JP2009099675A - 発光ダイオードの製造方法及び発光ダイオード、並びにランプ - Google Patents
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Abstract
【課題】製造工程において半導体層にクラック等が生じるのを防止することが可能な、上下電極構造の発光ダイオードの製造方法を提供する。
【解決手段】第1の基板21上に複数の化合物半導体層11を形成し、この上に第1の接合層4を積層して第1の積層体を形成する第1積層工程と、第2の基板1の表面1a全体に無電解メッキ層2を形成し、第2の接合層3を積層して第2の積層体を形成する第2積層工程と、第1の接合層4と第2の接合層3とを接合して第1の積層体20と第2の積層体30とを接合した後、無電解メッキ層2に仮貼付基板24を貼り付ける接合工程と、第1の基板21を剥離する除去工程と、複数の化合物半導体層11上にn型電極層を形成する電極形成工程と、仮貼付基板24を除去する仮貼付基板除去工程と、ダイシング工程とを備え、第1の基板21及び第2の基板1の熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲である。
【選択図】図5
【解決手段】第1の基板21上に複数の化合物半導体層11を形成し、この上に第1の接合層4を積層して第1の積層体を形成する第1積層工程と、第2の基板1の表面1a全体に無電解メッキ層2を形成し、第2の接合層3を積層して第2の積層体を形成する第2積層工程と、第1の接合層4と第2の接合層3とを接合して第1の積層体20と第2の積層体30とを接合した後、無電解メッキ層2に仮貼付基板24を貼り付ける接合工程と、第1の基板21を剥離する除去工程と、複数の化合物半導体層11上にn型電極層を形成する電極形成工程と、仮貼付基板24を除去する仮貼付基板除去工程と、ダイシング工程とを備え、第1の基板21及び第2の基板1の熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲である。
【選択図】図5
Description
本発明は、発光ダイオードの製造方法及び発光ダイオード、並びにランプに関するものである。
III族窒化物半導体は、可視光から紫外光領域の範囲に相当するエネルギーの直接遷移型のバンドギャップを有し、発光効率に優れていることから、発光ダイオード(LED)やレーザダイオード(LD)等の発光素子として製品化され、各種用途で使用されている。また、電子デバイスに用いた場合でも、III族窒化物半導体は、従来のIII−V族化合物半導体を用いた場合に比べ、優れた特性が得られるポテンシャルを有している。
一般に、III族窒化物半導体は、トリメチルガリウム、トリメチルアルミニウムおよびアンモニアを原料として、有機金属化学気相成長(MOCVD)法によって製造されている。MOCVD法は、キャリアガスに原料の蒸気を含ませて基板表面に運搬し、加熱された基板との反応で原料を分解させることにより、結晶を成長させる方法である。
基板には例えばサファイア等の絶縁性基板の他、炭化ケイ素、シリコン、酸化亜鉛、ガリウム砒素等の導電性基板が使用できることが知られているが、III族窒化物半導体と完全に格子整合する基板は未だ開発されておらず、現在のところ、格子定数が10%以上も異なるサファイアの上にIII族窒化物半導体層を強制的に成長させた青色LED素子が実用化されている。
従来の青色LED素子は、基本的にサファイア基板の上にIII族窒化物半導体よりなるn型半導体層と発光層とp型半導体層とが順に積層されたダブルへテロ構造を有している。前記のようにサファイアは絶縁性であり基板側から電極を取り出すことができないので、同一のIII族窒化物半導体層表面にp型電極とn型電極とが設けられた、いわゆるフェイスアップ方式や、フリップチップ方式の素子とされている。
しかしながら、サファイアを基板とする従来のフェイスアップ方式またはフリップチップ方式の素子にはいくつかの問題点がある。まず、第一の問題として、p型電極とn型電極とが水平方向に並んでいるため電流が水平方向に流れ、その結果、電流密度が局部的に高くなりチップが発熱する。また、第二の問題として、サファイアという非常に硬く、劈開性のない基板を使用しているので、チップ化するのに高度な技術を必要とする。また、第三の問題として、サファイアは熱伝導性が比較的低いので、III族窒化物半導体層において発生した熱を効率よく放熱できない。
上記問題を回避するため、下記特許文献1には、メッキ層上にIII族窒化物半導体層が形成された上下電極構造の発光ダイオードを製造する方法が開示されている。すなわち、特許文献1には、サファイア基板上にn型半導体層、発光層及びp型半導体層を順次積層してIII族窒化物半導体層を形成するとともに、p型半導体層の一面にp型オーミック電極を形成し、次いで、p型オーミック電極上にシード層を形成してからシード層上にフォトレジストを格子状に形成し、次いで、シード層及びフォトレジストを覆うようにメッキ層を形成し、次いで、サファイア基板を除去してからn型半導体層にn型オーミック電極を形成し、最後に、フォトレジストを除去してからウェーハをダイシングする上下電極構造の発光ダイオードの製造方法が開示されている。
また、上下電極構造の発光ダイオードの製造工程において、サファイア基板上に形成された半導体層の、サファイア基板とは反対側の面に、Cu等の金属やSiからなる第2の基板を接合した後、レーザリフトオフ法を用いて半導体層からサファイア基板を除去する方法が提案されている。このような製造方法によれば、上記材質からなる第2の基板を半導体層に接合し、サファイア基板を除去した後にウェーハをダイシングしてチップ化する方法なので、上述したような放熱性や劈開性等の各問題を回避することが可能となる。
しかしながら、上述した各製造方法で発光ダイオードを製造する場合、例えば、サファイア基板をレーザリフトオフ等の方法で半導体層から剥離させた際に、半導体層にクラック等の損傷が生じてしまう虞がある。このような損傷が半導体層に生じた場合には、発光ダイオードの素子特性の低下や、製造工程における歩留まりの低下等を招いてしまうという問題があった。
国際公開第05/029572号パンフレット
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、製造工程において半導体層にクラック等の損傷が生じるのを防止し、製造工程における歩留まりを向上させることが可能な、上下電極構造の発光ダイオードの製造方法の提供を目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
[1] 第1の基板上に、n型半導体層、発光層、p型半導体層及び反射性p型電極層を順次積層して複数の化合物半導体層を形成し、該複数の化合物半導体層の各々の上に第1の接合層を積層して第1の積層体を形成する第1積層工程と、第2の基板の表面全体に無電解メッキ層を形成し、さらに、前記第2の基板の表面に形成された無電解メッキ層の内の一面側に第2の接合層を積層して第2の積層体を形成する第2積層工程と、前記第1の接合層と前記第2の接合層とを接合することにより、前記第1の積層体と前記第2の積層体とを接合した後、前記第2の基板の表面に形成された無電解メッキ層の内の他面側に仮貼付基板を貼り付ける接合工程と、前記第1の基板を前記複数の化合物半導体層から剥離して、前記複数の化合物半導体層に備えられる前記n型半導体層の光取出面を露出させる除去工程と、前記複数の化合物半導体層に備えられるn型半導体層上にn型電極層を形成する電極形成工程と、前記仮貼付基板を前記第2の基板から剥離する仮貼付基板除去工程と、前記複数の化合物半導体層の各々の間に形成される分断溝に沿って、前記第2の積層体を切断するダイシング工程と、を具備してなり、前記第1の基板及び第2の基板が、ともに、熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲の材料からなることを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
[2] 前記第1の基板がサファイアからなり、前記第2の基板がモリブデン材料からなることを特徴とする上記[1]に記載の発光ダイオードの製造方法。
[3] 前記第1積層工程は、前記第1の接合層を、前記反射性p型電極層上に、Ni層及びAu層を順次積層して形成することを特徴とする上記[1]又は[2]に記載の発光ダイオードの製造方法。
[4] 前記第2積層工程は、前記第2の接合層を、前記無電解メッキ層上に、Pt層及びAuSn層を順次積層して形成することを特徴とする上記[1]〜[3]の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
[5] 前記第2積層工程は、前記無電解メッキ層をNiPによって形成することを特徴とする上記[1]〜[4]の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
[6] 前記除去工程と前記電極形成工程との間において、前記複数の化合物半導体層の周囲面に、保護用の絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程を設けることを特徴とする上記[1]〜[5]の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
[7] 前記絶縁膜形成工程と前記電極形成工程との間において、前記n型半導体層の前記光取出面を粗面化する粗面化工程を設けることを特徴とする上記[6]に記載の発光ダイオードの製造方法。
[1] 第1の基板上に、n型半導体層、発光層、p型半導体層及び反射性p型電極層を順次積層して複数の化合物半導体層を形成し、該複数の化合物半導体層の各々の上に第1の接合層を積層して第1の積層体を形成する第1積層工程と、第2の基板の表面全体に無電解メッキ層を形成し、さらに、前記第2の基板の表面に形成された無電解メッキ層の内の一面側に第2の接合層を積層して第2の積層体を形成する第2積層工程と、前記第1の接合層と前記第2の接合層とを接合することにより、前記第1の積層体と前記第2の積層体とを接合した後、前記第2の基板の表面に形成された無電解メッキ層の内の他面側に仮貼付基板を貼り付ける接合工程と、前記第1の基板を前記複数の化合物半導体層から剥離して、前記複数の化合物半導体層に備えられる前記n型半導体層の光取出面を露出させる除去工程と、前記複数の化合物半導体層に備えられるn型半導体層上にn型電極層を形成する電極形成工程と、前記仮貼付基板を前記第2の基板から剥離する仮貼付基板除去工程と、前記複数の化合物半導体層の各々の間に形成される分断溝に沿って、前記第2の積層体を切断するダイシング工程と、を具備してなり、前記第1の基板及び第2の基板が、ともに、熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲の材料からなることを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
[2] 前記第1の基板がサファイアからなり、前記第2の基板がモリブデン材料からなることを特徴とする上記[1]に記載の発光ダイオードの製造方法。
[3] 前記第1積層工程は、前記第1の接合層を、前記反射性p型電極層上に、Ni層及びAu層を順次積層して形成することを特徴とする上記[1]又は[2]に記載の発光ダイオードの製造方法。
[4] 前記第2積層工程は、前記第2の接合層を、前記無電解メッキ層上に、Pt層及びAuSn層を順次積層して形成することを特徴とする上記[1]〜[3]の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
[5] 前記第2積層工程は、前記無電解メッキ層をNiPによって形成することを特徴とする上記[1]〜[4]の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
[6] 前記除去工程と前記電極形成工程との間において、前記複数の化合物半導体層の周囲面に、保護用の絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程を設けることを特徴とする上記[1]〜[5]の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
[7] 前記絶縁膜形成工程と前記電極形成工程との間において、前記n型半導体層の前記光取出面を粗面化する粗面化工程を設けることを特徴とする上記[6]に記載の発光ダイオードの製造方法。
[8] 上記[1]〜[7]の何れか1項に記載の製造方法で得られる発光ダイオード。
[9] 上記[8]に記載の発光ダイオードが用いられてなるランプ。
[9] 上記[8]に記載の発光ダイオードが用いられてなるランプ。
本発明の発光ダイオードの製造方法によれば、第1の基板上に化合物半導体層及び第1の接合層が形成されてなる第1の積層体と、第2の基板の表面全体に無電解メッキ層が形成され、この無電解メッキ層の一面側に第2の接合層が形成されてなる第2の積層体とを一体に形成した後、第1の基板を化合物半導体層から剥離する方法とされ、前記第1の基板及び第2の基板が、ともに、熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲の材料からなるので、製造工程において化合物半導体層にクラック等の損傷が生じるのを防止することができ、また、製造工程における歩留まりを向上させることができる。従って、素子特性に優れた上下電極構造の発光ダイオードを、高い製造効率で製造することが可能となる。
以下に、本発明の実施形態である発光ダイオード及びその製造方法、並びにランプについて、図面を適宜参照しながら説明する。図1は本実施形態の発光ダイオードの断面模式図であり、図2〜図10は発光ダイオードの製造方法を説明する工程図、図11は、本発明の実施形態のダイオードが用いられてなるランプの模式断面図である。尚、以下の説明において参照する図面は、発光ダイオード及びその製造方法を説明する図面であって、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の発光ダイオード等の寸法関係とは異なっている。
[発光ダイオード]
図1に示す例の発光ダイオードAは、無電解メッキ層2が表面1aの内の上面1b及び下面1cに形成され、発光ダイオードAの基体となるMo基板(第2の基板)1と、このMo基板1の上面1b側の無電解メッキ層2上に配置された第2の接合層3と、この第2の接合層3の上側に配置された第1の接合層4と、この第1の接合層4の上側に配置された化合物半導体層11と、この化合物半導体層11上に配置されたn型電極層9と、から概略構成されている。
図1に示す例の発光ダイオードAは、無電解メッキ層2が表面1aの内の上面1b及び下面1cに形成され、発光ダイオードAの基体となるMo基板(第2の基板)1と、このMo基板1の上面1b側の無電解メッキ層2上に配置された第2の接合層3と、この第2の接合層3の上側に配置された第1の接合層4と、この第1の接合層4の上側に配置された化合物半導体層11と、この化合物半導体層11上に配置されたn型電極層9と、から概略構成されている。
ここで、化合物半導体層11は、反射性p型電極層5、p型半導体層6、発光層7及びn型半導体層8が積層されて構成されている。化合物半導体層11の上面は、発光層7からの光を外部に取り出す光取出面11aとされており、この光取出面11a上にはn型電極層9が形成されている。また、光取出面11aはエッチング等の手段によって粗面化されており、これにより発光ダイオードAの光取出効率がより高められている。
更に、化合物半導体層11の側面11bと光取出面11aの外周部分とには、例えばSiO2等の絶縁性材料からなる保護用の絶縁膜10が形成されている。この絶縁膜10は、図示例では第1の接合層4の側面まで延在されている。絶縁膜10を形成することによって、例えば化合物半導体層11の側面11bに異物が付着した場合でも、異物によるn型半導体層8とp型半導体層7との短絡が防止される。
n型電極層9は、化合物半導体層11のn型半導体層8とオーミック接触することによって、化合物半導体層11の負極となっている。図1に示すn型電極層9は、n型半導体層8に接するCr膜9aと、Cr膜9aに積層されたTi膜9bと、Ti膜9bに積層されたAu膜9cとからなる3層構造とされている。n型電極層9はこの3層構造に限らず、Ti膜、Al膜、Ti膜及びAu膜が積層されてなる4層構造でもよい。
このn型電極層9は、後述するように、光取出面11aをプラズマで処理した後にCr膜9a、Ti膜9b及びAu膜9cを順次積層することによって形成され、これによりアニール処理を施すことなくn型半導体層8との間でオーミック接触が得られるようになっている。
このn型電極層9は、後述するように、光取出面11aをプラズマで処理した後にCr膜9a、Ti膜9b及びAu膜9cを順次積層することによって形成され、これによりアニール処理を施すことなくn型半導体層8との間でオーミック接触が得られるようになっている。
次に、図1に示すように、化合物半導体層11の下側、つまり、反射性p型電極層5の下側には第1の接合層4が配置され、この第1の接合層4の下側に第2の接合層3が配置されている。第1の接合層4は、Ni層4bとAu層4aとの積層膜で構成され、第2の接合層3は、AuSn層3bとPt層3aとの積層膜で構成されており、Au層4aとAuSn層3bとの間が接続するように構成されている。
本実施形態では、Ni層4bの厚さは、例えば50〜200nm程度が好ましく、Au層4aの厚さは、例えば200〜700nm程度が好ましく、第1の接合層4全体の厚さは、例えば250〜900nm程度が好ましい。また、AuSn層3bの厚さは、例えば1000〜3000nm程度が好ましく、Pt層3aの厚さは、例えば20〜200nm程度が好ましく、第2の接合層3全体の厚さは、例えば1020〜2200nm程度が好ましい。
本実施形態では、Ni層4bの厚さは、例えば50〜200nm程度が好ましく、Au層4aの厚さは、例えば200〜700nm程度が好ましく、第1の接合層4全体の厚さは、例えば250〜900nm程度が好ましい。また、AuSn層3bの厚さは、例えば1000〜3000nm程度が好ましく、Pt層3aの厚さは、例えば20〜200nm程度が好ましく、第2の接合層3全体の厚さは、例えば1020〜2200nm程度が好ましい。
次に、Mo基板1は、金属Moを圧延して得られる、本実施形態の発光ダイオードAの基体である。Moは、電気抵抗が低く熱伝導性が高い点において、上下電極構造の発光ダイオードAの基体の材質として好ましい。Mo基板1の厚みは、ウェーハとしての強度や後述のダイシング工程における分割性を考慮した場合、例えば、100μm以上200μm未満とすることが好ましい。Mo基板1の厚さが100μm未満だと強度が低下し、また、200μm以上だと、ダイシング工程における分割(チップ化)が困難となる虞がある。本実施形態では、このようなMo基板1を備えることにより、発光ダイオードAの放熱効率が高められる。
ここで、Mo基板1を構成する金属Moは、熱膨張係数が約5.6×10−6/℃であるが、これに対し、後述の製造方法で用いられるサファイア基板21を構成するサファイアは、熱膨張係数が7×10−6/℃と、比較的近い物性となっている。このように、Mo基板(第2の基板)1とサファイア基板(第1の基板)21の熱膨張係数が近似していることにより、後述する製造方法の除去工程において、化合物半導体層11を損傷することなく、サファイア基板21を剥離できるという効果が得られる。
また、本実施形態では、金属Moを圧延したままの状態で得られるMo基板1を用い、この表面1aに後述の無電解メッキ層2が形成された構成なので、金属Mo(熱伝導率:138W/(m・K))と同等程度の熱伝導率を有するSi基板(熱伝導率:148W/(m・K))等を用いた場合に比べ、コストダウンが可能となる。
また、Mo基板に代わってGe基板を用いることも、熱膨張係数が6×10−6/℃と、サファイアと近似しており、高強度や低コストを実現する点で可能であるが、Geを用いた場合、材料費がSiの約4倍と非常に高価であり、また、熱伝導率が59.9W/(m・K)と低いことから、発光ダイオードの放熱効率の点で好ましくない。
また、Mo基板に代わってGe基板を用いることも、熱膨張係数が6×10−6/℃と、サファイアと近似しており、高強度や低コストを実現する点で可能であるが、Geを用いた場合、材料費がSiの約4倍と非常に高価であり、また、熱伝導率が59.9W/(m・K)と低いことから、発光ダイオードの放熱効率の点で好ましくない。
次に、無電解メッキ層2は、Mo基板1の表面1aに形成されるメッキ層であり、上述した第2の接合層3との密着性を向上させるために形成される層である。また、本実施形態の無電解メッキ層2は、NiPからなる層が無電解メッキ法で形成されてなるものである。このように、無電解メッキ法でNiPからなるメッキ層を形成することにより、上述した高い密着性の他、優れた耐食性及び高硬度特性を備えた無電解メッキ層2が得られる。
次に、化合物半導体層11は、反射性p型電極層5とp型半導体層6と発光層7とn型半導体層8とから概略構成されている。
反射性p型電極層5は、第1の接合層4及び第2の接合層3を介してMo基板1と電気的に接続されており、これにより、Mo基板1が反射性p型電極層5の取出電極となっている。また、反射性p型電極層5及びMo基板1と、n型電極層9とは、化合物半導体層11の厚み方向において反対側に配置された関係になっている。これにより本実施形態の発光ダイオードAは、所謂上下電極構造の発光ダイオードとなっている。
反射性p型電極層5は、第1の接合層4及び第2の接合層3を介してMo基板1と電気的に接続されており、これにより、Mo基板1が反射性p型電極層5の取出電極となっている。また、反射性p型電極層5及びMo基板1と、n型電極層9とは、化合物半導体層11の厚み方向において反対側に配置された関係になっている。これにより本実施形態の発光ダイオードAは、所謂上下電極構造の発光ダイオードとなっている。
反射性p型電極層5は、p型半導体層6とオーミック接触することにより、化合物半導体層11の正極とされている。
また、反射性p型電極層5は、図1に示すように、化合物半導体層11に接するオーミックコンタクト層5cと、オーミックコンタクト層5cに接する反射層5bと、反射層5bに接する相互拡散防止層5aとから構成されている。反射層5bを備えることによって反射性p型電極層5は、発光層7から発した光を光取出面11a側に反射させる反射層となっている。
この反射性p型電極層5は、後述するように、オーミックコンタクト層5cを、RFスパッタリング法を用いて積層し、反射層5b及び相互拡散防止層5aは例えばDCスパッタリング法を用いて積層することによって形成され、これによりアニール処理を施すことなくp型半導体層6との間でオーミック接触が得られるようになっている。
また、反射性p型電極層5は、図1に示すように、化合物半導体層11に接するオーミックコンタクト層5cと、オーミックコンタクト層5cに接する反射層5bと、反射層5bに接する相互拡散防止層5aとから構成されている。反射層5bを備えることによって反射性p型電極層5は、発光層7から発した光を光取出面11a側に反射させる反射層となっている。
この反射性p型電極層5は、後述するように、オーミックコンタクト層5cを、RFスパッタリング法を用いて積層し、反射層5b及び相互拡散防止層5aは例えばDCスパッタリング法を用いて積層することによって形成され、これによりアニール処理を施すことなくp型半導体層6との間でオーミック接触が得られるようになっている。
オーミックコンタクト層5cに要求される性能としては、p型半導体層6との接触抵抗が小さいことが必須である。オーミックコンタクト層5cの材料はp型半導体層6との接触抵抗の観点から、Pt、Ru、Os、Rh、Ir、Pd等の白金族またはAgが好ましく、Pt,Ir,RhまたはRuがより好ましく、Ptが特に好ましい。Agを用いることは良好な反射を得るためには好ましいが、接触抵抗はPtよりも高い。したがって、それほど低い接触抵抗が要求されない用途にはAgを用いることも可能である。オーミックコンタクト層5cの厚さは、低接触抵抗を安定して得るために0.1nm以上とすることが好ましい。さらに好ましくは1nm以上であり、均一な接触抵抗が得られる。
オーミックコンタクト層5cには、Ag合金、Al合金などの反射層5bが積層されている。Pt,Ir,Rh、Ru、OS,PdなどはAg合金と比較すると可視光から紫外領域の反射率が低い。したがって、発光層7からの光が十分に反射せずに出力の高い素子を得ることが難しい。この場合、オーミックコンタクト層5cを光が十分に透過するほどに薄く形成し、Ag合金などの反射層5bを形成して反射光を得る方が、良好なオーミック接触が得られ、かつ出力の高い素子を作成することができる。この場合、オーミックコンタクト層5cの膜厚は30nm以下とすることが好ましい。さらに好ましくは10nm以下である。反射層5bの膜厚は良好な反射率を得るために0.1nm以上とすることが好ましい。さらに好ましくは1nm以上であり、均一な密着性が得られる。Ag合金はマイグレーションを起こしやすいので薄い方が好ましい。したがって、膜厚は200nm以下にすることが好ましい。
相互拡散防止層5aは、反射層5bの構成元素と接合層2の構成元素との相互拡散を防止するために形成される。相互拡散防止層5aとしては、例えば、Pt等を用いることが好ましい。
p型半導体層6、発光層7及びn型半導体層8を構成する材料としては、GaN系単結晶、GaP系単結晶、GaAs系単結晶、ZnO系単結晶など周知の半導体発光材料を用いることができるが、後述するサファイア単結晶またはSiC単結晶からなる基板に対してエピタキシャル成長可能な点において、GaN系単結晶またはZnO系単結晶がより好ましく、GaN系単結晶が更に好ましい。
GaN系単結晶からなる半導体層としては、例えば一般式AlXGaYInZN1−AMA(0≦X≦1、0≦Y≦1、0≦Z≦1で且つ、X+Y+Z=1。記号Mは窒素(N)とは別の第V族元素を表し、0≦A<1である。)で表わされるGaN系半導体が多数知られており、本発明においても、それら周知のGaN系半導体を含めて一般式AlXGaYInZN1−AMA(0≦X≦1、0≦Y≦1、0≦Z≦1で且つ、X+Y+Z=1。記号Mは窒素(N)とは別の第V族元素を表し、0≦A<1である。)で表わされるGaN系半導体を何ら制限なく用いることができる。
n型半導体層8は、下地層と、nコンタクト層と、発光層7に接するnクラッド層とが積層されて構成される。nコンタクト層は下地層および/またはnクラッド層を兼ねることができる。
下地層はAlXGa1―XN層(0≦x≦1、好ましくは0≦x≦0.5、さらに好ましくは0≦x≦0.1)から構成されることが好ましい。その膜厚は0.1μm以上、好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは1μm以上である。この膜厚以上にした方が結晶性の良好なAlXGa1―XN層が得られやすい。
下地層にはn型不純物を1×1017〜1×1019/cm3の範囲内であればドープしても良いが、アンドープ(<1×1017/cm3)の方が良好な結晶性の維持という点で好ましい。n型不純物としては、特に限定されないが、例えば、Si、GeおよびSn等が挙げられ、好ましくはSiおよびGeであり、より好ましくはSiである。
下地層はAlXGa1―XN層(0≦x≦1、好ましくは0≦x≦0.5、さらに好ましくは0≦x≦0.1)から構成されることが好ましい。その膜厚は0.1μm以上、好ましくは0.5μm以上、さらに好ましくは1μm以上である。この膜厚以上にした方が結晶性の良好なAlXGa1―XN層が得られやすい。
下地層にはn型不純物を1×1017〜1×1019/cm3の範囲内であればドープしても良いが、アンドープ(<1×1017/cm3)の方が良好な結晶性の維持という点で好ましい。n型不純物としては、特に限定されないが、例えば、Si、GeおよびSn等が挙げられ、好ましくはSiおよびGeであり、より好ましくはSiである。
nコンタクト層としては、下地層と同様にAlXGa1―XN層(0≦x≦1、好ましくは0≦x≦0.5、さらに好ましくは0≦x≦0.1)から構成されることが好ましい。また、nコンタクト層にはn型不純物がドープされていることが好ましく、n型不純物を1×1017〜1×1019/cm3、好ましくは1×1018〜1×1019/cm3の濃度で含有すると、n型電極層9との良好なオーミック接触の維持、クラック発生の抑制、良好な結晶性の維持の点で好ましい。n型不純物としては、特に限定されないが、例えば、Si、GeおよびSn等が挙げられ、好ましくはSiおよびGeであり、より好ましくはSiである。
nコンタクト層を構成するGaN系半導体は、下地層と同一組成であることが好ましく、nコンタクト層と下地層との合計の膜厚を1〜20μm、好ましくは2〜15μm、さらに好ましくは3〜12μmの範囲に設定することが好ましい。nコンタクト層と下地層との合計の膜厚が上記範囲にあると、半導体の結晶性が良好に維持される。
nコンタクト層を構成するGaN系半導体は、下地層と同一組成であることが好ましく、nコンタクト層と下地層との合計の膜厚を1〜20μm、好ましくは2〜15μm、さらに好ましくは3〜12μmの範囲に設定することが好ましい。nコンタクト層と下地層との合計の膜厚が上記範囲にあると、半導体の結晶性が良好に維持される。
nコンタクト層と発光層7との間には、nクラッド層を設けることが好ましい。nコンタクト層の表面に生じた平坦性の悪化を埋めることできるからである。nクラッド層はAlGaN、GaN、GaInNなどで形成することが可能である。また、これらの構造のヘテロ接合や複数回積層した超格子構造としてもよい。nクラッド層をGaInNで形成する場合には、発光層7のGaInNのバンドギャップよりも大きくすることが望ましいことは言うまでもない。
nクラッド層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは0.005〜0.5μmであり、より好ましくは0.005〜0.1μmである。nクラッド層のn型ドープ濃度は1×1017〜1×1020/cm3が好ましく、より好ましくは1×1018〜1×1019/cm3である。ドープ濃度がこの範囲であると、良好な結晶性の維持および素子の動作電圧低減の点で好ましい。
nクラッド層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは0.005〜0.5μmであり、より好ましくは0.005〜0.1μmである。nクラッド層のn型ドープ濃度は1×1017〜1×1020/cm3が好ましく、より好ましくは1×1018〜1×1019/cm3である。ドープ濃度がこの範囲であると、良好な結晶性の維持および素子の動作電圧低減の点で好ましい。
次に、n型半導体層8の下側に積層される発光層7としては、GaN系半導体、好ましくはGa1−sInsN(0<s<0.4)のGaN系半導体からなる発光層が本発明では通常用いられる。発光層7の膜厚としては、特に限定されないが、量子効果の得られる程度の膜厚、即ち臨界膜厚が挙げられ、例えば好ましくは1〜10nmであり、より好ましくは2〜6nmである。発光層7の膜厚が上記範囲であると発光出力の点で好ましい。
また、発光層7は、上記のような単一量子井戸(SQW)構造の他に、上記Ga1−sInsNを井戸層として、この井戸層よりバンドギャップエネルギーが大きいAlcGa1−cN(0≦c<0.3)障壁層とからなる多重量子井戸(MQW)構造としてもよい。また、井戸層および障壁層には、不純物をドープしてもよい。
また、発光層7は、上記のような単一量子井戸(SQW)構造の他に、上記Ga1−sInsNを井戸層として、この井戸層よりバンドギャップエネルギーが大きいAlcGa1−cN(0≦c<0.3)障壁層とからなる多重量子井戸(MQW)構造としてもよい。また、井戸層および障壁層には、不純物をドープしてもよい。
次に、p型半導体層6は、発光層7に接するpクラッド層と、pコンタクト層とが積層されて構成される。しかし、pコンタクト層がpクラッド層を兼ねてもよい。
pクラッド層としては、発光層7のバンドギャップエネルギーより大きくなる組成であり、発光層7へのキャリアの閉じ込めができるものであれば特に限定されないが、好ましくは、AldGa1−dN(0<d≦0.4、好ましくは0.1≦d≦0.3)のものが挙げられる。pクラッド層が、このようなAlGaNからなると、発光層7へのキャリアの閉じ込めの点で好ましい。pクラッド層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは1〜400nmであり、より好ましくは5〜100nmである。pクラッド層のp型ドープ濃度は、1×1018〜1×1021/cm3が好ましく、より好ましくは1×1019〜1×1020/cm3である。p型ドープ濃度が上記範囲であると、結晶性を低下させることなく良好なp型結晶が得られる。
pクラッド層としては、発光層7のバンドギャップエネルギーより大きくなる組成であり、発光層7へのキャリアの閉じ込めができるものであれば特に限定されないが、好ましくは、AldGa1−dN(0<d≦0.4、好ましくは0.1≦d≦0.3)のものが挙げられる。pクラッド層が、このようなAlGaNからなると、発光層7へのキャリアの閉じ込めの点で好ましい。pクラッド層の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは1〜400nmであり、より好ましくは5〜100nmである。pクラッド層のp型ドープ濃度は、1×1018〜1×1021/cm3が好ましく、より好ましくは1×1019〜1×1020/cm3である。p型ドープ濃度が上記範囲であると、結晶性を低下させることなく良好なp型結晶が得られる。
pコンタクト層は、少なくともAleGa1−eN(0≦e<0.5、好ましくは0≦e≦0.2、より好ましくは0≦e≦0.1)を含んでなるGaN系半導体層である。Al組成が上記範囲であると、良好な結晶性の維持および反射性p型電極層5との良好なオーミック接触の点で好ましい。p型不純物(ドーパント)を1×1018〜1×1021/cm3の濃度で、好ましくは5×1019〜5×1020/cm3の濃度で含有していると、良好なオーミック接触の維持、クラック発生の防止、良好な結晶性の維持の点で好ましい。p型不純物としては、特に限定されないが、例えば好ましくはMgが挙げられる。膜厚は、特に限定されないが、0.01〜0.5μmが好ましく、より好ましくは0.05〜0.2μmである。膜厚がこの範囲であると、発光出力の点で好ましい。
[発光ダイオードの製造方法]
次に、図2〜図10を参照して、発光ダイオードAの製造方法の一例について説明する。本実施形態の発光ダイオードAの製造方法は、第1の基板(図2等の符号21参照)上に複数の化合物半導体層11を形成し、該複数の化合物半導体層11の各々の上に第1の接合層4を積層して第1の積層体20を形成する第1積層工程と、第2の基板(図3等の符号1参照)の表面1a全体に無電解メッキ層2を形成し、さらに、前記第2の基板の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の一面2a側に第2の接合層3を積層して第2の積層体30を形成する第2積層工程と、第1の接合層4と第2の接合層3とを接合することにより、第1の積層体20と第2の積層体30とを接合した後、第2の基板の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の他面2b側に仮貼付基板24を貼り付ける接合工程と、前記第1の基板を複数の化合物半導体層11から剥離して、複数の化合物半導体層11に備えられるn型半導体層8の光取出面11aを露出させる除去工程と、複数の化合物半導体層11に備えられるn型半導体層8上にn型電極層9を形成する電極形成工程と、仮貼付基板24を前記第2の基板から剥離する仮貼付基板除去工程と、複数の化合物半導体層11の各々の間に形成される分断溝11cに沿って、第2の積層体30を切断するダイシング工程と、を具備しており、前記第1の基板及び第2の基板が、ともに、熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲の材料からなり、概略構成される。本例においては、前記第1の基板がサファイア基板21であり、前記第2の基板が、圧延モリブデン材料からなるMo基板1である例を用いて説明する。
次に、図2〜図10を参照して、発光ダイオードAの製造方法の一例について説明する。本実施形態の発光ダイオードAの製造方法は、第1の基板(図2等の符号21参照)上に複数の化合物半導体層11を形成し、該複数の化合物半導体層11の各々の上に第1の接合層4を積層して第1の積層体20を形成する第1積層工程と、第2の基板(図3等の符号1参照)の表面1a全体に無電解メッキ層2を形成し、さらに、前記第2の基板の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の一面2a側に第2の接合層3を積層して第2の積層体30を形成する第2積層工程と、第1の接合層4と第2の接合層3とを接合することにより、第1の積層体20と第2の積層体30とを接合した後、第2の基板の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の他面2b側に仮貼付基板24を貼り付ける接合工程と、前記第1の基板を複数の化合物半導体層11から剥離して、複数の化合物半導体層11に備えられるn型半導体層8の光取出面11aを露出させる除去工程と、複数の化合物半導体層11に備えられるn型半導体層8上にn型電極層9を形成する電極形成工程と、仮貼付基板24を前記第2の基板から剥離する仮貼付基板除去工程と、複数の化合物半導体層11の各々の間に形成される分断溝11cに沿って、第2の積層体30を切断するダイシング工程と、を具備しており、前記第1の基板及び第2の基板が、ともに、熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲の材料からなり、概略構成される。本例においては、前記第1の基板がサファイア基板21であり、前記第2の基板が、圧延モリブデン材料からなるMo基板1である例を用いて説明する。
また、本実施形態で説明する例では、前記除去工程と前記電極形成工程との間において、複数の化合物半導体層11の各側面(周囲面)11bに、保護用の絶縁膜10を形成する絶縁膜形成工程が設けられている。またさらに、本例では、前記絶縁膜形成工程と前記電極形成工程との間において、n型半導体層8の光取出面11aを粗面化する粗面化工程が設けられている。
以下、本実施形態の発光ダイオードの製造方法の一例について、図面を参照しつつ各工程を説明する。
「第1積層工程」
第1積層工程では、図2(a)〜図2(c)に示すように、サファイア基板21上に、n型半導体層8、発光層7、p型半導体層6及び反射性p型電極層5を順次積層して複数の化合物半導体層11を形成し、さらに、複数の化合物半導体層11の各々の上に第1の接合層4を積層して第1の積層体20を形成する。
第1積層工程では、図2(a)〜図2(c)に示すように、サファイア基板21上に、n型半導体層8、発光層7、p型半導体層6及び反射性p型電極層5を順次積層して複数の化合物半導体層11を形成し、さらに、複数の化合物半導体層11の各々の上に第1の接合層4を積層して第1の積層体20を形成する。
具体的には、まず、図2(a)に示すように、サファイア基板21上に、n型半導体層8、発光層7及びp型半導体層6を順次積層する。
n型半導体層8にはn型ドーパントとしてSi等をドープさせることが望ましく、p型半導体層6にはp型ドーパントとしてMg等をドープさせることが望ましい。
また、サファイア基板21上に化合物半導体層11を構成するn型半導体層8、発光層7及びp型半導体層6の各々を形成する際には、あらかじめサファイア基板21上にバッファ層を形成することが望ましい。すなわち、サファイアからなるサファイア基板21を用い、n型半導体層8としてGaNを形成する場合には、基板21とn型半導体層8との格子定数が10%以上も異なる。この場合に、バッファ層として、サファイア基板21とn型半導体層8との中間の格子定数を有するAlNやAlGaNなどを用いることで、n型半導体層8を構成するGaNの結晶性を向上させることができる。
n型半導体層8にはn型ドーパントとしてSi等をドープさせることが望ましく、p型半導体層6にはp型ドーパントとしてMg等をドープさせることが望ましい。
また、サファイア基板21上に化合物半導体層11を構成するn型半導体層8、発光層7及びp型半導体層6の各々を形成する際には、あらかじめサファイア基板21上にバッファ層を形成することが望ましい。すなわち、サファイアからなるサファイア基板21を用い、n型半導体層8としてGaNを形成する場合には、基板21とn型半導体層8との格子定数が10%以上も異なる。この場合に、バッファ層として、サファイア基板21とn型半導体層8との中間の格子定数を有するAlNやAlGaNなどを用いることで、n型半導体層8を構成するGaNの結晶性を向上させることができる。
この際、化合物半導体層11を構成するn型半導体層8、発光層7及びp型半導体層6の成長方法は特に限定されず、スパッタリング法、MOCVD(有機金属化学気相成長法)、HVPE(ハイドライド気相成長法)、MBE(分子線エピタキシー法)、などGaN系半導体を成長させることが知られている全ての方法を適用できる。好ましい成長方法としては、膜厚制御性、量産性の観点からスパッタリング法またはMOCVD法である。
スパッタリング法では、Gaを含むターゲットを用いるとともに、プラズマガスとしてアルゴンと窒素の混合ガスを用いて、所謂リアクティブスパッタリング法によってGaN系半導体を形成することが好ましい。
また、MOCVD法では、キャリアガスとして水素(H2)または窒素(N2)、III族原料であるGa源としてトリメチルガリウム(TMG)またはトリエチルガリウム(TEG)、Al源としてトリメチルアルミニウム(TMA)またはトリエチルアルミニウム(TEA)、In源としてトリメチルインジウム(TMI)またはトリエチルインジウム(TEI)、V族原料であるN源としてアンモニア(NH3)、ヒドラジン(N2H4)などが用いられる。また、ドーパントとしては、n型にはSi原料としてモノシラン(SiH4)またはジシラン(Si2H6)を、Ge原料としてゲルマンガス(GeH4)や、テトラメチルゲルマニウム((CH3)4Ge)やテトラエチルゲルマニウム((C2H5)4Ge)等の有機ゲルマニウム化合物を利用できる。
MBE法では、元素状のゲルマニウムもドーピング源として利用できる。p型にはMg原料としては例えばビスシクロペンタジエニルマグネシウム(Cp2Mg)またはビスエチルシクロペンタジエニルマグネシウム(EtCp2Mg)を用いればよい。
また、MOCVD法では、キャリアガスとして水素(H2)または窒素(N2)、III族原料であるGa源としてトリメチルガリウム(TMG)またはトリエチルガリウム(TEG)、Al源としてトリメチルアルミニウム(TMA)またはトリエチルアルミニウム(TEA)、In源としてトリメチルインジウム(TMI)またはトリエチルインジウム(TEI)、V族原料であるN源としてアンモニア(NH3)、ヒドラジン(N2H4)などが用いられる。また、ドーパントとしては、n型にはSi原料としてモノシラン(SiH4)またはジシラン(Si2H6)を、Ge原料としてゲルマンガス(GeH4)や、テトラメチルゲルマニウム((CH3)4Ge)やテトラエチルゲルマニウム((C2H5)4Ge)等の有機ゲルマニウム化合物を利用できる。
MBE法では、元素状のゲルマニウムもドーピング源として利用できる。p型にはMg原料としては例えばビスシクロペンタジエニルマグネシウム(Cp2Mg)またはビスエチルシクロペンタジエニルマグネシウム(EtCp2Mg)を用いればよい。
次に、図2(b)に示すように、上記手順にてサファイア基板21上に順次積層されたn型半導体層8、発光層7及びp型半導体層6を、複数の積層体として分割する。
具体的には、図2(b)に示すように、化合物半導体層11を構成するp型半導体層6上にマスクを形成し、ドライエッチング等の手段によってp型半導体層6、発光層7及びn型半導体層8からなる積層体を格子状にエッチングして分割する。エッチングによる処理は、基板21が露出した時点で終了する。これにより、p型半導体層6、発光層7及びn型半導体層8からなる積層体を、複数に分割された積層体とする。
次に、図2(c)に示すように、p型半導体層6上に、フォトリソグラフィ技術によって、オーミックコンタクト層、反射層及び拡散防止層を順次積層し、パターニングすることにより、反射性p型電極層5を形成する。
オーミックコンタクト層をp型半導体層6上に形成するにあたり、RF放電によるスパッタリング成膜法で形成することが好ましい。RF放電によるスパッタリング成膜法を用いることで、蒸着法やDC放電のスパッタリング成膜法を用いるより接触抵抗の低い電極を形成できる。即ち、RF放電によるスパッタリング成膜法でオーミックコンタクト層を形成することによって、オーミックコンタクト層にp型半導体層6の構成元素が混在し、p型半導体層6にはオーミックコンタクト層の構成元素が混在することになり、これによりオーミックコンタクト層とp型半導体層6とがオーミック接合される。
RF放電によるスパッタリング成膜では、イオンアシスト効果により、p型半導体層6に付着したスパッタ原子にエネルギーを与え、p型半導体、例えばMgドープのp−GaNとの間で表面拡散を促す作用があると考えられる。さらに、上記成膜においては、p型半導体層6の最表面原子にもエネルギーを与え、半導体材料、例えばGaがオーミックコンタクト層に拡散することを促す作用もあると考えられる。
RF放電による成膜では、初期において、接触抵抗を下げる効果を持つが、膜厚を大きくすると、その膜が疎であるために反射率の点ではDC放電による成膜に比べて劣る。そこで、接触抵抗を低く保った範囲で薄膜化して光透過率を上げたオーミックコンタクト層をRF放電により形成し、その上に反射層及び相互拡散防止層をDC放電により形成することが好ましい。
上記の如く、オーミックコンタクト層をRFスパッタリング法により形成することによって、オーミックコンタクト層とp型半導体層6とをオーミック接触させることができる。この場合、オーミックコンタクト層形成後のアニールを必要としない。むしろ、アニールすることにより、Pt、Gaそれぞれの拡散を促進し、半導体の結晶性を下げてしまうため、電気特性を悪化させてしまうことがあり、また、反射膜のAg合金がマイグレーションを起こし、反射率が低下するので好ましくない。従ってオーミックコンタクト層形成後、350℃よりも高い温度で熱処理されていないことが好ましい。
スパッタリングは、従来公知のスパッタリング装置を用いて従来公知の条件を適宜選択して実施することができる。化合物半導体層11を積層したサファイア基板21をチャンバ内に収容し、基板温度を室温から500℃の範囲に設定する。基板加熱は特に必要としないが、オーミックコンタクト層の構成元素およびp型半導体層6の構成元素の拡散を促進するために適度に加熱しても良い。チャンバ内は真空度が10−4〜10−7Paとなるまで排気する。スパッタリング用ガスとしては、He、Ne、Ar、Kr、Xe等が使用できる。入手の容易さからArとするのが望ましい。これらの内の一つのガスをチャンバ内に導入し、0.1〜10Paにしたのち放電を行う。好ましくは0.2〜5Paの範囲に設定する。供給する電力は0.2〜2.0kWの範囲が好ましい。この際、放電時間と供給電力を調節することによって、形成する層の厚さを調節することができる。
次に、図2(d)に示すように、さらに、複数の化合物半導体層11の各々の上に第1の接合層4を形成する。
具体的には、複数の化合物半導体層11に備えられる反射性p型電極層5を覆うように、Ni層4bとAu層4aとを順次積層して第1の接合層4を形成する。第1の接合層4を構成するNi層4b及びAu層4aの形成方法としては、従来公知の方法を何ら制限無く用いることができる。
上記手順により、サファイア基板21上に複数の化合物半導体層11を形成し、該複数の化合物半導体層11の各々の上に第1の接合層4を積層して第1の積層体20を形成する。
具体的には、複数の化合物半導体層11に備えられる反射性p型電極層5を覆うように、Ni層4bとAu層4aとを順次積層して第1の接合層4を形成する。第1の接合層4を構成するNi層4b及びAu層4aの形成方法としては、従来公知の方法を何ら制限無く用いることができる。
上記手順により、サファイア基板21上に複数の化合物半導体層11を形成し、該複数の化合物半導体層11の各々の上に第1の接合層4を積層して第1の積層体20を形成する。
「第2積層工程」
第2積層工程では、図3(a)〜図3(c)に示すように、圧延Mo材料からなるMo基板(第2の基板)1の表面1a全体に無電解メッキ層2を形成し、さらに、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の一面2a側に第2の接合層3を積層して第2の積層体30を形成する。
第2積層工程では、図3(a)〜図3(c)に示すように、圧延Mo材料からなるMo基板(第2の基板)1の表面1a全体に無電解メッキ層2を形成し、さらに、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の一面2a側に第2の接合層3を積層して第2の積層体30を形成する。
具体的には、まず、図3(a)に示すように、金属Mo塊に圧延処理を施し、得られた圧延版をプレスで打ち抜くことにより、平板状のMo基板1を得る。金属Moの圧延処理方法としては、従来公知の方法を何ら制限無く用いることができる。
次に、図3(b)に示すように、Mo基板1の表面1a全体に、NiPからなる無電解メッキ層2を形成する。このような、無電解メッキ層2の形成方法としては、従来公知の無電解メッキ法を何ら制限無く用いることができる。Mo基板1の表面1aに無電解メッキ層2を形成することにより、Mo基板1と後述の第2の接合層3との密着性が向上する。
次に、図3(c)に示すように、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内、一面2a上に第2の接合層3を形成する。
具体的には、無電解メッキ層2の一面2aを覆うように、Pt層3a及びAuSn層3bを順次積層して第2の接合層3を形成する。第2の接合層3を構成するPt層3a及びAuSn層3bの形成方法としては、従来公知の方法を何ら制限無く用いることができる。また、無電解メッキ層2上にPt層3aを形成することにより、溶融したAuSn金属と無電解メッキ層2との濡れ性を向上させることができるので、AuSn層3bの安定した成膜が可能となる。
上記手順により、Mo基板1の表面に無電解メッキ層2を形成し、さらに、無電解メッキ層2の一面2aに第2の接合層3を形成して第2の積層体30を形成する。
具体的には、無電解メッキ層2の一面2aを覆うように、Pt層3a及びAuSn層3bを順次積層して第2の接合層3を形成する。第2の接合層3を構成するPt層3a及びAuSn層3bの形成方法としては、従来公知の方法を何ら制限無く用いることができる。また、無電解メッキ層2上にPt層3aを形成することにより、溶融したAuSn金属と無電解メッキ層2との濡れ性を向上させることができるので、AuSn層3bの安定した成膜が可能となる。
上記手順により、Mo基板1の表面に無電解メッキ層2を形成し、さらに、無電解メッキ層2の一面2aに第2の接合層3を形成して第2の積層体30を形成する。
「接合工程」
接合工程では、図4(a)、(b)に示すように、第1の接合層4と第2の接合層3とを接合することにより、第1の積層体20と第2の積層体30とを接合した後、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の他面2b側に仮貼付基板24を貼り付ける。
接合工程では、図4(a)、(b)に示すように、第1の接合層4と第2の接合層3とを接合することにより、第1の積層体20と第2の積層体30とを接合した後、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の他面2b側に仮貼付基板24を貼り付ける。
具体的には、図4(a)に示すように、第1の積層体20に備えられ第1の接合層4をなすAu層4aと、第2の積層体30に備えられ第2の接合層3をなすAuSn層3bとを、AuSn共晶接合によって接合する。このようなAuSn共晶接合は、基板(サファイア基板21並びにMo基板1温度を、例えば、290℃程度として行なうことができる。これにより、第1の接合層4と第2の接合層3との間がオーミック接触するとともに、第1の積層体20と第2の積層体30とが一体に形成される。
そして、図4(b)に示すように、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の他面2b側に、仮貼付基板24を、ワックス剤25を用いて貼り付ける。仮貼付基板24としては如何なるものを使用しても良く、例えば、剥離後のサファイア基板等を用いても構わない。また、ワックス剤25としても、従来より基板の貼着等に用いられているものを何ら制限無く用いることができる。
そして、図4(b)に示すように、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の内の他面2b側に、仮貼付基板24を、ワックス剤25を用いて貼り付ける。仮貼付基板24としては如何なるものを使用しても良く、例えば、剥離後のサファイア基板等を用いても構わない。また、ワックス剤25としても、従来より基板の貼着等に用いられているものを何ら制限無く用いることができる。
「除去工程」
除去工程では、図5(a)、(b)に示すように、サファイア基板21及び図示略のバッファ層を、複数の化合物半導体層11から剥離して、複数の化合物半導体層11に備えられるn型半導体層8の光取出面11aを露出させる。
図示略のバッファ層及びサファイア基板21を取り除く方法としては、研磨法、エッチング法、レーザリフトオフ法など公知の技術を何ら制限なく用いることが出来るが、本例では生産性の観点からレーザリフトオフ法を用いることが好ましい。
除去工程では、図5(a)、(b)に示すように、サファイア基板21及び図示略のバッファ層を、複数の化合物半導体層11から剥離して、複数の化合物半導体層11に備えられるn型半導体層8の光取出面11aを露出させる。
図示略のバッファ層及びサファイア基板21を取り除く方法としては、研磨法、エッチング法、レーザリフトオフ法など公知の技術を何ら制限なく用いることが出来るが、本例では生産性の観点からレーザリフトオフ法を用いることが好ましい。
具体的には、図5(a)に示すように、まず、バッファ層とサファイア基板21との界面近傍にレーザ光Lを照射し、主にバッファ層を熱分解させることにより、図5(b)に示すようにn型半導体層8からサファイア基板21を剥離させる。n型半導体層8からサファイア基板21及びバッファ層を取り除くことによって、n型半導体層8のバッファ層との接合面、つまり光取出面11aが露出される。
本実施形態の製造方法においては、上述のように、サファイア基板(第1の基板)21に各層が積層されてなる第1の積層体20と、Mo基板(第2の基板)1の表面1aに無電解メッキ層2が形成され、この無電解メッキ層2の一面2a側に第2の接合層3が形成されてなる第2の積層体30とを一体化する接合工程が備えられている。そして、本除去工程において、サファイア基板21を剥離する方法とされている。
従来、発光ダイオードの製造工程においては、サファイア基板上に形成された半導体層の前記サファイア基板とは反対側の面に、Cu等の金属やSiからなる第2の基板を接合した後、半導体層からサファイア基板を除去する方法が採用されていた。しかしながら、このような従来の製造方法で発光ダイオードを製造した場合には、サファイア基板をレーザリフトオフ等の手段で半導体層から剥離させた際に、半導体層にクラック等の損傷が生じるという問題があった。このような問題の原因として、第1の基板を構成するサファイア基板と、第2の基板を構成する材料との間で、熱膨張係数が大きく異なるということが挙げられる。つまり、サファイア基板の熱膨張係数が7×10−6/℃程度であるのに対し、第2の基板にシリコンや銅を用いた場合、シリコンの熱膨張係数が3×10−6/℃、銅の熱膨張係数が16.8×10−6/℃と、サファイア基板との間で熱膨張係数が大きく異なる。このため、特に、サファイア基板と半導体層の間に熱による機械的ストレスが加わることから、サファイア基板を剥離した際に、基板剥離面を起点としたクラックが半導体層に発生するというものであった。
従来、発光ダイオードの製造工程においては、サファイア基板上に形成された半導体層の前記サファイア基板とは反対側の面に、Cu等の金属やSiからなる第2の基板を接合した後、半導体層からサファイア基板を除去する方法が採用されていた。しかしながら、このような従来の製造方法で発光ダイオードを製造した場合には、サファイア基板をレーザリフトオフ等の手段で半導体層から剥離させた際に、半導体層にクラック等の損傷が生じるという問題があった。このような問題の原因として、第1の基板を構成するサファイア基板と、第2の基板を構成する材料との間で、熱膨張係数が大きく異なるということが挙げられる。つまり、サファイア基板の熱膨張係数が7×10−6/℃程度であるのに対し、第2の基板にシリコンや銅を用いた場合、シリコンの熱膨張係数が3×10−6/℃、銅の熱膨張係数が16.8×10−6/℃と、サファイア基板との間で熱膨張係数が大きく異なる。このため、特に、サファイア基板と半導体層の間に熱による機械的ストレスが加わることから、サファイア基板を剥離した際に、基板剥離面を起点としたクラックが半導体層に発生するというものであった。
これに対し、本実施形態の製造方法では、第1の基板及び第2の基板を、ともに、熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲の材料に規定し、本例では、前記第1の基板にサファイア基板21を用い、前記第2の基板に、モリブデン材料からなるMo基板1を用いた構成としている。ここで、Mo基板1を構成する金属Moの熱膨張係数は約5.6×10−6/℃であり、サファイア基板21を構成するサファイアの熱膨張係数が7×10−6/℃であるのに対し、比較的近い物性となっている。このように、Mo基板1とサファイア基板21の熱膨張係数が近似していることにより、サファイア基板21と化合物半導体層11の間に機械的ストレスが加わるのを抑制することができるので、本除去工程において、化合物半導体層11を損傷することなく、サファイア基板21を剥離することが可能となる。
「絶縁膜形成工程」
次に、絶縁膜形成工程では、図6に示すように、複数に分割された化合物半導体層11の各側面(周囲面)11bに、保護用の絶縁膜10を形成する。
具体的には、図6に示すように、CVD法やスパッタ法等の手段によって、SiO2からなる絶縁膜10を、各化合物半導体層11の側面11b及び第1の接合層4の側面と、各化合物半導体層11の光取出面11aの外周部分を覆うように形成する。化合物半導体層11の全体に絶縁膜10を形成し、光取出面11aの中央部以外の部分にレジストを形成し、ドライエッチングすることで、目的の絶縁膜10を形成できる。
次に、絶縁膜形成工程では、図6に示すように、複数に分割された化合物半導体層11の各側面(周囲面)11bに、保護用の絶縁膜10を形成する。
具体的には、図6に示すように、CVD法やスパッタ法等の手段によって、SiO2からなる絶縁膜10を、各化合物半導体層11の側面11b及び第1の接合層4の側面と、各化合物半導体層11の光取出面11aの外周部分を覆うように形成する。化合物半導体層11の全体に絶縁膜10を形成し、光取出面11aの中央部以外の部分にレジストを形成し、ドライエッチングすることで、目的の絶縁膜10を形成できる。
「粗面化工程」
次に、粗面化工程では、n型半導体層8の光取出面11aを粗面化する。
具体的には、詳細な図示を省略するが(図6を参照)、加熱KOH溶液に浸漬して、光取出面11aの中央の絶縁膜10に被覆されずに露出している部分の、n型半導体層8を構成する図示略の下地層を除去するとともに、n型半導体層8の光取出面11aを粗面化する。
下地層の除去及び粗面化には、PEC(photo electrochemical etch)を使用することもできる。また、下地層の除去及び光取出面11aの粗面化にはドライエッチングを適用することもできる。
尚、上記の下地層の除去操作は、下地層がアンドープ層である場合に必要な操作であって、下地層にSi等がドープされている場合には下地層の除去操作は不要である。
次に、粗面化工程では、n型半導体層8の光取出面11aを粗面化する。
具体的には、詳細な図示を省略するが(図6を参照)、加熱KOH溶液に浸漬して、光取出面11aの中央の絶縁膜10に被覆されずに露出している部分の、n型半導体層8を構成する図示略の下地層を除去するとともに、n型半導体層8の光取出面11aを粗面化する。
下地層の除去及び粗面化には、PEC(photo electrochemical etch)を使用することもできる。また、下地層の除去及び光取出面11aの粗面化にはドライエッチングを適用することもできる。
尚、上記の下地層の除去操作は、下地層がアンドープ層である場合に必要な操作であって、下地層にSi等がドープされている場合には下地層の除去操作は不要である。
「電極形成工程」
電極形成工程では、図7に示すように、n型半導体層8の光取出面11aを、n型半導体層8中のドーパント元素と同一の元素を含有するエッチングガスによりドライエッチングしてから、光取出面11aにn型電極層9を形成する。
具体的には、Mo基板1及び化合物半導体層11等を含む基板をプラズマドライエッチング装置のチャンバに収納し、n型半導体層8中のドーパント元素と同一の元素を含有するエッチングガスからなる反応ガスをチャンバ内に供給し、化合物半導体層11の上方においてプラズマを発生させ、エッチングガスを含むプラズマを光取出面11aに暴露させる。
電極形成工程では、図7に示すように、n型半導体層8の光取出面11aを、n型半導体層8中のドーパント元素と同一の元素を含有するエッチングガスによりドライエッチングしてから、光取出面11aにn型電極層9を形成する。
具体的には、Mo基板1及び化合物半導体層11等を含む基板をプラズマドライエッチング装置のチャンバに収納し、n型半導体層8中のドーパント元素と同一の元素を含有するエッチングガスからなる反応ガスをチャンバ内に供給し、化合物半導体層11の上方においてプラズマを発生させ、エッチングガスを含むプラズマを光取出面11aに暴露させる。
エッチングガスとしては、n型半導体層8中のドーパント元素がケイ素(Si)の場合は、エッチングガスとしてハロゲン化ケイ素を用いることが好ましく、具体的にはSiCl4またはSiF4が好ましい。
また、反応ガスを導入した際のチャンバ内の圧力は、例えば0.2〜2Paの範囲にすることが好ましく、エッチングガスの流量は15sccm〜50sccmの範囲が好ましく、プラズマのパワーは120W程度が好ましく、バイアスは50W程度が好ましく、処理時間は150秒程度がよい。
このようなエッチング処理を行うことによって、n型半導体層8の表面近傍にエッチングガスに含まれるSiが打ち込まれて、表面近傍のSi濃度が高められると考えられる。
また、反応ガスを導入した際のチャンバ内の圧力は、例えば0.2〜2Paの範囲にすることが好ましく、エッチングガスの流量は15sccm〜50sccmの範囲が好ましく、プラズマのパワーは120W程度が好ましく、バイアスは50W程度が好ましく、処理時間は150秒程度がよい。
このようなエッチング処理を行うことによって、n型半導体層8の表面近傍にエッチングガスに含まれるSiが打ち込まれて、表面近傍のSi濃度が高められると考えられる。
次に、図7に示すように、プラズマ処理後のn型半導体層8の上に、Cr膜、Ti膜及びAu膜を順次積層してn型電極層9を形成する。また、n型電極層9は、このような3層構造に限らず、Ti膜、Al膜、Ti膜及びAu膜が積層されてなる4層構造でもよい。n型電極層9の形成は、例えば、スパッタリング法や蒸着法を用いればよい。
上記の如く、n型半導体層8の表面をプラズマで処理してから、Cr膜またはTi膜等を積層することによって、n型電極層9を構成するCr膜またはTi膜とn型半導体層8とをオーミック接触させることができる。この場合、n型電極層9の形成後のアニールを必要としない。むしろ、アニールすることによって電気特性を悪化させてしまうことがあり、また、反射膜のAg合金がマイグレーションを起こし、反射率が低下するので好ましくない。
上記の如く、n型半導体層8の表面をプラズマで処理してから、Cr膜またはTi膜等を積層することによって、n型電極層9を構成するCr膜またはTi膜とn型半導体層8とをオーミック接触させることができる。この場合、n型電極層9の形成後のアニールを必要としない。むしろ、アニールすることによって電気特性を悪化させてしまうことがあり、また、反射膜のAg合金がマイグレーションを起こし、反射率が低下するので好ましくない。
「仮貼付基板除去工程」
次に、仮貼付基板除去工程では、図8に示すように、仮貼付基板24をMo基板1から剥離、除去する。
具体的には、図8に示すように、Mo基板1に仮貼付基板24を貼着しているワックス剤25を加熱することで貼着力を低下させ、仮貼付基板24をMo基板1から引き剥がした後、ワックス剤25を除去する。
次に、仮貼付基板除去工程では、図8に示すように、仮貼付基板24をMo基板1から剥離、除去する。
具体的には、図8に示すように、Mo基板1に仮貼付基板24を貼着しているワックス剤25を加熱することで貼着力を低下させ、仮貼付基板24をMo基板1から引き剥がした後、ワックス剤25を除去する。
「ダイシング工程」
次に、ダイシング工程では、図9〜図10に示すように、複数の化合物半導体層11の各々の間に形成された分断溝11cに沿って、Mo基板1の表面1aに無電解メッキ層2が形成され、無電解メッキ層2の一面2a側に第2の接合層3が形成されてなる第2の積層体30を切断する。
次に、ダイシング工程では、図9〜図10に示すように、複数の化合物半導体層11の各々の間に形成された分断溝11cに沿って、Mo基板1の表面1aに無電解メッキ層2が形成され、無電解メッキ層2の一面2a側に第2の接合層3が形成されてなる第2の積層体30を切断する。
具体的には、図9に示すように、第2の積層体30において、複数の化合物半導体層11の各々の間に形成された分断溝11cに沿って、例えば、レーザスクライブ法を用いてレーザを照射して切断する。
このようなダイシング工程を行なうことにより、図10(図1も参照)に示すような、複数の発光ダイオードAが得られる。
このようなダイシング工程を行なうことにより、図10(図1も参照)に示すような、複数の発光ダイオードAが得られる。
なお、ダイシング工程において第2の積層体30を切断し、複数のダイオードAを得る方法としては、上記したレーザスクライブ法の他、例えば、第2の積層体30に備えられる無電解メッキ層2の他面2b側を、CMP(Chemical Mechanical Polishing)等の方法で研磨することにより、第2の積層体30の分断溝11cに対応する位置を除去し、複数の発光ダイオードAに分割する方法と用いることも可能である。
以上説明したように、本実施形態の発光ダイオードAの製造方法によれば、上記構成の如く、サファイア基板21上に化合物半導体層11及び第1の接合層4が形成されてなる第1の積層体20と、Mo基板1の表面1a全体に無電解メッキ層2が形成され、この無電解メッキ層2の一面2a側に第2の接合層3が形成されてなる第2の積層体30とを一体に形成した後、サファイア基板21を化合物半導体層11から剥離する方法なので、製造工程において化合物半導体層11にクラック等の損傷が生じるのを防止することができ、また、製造工程における歩留まりを向上させることができる。従って、素子特性に優れた上下電極構造の発光ダイオードAを、高い製造効率で製造することが可能となる。
また、本実施形態の発光ダイオードAの製造方法によれば、第1の接合層4を、反射性p型電極層5上に、Ni層4b及びAu層4aを順次積層して形成し、第2の接合層3を、無電解メッキ層2の一面2a側に、Pt層3a及びAuSn層3bを順次積層して形成し、Au層4aとAuSn層3bとをAuSn共晶接合によって接合する方法なので、第1の接合層4と第2の接合層3との間をオーミック接触させることができる。これにより、発光効率に優れた発光ダイオードAを製造することが可能となる。
また、本実施形態の発光ダイオードAの製造方法によれば、サファイア基板21上に化合物半導体層11及び第1の接合層4が形成されてなる第1の積層体20と、Mo基板1の表面1a全体に無電解メッキ層2が形成され、この無電解メッキ層2の一面2a側に第2の接合層3が形成されてなる第2の積層体30とを一体に形成した後、サファイア基板21を除去することによって、n型電極層9及び反射性p型電極層5によってp型半導体層6、発光層7及びn型半導体層8の各層が挟まれた所謂上下電極構造の発光ダイオードAを形成することができる。このようにして得られた発光ダイオードAは、金属MoからなるMo基板1を備えてなるので、発光に伴って発生した熱を容易に放熱させることができる。
[ランプ]
以上説明したような、本発明に係る発光ダイオードの製造方法によって得られる、図1に示すような上下電極型の発光ダイオードAと蛍光体とを組み合わせることにより、当業者周知の手段を用いてランプを構成することができる。従来より、発光素子と蛍光体と組み合わせることによって発光色を変える技術が知られており、本発明では、このような技術を何ら制限されることなく採用することが可能である。
例えば、蛍光体を適正に選定することにより、発光素子より長波長の発光を得ることも可能となり、また、発光素子自体の発光波長と蛍光体によって変換された波長とを混ぜることにより、白色発光を呈するランプとすることもできる。
また、ランプとしては、一般用途の砲弾型、携帯のバックライト用途のサイドビュー型、表示器に用いられるトップビュー型等、何れの用途にも用いることができる。
以上説明したような、本発明に係る発光ダイオードの製造方法によって得られる、図1に示すような上下電極型の発光ダイオードAと蛍光体とを組み合わせることにより、当業者周知の手段を用いてランプを構成することができる。従来より、発光素子と蛍光体と組み合わせることによって発光色を変える技術が知られており、本発明では、このような技術を何ら制限されることなく採用することが可能である。
例えば、蛍光体を適正に選定することにより、発光素子より長波長の発光を得ることも可能となり、また、発光素子自体の発光波長と蛍光体によって変換された波長とを混ぜることにより、白色発光を呈するランプとすることもできる。
また、ランプとしては、一般用途の砲弾型、携帯のバックライト用途のサイドビュー型、表示器に用いられるトップビュー型等、何れの用途にも用いることができる。
例えば、図11に示す例のように、上下電極型の発光ダイオードAを砲弾型に実装する場合には、まず、2本のフレームの内の一方(図11ではフレーム81)に発光ダイオードAを銀ペーストなどの導電性接着材で接着して、Mo基板1の表面1aに形成された無電解メッキ層2の他面2b側(図1を参照)をフレーム81に接合する。また、発光ダイオードAのn型電極層9(図1を参照)を、ワイヤー83でフレーム82に接合する。そして、透明な樹脂からなるモールド84で発光ダイオードAの周辺をモールドすることにより、図11に示すような砲弾型のランプ80を作製することができる。
上述のような本発明のランプ80は、本発明に係る発光ダイオードの製造方法によって得られる発光ダイオードAが用いられてなるものなので、発光特性等に優れたものとなる。
上述のような本発明のランプ80は、本発明に係る発光ダイオードの製造方法によって得られる発光ダイオードAが用いられてなるものなので、発光特性等に優れたものとなる。
1…Mo基板(第2の基板)、1a…表面、1b…上面、1c…下面、2…無電解メッキ層、2a…一面、2b…他面、21…サファイア基板(第1の基板)、3…第2の接合層、3a…Pt層、3b…AuSn層、4…第1の接合層、4a…Au層、4b…Ni層、5…反射性p型電極層、6…p型半導体層、7…発光層、8…n型半導体層、9…n型電極層、10…保護用の絶縁膜、11…化合物半導体層、11a…光取出面、11b…側面(周囲面)、11c…分断溝、24…仮貼付基板、A…発光ダイオード
Claims (9)
- 第1の基板上に、n型半導体層、発光層、p型半導体層及び反射性p型電極層を順次積層して複数の化合物半導体層を形成し、該複数の化合物半導体層の各々の上に第1の接合層を積層して第1の積層体を形成する第1積層工程と、
第2の基板の表面全体に無電解メッキ層を形成し、さらに、前記第2の基板の表面に形成された無電解メッキ層の内の一面側に第2の接合層を積層して第2の積層体を形成する第2積層工程と、
前記第1の接合層と前記第2の接合層とを接合することにより、前記第1の積層体と前記第2の積層体とを接合した後、前記第2の基板の表面に形成された無電解メッキ層の内の他面側に仮貼付基板を貼り付ける接合工程と、
前記第1の基板を前記複数の化合物半導体層から剥離して、前記複数の化合物半導体層に備えられる前記n型半導体層の光取出面を露出させる除去工程と、
前記複数の化合物半導体層に備えられるn型半導体層上にn型電極層を形成する電極形成工程と、
前記仮貼付基板を前記第2の基板から剥離する仮貼付基板除去工程と、
前記複数の化合物半導体層の各々の間に形成される分断溝に沿って、前記第2の積層体を切断するダイシング工程と、を具備してなり、
前記第1の基板及び第2の基板が、ともに、熱膨張係数が5×10−6/℃〜8×10−6/℃の範囲の材料からなることを特徴とする発光ダイオードの製造方法。 - 前記第1の基板がサファイアからなり、前記第2の基板がモリブデン材料からなることを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記第1積層工程は、前記第1の接合層を、前記反射性p型電極層上に、Ni層及びAu層を順次積層して形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記第2積層工程は、前記第2の接合層を、前記無電解メッキ層上に、Pt層及びAuSn層を順次積層して形成することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記第2積層工程は、前記無電解メッキ層をNiPによって形成することを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記除去工程と前記電極形成工程との間において、前記複数の化合物半導体層の周囲面に、保護用の絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程を設けることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 前記絶縁膜形成工程と前記電極形成工程との間において、前記n型半導体層の前記光取出面を粗面化する粗面化工程を設けることを特徴とする請求項6に記載の発光ダイオードの製造方法。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の製造方法で得られる発光ダイオード。
- 請求項8に記載の発光ダイオードが用いられてなるランプ。
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