成させるとともに、自然沈降させた。
Next, 15 minutes after the preparation of the mixed solution, the mixed solution was added to an aqueous solvent to prepare a reaction solution. Stirring (100 rpm) was continued after the mixed solution was added.
(Deposition / growth process)
First, 825.6 g of 0.3% aqueous ammonia was prepared, and this was added to the reaction solution 5 minutes after the addition of the mixed solution. As a result, MTMS and water were hydrolyzed and polycondensed to deposit and grow polyorganosiloxane particles. Stirring (100 rpm) was continued after addition of 0.3% aqueous ammonia.
(Aging process)
First, 621.5 g of 3.1% ammonia water was prepared. Next, after confirming that the growth of the polyorganosiloxane particles in the reaction solution had stopped, the prepared 3.1% aqueous ammonia was added. Stirring was stopped after 5 minutes, and the reaction vessel was immediately left in a thermostat kept at 60 ° C. and held for 16 hours. As a result, the polyorganosiloxane particles were aged and allowed to settle naturally.

なおアンモニア水添加のタイミングは、以下の方法で決定した。まずポリオルガノシロキサン粒子成長中の反応液をスポイトでサンプル採取し、プレパラートに滴下してカバーガラスを被せ、顕微鏡観察した。次に顕微鏡画像をCCDカメラで取り込み、画像処理によってポリオルガノシロキサン粒子の径を測定した。この作業を10分毎に繰り返し、ポリオルガノシロキサン粒子の径の変化がなくなった時点で成長停止と判断した。本実施例においては、0.3%アンモニア水添加してから90分後であった。
(回収工程)
ポリオルガノシロキサン粒子が沈殿した反応容器を恒温機から取り出し、上澄み液を除去した。次いで反応容器を60℃に保温した恒温機内に静置し、12時間保持してポリオルガノシロキサン粒子を乾燥させた。
The timing of adding ammonia water was determined by the following method. First, a sample of a reaction solution during the growth of polyorganosiloxane particles was collected with a dropper, dropped onto a preparation and covered with a cover glass, and observed with a microscope. Next, a microscopic image was captured with a CCD camera, and the diameter of the polyorganosiloxane particles was measured by image processing. This operation was repeated every 10 minutes, and when the change in the diameter of the polyorganosiloxane particles disappeared, it was determined that the growth was stopped. In this example, it was 90 minutes after the addition of 0.3% aqueous ammonia.
(Recovery process)
The reaction vessel in which the polyorganosiloxane particles were precipitated was taken out from the thermostat and the supernatant was removed. Subsequently, the reaction container was left still in a thermostat kept at 60 ° C. and held for 12 hours to dry the polyorganosiloxane particles.

このようにして作製、回収されたポリオルガノシロキサン粒子は587gであり、平均粒径は8.993μm、標準偏差は0.067μm、CV値は0.75%であった。
(焼成工程)
次に、回収したポリオルガノシロキサン粒子を焼成皿に載せて電気炉に入れ、表1に示すガスを絶えず供給しながら、450℃で12時間焼成した。
The polyorganosiloxane particles thus produced and recovered were 587 g, the average particle size was 8.993 μm, the standard deviation was 0.067 μm, and the CV value was 0.75%.
(Baking process)
Next, the recovered polyorganosiloxane particles were placed on a baking dish, placed in an electric furnace, and baked at 450 ° C. for 12 hours while continuously supplying the gas shown in Table 1.

その結果、各々475gのシリカ粒子を得た。得られた試料について、平均粒径、標準偏差、CV値、クラックの入った粒子、割れた粒子、及び黒化した粒子の割合を評価した。結果を表1に示す。例4、5は比較例を示す。   As a result, 475 g of silica particles were obtained. About the obtained sample, the average particle diameter, the standard deviation, the CV value, the ratio of cracked particles, cracked particles, and blackened particles were evaluated. The results are shown in Table 1. Examples 4 and 5 show comparative examples.

なお、平均粒径、標準偏差、CV値は、前述のイメージシェアリング法で求めた値から算出した。またクラックの入った粒子、割れた粒子、及び黒化した粒子の割合は顕微鏡により粒子1000個を観察して求めた。   The average particle size, standard deviation, and CV value were calculated from the values obtained by the image sharing method described above. The ratio of cracked particles, cracked particles, and blackened particles was determined by observing 1000 particles with a microscope.

本発明の方法により得られるシリカ粒子は、液晶ディスプレイパネルのシール部用スペーサーとして好適であるが、これ以外にも例えば液晶ディスプレイパネルの表示部用スペーサー、半導体の樹脂封止材のフィラー等として使用可能である。   The silica particles obtained by the method of the present invention are suitable as a spacer for a seal part of a liquid crystal display panel, but other than this, for example, used as a spacer for a display part of a liquid crystal display panel, a filler for a semiconductor resin sealing material, etc. Is possible.

クラックの入ったシリカ粒子の顕微鏡写真である。It is a microscope picture of the silica particle which cracked. 割れたシリカ粒子の顕微鏡写真である。It is a microscope picture of the broken silica particle. 黒化したシリカ粒子の顕微鏡写真である。It is a microscope picture of the blackened silica particle. イメージシェアリング法の説明図である。It is explanatory drawing of an image sharing method.

Claims (6)

非加水分解基を有するアルコキシシランを加水分解、重縮合させてポリオルガノシロキサン粒子を作製し、これを焼成してシリカ粒子を製造するシリカ粒子の製造方法であって、焼成雰囲気中の酸素濃度を1〜15%に維持しながら焼成することを特徴とするシリカ粒子の製造方法。   A method for producing silica particles in which an alkoxysilane having a non-hydrolyzable group is hydrolyzed and polycondensed to produce polyorganosiloxane particles, which are fired to produce silica particles, wherein the oxygen concentration in the firing atmosphere is reduced. A method for producing silica particles, characterized by firing while maintaining 1 to 15%. 非加水分解基を有するアルコキシシランが、メチルトリメトキシシランであることを特徴とする請求項1のシリカ粒子の製造方法。   The method for producing silica particles according to claim 1, wherein the alkoxysilane having a non-hydrolyzable group is methyltrimethoxysilane. 400〜1000℃で焼成することを特徴とする請求項1又は2のシリカ粒子の製造方法。   Baking at 400-1000 degreeC, The manufacturing method of the silica particle of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 空気と不活性ガスの混合ガスを雰囲気中に流入させながら焼成することを特徴とする請求項1〜3の何れかのシリカ粒子の製造方法。   The method for producing silica particles according to any one of claims 1 to 3, wherein firing is performed while flowing a mixed gas of air and an inert gas into the atmosphere. 請求項1〜4の何れかの方法で製造されてなることを特徴とするシリカ粒子。   Silica particles produced by the method according to claim 1. 非加水分解基を有するアルコキシシランを加水分解、重縮合反応させてポリオルガノシロキサン粒子を作製し、これを焼成して得られるシリカ粒子であって、クラックの入った粒子と割れた粒子の含有率の合計が5体積%未満、且つ黒化した粒子の含有率が0.3体積%未満であることを特徴とするシリカ粒子。   Silica particles obtained by hydrolyzing and polycondensating alkoxysilanes having non-hydrolyzable groups to produce polyorganosiloxane particles, which are then fired, and containing cracked particles and cracked particles Silica particles, characterized in that the total amount of is less than 5% by volume and the content of blackened particles is less than 0.3% by volume.
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