JP2009070979A - 半導体レーザモジュールおよびレーザ光源 - Google Patents
半導体レーザモジュールおよびレーザ光源 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】半導体レーザと、半導体レーザの素子長で決まる共振波長間隔よりも狭い反射帯域を有するファイバグレーティングとを組み合わせた半導体レーザモジュールにおいて、半導体レーザからの出射光を、平行光に変換する第1レンズと、平行光をファイバに光学的に結合させる第2レンズと、第1レンズと第2レンズとの間の光軸上に配置され、半導体レーザの発振波長で屈折率が負となる光学材料とを備えた。
【選択図】図4
Description
図5に、本発明の一実施形態にかかる半導体レーザモジュールの構成を示す。ファイバ72の先端付近にFBG73を形成する。LD71からの出射光は、レンズ74により平行光に変換され、レンズ75によりファイバ72に結合される。レンズ74,75を用いて結合するので、作製トレランスを大きく取れるので実装工程が容易になる。LD71の端面反射率は、レンズに近い側(表面)の反射率を0.1%以下、反対側(裏面)の反射率を90%とした。LD71の裏面とFBG73との間の共振器長は約2.4cmあり、波長スペクトル上に約23pm間隔でのピークが生じることになる。
本実施形態では、屈折率が負となる材料として、フォトニック結晶を用いる。フォトニック結晶は、微細な構造を周期的にアレイ状に取り込むことにより、自然界では得られないような屈折率の分散関係を実現することができるという特徴を有する。図8および図9に、実施例1にかかる屈折率が負となる材料を示す。フォトニック結晶101は、Si基板102上に、複数のピラー103が、アレイ状に形成されている。ピラー103は、ポリジメチルシロキサン(PDMS)ポリイミドを組み合わせたポリマー材料(屈折率1.5)を、Si基板102上に積層し、エッチング加工により形成する。
11a,12a 駆動回路
11b,12b 温度制御回路
13,33,43,73 ファイバグレーティング(FBG)
14 光カップラ
15 波長変換素子
32,42,72 ファイバ
34 先端部分
44,45,74,75 レンズ
46,76 フェルール
77 光学材料
Claims (3)
- 半導体レーザと、該半導体レーザの素子長で決まる共振波長間隔よりも狭い反射帯域を有するファイバグレーティングとを組み合わせた半導体レーザモジュールにおいて、
前記半導体レーザからの出射光を、平行光に変換する第1レンズと、
前記平行光をファイバに光学的に結合させる第2レンズと、
前記第1レンズと前記第2レンズとの間の光軸上に配置され、前記半導体レーザの発振波長で屈折率が負となる光学材料と
を備えたことを特徴とする半導体レーザモジュール。 - 第1のレーザ光を発生する第1のレーザと、第2のレーザ光を発生する第2のレーザと、前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とを入力し、差周波発生または和周波発生によりコヒーレント光を出力する非線形光学結晶とを含むレーザ光源において、
前記第1のレーザは、半導体レーザと、該半導体レーザの素子長で決まる共振波長間隔よりも狭い反射帯域を有するファイバグレーティングとから構成され、
前記第2のレーザは、回折格子を内蔵し、前記第2のレーザ光の波長を掃引することができる波長可変光源であり、
前記第1のレーザと前記ファイバグレーティングとの間の光軸上に配置され、前記半導体レーザの発振波長で屈折率が負となる光学材料により、ファイバグレーティング帯域内に選択される波長が単一となることを特徴とするレーザ光源。 - 前記光学材料の両端に、前記第1のレーザの発振波長に対して反射防止構造を有していることを特徴とする請求項2に記載のレーザ光源。
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JP2011119541A (ja) * | 2009-12-04 | 2011-06-16 | Tokai Univ | 光ファイバー結合外部共振器型半導体レーザーを用いたガス検出センサー |
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