JP2009099359A - 表面処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】噴出口と吸引口の端部どうし間の流体の流れ制御を容易化する。
【解決手段】被処理物Ｗの配置部１０上に第１方向へ相対移動可能なノズル部２０を配置する。ノズル部２０には、第１方向と交差する第２方向に延在する噴出口２４と吸引口２５を互いに第１方向に離して形成する。噴出口２４から処理流体を噴き出し、吸引口１５から吸引する。ノズル部２０の第２方向の端部には、吸引口２５の端部を噴出口２４の端部に対し第２方向に相対位置調節する口端位置調節手段３０を設ける。口端位置調節手段３０の口端画成部３１によって、吸引口２５の第２方向の端部を画成する。
【選択図】図１

Description

この発明は、処理流体を被処理物に噴き付けて表面処理を行なう装置に関する。

例えば、特許文献１には、表面処理装置の一例として所謂リモート式の大気圧プラズマ処理装置が記載されている。大気圧プラズマ処理装置のステージの上面に被処理物が配置され、この被処理物の上方に処理ヘッドが設けられている。処理ヘッドは、ステージひいては被処理物に対し一方向に移動可能になっている。処理ヘッドの底面には、上記移動方向と直交する方向にそれぞれ延びる噴出口と吸引口が上記移動方向に離れて平行に設けられている。プラズマ化された処理ガスが、噴出口から噴き出される。これにより、被処理物の表面処理が行なわれる。処理済みのガスは、吸引口に吸い込まれ、排出される。
特開２００３−１７３８９９号公報

上記処理ヘッドとステージ上の被処理物との間における、上記噴出口と吸引口との長手方向の中間部分どうし間では、処理流体が噴出口から吸引口に向かって一様に流れるようにすることができる。一方、噴出口と吸引口の長手方向の端部どうし間では、処理流体が外部に漏れたり外部から雰囲気ガスが入り込んで来たりしやすく、流体の流れを制御するのが容易でない。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、処理流体を被処理物に噴き付けて表面処理を行なう装置であって、
被処理物の配置部と、前記配置部と対向されるとともに配置部に対し前記対向方向と交差する第１方向に相対移動可能なノズル部とを備え、
前記ノズル部には、前記処理流体を噴き出す噴出口と、流体を吸引する吸引口とが、それぞれ前記第１方向と交差する第２方向に延在されるとともに互いに前記第１方向に離れて設けられ、さらに、前記吸引口の第２方向の端部を前記噴出口の第２方向の端部に対し第２方向に相対位置調節する口端位置調節手段が設けられていることを特徴とする。
これにより、吸引口と噴出口との特に端部どうし間の流体の流れ制御を容易化することができる。

前記口端位置調節手段が、前記吸引口の第２方向の端部又は前記噴出口の第２方向の端部を画成するようにして、前記ノズル部の前記配置部を向く面に前記第２方向に位置調節可能に設けられた口端画成部を含むことが好ましい。
これによって、吸引口の第２方向の端部と噴出口の第２方向の端部とを第２方向に確実に相対位置調節できる。

前記ノズル部には、第２方向に延びるとともに前記配置部を向く面に開口されたスリットが形成され、このスリットの前記開口によって前記吸引口又は噴出口が構成されていてもよい。開口が噴出口を構成するスリットは、前記処理流体を噴出口へ導く噴出路を構成する。開口が吸引口を構成するスリットは、吸引口からの流体を吸引手段に導く吸引路を構成する。この場合、前記口端位置調節手段が、前記スリットの第２方向の端部の内部に第２方向にスライド可能に設けられた端閉止部を含むことが好ましい。
これによって、吸引口又は噴出口だけでなく、その奥側の噴出路又は吸引路の第２方向の長さをも調節することができ、吸引口と噴出口との端部どうし間の流体の流れ制御を一層容易化することができる。

前記ノズル部と配置部との間であって前記噴出口と吸引口との間に画成された流体流通空間の第２方向の外側には、該流体流通空間より流通抵抗を大きくする流通抵抗部が設けられていることが好ましい。
これにより、前記流体流通空間の第２方向の端部どうし間から処理流体が外部に漏れ出たり、外部の雰囲気ガスが流入したりするのを抑制ないし防止できる。
この流通抵抗部における前記噴出口側の部分によって前記噴出口の第２方向の端部が画成されていてもよい。前記流通抵抗部における前記吸引口側の部分によって前記吸引口の第２方向の端部が画成されているのが好ましい。さらに、前記吸引口側部分が、前記噴出口側部分に対し第２方向に相対位置調節可能になっていることが好ましい。
これにより、前記流通抵抗部が、口端位置調節手段を兼ねるようにすることができる。

前記吸引口の第２方向の端部が、前記噴出口より第２方向に延出されているのが好ましく、この延出された範囲で相対位置調節されるのが好ましい。
これによって、前記流体流通空間の第２方向の端部どうし間から処理流体が外部に漏れ出るのをより確実に抑制ないし防止できるとともに、外部の雰囲気ガスが流入した場合、その流入ガスが主に吸引口の延出部分に吸い込まれるようにすることができる。
前記処理流体の略全量が前記吸引口における前記噴出口と第１方向に重なる部分に吸引され、外部から前記噴出口と前記吸引口の第２方向の端部どうし間に流入したガスの略全量が、前記吸引口の前記延出部分に吸引されるように、前記吸引口の前記噴出口からの第２方向への延出長さを設定することが好ましい。
これによって、噴出口の第２方向の中央部分から噴出された処理流体は勿論、噴出口の第２方向の端部から噴出された処理流体についても第１方向にほぼ沿って吸引口へ向かって流れるようにでき、被処理物の第２方向の端部についても中央部分とほぼ同程度に表面処理することができ、表面処理の均一性を確保することができる。

本発明によれば、吸引口の端部を噴出口の端部に対し延在方向に相対位置調節でき、これら噴出口と吸引口の特に端部どうし間の流体の流れ制御を容易化することができる。

以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１〜図４は、本発明の第１実施形態を示したものである。図１〜図３に示すように、表面処理装置１は、ステージ１０（配置部）と、このステージ１０の上方に配置されたノズルヘッド２０（ノズル部）とを備えている。ステージ１０は、移動手段（図示省略）によってノズルヘッド２０に対し互いの対向方向（上下方向）と直交（交差）する第１方向（図１及び図２において紙面直交方向、図３において左右方向）に移動されるようになっている。
移動手段がステージ１０に代えてノズルヘッド２０に接続され、ステージ１０が位置固定されるとともにノズルヘッド２０が第１方向に移動されるようになっていてもよい。

ステージ１０の上面に被処理物Ｗが配置されている。被処理物Ｗは、例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用のガラス基板である。被処理物Ｗの上記移動方向（第１方向）と直交する第２方向（図１及び図２において左右方向）の寸法は、例えば２ｍ程度になっている。

ステージ１０の周縁部（第１方向の両端部及び第２方向の両側部）には、被処理物と同じ厚さのダミープレート１１が設けられ、その端面が被処理物Ｗの端面に突き当てられている。ダミープレート１１の上面は、ステージ１０上の被処理物Ｗと面一になっている。

図３に示すように、ノズルヘッド２０は、ノズルボディ２１と、流通抵抗板４０とを備えている。

図１〜図３に示すように、ノズルボディ２１は、第２方向に延びる長尺の直方体形状をなしている。ノズルボディ２１とステージ１０上の被処理物Ｗとの間には、流体流通ギャップ５０が画成されている。流体流通ギャップ５０の厚さは、例えば２ｍｍ程度になっている。
図において、流体流通ギャップ５０の厚さは誇張されている。

ノズルボディ２１の内部には、３つのチューブ２２，２３，２３が設けられている。チューブ２２，２３，２３は、例えばテフロン（登録商標）で構成されている。３つのチューブ２２，２３，２３は、それぞれ第２方向に延びるとともに、互いに第１方向に並べられている。チューブ２２，２３，２３の内直径は、例えば２０数ｍｍになっており、肉厚は、例えば１．数ｍｍになっている。

中央のチューブ２２の内部は、供給ヘッダ路２２ａを構成している。ヘッダ路２２ａの両端には、処理流体供給路２Ａから処理目的に応じた成分を含む処理ガス（ガス状の処理流体）が導入されるようになっている。大気圧プラズマ生成部（不図示）を用意し、この大気圧プラズマ生成部で処理ガスをプラズマ化したうえでヘッダ路２２ａに導入するようにしてもよく、ノズルヘッド２０に大気圧プラズマ生成部を組み込み、ノズルヘッド２０内で処理ガスをプラズマ化することにしてもよい。

チューブ２２の底側の周壁には、厚さ方向に貫通する小孔２２ｂが長手方向（第２方向）に等間隔置きに多数形成されている。各小孔２２ｂの直径は、例えば１ｍｍ程度になっており、小孔２２ｂの配置間隔は、例えば１０ｍｍ程度になっている。

図１及び図３に示すように、ノズルボディ２１の第１方向の中央部におけるチューブ２２より下側の部分には、噴出スリット２１ａが設けられている。噴出スリット２１ａは、内部流路方向を上下に向けて第２方向に長く延びている。噴出スリット２１ａの上端部は、各小孔２２ｂに連なり、下端部は、ノズルボディ２１の底面に達して開口されている。この噴出スリット２１ａの下端開口が、ノズルヘッド２０の噴出口２４を構成している。噴出口２４は第２方向に連続的に延在されている。噴出スリット２１ａの厚さ（第１方向の寸法）は、例えば１ｍｍ程度になっており、上下方向の寸法は、例えば３０ｍｍ程度になっている。噴出スリット２１ａ及び噴出口２４の第２方向の長さＬ０は、被処理物Ｗの第２方向の長さ（例えば約２ｍ）と略同じかそれより若干大きくなっている。

ノズルボディ２１の両側のチューブ２３，２３の内部は、吸引ヘッダ路２３ａ，２３ａを構成している。各ヘッダ路２３ａの両端には、吸引路２Ｂを介して吸引ポンプ等からなる吸引手段（図示省略）が連ねられている。チューブ２３の底部には、厚さ方向に貫通する小孔２３ｂが長手方向（第２方向）に等間隔置きに多数形成されている。各小孔２３ｂの直径は、例えば１ｍｍ程度になっており、小孔２３ｂの配置間隔は、例えば１０ｍｍ程度になっている。

各チューブ２３より下側のノズルボディ２１の部分には、吸引スリット２１ｂが設けられている。吸引スリット２１ｂは、内部流路方向を上下に向けて第２方向に長く延びている。吸引スリット２１ｂの上端部は、各小孔２３ｂに連なり、下端部は、ノズルボディ２１の底面に達して開口されている。この吸引スリット２１ｂの下端開口が、ノズルヘッド２０の吸引口２５を構成している。吸引口２５は第２方向に連続的に延在されている。吸引スリット２１ｂの厚さ（第１方向の寸法）は、例えば１ｍｍ程度になっており、上下方向の寸法は、例えば３０ｍｍ程度になっている。

噴出口２４と吸引口２５は第１方向に離れ、互いに平行になっている。噴出口２４と吸引口２５の第１方向の間隔は、例えば５０ｍｍ程度になっている。

図１及び図４に示すように、ノズルボディ２１の第２方向の両端部には、口端位置調節手段３０が設けられている。口端位置調節手段３０は、ノズルボディ２１の底面（配置部１０を向く面）に形成されたスライド溝２６と、このスライド溝２６に嵌め込まれた口端画成部材３１（口端画成部）とを含んでいる。スライド溝２６は、吸引口２５の端部から第２方向の外側に延長されている。

口端画成部材３１は、長手方向を第２方向に向けた長方形の平板状のベース部３２と、このベース部３２の第２方向の内側部分から上に突出するように設けられた端閉止部３３とを一体に有している。ベース部３２が、スライド溝２６に第２方向へ位置調節可能に収容されている。ベース部３２の底面は、ノズルボディ２１の底面と面一になっている。ベース部３２の第２方向の内側の端面は、吸引スリット２１ｂの第２方向の端部より内側に突出され、吸引口２５の第２方向の端部を画成している。

端閉止部３３は、吸引スリット２１ｂの第２方向の端部の内部に差し入れられ、ベース部３２と一体に第２方向へスライド可能になっている。端閉止部３３の第２方向の内側の端面によって、吸引スリット２１ｂの内部空間におけるガス吸引可能な部分の第２方向の端部が画成されている。

図４に示すように、吸引スリット２１ｂひいては吸引口２５の両端部が、それぞれ噴出スリット２１ａひいては噴出口２４より第２方向の外側に延び出ており、吸引口２５の長さＬ１（図１）は、噴出スリット２１ａ及び噴出口２４の長さＬ０（図２）より大きい。
以下、吸引口２５において、噴出口２４と第１方向に重なる部分を主吸引部分２５ａと称し、噴出口２４より第２方向に延び出た部分を延出部分２５ｂと称す。また、流体流通ギャップ５０のうち、噴出口２４と第１方向に重なる領域を処理ギャップ５１と称し、噴出口２４の第２方向の端部と吸引口２５の第２方向の端部との間の領域を端流通ギャップ５２と称する。さらに、吸引口２５の第２方向の端部からノズルボディ２１の第２方向の端部までの間の領域を外端ギャップ５３と称する。

流通抵抗板４０は、ノズルボディ２１の底部から第１方向の外側へ大きく延び出ている。吸引口２１から流通抵抗板４０の第１方向の端部までの距離は、吸引口２１の第２方向の端部からノズルボディ２１の第２方向の端縁までの距離より十分に大きく、例えば５００ｍｍ程度になっている。第２流通抵抗板４０とダミープレート１１及び被処理物Ｗとの間には、流通抵抗ギャップ５４が形成されている。流通抵抗ギャップ５４内の流体の流通抵抗は、ギャップ５０（５１〜５３）内の流体の流通抵抗より十分に大きい。

上記構成において、処理ガスが、供給路２Ａからヘッダ路２２ａの両端部に導入される。処理ガスの供給流量Ｑ０は、全体で例えばＱ０＝１２０Ｌ／ｍｉｎ程度であり、その半分ずつ（例えば６０Ｌ／ｍｉｎ）がヘッダ路２２ａの各端部に導入される。この処理ガスは、ヘッダ路２２ａ内を進みながら順次小孔２２ｂを通って噴出スリット２１ａに導出され、この噴出スリット２１ａの下端の噴出口２４から処理ギャップ５１内に噴き出される。ヘッダ路２２ａ及び小孔２２ｂの均一化作用によって、噴出口２４の第２方向の単位長さ当たりの噴出流量をほぼ均一にすることができる。この処理ガスが被処理物Ｗの表面に接触し、表面処理がなされる。

処理ガスは、噴出口２４の直下でほぼ半分ずつに分かれ、それぞれ第１方向の一端側と他端側に向かって処理ギャップ５１内を流れる。そして、処理済みの流体が、吸引口２５に吸込まれ、吸引スリット２１ｂから小孔２３ｂを通ってヘッダ路２３ａに入り、ヘッダ路２３ａの両端部から排出されて、吸引手段へ送られる。ヘッダ路２３ａ及び小孔２３ｂの均一化作用によって、吸引口２５の第２方向に沿う単位長さ当たりの吸引流量をほぼ均一にすることができる。
併行して、ステージ１０が第１方向に相対移動される。これにより、被処理物Ｗの全面を処理することができる。ノズルヘッド２０とステージ１０とが非接触になっているため、ステージ１０の移動によって摺擦が起きることがない。これによって、パーティクルの発生を防止することができる。

噴出口２４を挟んで両側の吸引口２５からの吸引流量ｑ１は、互いに等しく、かつ、噴出口２４からの処理ガス噴出流量Ｑ０の半分ｑ０（＝Ｑ０／２）より大きくなるように設定される。したがって、流体流通ギャップ５０内が、外部雰囲気より低圧になる。これにより、処理ガスがギャップ５３,５４を経て外部に漏れ出るのを確実に防止することができる。
流体流通ギャップ５０内の外部雰囲気（大気圧）に対する圧力差は、例えば−１０Ｐａ程度が好ましい。

この圧力差によって外部雰囲気ガスがギャップ５３,５４を経て流体流通ギャップ５０内に流入しようとする。一方、流通抵抗ギャップ５４内は、外端ギャップ５３より流通抵抗が十分に大きいため、流入ガスのほとんどは外端ギャップ５３から流入したものになり、流通抵抗ギャップ５４からの流入ガスはほぼ無視できる。
ここで、口端画成部材３１の第２方向の位置を噴出口２４より第２方向の外側の範囲内で調節することにより、次の関係式がほぼ満たされるように各吸引口２５の長さＬ１（ひいては延出部分２５ｂの長さＬ２）を設定しておく。
Ｌ１＝（ｑ１／ｑ０）×Ｌ０ 式（１）
これによって、各吸引口２５の主吸引部分２５ａにおける吸引流量が、噴出流量の２分の１の大きさｑ０とほぼ等しくなる。したがって、図４において白抜き矢印に示すように、処理ガスｇ０は、処理ギャップ５１内の中央側だけでなく第２方向の端側においても、第１方向に沿ってほぼ真っ直ぐ流れ、吸引口２５の主吸引部分２５ａに吸い込まれるようにすることができる。
一方、図４において太線矢印に示すように、外部から流入ガスｇ１は、外端ギャップ５３を経て端流通ギャップ５２内に入ると、第１方向の外側に向きを変え、そのほぼ全量が吸引口２５の延出部分２５ｂに吸い込まれるようにすることができる。

したがって、処理ガスｇ０が第２方向の外側へ拡がって延出部分２５ｂに吸込まれるのを防止できるとともに、外部流入ガスｇ１が第２方向の内側へ入り込んで主吸引部分２５ａに吸込まれるのを防止することができる。よって、被処理物Ｗの第２方向の端部を中央部と同程度に処理することができる。この結果、被処理物Ｗの全体を均一に表面処理することができる。
吸引口２５の端部を噴出口２４の端部に対し相対位置調節できるため、これら噴出口２４と吸引口２５の端部どうし間の流体の流れ制御を容易化することができる。

次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
図５及び図６は、本発明の第２実施形態を示したものである。この実施形態では、ノズルボディ２１の底面の第２方向の両端部（一端部のみ図示）に口端位置調節手段６０が設けられている。口端位置調節手段６０は、円形の回転盤６１と、一対の円弧状の可動板６２（口端画成部）とを有し、ノズルボディ２１の底面から下に突出されている。
なお、流通抵抗板４０もノズルボディ２１の底面から下に突出されている。流通抵抗板４０の下面と口端位置調節手段６０の回転盤６１及び可動板６２の下面とは略面一になっている。

図示は省略するが、口端位置調節手段６０とその下方のダミープレート１１（図１参照）との間に外端ギャップ５３（第１流通抵抗ギャップ）が形成されている。このギャップ５３は、ノズルボディ２１の底面からの口端位置調節手段６０の下方への突出分だけ第１実施形態のものより小さくなり、流通抵抗が大きくなっている。口端位置調節手段６０は、第１の流通抵抗部を構成している。
また、流通抵抗板４０とダミープレート１１及び被処理物Ｗとの間の第２流通抵抗ギャップ５４は、流通抵抗板４０の下方への突出分だけ第１実施形態のものより小さくなり、流通抵抗がより大きくなっている。

回転盤６１（口端位置調節手段６０の噴出口側部分）は、噴出口２４の第２方向の外側において、噴出口２４の端部にほぼ接するように配置されている。

回転盤６１の第１方向の両側部に可動板６２が取り付けられている。図６において、実線と二点鎖線と三点鎖線に示すように、可動板６２は、ノズルボディ２１の噴出スリット２１ａに沿う中心軸線に関して対称の関係を維持しながら回転盤６１のまわりに角度調節可能になっている。

吸引スリット２１ｂの端側の下端が、可動板６２の先端側部分（回転盤６１から遠い側の部分、吸引側部分６２ａ）によって塞がれている。可動板６２の内端縁６２ｂによって、吸引口２５の端部が画成されている。

可動板６２を角度調節することによって、可動板６２の内端縁６２ｂが第２方向に進退される。これにより、吸引口２５の端部が第２方向に変位され、延出部分２５ｂの長さが伸縮されるようになっている。

図６に示すように、可動板６２の上面には、平板状の端閉止部材６３（端閉止部）が取り付けられている。端閉止部材６３は、吸引スリット２１ｂの第２方向の端部に差し入れられている。端閉止部材６３の第２方向の内側を向く端面は、可動板６２の内端縁６２ｂとほぼ面一になっている。この端閉止部材６３の端面によって、吸引スリット２１ｂの内部空間におけるガス吸引可能な部分の第２方向の端部が画成されている。端閉止部材６３は、可動板６２の回転に伴なって第２方向に進退されるとともに、常に第２方向に向くように可動板６２に対し鉛直な軸線の周りに回転可能になっている。

いま、処理ギャップ５１の大気圧に対する圧力差を負圧側に大きくしたとする。この負圧度の増大分だけ外部雰囲気ガスの外端ギャップ５３への流入量が増加する。この場合、可動板６２を第２方向の外側へ向けて回転変位させる。したがって、吸引口２５の端部が第２方向の外側にずれ、延出部分２５ｂの長さが大きくなる。これにより、外部からの流入ガスが増加しても、その全量が吸引口２５の延出部分２５ｂから確実に吸い込まれるようにでき、流入ガスが被処理物Ｗ上の処理ギャップ５１にまで流れ込むのを防止することができる。

反対に、処理ギャップ５１の大気圧に対する圧力差（負圧度）を小さくしたとする。すると、外部雰囲気ガスの外端ギャップ５３への流入量が減少する。この場合、可動板６２を第２方向の内側へ向けて回転変位させる。したがって、吸引口２５の端部が第２方向の内側にずれ、延出部分２５ｂの長さが縮小される。これにより、処理ガスが、外部からの流入ガスの減少分だけ処理ギャップ５１から第２方向の外側に拡がるのを防止できる。
よって、吸引口２５の主吸引部分２５ａには確実に処理ガスだけが吸い込まれ、延出部分２５ｂには確実に流入ガスだけが吸込まれるようにすることができる。この結果、被処理物Ｗの表面処理の均一性を一層確実に確保することができる。

さらに、可動板６２の回転に追随して、端閉止部材６３が第２方向にスライドされる。これにより、吸引スリット２１ｂの内部空間の第２方向の端部が、吸引口２５の端部とほぼ面一の状態を維持しながら第２方向に変位される。したがって、吸引口２５から入ったガスが、吸引スリット２１ｂの内部で第２方向に広がるのを防止することができる。

本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、当業者に自明な範囲で適宜改変することができる。
例えば、口端位置調節手段は、吸引口２５の第２方向の端部を噴出口２４の第２方向の端部に対し第２方向に相対位置調節するものであればよく、吸引口２５の端部を位置固定する一方、噴出口２４の端部を第２方向に位置調節可能にしてもよく、吸引口２５の端部と噴出口２４の端部を共に第２方向に位置調節可能にしてもよい。
処理ギャップ５１内の圧力（外部との圧力差でも可）をセンサで検出し、その検出圧力に応じて吸引口２５と噴出口２４の第２方向の端部の相対位置調節を行なうことにしてもよい。
噴出口２４は、第２方向に並べられた小孔の列で構成され、断続的に延在されていてもよい。同様に、吸引口２５は、第２方向に並べられた小孔の列で構成され、第２方向に断続的に延在されていてもよい。
ノズルボディ２１の底面の第２方向の両端部に下方へ突出する第１流通抵抗部を設け、或いはステージ１０の第２方向の両側部のダミープレート１１に上方へ突出する第１流通抵抗部を設け、或いはノズルボディ２１とダミープレート１１の両方に互いに対向するように第１流通抵抗部を設け、これにより外端ギャップ５３を狭くして流通抵抗を大きくすることにしてもよい。この第１流通抵抗部は、底面視ないしは平面視で四角形の凸面状であってもよく、第１方向に延びる凸条と凹条が第２方向に交互に並んだ櫛歯状であってもよい。ノズルボディ２１とダミープレート１１の両方に上記櫛歯状の第１流通抵抗部を設けるとともに、相互に噛み合うようにさせ、ラビリンスシールを構成するようにしてもよい。
第１実施形態においては、ノズルボディ２１と第２流通抵抗板４０とが別々の部材で構成されていたが、共通の部材で構成されて一体になっていてもよい。
本発明は、表面改質、エッチング、成膜などの種々の表面処理に適用可能である。
処理流体は、ガス状に限られず、液体（霧状を含む）でもよい。

本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板の表面処理に適用可能である。

本発明の第１実施形態に係る表面処理装置を示し、図３のＩ−Ｉ線に沿う断面図である。 上記表面処理装置を図３のII−II線に沿って示す断面図である。 上記表面処理装置を図１のIII−III線に沿って示す断面図である。 図１のIV−IV線に沿う上記表面処理装置のノズルヘッドの底面図である。 本発明の第２実施形態に係る表面処理装置のノズルヘッドを示す底面図である。 上記第２実施形態のノズルヘッドの斜視図である。

符号の説明

１ 表面処理装置
２Ａ 処理流体供給路
２Ｂ 吸引路
１０ ステージ（配置部）
１１ｅ 流通抵抗部
２０ ノズルヘッド（ノズル部）
２１ ノズルボディ
２１ａ 噴出スリット
２１ｂ 吸引スリット
２２ 中央チューブ
２２ａ ヘッダ路
２２ｂ 小孔
２３ 端チューブ
２３ａ ヘッダ路
２３ｂ 小孔
２４ 噴出口
２５ 吸引口
２５ａ 主吸引部分
２５ｂ 延出部分
３０ スライド式口端位置調節手段
３１ 口端画成部材（口端画成部）
３２ ベース部
３３ 端閉止部
４０ 第２流通抵抗板（他の流通抵抗部）
５０ 流体流通ギャップ（流体流通空間）
５１ 処理ギャップ
５２ 端流通ギャップ
５３ 流通抵抗ギャップ
５４ 外端ギャップ
６０ 角度調節式口端位置調節手段（流通抵抗部）
６１ 回転盤（噴出口側部分）
６２ 可動板（口端画成部）
６２ａ 吸引口側部分
６２ｂ 内端縁
６３ 端閉止部材（端閉止部）
ｇ０ 処理ガス（処理流体）の流れ
ｇ１ 外部からの流入ガスの流れ
Ｗ 被処理物

Claims (5)

1. 処理流体を被処理物に噴き付けて表面処理を行なう装置であって、
   被処理物の配置部と、前記配置部と対向されるとともに配置部に対し前記対向方向と交差する第１方向に相対移動可能なノズル部とを備え、
   前記ノズル部には、前記処理流体を噴き出す噴出口と、流体を吸引する吸引口とが、それぞれ前記第１方向と交差する第２方向に延在されるとともに互いに前記第１方向に離れて設けられ、さらに、前記吸引口の第２方向の端部を前記噴出口の第２方向の端部に対し第２方向に相対位置調節する口端位置調節手段が設けられていることを特徴とする表面処理装置。
2. 前記口端位置調節手段が、前記吸引口の第２方向の端部又は前記噴出口の第２方向の端部を画成するようにして、前記ノズル部の前記配置部を向く面に前記第２方向に位置調節可能に設けられた口端画成部を含むことを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
3. 前記ノズル部には、第２方向に延びるとともに前記配置部を向く面に開口されたスリットが形成され、このスリットの前記開口によって前記吸引口又は噴出口が構成されており、
   前記口端位置調節手段が、前記スリットの第２方向の端部の内部に第２方向にスライド可能に設けられた端閉止部を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表面処理装置。
4. 前記ノズル部と配置部との間であって前記噴出口と吸引口との間に画成された流体流通空間の第２方向の外側には、該流体流通空間より流通抵抗を大きくする流通抵抗部が設けられ、
   前記流通抵抗部における前記吸引口側の部分によって前記吸引口の第２方向の端部が画成され、この吸引口側部分が、前記流通抵抗部における前記噴出口側の部分に対し第２方向に相対位置調節可能になっていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
5. 前記吸引口の第２方向の端部が、前記噴出口より第２方向に延出された範囲で相対位置調節され、
   前記処理流体の略全量が前記吸引口における前記噴出口と第１方向に重なる部分に吸引され、外部から前記噴出口と前記吸引口の第２方向の端部どうし間に流入したガスの略全量が、前記吸引口の前記延出部分に吸引されるように、前記吸引口の前記噴出口からの第２方向への延出長さが設定されることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の表面処理装置。

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