JP2009085959A - Sensor element for detecting particle in gas, and manufacturing method for sensor element - Google Patents

Sensor element for detecting particle in gas, and manufacturing method for sensor element Download PDF

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レッシュ ザビーネ
Detlef Heimann
ハイマン デトレフ
Thorsten Ochs
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    • G01N15/0656Investigating concentration of particle suspensions using electric, e.g. electrostatic methods or magnetic methods

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sensor for detecting a particle in an exhaust gas capable of protecting a measuring electrode and capable of precluding a function of the measuring electrode from varying. <P>SOLUTION: Protection layers 1a, 1b are formed and arranged to be congruent with upper faces of the measuring electrodes 3,4, in a sensor element having the protection layers 1a, 1b, a measuring system 2 having the first measuring electrode 3 and the second measuring electrode 4 engaged with each other comb-likely, and an insulating layer 5. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガス中の粒子を検出するためのセンサ素子と、このようなセンサ素子の製造方法と、このようなセンサ素子の使用とに関する。   The present invention relates to a sensor element for detecting particles in a gas, a method for manufacturing such a sensor element, and the use of such a sensor element.

近い将来、エンジンないしはディーゼルパティキュレートフィルタ(DPF)の連続運転後のとりわけ走行運転中の自動車の粒子排出を、法的規制によって監視しなければならなくなる。さらに、高効率で低燃料消費量である僅かな数の再生サイクルで高いシステム確実性を保証し、たとえば菫青石等の廉価なフィルタ材料を使用できるようにするためには、再生制御のためにディーゼルパティキュレートフィルタの堆積量予測を行うことが必要である。   In the near future, legal regulations will be required to monitor particulate emissions of automobiles, especially during driving, after continuous operation of the engine or diesel particulate filter (DPF). In addition, to ensure high system reliability with a few regeneration cycles with high efficiency and low fuel consumption, and to be able to use inexpensive filter materials such as cordierite, for regeneration control It is necessary to estimate the amount of accumulated diesel particulate filter.

こうするためには、導電性の粒子に対する抵抗性のパティキュレートセンサを使用することができる。現在、次のような抵抗性のパティキュレートセンサが公知である。すなわち、櫛状に相互に係合する2つ以上の測定電極(インターデジタル電極)を含む測定電極システムが絶縁層上に形成されているパティキュレートセンサが公知である。これらの測定電極に電圧が印加されると粒子が付着し、この粒子が測定電極を短絡する。センサ面上の粒子濃度が上昇するほど、閾値に達した後に測定電極間で検出される抵抗は低下する(ないしは、印加される電圧が一定である場合には測定電極間で検出される電流が上昇する)。このような変化する抵抗ないしは電流は、センサ面上の粒子の増加に関連する。センサを再生するためには、組み込まれた加熱装置によってセンサを燃焼洗浄する。すなわち、粒子を除去する。   In order to do this, a particulate sensor resistant to conductive particles can be used. At present, the following resistive particulate sensors are known. That is, a particulate sensor is known in which a measurement electrode system including two or more measurement electrodes (interdigital electrodes) engaged with each other in a comb shape is formed on an insulating layer. When a voltage is applied to these measurement electrodes, the particles adhere and short-circuit the measurement electrodes. As the particle concentration on the sensor surface increases, the resistance detected between the measurement electrodes after reaching the threshold decreases (or if the applied voltage is constant, the current detected between the measurement electrodes is reduced). To rise). Such varying resistance or current is associated with an increase in particles on the sensor surface. In order to regenerate the sensor, the sensor is combusted and cleaned with an integrated heating device. That is, the particles are removed.

測定電極をガスによる腐食と機械的損傷とから保護するためには、測定電極システムないしはセンサ面上に保護層を全面的に設ける。しかし、このように全面的に設けられた保護層は測定電極の機能性を変化するのが欠点である。   In order to protect the measurement electrode from gas corrosion and mechanical damage, a protective layer is entirely provided on the measurement electrode system or sensor surface. However, the protective layer provided over the entire surface is disadvantageous in that it changes the functionality of the measuring electrode.

本発明の課題は、測定電極が保護されなおかつ測定電極の機能性が変化しない粒子検出用のセンサを提供することである。   An object of the present invention is to provide a particle detection sensor in which the measurement electrode is protected and the functionality of the measurement electrode does not change.

前記課題は、保護層が測定電極の上面と合同に形成および配置されるセンサ素子によって解決される。   The object is solved by a sensor element in which the protective layer is formed and arranged congruently with the upper surface of the measuring electrode.

請求項1に記載の本発明のセンサ素子は、本発明にしたがって構成および/または配置された保護層によって測定電極がガスによる腐食と機械的損傷とから保護され、測定電極の機能性が妨害されることはないかまたはごく僅かであり、動作原理は変化しないという利点を有する。その根拠は、本発明による保護層は測定電極の上面と合同に形成および配置されることにより、該測定電極の上面は腐食と機械的損傷とから保護され、かつ、測定電極の機能は粒子が堆積しても保証されることである。その理由は、測定電極の側面(エッジ)および該測定電極間のスペースが保護層によってカバーされるからである。   The sensor element of the present invention as set forth in claim 1 has a protective layer constructed and / or arranged according to the present invention to protect the measuring electrode from gas corrosion and mechanical damage, impeding the functionality of the measuring electrode. Have the advantage that the operating principle does not change. The reason for this is that the protective layer according to the present invention is formed and arranged congruently with the upper surface of the measuring electrode, so that the upper surface of the measuring electrode is protected from corrosion and mechanical damage, and the function of the measuring electrode is It is guaranteed even if it is deposited. This is because the side surface (edge) of the measurement electrode and the space between the measurement electrodes are covered by the protective layer.

さらに、保護層をこのように設けることによって測定電極システムの領域でプロフィール構造が向上され、このようなプロフィール構造によって、粒子が測定電極システムに堆積するのをより容易にする流動案内が実現され、このことによって本発明のさらなる有用性が実現される。   Furthermore, the provision of a protective layer in this way improves the profile structure in the region of the measuring electrode system, which provides a flow guide that makes it easier for particles to deposit on the measuring electrode system, This realizes further utility of the present invention.

本発明によるセンサの本発明による製造方法は、とりわけレーザ構造化ないしは物理的気相蒸着("physical vapor deposition", PVD)または化学的気相蒸着("chemical vapor deposition", CVD)によって行われ、有利であることが実証されている。というのも、本発明によるセンサ素子の製造が保証されるだけでなく、さらに、測定電極間の間隔が70μmを上回る従来のインターデジタル測定電極システムと比較して、測定電極間の間隔が格段に小さい測定電極システムを製造でき、測定電極間の間隔がたとえば20μm以上〜40μm以下である測定電極システムを製造することができるからである。測定電極間の間隔が可能な限り小さいことにより、有利には、センサ素子の感度および測定精度が上昇する。   The method according to the invention for producing a sensor according to the invention is carried out inter alia by laser structuring or physical vapor deposition ("PVD") or chemical vapor deposition ("CVD"), It has proven to be advantageous. This is because not only the manufacture of the sensor element according to the invention is guaranteed, but also the spacing between the measuring electrodes is significantly higher compared to conventional interdigital measuring electrode systems in which the spacing between measuring electrodes exceeds 70 μm. This is because a small measurement electrode system can be manufactured, and a measurement electrode system having an interval between the measurement electrodes of, for example, 20 μm to 40 μm can be manufactured. The smallest possible spacing between the measuring electrodes advantageously increases the sensitivity and measuring accuracy of the sensor element.

明細書、図面および特許請求の範囲に、本発明の対象の別の利点および有利な実施形態が記載されている。   Further advantages and advantageous embodiments of the subject matter of the invention are described in the description, the drawings and the claims.

以下で図示および説明される図面を使用して、本発明を詳細に説明する。なお、図面は説明のためだけに用いたものであり、本発明を何らかの形で限定ためのものではないことに留意されたい。   The present invention will be described in detail with reference to the drawings shown and described below. It should be noted that the drawings are used for illustration only and are not intended to limit the invention in any way.

図1aは、ガス中の粒子を検出するための本発明のセンサ素子の概略的な斜視図である。図1aには、センサ素子が保護層1a,1bと測定電極システム2と絶縁層5とを有するのが示されており、該測定電極システムは、櫛状に相互に係合する第1の測定電極3と第2の測定電極4とを有し、該保護層1a,1bは該測定電極3,4の表面上に配置されており、該測定電極3,4は該絶縁層5上に配置されている。図1aに示されている本発明のセンサ素子は、次の点で公知のセンサ素子と異なる。すなわち、少なくとも第1の保護層1aおよび第2の保護層1bを有し、該第1の保護層1aは第1の測定電極3の上面6aと合同に形成および/または配置され、該第2の保護層1bは該第2の測定電極4の上面6bと合同に形成および/または配置されている点で異なる。   FIG. 1a is a schematic perspective view of a sensor element of the present invention for detecting particles in a gas. FIG. 1 a shows that the sensor element has a protective layer 1 a, 1 b, a measuring electrode system 2 and an insulating layer 5, which measuring electrode system engages one another in a comb shape. An electrode 3 and a second measurement electrode 4 are provided, and the protective layers 1a and 1b are disposed on the surfaces of the measurement electrodes 3 and 4, and the measurement electrodes 3 and 4 are disposed on the insulating layer 5. Has been. The sensor element of the present invention shown in FIG. 1a differs from known sensor elements in the following respects. That is, it has at least a first protective layer 1a and a second protective layer 1b, and the first protective layer 1a is formed and / or arranged congruently with the upper surface 6a of the first measurement electrode 3. The protective layer 1b is different in that it is formed and / or arranged congruently with the upper surface 6b of the second measuring electrode 4.

本発明では測定電極3,4の「上面」6a,6bとは、絶縁層5上に配置された測定電極3,4の面8a,8bに対向する面を指す。本発明の枠内では「上」、「表面上」および「下」等の概念は、構成部分の相互間の配置を記述するために使用され、センサ素子ないしは構成部分の空間的方向に関して本発明のセンサ素子ないしは方法を制限しない。   In the present invention, the “upper surfaces” 6 a and 6 b of the measurement electrodes 3 and 4 refer to surfaces facing the surfaces 8 a and 8 b of the measurement electrodes 3 and 4 disposed on the insulating layer 5. Within the framework of the present invention, concepts such as “above”, “on the surface” and “below” are used to describe the arrangement of the components relative to one another, and the invention relates to the spatial orientation of the sensor elements or components. The sensor element or method is not limited.

測定電極3,4の上面6a,6bにそれぞれ配置された保護層1a,1bによって、測定電極システム2は有利には、センサ素子のガスに対向する側の作用によって。本発明による保護層1a,1bにより、測定電極3,4の側面(エッジ)9a,9bと該測定電極3,4間のスペース10は保護層1a,1bによって被覆されないので、有利には測定電極3,4の機能性を保証することができる。   By means of the protective layers 1a, 1b respectively arranged on the upper surfaces 6a, 6b of the measuring electrodes 3, 4, the measuring electrode system 2 is advantageously operated by the action of the sensor element facing the gas. With the protective layers 1a, 1b according to the invention, the side surfaces (edges) 9a, 9b of the measuring electrodes 3, 4 and the space 10 between the measuring electrodes 3, 4 are not covered by the protective layers 1a, 1b, so that preferably the measuring electrodes The functionality of 3, 4 can be guaranteed.

図1aに示された実施形態では、センサ素子は絶縁層5および担体層7を有する。ここでは担体層7は絶縁層5の下方に配置されている。前記担体層7は本発明の枠内では、絶縁性の材料からも導電性の材料からも形成することができる。また本発明の枠内では、絶縁層5が絶縁層5としても担体層7としても機能するように該絶縁層5を形成および/または構成することも可能である。   In the embodiment shown in FIG. 1 a, the sensor element has an insulating layer 5 and a carrier layer 7. Here, the carrier layer 7 is disposed below the insulating layer 5. Within the framework of the present invention, the carrier layer 7 can be formed from either an insulating material or a conductive material. Within the framework of the present invention, the insulating layer 5 can be formed and / or configured so that the insulating layer 5 functions as both the insulating layer 5 and the carrier layer 7.

図1bは、図1aに示されたセンサ素子を線A‐A′に沿って切断した概略的な断面図である。   FIG. 1 b is a schematic cross-sectional view of the sensor element shown in FIG. 1 a taken along line AA ′.

本発明の対象は、ガス中の粒子を検出するためのセンサ素子であって、保護層と、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極および第2の測定電極を有する測定電極システムと、絶縁層とを有し、該保護層は該測定電極上に配置されており、該測定電極は該絶縁層上に配置されているセンサ素子において、少なくとも1つの第1の保護層と第2の保護層とを有し、該第1の保護層は該第1の測定電極の上面と合同に形成および/または配置され、該第2の保護層は該第1の測定電極の上面と合同に形成および/または配置されるセンサ素子に関する。   The object of the present invention is a sensor element for detecting particles in a gas, comprising a protective layer and at least one first measurement electrode and a second measurement electrode which are engaged with each other in a comb shape. An electrode system and an insulating layer, the protective layer being disposed on the measuring electrode, wherein the measuring electrode is at least one first protective layer in a sensor element disposed on the insulating layer And the second protective layer, and the first protective layer is formed and / or arranged congruently with the upper surface of the first measurement electrode, and the second protective layer is formed on the first measurement electrode. The present invention relates to a sensor element formed and / or arranged congruently with an upper surface.

1つの実施形態では本発明のセンサ素子は、絶縁層の下方に配置された担体層を有する。   In one embodiment, the sensor element of the present invention has a carrier layer disposed below the insulating layer.

本発明のセンサ素子は、本発明の種々の方法によって製造することができる。   The sensor element of the present invention can be manufactured by various methods of the present invention.

本発明の1つの対象は、本発明のセンサ素子の製造方法である。この製造方法ではレーザ構造化手法によって、面状の保護層と面状の金属含有層または金属層と面状の絶縁層とを含む次のような基体から、すなわち、該保護層は該金属含有層または金属層上に配置され該金属含有層または金属層は該絶縁層上に配置されている基体から材料を除去し、該材料の除去によって、該面状の保護層と該面状の金属含有層または金属層とから、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極および第2の測定電極と少なくとも1つの第1の保護層と第2の保護層とを有する測定電極システムを形成し、該測定電極システムの形成時に、該第1の保護層を該第1の測定電極の上面と合同に形成および/または配置し、該第2の保護層を該第2の測定電極の上面と合同に形成および/または配置する。   One object of the present invention is a method for producing a sensor element of the present invention. In this manufacturing method, by a laser structuring method, a planar protective layer and a planar metal-containing layer or a substrate including a metal layer and a planar insulating layer as follows, that is, the protective layer includes the metal-containing layer. The metal-containing layer or metal layer disposed on the layer or metal layer removes material from the substrate disposed on the insulating layer, and the removal of the material results in the planar protective layer and the planar metal A measurement electrode having at least one first measurement electrode and a second measurement electrode, and at least one first protection layer and a second protection layer that are engaged with each other in a comb shape from the inclusion layer or the metal layer Forming a system, and forming and / or placing the first protective layer congruently with the top surface of the first measurement electrode when forming the measurement electrode system, and the second protective layer being the second measurement layer It is formed and / or arranged congruently with the upper surface of the electrode.

そのための基体を製造するためにはたとえば、絶縁層の表面上に金属含有層または金属層を全面的にプリントし、該金属含有層または金属層上に保護層を全面的にプリントし、相互に積層してプリントされたこれらの層を焼結する。前記絶縁層は予め、すなわち金属含有層または金属層と保護層とをプリントする前に、担体層に全面にわたってプリントすることができる。換言すると、基体ないしはセンサ素子が担体層を有する場合には、担体層上に絶縁層を全面的にプリントし、該絶縁層上に金属含有層または金属層を全面的にプリントし、該金属含有層または金属層上に保護層を全面的にプリントし、相互に積層してプリントされたこれらの層を焼結することによって基体を製造することができる。   In order to manufacture a substrate for this purpose, for example, a metal-containing layer or a metal layer is printed on the entire surface of the insulating layer, and a protective layer is printed on the metal-containing layer or the metal layer. The layers printed by lamination are sintered. The insulating layer can be printed over the entire surface in advance, i.e. before printing the metal-containing layer or the metal layer and the protective layer. In other words, when the substrate or the sensor element has a carrier layer, the insulating layer is printed on the entire surface of the carrier layer, and the metal-containing layer or the metal layer is printed on the insulating layer. A substrate can be produced by printing a protective layer on the entire surface of the layer or metal layer and sintering the layers printed on one another.

有利には、レーザ構造化手法によって保護層および該保護層の下方にある金属層または金属含有層を1つの作業工程で一緒に処理することができる。   Advantageously, the protective layer and the metal layer or metal-containing layer underneath the protective layer can be processed together in one working step by means of a laser structuring technique.

本発明はさらに、スクリーン印刷法によって次の複数のスクリーン印刷ステップによって本発明のセンサ素子を製造する製造方法にも関する:
・絶縁層上に、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極および第2の測定電極を有する測定電極システムをプリントするステップ。
・第1の保護層が前記第1の測定電極の上面と合同に形成および/または配置され、第2の保護層が前記第2の測定電極の上面と合同に形成および/または配置されるように、該第1の測定電極上に該第1の保護層を、とりわけ正確に位置決めしてプリントし、該第2の測定電極上に該第2の保護層をとりわけ正確に位置決めしてプリントするステップ。
The invention further relates to a production method for producing the sensor element of the invention by means of a screen printing method by the following plurality of screen printing steps:
Printing on the insulating layer a measurement electrode system having at least one first measurement electrode and a second measurement electrode which are interengaged in a comb-like manner;
The first protective layer is formed and / or arranged congruently with the upper surface of the first measurement electrode, and the second protective layer is formed and / or arranged congruent with the upper surface of the second measurement electrode In particular, the first protective layer is printed with a particularly accurate positioning on the first measuring electrode, and the second protective layer is printed with a particularly accurate positioning on the second measuring electrode. Step.

前記絶縁層は予め、すなわち前記測定電極システムと保護層とをプリントする前に、担体層に全面にわたってプリントすることができる。換言すると、センサ素子が担体層を有する場合には本発明では、スクリーン印刷法によって次の複数のスクリーン印刷ステップによって、センサ素子を製造することができる:
・担体層上に絶縁層を、とりわけ全面的にプリントするステップ。
・前記絶縁層上に、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極および第2の測定電極を有する測定電極システムをプリントするステップ。ここでは第1の測定電極および第2の測定電極は、金属含有材料または金属材料から成る。
・第1の保護層が前記第1の測定電極の上面に合同に形成および/または配置され、第2の保護層が前記第2の測定電極の上面に合同に形成および/または配置されるように、該第1の測定電極上に該第1の保護層をとりわけ正確に位置決めしてプリントし、該第2の測定電極上に該第2の保護層をとりわけ正確に位置決めしてプリントするステップ。
The insulating layer can be printed over the entire surface in advance, i.e. before printing the measuring electrode system and the protective layer. In other words, if the sensor element has a carrier layer, the present invention allows the sensor element to be manufactured by a screen printing method by the following multiple screen printing steps:
Printing the insulating layer on the carrier layer, in particular over the entire surface.
Printing on the insulating layer a measurement electrode system comprising at least one first measurement electrode and a second measurement electrode which are interengaged in a comb-like manner; Here, the first measurement electrode and the second measurement electrode are made of a metal-containing material or a metal material.
The first protective layer is jointly formed and / or disposed on the upper surface of the first measurement electrode, and the second protective layer is jointly formed and / or disposed on the upper surface of the second measurement electrode. The first protective layer is particularly accurately positioned and printed on the first measuring electrode, and the second protective layer is particularly accurately positioned and printed on the second measuring electrode. .

本発明の製造方法で使用するためには、たとえば固体レーザまたはエキシマレーザ、たとえばネオジムYAGレーザまたはダイオードレーザまたはファイバレーザが適している。目的に適っているのは、レーザの焦点径は1μm以上〜70μm以下の領域内にあることである。   For example, a solid state laser or excimer laser, such as a neodymium YAG laser or diode laser or fiber laser, is suitable for use in the manufacturing method of the present invention. Suitable for the purpose is that the focal spot diameter of the laser is in the range of 1 μm to 70 μm.

本発明はさらに、本発明のセンサ素子の次のような製造方法にも関する。この製造方法では、とりわけ焼結された絶縁層上に、微細構造化されたマスクを設け、該マスクの開放領域は、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極および第2の測定電極を有する製造すべき測定電極システムの構造に相応し、該開放領域に、第1の物理的気相蒸着("physical vapor deposition", PVD)または第1の化学的気相蒸着("chemical vapor deposition", CVD)によって金属含有材料または金属材料をコーティングし、該金属含有材料または金属材料がコーティングされた領域に、該マスクの位置を維持しながら、第2の物理的気相蒸着("physical vapor deposition", PVD)または第2の化学的気相蒸着("chemical vapor deposition", CVD)によってセラミック材料をコーティングする。   The present invention further relates to the following method for producing the sensor element of the present invention. In this manufacturing method, in particular, a microstructured mask is provided on the sintered insulating layer, the open area of the mask having at least one first measuring electrode and a second one engaging each other like a comb. In accordance with the structure of the measuring electrode system to be manufactured having a measuring electrode of the first physical vapor deposition ("PVD") or first chemical vapor deposition ("" Chemical vapor deposition ", CVD) is used to coat a metal-containing material or a metal material, while maintaining the position of the mask in a region coated with the metal-containing material or the metal material. The ceramic material is coated by “physical vapor deposition” (PVD) or second chemical vapor deposition (CVD).

前記開放領域の基本面上に均質な層が得られるように、該開放領域に金属含有材料または金属材料をコーティングするのが目的に適っている。ここでは、開放領域の容量は金属含有材料または金属材料によって完全に充填されないのが有利である。このようにして、セラミック材料ひいてはこれによって得られる保護層を第2の物理的気相蒸着("physical vapor deposition", PVD)ないしは第2の化学的気相蒸着("chemical vapor deposition", CVD)で、マスクの位置を維持しながら簡単に設けることができる。   It is suitable for the purpose to coat the open area with a metal-containing material or a metal material so that a homogeneous layer is obtained on the basic surface of the open area. Here, the volume of the open area is advantageously not completely filled with a metal-containing material or a metal material. In this way, the ceramic material and thus the protective layer obtained thereby can be applied to a second physical vapor deposition (“PVD”) or a second chemical vapor deposition (“CVD”). Thus, it can be easily provided while maintaining the position of the mask.

本発明のこの製造方法の枠内でも、絶縁層を予め、すなわち場合によっては、焼結前かつマスク適用前および第1の物理的気相蒸着または第2の物理的気相蒸着または第1の化学的気相蒸着または第2の化学的気相蒸着の前に、担体層に全面的に設け、とりわけプリントすることができる。   Even within the framework of this production method of the present invention, the insulating layer is preliminarily, i.e., optionally before sintering and before mask application and the first physical vapor deposition or the second physical vapor deposition or the first. Prior to the chemical vapor deposition or the second chemical vapor deposition, the support layer can be provided over the entire surface and in particular printed.

本発明の枠内では、保護層を多孔質のセラミック材料から形成するか、または高密度のセラミック材料から形成することができる。保護層は本発明の枠内では、0.5μm以上〜50μm以下の領域にある層厚さ(d)を有することができ、たとえば5μm以上〜25μm以下の領域にある層厚さ(d)を有し、とりわけ10μm以上〜20μm以下の領域にある層厚さ(d)を有する。本発明の枠内において有利には、保護層またはセラミック層は酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムおよび/または酸化シリコンを含み、有利には酸化アルミニウムおよび/または酸化ジルコニウムを含み、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムを含む。とりわけ保護層は、酸化アルミニウムおよび/または酸化ジルコニウムおよび/または酸化シリコンから形成することができ、有利には酸化アルミニウムおよび/または酸化ジルコニウムから形成することができ、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムから形成する。セラミック材料はとりわけ、酸化アルミニウムおよび/または酸化ジルコニウムおよび/または酸化シリコンから形成することができ、有利には酸化アルミニウムおよび/または酸化ジルコニウムから形成することができ、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムから形成する。 Within the framework of the present invention, the protective layer can be formed from a porous ceramic material or from a dense ceramic material. The protective layer in the context of the present invention, the layer thickness in the following areas 0.5μm or more ~50μm (d S) can have, for example, the layer thickness that ~25μm following areas than 5 [mu] m (d S And a layer thickness (d S ) in the region of 10 μm to 20 μm. Within the framework of the invention, the protective layer or ceramic layer preferably comprises aluminum oxide, zirconium oxide and / or silicon oxide, preferably comprises aluminum oxide and / or zirconium oxide, in particular yttrium-doped zirconium oxide. including. In particular, the protective layer can be formed from aluminum oxide and / or zirconium oxide and / or silicon oxide, preferably from aluminum oxide and / or zirconium oxide, in particular from yttrium-doped zirconium oxide. Form. The ceramic material can in particular be formed from aluminum oxide and / or zirconium oxide and / or silicon oxide, preferably from aluminum oxide and / or zirconium oxide, in particular from yttrium-doped zirconium oxide. Form.

本発明の枠内では、第1の測定電極と第2の測定電極との間の間隔(dMM)は100μm以下とすることができ、たとえば80μm以下または70μm以下であり、とりわけ40μm以下である。たとえば、第1の測定電極と第2の測定電極との間の間隔(dMM)は15μm以上〜50μm以下の領域内にし、とりわけ20μm以上〜40μm以下の領域内にすることができる。測定電極および/または金属層または金属含有層は本発明の枠内では、1μm以上〜30μm以下の領域内の厚さ(d)を有することができ、たとえば5μm以上〜20μm以下の領域内の厚さ(d)を有し、とりわけ8μm以上〜18μm以下の領域内の厚さ(d)を有する。 Within the framework of the present invention, the distance (d MM ) between the first measuring electrode and the second measuring electrode can be 100 μm or less, for example 80 μm or less or 70 μm or less, in particular 40 μm or less. . For example, the distance (d MM ) between the first measurement electrode and the second measurement electrode can be in the region of 15 μm to 50 μm, and particularly in the region of 20 μm to 40 μm. The measurement electrode and / or the metal layer or the metal-containing layer can have a thickness (d M ) in the region of 1 μm to 30 μm, for example in the region of 5 μm to 20 μm, within the framework of the present invention. It has a thickness (d M ), and particularly has a thickness (d M ) in a region of 8 μm to 18 μm.

本発明の枠内では測定電極および/または金属層または金属含有層または金属材料または金属含有材料は、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび/またはロジウム等の金属または金属合金を含むことができ、とりわけ白金を含むことができ、または、貴金属/セラミックサーメットを含むことができ、たとえば白金/セラミックサーメットを含むことができ、とりわけ白金/酸化アルミニウムサーメットを含むことができる。とりわけ測定電極および/または金属層または金属含有層は、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび/またはロジウム等の金属または金属合金から形成することができ、とりわけ白金から形成することができ、または、貴金属/セラミックサーメットから形成することができ、たとえば白金/セラミックサーメットから形成することができ、とりわけ白金/酸化アルミニウムサーメットから形成することができる。前記金属材料または金属含有材料はとりわけ、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび/またはロジウム等の金属または金属合金から形成することができ、とりわけ白金から形成することができ、または、貴金属/セラミックサーメットから形成することができ、たとえば白金/セラミックサーメットから形成することができ、とりわけ白金/酸化アルミニウムサーメットから形成することができる。有利には、前記測定電極または金属含有層または金属層は貴金属/セラミックサーメットから形成され、たとえば白金/セラミックサーメットから形成され、とりわけ白金/酸化アルミニウムサーメットから形成されるか、ないしは、前記金属材料または金属含有材料は貴金属/セラミックサーメットから形成され、たとえば白金/セラミックサーメットから形成され、とりわけ白金/酸化アルミニウムサーメットから形成される。   Within the framework of the invention, the measuring electrode and / or the metal layer or metal-containing layer or metal material or metal-containing material can be, for example, platinum, copper, silver, gold, iron, cobalt, nickel, palladium, ruthenium, iridium and / or rhodium. Such as platinum or ceramic cermets, such as platinum / ceramic cermets, in particular platinum / aluminum oxide cermets. Can be included. In particular, the measuring electrode and / or the metal layer or the metal-containing layer can be formed from a metal or metal alloy such as platinum, copper, silver, gold, iron, cobalt, nickel, palladium, ruthenium, iridium and / or rhodium, for example. In particular, it can be formed from platinum or it can be formed from noble metal / ceramic cermets, for example it can be formed from platinum / ceramic cermets, in particular from platinum / aluminum oxide cermets. Said metal material or metal-containing material can be formed from metals or metal alloys such as, for example, platinum, copper, silver, gold, iron, cobalt, nickel, palladium, ruthenium, iridium and / or rhodium, especially from platinum It can be formed or can be formed from a noble metal / ceramic cermet, for example it can be formed from a platinum / ceramic cermet, in particular from a platinum / aluminum oxide cermet. Advantageously, said measuring electrode or metal-containing layer or metal layer is formed from a noble metal / ceramic cermet, for example formed from a platinum / ceramic cermet, in particular from a platinum / aluminum oxide cermet, or the metal material or The metal-containing material is formed from a noble metal / ceramic cermet, for example formed from a platinum / ceramic cermet, especially from a platinum / aluminum oxide cermet.

有利には絶縁層は、本発明の枠内では酸化アルミニウムを含む。たとえば、絶縁層を酸化アルミニウムから形成することができる。   The insulating layer preferably comprises aluminum oxide within the framework of the invention. For example, the insulating layer can be formed from aluminum oxide.

有利には、担体層は本発明の枠内では酸化ジルコニウムを含み、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムおよび/または酸化アルミニウムを含む。たとえば、担体層を酸化ジルコニウムから形成することができ、とりわけ、イットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムおよび/または酸化アルミニウムから形成することができる。   Advantageously, the carrier layer comprises zirconium oxide within the framework of the invention, in particular yttrium-doped zirconium oxide and / or aluminum oxide. For example, the support layer can be formed from zirconium oxide, and in particular from yttrium-doped zirconium oxide and / or aluminum oxide.

本発明はまた、本発明のセンサ素子を工場機器において排ガス検査のために使用するか、または測定装置において空気品質の監視に使用するか、またはすす粒子センサで使用し、とりわけ内燃機関の「オンボード診断」(OBD)および/または運転の監視のためのすす粒子センサで使用するか、または燃焼設備において、たとえばオイル加熱器および/またはオーブンにおいて使用し、かつ/または、パティキュレートフィルタの機能の監視および/またはパティキュレートフィルタの堆積状態の監視および/または化学的な製造工程および/または排気設備および/または排気後処理設備の監視に使用する方法にも関する。前記内燃機関はたとえばディーゼルエンジンであり、前記パティキュレートフィルタはたとえばディーゼルパティキュレートフィルタ(DPF)である。   The invention also uses the sensor element of the invention for exhaust gas inspection in factory equipment, or for air quality monitoring in a measuring device, or in a soot particle sensor, in particular for “on” of an internal combustion engine. Used in soot particle sensors for “board diagnostics” (OBD) and / or operation monitoring, or used in combustion equipment, for example in oil heaters and / or ovens, and / or in the function of particulate filters It also relates to a method used for monitoring and / or monitoring particulate filter deposition and / or chemical manufacturing processes and / or exhaust equipment and / or exhaust aftertreatment equipment. The internal combustion engine is, for example, a diesel engine, and the particulate filter is, for example, a diesel particulate filter (DPF).

本発明によるセンサ素子の概略的な斜視図である。1 is a schematic perspective view of a sensor element according to the present invention. 図1aに示されたセンサ素子を線A‐A′に沿って切断した概略的な断面図である。FIG. 1 b is a schematic cross-sectional view of the sensor element shown in FIG. 1 a taken along line AA ′.

符号の説明Explanation of symbols

1a,1b 保護層
2 測定電極システム
3,4 測定電極
5 絶縁層
7 担体層
1a, 1b Protective layer 2 Measuring electrode system 3, 4 Measuring electrode 5 Insulating layer 7 Carrier layer

Claims (14)

排ガス中の粒子を検出するためのセンサ素子であって、
保護層(1a;1b)と、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極(3)および第2の測定電極(4)を有する測定電極システム(2)と、絶縁層(5)とを有し、
該保護層(1a;1b)は該測定電極(3,4)上に配置されており、該測定電極(3,4)は該絶縁層(5)上に配置されている形式のセンサ素子において、
少なくとも1つの第1の保護層(1a)および第2の保護層(1b)を有し、
該第1の保護層(1a)は該第1の測定電極(3)の上面(6a)に合同に形成および/または配置され、該第2の保護層(1b)は該第2の測定電極(4)の上面(6b)に合同に形成および/または配置され、
該測定電極(3,4)の上面(6a,6b)は、該絶縁層(5)上に配置された該測定電極(3,4)の面(8a,8b)と対向する面であることを特徴とするセンサ素子。
A sensor element for detecting particles in exhaust gas,
A measuring electrode system (2) having a protective layer (1a; 1b), at least one first measuring electrode (3) and a second measuring electrode (4) which are interengaged in a comb-like manner, and an insulating layer ( 5)
In the sensor element of the type in which the protective layer (1a; 1b) is disposed on the measurement electrode (3, 4) and the measurement electrode (3,4) is disposed on the insulating layer (5). ,
Having at least one first protective layer (1a) and second protective layer (1b);
The first protective layer (1a) is jointly formed and / or arranged on the upper surface (6a) of the first measurement electrode (3), and the second protective layer (1b) is the second measurement electrode. Formed and / or arranged jointly on the upper surface (6b) of (4),
The upper surfaces (6a, 6b) of the measurement electrodes (3, 4) are surfaces facing the surfaces (8a, 8b) of the measurement electrodes (3, 4) disposed on the insulating layer (5). A sensor element.
担体層(7)を有し、該担体層(7)は前記絶縁層(5)の下方に配置されている、請求項1記載のセンサ素子。   Sensor element according to claim 1, comprising a carrier layer (7), the carrier layer (7) being arranged below the insulating layer (5). 請求項1または2に記載のセンサ素子の製造方法において、
レーザ構造化手法によって、
・面状の保護層と
・面状の金属含有層または金属層と
・面状の絶縁層
とを含む次のような基体から、すなわち、該保護層は該金属含有層または金属層上に配置され該金属含有層または金属層は該絶縁層上に配置されている基体から材料を除去し、該材料の除去によって、該面状の保護層と該面状の金属含有層または金属層とから、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極(3)および第2の測定電極(4)と少なくとも1つの第1の保護層(1a)と第2の保護層(1b)とを有する測定電極システム(2)を形成し、該測定電極システム(2)の形成時に、該第1の保護層(1a)を該第1の測定電極(3)の上面(6a)と合同に形成および/または配置し、該第2の保護層(1b)を該第2の測定電極(4)の上面(6b)と合同に形成および/または配置することを特徴とする製造方法。
In the manufacturing method of the sensor element according to claim 1 or 2,
By laser structuring technique,
A planar protective layer; a planar metal-containing layer or metal layer; and a planar insulating layer comprising: a protective layer disposed on the metal-containing layer or metal layer; The metal-containing layer or metal layer removes material from the substrate disposed on the insulating layer, and by removing the material, the planar protective layer and the planar metal-containing layer or metal layer are removed. , At least one first measurement electrode (3) and second measurement electrode (4), at least one first protective layer (1a) and second protective layer (1b) which engage with each other in a comb shape. And forming the measurement electrode system (2), the first protective layer (1a) is congruent with the upper surface (6a) of the first measurement electrode (3). Formed and / or disposed on the upper surface of the second measuring electrode (4). Manufacturing method characterized by b) to form and / or arranged in congruence.
・絶縁層の表面上に金属含有層または金属層を全面的にプリントし、
・該金属含有層または金属層上に保護層を全面的にプリントし、
・相互に重なってプリントされた該絶縁層と金属含有層または金属層と保護層とを焼結する
ことによって、前記基体を製造する、請求項3記載の製造方法。
-Print a metal-containing layer or metal layer entirely on the surface of the insulating layer,
-Print the entire surface of the protective layer on the metal-containing layer or metal layer,
4. The manufacturing method according to claim 3, wherein the substrate is manufactured by sintering the insulating layer and the metal-containing layer or the metal layer and the protective layer which are printed to overlap each other.
スクリーン印刷法によって、
・前記絶縁層(5)上に、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極(3)および第2の測定電極(4)を有する測定電極システム(2)をプリントするスクリーン印刷ステップと、
・前記第1の保護層(1a)が該第1の測定電極(3)の上面(6a)と合同に形成および/または配置され、前記第2の保護層(1b)が該第2の測定電極(4)の上面(6b)と合同に形成および/または配置されるように、該第1の測定電極(3)上に該第1の保護層(1a)を、とりわけ正確に位置決めしてプリントし、該第2の測定電極(4)上に該第2の保護層(1b)をとりわけ正確に位置決めしてプリントするスクリーン印刷ステップ
とを行う、請求項3または4記載の製造方法。
By screen printing method,
A screen for printing on the insulating layer (5) a measuring electrode system (2) having at least one first measuring electrode (3) and a second measuring electrode (4) which are interengaged in a comb-like manner; A printing step;
The first protective layer (1a) is formed and / or arranged congruently with the upper surface (6a) of the first measurement electrode (3), and the second protective layer (1b) is the second measurement layer The first protective layer (1a) is positioned particularly precisely on the first measuring electrode (3) so that it is formed and / or arranged congruently with the upper surface (6b) of the electrode (4). 5. The method according to claim 3, wherein printing is performed, and a screen printing step is performed in which the second protective layer (1 b) is particularly accurately positioned and printed on the second measuring electrode (4).
とりわけ焼結された絶縁層(5)上に、微細構造化されたマスクを設け、該マスクの開放領域は、櫛状に相互に係合する少なくとも1つの第1の測定電極(3)および第2の測定電極(4)を有する製造すべき測定電極システム(2)の構造に相応し、
該開放領域に、第1の物理的気相蒸着("physical vapor deposition", PVD)または第1の化学的気相蒸着("chemical vapor deposition", CVD)によって金属含有材料または金属材料をコーティングし、
該金属含有材料または金属材料がコーティングされた領域に、該マスクの位置を維持しながら、第2の物理的気相蒸着("physical vapor deposition", PVD)または第2の化学的気相蒸着("chemical vapor deposition", CVD)によってセラミック材料をコーティングする、請求項3から5までのいずれか1項記載の製造方法。
In particular, a microstructured mask is provided on the sintered insulating layer (5), the open area of the mask comprising at least one first measuring electrode (3) and a second interdigitated intercombination. Corresponding to the structure of the measuring electrode system (2) to be manufactured with two measuring electrodes (4),
The open area is coated with a metal-containing material or a metal material by a first physical vapor deposition (“PVD”) or a first chemical vapor deposition (“CVD”). ,
A second physical vapor deposition (PVD) or second chemical vapor deposition (PVD) while maintaining the position of the mask in the metal-containing or metal-coated region. 6. The method according to claim 3, wherein the ceramic material is coated by "chemical vapor deposition" (CVD).
前記絶縁層(5)を予め担体層(7)に全面的にプリントする、請求項5から7までのいずれか1項記載の製造方法。   The method according to any one of claims 5 to 7, wherein the insulating layer (5) is printed in advance on the carrier layer (7) in advance. 前記保護層(1a,1b)は、多孔質または高密度のセラミック材料から形成される、請求項1または2に記載のセンサ素子または請求項3から7までのいずれか1項記載の製造方法。   The sensor element according to claim 1 or 2, or the manufacturing method according to any one of claims 3 to 7, wherein the protective layer (1a, 1b) is formed of a porous or high-density ceramic material. 前記保護層(1a,1b)は、0.5μm以上〜50μm以下の領域にある層厚さ(d)を有することができ、たとえば5μm以上〜25μm以下の領域にある層厚さ(d)を有し、とりわけ10μm以上〜20μm以下の領域にある層厚さ(d)を有する、請求項1または2または8記載のセンサ素子または請求項3から8までのいずれか1項記載の製造方法。 The protective layer (1a, 1b) may have a layer thickness (d S ) in a region of 0.5 μm to 50 μm, for example, a layer thickness (d S in a region of 5 μm to 25 μm). The sensor element according to claim 1, 2 or 8, or any one of claims 3 to 8, in particular having a layer thickness (d S ) in the region from 10 μm to 20 μm. Production method. 前記保護層(1a,1b)または前記セラミック材料は、酸化アルミニウムおよび/または酸化ジルコニウムおよび/または酸化シリコンを含み、有利には酸化アルミニウムおよび/または酸化ジルコニウムを含み、とりわけイットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムを含む、請求項1または2または8または9記載のセンサ素子または請求項3から9までのいずれか1項記載の製造方法。   Said protective layer (1a, 1b) or said ceramic material comprises aluminum oxide and / or zirconium oxide and / or silicon oxide, preferably comprising aluminum oxide and / or zirconium oxide, in particular yttrium-doped zirconium oxide. 10. The sensor element according to claim 1 or 2 or 8 or 9, or the production method according to any one of claims 3 to 9. 前記第1の測定電極(3)と第2の測定電極(4)との間の間隔(dMM)は100μm以下であり、たとえば80μm以下であり、とりわけ40μm以下である、請求項1または2または8〜10のいずれか1項記載のセンサ素子または請求項3から10までのいずれか1項記載の製造方法。 3. The distance (d MM ) between the first measuring electrode (3) and the second measuring electrode (4) is not more than 100 μm, for example not more than 80 μm, in particular not more than 40 μm. Or the sensor element of any one of 8-10, or the manufacturing method of any one of Claim 3-10. 前記測定電極(3,4)または前記金属層または前記金属含有層または前記金属材料または前記金属含有材料は、たとえば白金、銅、銀、金、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、イリジウムおよび/またはロジウム等の金属または金属合金を含むことができ、とりわけ白金を含むことができ、または、貴金属/セラミックサーメットを含むことができ、たとえば白金/セラミックサーメットを含むことができ、とりわけ白金/酸化アルミニウムサーメットを含む、請求項1または2または8〜11のいずれか1項記載のセンサ素子または請求項3から11までのいずれか1項記載の製造方法。   The measurement electrode (3, 4) or the metal layer or the metal-containing layer or the metal material or the metal-containing material is, for example, platinum, copper, silver, gold, iron, cobalt, nickel, palladium, ruthenium, iridium and / or Or a metal or metal alloy such as rhodium, in particular platinum, or a noble metal / ceramic cermet, for example a platinum / ceramic cermet, in particular platinum / aluminum oxide. The sensor element according to any one of claims 1 or 2, or 8 to 11, or a production method according to any one of claims 3 to 11, comprising cermet. 前記絶縁層(5)は酸化アルミニウムを含む、請求項1または2または8〜12のいずれか1項記載のセンサ素子または請求項3から12までのいずれか1項記載の製造方法。   The sensor element according to claim 1, 2 or 8 to 12, or the manufacturing method according to any one of claims 3 to 12, wherein the insulating layer (5) contains aluminum oxide. 前記担体層(7)は酸化ジルコニウムおよび/または酸化アルミニウムを含み、とりわけイットリウムドーピングされた酸化ジルコニウムを含む、請求項1または2または8〜13のいずれか1項記載のセンサ素子または請求項3から13までのいずれか1項記載の製造方法。   Sensor element or claim 3 according to claim 1 or 2 or 8 to 13, wherein the carrier layer (7) comprises zirconium oxide and / or aluminum oxide, in particular comprising yttrium-doped zirconium oxide. 14. The manufacturing method according to any one of up to 13.
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