JP2009087987A - 半導体装置およびレイアウト方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】電圧クランプ型レギュレータで用いられるクランプMOSトランジスタを面積効率よく配置することのできる半導体装置およびレイアウト方法を提供する。
【解決手段】半導体装置1は、内部回路21へ供給する内部電源V2の電源電圧を生成する電圧クランプ型レギュレータの出力部のクランプMOSトランジスタが、複数のトランジスタユニット32に分割され、この複数のトランジスタユニット32が、内部回路21に接続される内部電源V2の配線経路上に分散配置され、トランジスタユニット32相互間が、並列接続されている。
【選択図】図3
【解決手段】半導体装置1は、内部回路21へ供給する内部電源V2の電源電圧を生成する電圧クランプ型レギュレータの出力部のクランプMOSトランジスタが、複数のトランジスタユニット32に分割され、この複数のトランジスタユニット32が、内部回路21に接続される内部電源V2の配線経路上に分散配置され、トランジスタユニット32相互間が、並列接続されている。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体装置およびレイアウト方法に関する。
近年の半導体装置の微細化の進展に伴い、半導体装置の内部回路の電源電圧は、スケーリング則に従い、低下させる必要がある。一方、半導体装置へ供給される外部電源電圧は、従来仕様との互換性を保つために、従来どおりの高電圧であることがある。そこで、外部電源電圧が高電圧で入力される場合、この高電圧を低電圧へ降圧するレギュレータを半導体装置に内蔵し、このレギュレータの出力電圧を内部回路へ供給することが行われる。
このとき、内部回路の消費電流が大きい場合、レギュレータの電源供給能力も大きくしなければならない。そこで、複数のレギュレータ回路を設けてレギュレータの電源供給能力の増大を図り、チップ面積の使用効率向上のために、この複数のレギュレータ回路を半導体装置のI/O領域に配置することが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかし、上述のI/O領域は、本来、I/Oセルが配置される領域であり、レギュレータ回路を配置できるのはI/Oセルが配置されない空き領域に限られる。したがって、レギュレータの回路の配置可能な個数がI/O領域の空き状況に左右され、上述の提案の方法では、必要な数のレギュレータ回路を必ずしも配置できるとは限らない、という問題があった。
特に、レギュレータとして、弱反転領域でクランプMOSトランジスタを動作させて出力負荷電流の急激な変動に対する追随性を高めた、電圧クランプ型レギュレータを用いる場合に問題が顕著となる。これは、クランプMOSトランジスをタ弱反転領域で動作させているために、電圧クランプ型レギュレータの出力電流を大きくしようとすると、クランプMOSトランジスタのサイズが巨大になることに由来する。
すなわち、上述のI/O領域の空き領域に配置する方法では、巨大サイズのクランプMOSトランジスタを有する電圧クランプ型レギュレータを配置することができない、という問題が生じる。
特開2007−180085号公報 (第7−9ページ、図1)
そこで、本発明の目的は、電圧クランプ型レギュレータで用いられるクランプMOSトランジスタを面積効率よく配置することのできる半導体装置およびレイアウト方法を提供することにある。
本発明の一態様によれば、内部回路が配置される内部領域と、前記内部回路へ供給する内部電源電圧を生成する電圧クランプ型レギュレータと、を備え、前記クランプ型レギュレータの出力部のクランプMOSトランジスタが、複数のトランジスタユニットに分割され、前記複数のトランジスタユニットが、前記内部回路に接続される内部電源配線の配線経路上に分散配置され、前記トランジスタユニット相互間が、並列接続されている
ことを特徴とする半導体装置が提供される。
ことを特徴とする半導体装置が提供される。
また、本発明の別の一態様によれば、内部回路が配置される内部領域と、前記内部回路へ供給する内部電源電圧を生成する電圧クランプ型レギュレータと、を備える半導体装置のレイアウト方法であって、前記クランプ型レギュレータの出力部のクランプMOSトランジスタを複数のトランジスタユニットに分割し、前記複数のトランジスタユニットを前記内部回路に接続される内部電源配線の配線経路上に分散配置し、前記トランジスタユニット相互間を並列接続することを特徴とするレイアウト方法が提供される。
本発明によれば、電圧クランプ型レギュレータで用いられるクランプMOSトランジスタを面積効率よく配置することができる。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施例1に係る半導体装置の構成の例を示すブロック図である。
本実施例の半導体装置1は、内部回路21と、外部電源V1の電圧を降圧して内部回路21へ供給する内部電源V2を生成する電圧クランプ型レギュレータ3と、を備える。
電圧クランプ型レギュレータ3は、外部電源V1にドレインが接続され、ソースが抵抗Rを介して接地されるNMOS型のクランプMOSトランジスタ31と、クランプMOSトランジスタ31を弱反転領域で動作させるためのゲート電圧Vgを生成するVg生成回路32と、を有する。クランプMOSトランジスタ31のソース電位が、内部電源V2の電源電圧として出力される。
クランプMOSトランジスタ31を弱反転領域で動作させると、ゲート−ソース間電位の変化に対して、ソースから出力される電流は指数関数的に変化する。そのため、内部回路21の動作電流の増加により内部電源V2の電位が低下したときに、その電位低下が僅かであっても速やかに電流供給量を増加させることができる。これにより、電圧クランプ型レギュレータ3は、内部電源V2の電位を安定に保つことができる。
ただし、MOSトランジスタを弱反転領域で動作させるため、大きな出力電流が必要な場合、クランプMOSトランジスタ31のトランジスタサイズが巨大となる。したがって、このクランプMOSトランジスタ31を1個のトランジスタとしてチップ内にレイアウトしようすると、その面積が非常に大きくなり、配置位置に制約が生じる。また、その周囲に空きスペースが生じ易くなる。そのため、チップ面積の使用効率が低下する。
そこで、本実施例では、このクランプMOSトランジスタ31を並列接続される複数のトランジスタユニット32に分割する。
図2に、クランプMOSトランジスタ31を並列接続される複数のトランジスタユニット32に分割したときの電圧クランプ型レギュレータ3の構成の例を示す。
いま、クランプMOSトランジスタ31のゲート幅をWと表し、これをn個のトランジスタユニット32に分割したとすると、トランジスタユニット32のゲート幅はW/nと表される。すなわち、トランジスタユニット32への分割数を増やすほど、1個のトランジスタユニット32のレイアウト面積を小さくすることができる。その結果、レイアウトを行う場合、それぞれのトランジスタユニット32のレイアウトが容易になる。また、複数のトランジスタユニット32を1箇所にまとめて配置する必要はない。
そこで、チップレイアウトするときに、この複数のトランジスタユニット32をチップ内に分散配置するようにする。
本実施例では、このトランジスタユニット32の分散配置を次のように行う。
図3は、本実施例の半導体装置1のチップレイアウトのイメージを示すレイアウト模式図である。
本実施例では、半導体装置1のチップ中央部の内部領域2に内部回路21が配置され、内部領域2の周囲を取り囲むように内部回路21へ供給する内部電源V2の電源配線が配線されている。
このような内部電源V2の電源配線に対して、本実施例では、トランジスタユニット32を内部電源V2の電源配線経路上に分散配置する。
すなわち、内部領域2の周囲を取り囲むように配線されている内部電源V2の電源配線領域に、トランジスタユニット32を分散配置する。なお、このとき、Vg生成回路33は内部領域2に配置し、Vg生成回路33の出力のVg配線および外部電源V1の電源配線は、内部電源V2の電源配線に並べて配線するようにする。
このようにトランジスタユニット32を分散配置することにより、トランジスタユニット32を、内部領域2の周囲に整然と配置することができる。
このような本実施例によれば、電圧クランプ型レギュレータのクランプMOSトランジスタを複数のトランジスタユニットに分割し、内部領域の周囲に配線される内部電源の電源配線上に分散配置するため、I/O領域の空き領域に関係なくクランプMOSトランジスタを配置することができる。
また、トランジスタユニットを内部領域の周囲に整然と配置するため、チップレイアウトが容易となる。
さらに、内部回路の回路規模の増大により内部回路の動作電流が増加し、クランプMOSトランジスタの出力電流を増加させるためにトランジスタユニットの数を増やす必要が生じた場合にも、内部回路の回路規模の増大に応じて内部領域が拡大し、その周囲面積も必然的に増加するため、追加のトランジスタユニットを容易に配置することができる。
図4は、本発明の実施例2に係る半導体装置の構成の例を示すブロック図である。
本実施例の半導体装置1Aは、複数の内部回路21A、21B、21Cを有しており、電圧クランプ型レギュレータ3が、内部回路21A、21B、21Cのそれぞれへ、独立に、内部電源V2a、V2b、V2cを供給する。
そのために、電圧クランプ型レギュレータ3は、それぞれが内部電源V2a、V2b、V2cを供給するクランプMOSトランジスタ31A、31B、31Cを有する。
クランプMOSトランジスタ31A、31B、31Cのトランジスタサイズは、内部回路21A、21B、21Cの動作電流の大きさに応じて決定される。
本実施例においても、クランプMOSトランジスタ31A、31B、31Cをそれぞれ複数のトランジスタユニットに分割する。このとき、同じトランジスタサイズのトランジスタユニット32に分割したとすると、内部回路21A、21B、21Cの動作電流の大きさに応じて、各クランプMOSトランジスタを構成するトランジスタユニット32の個数が決定される。
図5は、クランプMOSトランジスタ31A、31B、31Cをそれぞれ並列接続される複数のトランジスタユニット32に分割したときの電圧クランプ型レギュレータ3の構成の例である。
ここでは、内部回路21A、21B、21Cの順に動作電流の大きさが大きい場合の例を示す。すなわち、この場合、クランプMOSトランジスタ31A、31B、31Cの順に、トランジスタユニット32の個数が多い。
本実施例においても、チップレイアウトを行う際は、クランプMOSトランジスタ31A、31B、31Cを構成するトランジスタユニット32をチップ内に分散配置する。
そのとき、本実施例では、クランプMOSトランジスタ31Aを構成するトランジスタユニット32は内部電源V2aの電源配線上に配置し、クランプMOSトランジスタ31Bを構成するトランジスタユニット32は内部電源V2bの電源配線上に配置し、クランプMOSトランジスタ31Cを構成するトランジスタユニット32は内部電源V2cの電源配線上に配置するようにする。
図6は、本実施例の半導体装置1Aのチップレイアウトのイメージを示すレイアウト模式図である。
本実施例では、半導体装置1Aのチップ中央部の内部領域2に内部回路21A、21B、21Cが配置され、内部領域2の周囲に、それぞれの内部回路へ内部電源V2a、V2b、V2cを供給する電源配線が独立に配線されている。
このように配線された内部電源V2a、V2b、V2cの電源配線に対して、本実施例では、それぞれの内部電源を供給するトランジスタユニット32を、それぞれの内部電源配線経路上に分散配置する。
このような本実施例によれば、複数の内部回路のそれぞれに対して、独立に内部電源を供給するため、それぞれの内部回路の動作電流に応じた電流を個々に供給することができる。また、それぞれの内部電源ごとにクランプMOSトランジスタを設けるため、それぞれの内部回路の負荷変動に対して、内部電源電圧を個々に安定させることができる。
上述の各実施例では、内部領域2の周囲に、複数のトランジスタユニット32が分散配置される。したがって、場合によっては、トランジスタユニット32が、内部領域2へ入出力する信号線の配線を困難にすることが考えられる。
そこで本実施例では、内部領域への配線を容易にするようにパターン設計されたトランジスタユニット32の例を示す。
図7は、上述の各実施例で用いることのできるトランジスタユニット32のパターンレイアウトの例を示す模式図である。
図7(a)は、トランジスタユニット32のNMOSトランジスタのパターンレイアウトの平面図である。
この例では、トランジスタユニット32の1つのNMOSトランジスタが、レイアウト上は並列接続される複数のNMOSトランジスタで形成されている。すなわち、金属配線層の外部電源V1に複数のドレインがコンタクトホールで接続され、金属配線層の内部電源V2に複数のソースがコンタクトホールで接続され、金属配線層のVgに複数のゲートがコンタクトホールで接続されている。
図7(b)は、図7(a)に示したトランジスタユニット32の断面を示す。ここでは、配線層として、5層の金属配線層を使用するものとする。
この例では、外部電源V1の配線層に2層目の金属配線層を用い、内部電源V2の配線層に4層目および5層目の金属配線層を用いるようにする。また、3層目の金属配線層は、内部電源V2とソースとの接続に用いる以外は、トランジスタユニット32内では使用しないようにする。
これにより、トランジスタユニット32内の3層目の金属配線層には、図7(b)で点線で示す未使用の領域が生じる。
そこで、内部領域2への信号配線に3層目の金属配線層を用いるようにすれば、トランジスタユニット32を内部領域2の周囲に配置しても、トランジスタユニット32を貫通して、内部領域2への信号線を配線することができる。
図8に、トランジスタユニット32を貫通して配線される信号配線の様子を示す。
このように、多層配線層を使用する場合、トランジスタユニット32のパターン設計時に特定の配線層の使用を制限することにより、トランジスタユニット32の配置後の配線設計を容易にすることができる。
このような本実施例によれば、トランジスタユニットを貫通する配線を行うことができるので、内部領域の周囲に複数のトランジスタユニットを分散配置しても、内部領域へ入出力する信号線の配線を容易に行うことができる。
1、1A 半導体装置
2 内部領域
3 電圧クランプ型レギュレータ
21、21A、21B、21C 内部回路
31、31A、31B、31C クランプMOSトランジスタ
32 トランジスタユニット
33 Vg生成回路
2 内部領域
3 電圧クランプ型レギュレータ
21、21A、21B、21C 内部回路
31、31A、31B、31C クランプMOSトランジスタ
32 トランジスタユニット
33 Vg生成回路
Claims (5)
- 内部回路が配置される内部領域と、
前記内部回路へ供給する内部電源電圧を生成する電圧クランプ型レギュレータと、
を備え、
前記クランプ型レギュレータの出力部のクランプMOSトランジスタが、複数のトランジスタユニットに分割され、
前記複数のトランジスタユニットが、前記内部回路に接続される内部電源配線の配線経路上に分散配置され、
前記トランジスタユニット相互間が、並列接続されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記内部電源配線が、
前記内部領域の周囲を取り囲むように配線されている
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記内部電源配線が、
複数の内部回路に対して個別に配線され、
それぞれの配線経路上に、接続先の内部回路の動作電流に応じた個数の前記トランジスタユニットが配置される
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記トランジスタユニットが、
前記内部電源配線と交差して信号配線を行うための配線層を有している
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 内部回路が配置される内部領域と、前記内部回路へ供給する内部電源電圧を生成する電圧クランプ型レギュレータと、を備える半導体装置のレイアウト方法であって、
前記クランプ型レギュレータの出力部のクランプMOSトランジスタを複数のトランジスタユニットに分割し、
前記複数のトランジスタユニットを前記内部回路に接続される内部電源配線の配線経路上に分散配置し、
前記トランジスタユニット相互間を並列接続する
ことを特徴とするレイアウト方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007252034A JP2009087987A (ja) | 2007-09-27 | 2007-09-27 | 半導体装置およびレイアウト方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007252034A JP2009087987A (ja) | 2007-09-27 | 2007-09-27 | 半導体装置およびレイアウト方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=40661079
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007252034A Withdrawn JP2009087987A (ja) | 2007-09-27 | 2007-09-27 | 半導体装置およびレイアウト方法 |
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2007
- 2007-09-27 JP JP2007252034A patent/JP2009087987A/ja not_active Withdrawn
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090210 |
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