JP2009093138A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009093138A5
JP2009093138A5 JP2008041489A JP2008041489A JP2009093138A5 JP 2009093138 A5 JP2009093138 A5 JP 2009093138A5 JP 2008041489 A JP2008041489 A JP 2008041489A JP 2008041489 A JP2008041489 A JP 2008041489A JP 2009093138 A5 JP2009093138 A5 JP 2009093138A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
aerial image
optical system
original
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008041489A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2009093138A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008041489A priority Critical patent/JP2009093138A/ja
Priority claimed from JP2008041489A external-priority patent/JP2009093138A/ja
Priority to TW097133456A priority patent/TWI371701B/zh
Priority to DE602008005223T priority patent/DE602008005223D1/de
Priority to EP08163469A priority patent/EP2040120B1/en
Priority to KR1020080089643A priority patent/KR101001219B1/ko
Priority to US12/210,547 priority patent/US8144967B2/en
Publication of JP2009093138A publication Critical patent/JP2009093138A/ja
Publication of JP2009093138A5 publication Critical patent/JP2009093138A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2008041489A 2007-09-19 2008-02-22 原版データの生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及び原版データを作成するためのプログラム Pending JP2009093138A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008041489A JP2009093138A (ja) 2007-09-19 2008-02-22 原版データの生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及び原版データを作成するためのプログラム
TW097133456A TWI371701B (en) 2007-09-19 2008-09-01 Mask data generation method, mask fabrication method, exposure method, device fabrication method, and storage medium
DE602008005223T DE602008005223D1 (de) 2007-09-19 2008-09-02 Maskendatenerzeugungsverfahren, Maskenherstellungsverfahren, Belichtungsverfahren, Vorrichtungsherstellungsverfahren und Programm
EP08163469A EP2040120B1 (en) 2007-09-19 2008-09-02 Mask data generation method, mask fabrication method, exposure method, device fabrication method, and program
KR1020080089643A KR101001219B1 (ko) 2007-09-19 2008-09-11 마스크 데이터의 생성방법, 마스크 제작방법, 노광방법, 디바이스 제조방법 및 기억매체
US12/210,547 US8144967B2 (en) 2007-09-19 2008-09-15 Mask data generation method, mask fabrication method, exposure method, device fabrication method, and storage medium

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007242911 2007-09-19
JP2008041489A JP2009093138A (ja) 2007-09-19 2008-02-22 原版データの生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及び原版データを作成するためのプログラム

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012186358A Division JP5188644B2 (ja) 2007-09-19 2012-08-27 原版データの生成方法、原版作成方法、原版データを作成するためのプログラム及び処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009093138A JP2009093138A (ja) 2009-04-30
JP2009093138A5 true JP2009093138A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2011-04-07

Family

ID=40665153

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008041489A Pending JP2009093138A (ja) 2007-09-19 2008-02-22 原版データの生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及び原版データを作成するためのプログラム
JP2012186358A Active JP5188644B2 (ja) 2007-09-19 2012-08-27 原版データの生成方法、原版作成方法、原版データを作成するためのプログラム及び処理装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012186358A Active JP5188644B2 (ja) 2007-09-19 2012-08-27 原版データの生成方法、原版作成方法、原版データを作成するためのプログラム及び処理装置

Country Status (4)

Country Link
JP (2) JP2009093138A (enrdf_load_stackoverflow)
KR (1) KR101001219B1 (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE602008005223D1 (enrdf_load_stackoverflow)
TW (1) TWI371701B (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5665398B2 (ja) * 2009-08-10 2015-02-04 キヤノン株式会社 生成方法、作成方法、露光方法、デバイスの製造方法及びプログラム
JP5279745B2 (ja) * 2010-02-24 2013-09-04 株式会社東芝 マスクレイアウト作成方法、マスクレイアウト作成装置、リソグラフィ用マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、およびコンピュータが実行可能なプログラム
JP5603685B2 (ja) * 2010-07-08 2014-10-08 キヤノン株式会社 生成方法、作成方法、露光方法、デバイスの製造方法及びプログラム
JP5627394B2 (ja) 2010-10-29 2014-11-19 キヤノン株式会社 マスクのデータ及び露光条件を決定するためのプログラム、決定方法、マスク製造方法、露光方法及びデバイス製造方法
JP6039910B2 (ja) 2012-03-15 2016-12-07 キヤノン株式会社 生成方法、プログラム及び情報処理装置
JP5677356B2 (ja) 2012-04-04 2015-02-25 キヤノン株式会社 マスクパターンの生成方法
JP5656905B2 (ja) 2012-04-06 2015-01-21 キヤノン株式会社 決定方法、プログラム及び情報処理装置
CN105051611B (zh) 2013-03-14 2017-04-12 Asml荷兰有限公司 图案形成装置、在衬底上生成标记的方法以及器件制造方法
JP6192372B2 (ja) * 2013-06-11 2017-09-06 キヤノン株式会社 マスクパターンの作成方法、プログラムおよび情報処理装置
JP6307367B2 (ja) 2014-06-26 2018-04-04 株式会社ニューフレアテクノロジー マスク検査装置、マスク評価方法及びマスク評価システム

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3576791B2 (ja) * 1998-03-16 2004-10-13 株式会社東芝 マスクパターン設計方法
SG137657A1 (en) * 2002-11-12 2007-12-28 Asml Masktools Bv Method and apparatus for performing model-based layout conversion for use with dipole illumination
US7594199B2 (en) * 2003-01-14 2009-09-22 Asml Masktools B.V. Method of optical proximity correction design for contact hole mask
JP4101770B2 (ja) * 2003-01-14 2008-06-18 エーエスエムエル マスクツールズ ビー.ブイ. ディープ・サブ波長の光リソグラフィのためのレチクル・パターンに光近接フィーチャを提供する方法および装置
JP4563746B2 (ja) * 2003-06-30 2010-10-13 エーエスエムエル マスクツールズ ビー.ブイ. イメージ・フィールド・マップを利用して補助フィーチャを生成するための、方法、プログラム製品及び装置
TW200519526A (en) * 2003-09-05 2005-06-16 Asml Masktools Bv Method and apparatus for performing model based placement of phase-balanced scattering bars for sub-wavelength optical lithography
SG125970A1 (en) * 2003-12-19 2006-10-30 Asml Masktools Bv Feature optimization using interference mapping lithography
US7620930B2 (en) * 2004-08-24 2009-11-17 Asml Masktools B.V. Method, program product and apparatus for model based scattering bar placement for enhanced depth of focus in quarter-wavelength lithography
US7349066B2 (en) * 2005-05-05 2008-03-25 Asml Masktools B.V. Apparatus, method and computer program product for performing a model based optical proximity correction factoring neighbor influence
JP5235322B2 (ja) * 2006-07-12 2013-07-10 キヤノン株式会社 原版データ作成方法及び原版データ作成プログラム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009093138A5 (enrdf_load_stackoverflow)
CN102007454B (zh) 分析用于光刻的掩膜板的方法
US8572520B2 (en) Optical proximity correction for mask repair
US8463016B2 (en) Extending the field of view of a mask-inspection image
US8896594B2 (en) Depth sensing with depth-adaptive illumination
KR100832660B1 (ko) 포토마스크의 평가 방법, 평가 장치, 및 반도체 장치의제조 방법
EP2045663A3 (en) Calculation method, generation method, program, exposure method, and mask fabrication method
JP2012098397A5 (enrdf_load_stackoverflow)
US8681326B2 (en) Method and apparatus for monitoring mask process impact on lithography performance
TWI644169B (zh) 用於使用近場復原之光罩檢測之電腦實施方法、非暫時性電腦可讀媒體及系統
TWI444787B (zh) 記錄產生遮罩資料之程式的記錄媒體、製造遮罩之方法、及曝光方法
CN113640817A (zh) 三维照相机及其投影仪
TW201520975A (zh) 產生場景深度圖之方法及裝置
KR101624120B1 (ko) 3차원 형상 계측용 구조광의 국소 영역별 패턴 광원 조사 시스템 및 방법
JP2012054426A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2008076682A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2010021443A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2010002772A (ja) パターン検証・検査方法、光学像強度分布取得方法および光学像強度分布取得プログラム
WO2023173691A1 (zh) 一种光刻机匹配方法
JP5185158B2 (ja) 多階調フォトマスクの評価方法
JP2011129885A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP5038743B2 (ja) リソグラフィシミュレーション方法及びプログラム
JP6039910B2 (ja) 生成方法、プログラム及び情報処理装置
JP2013195440A5 (enrdf_load_stackoverflow)
EP1903390A3 (en) Mask data generation program, mask data generation method, mask fabrication method, exposure method, and device manufacturing method