JP2009070890A - 基板処理装置のクリーニング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、クリーニング搬送部材を用いて基板処理装置をクリーニングする方法であって、該クリーニング搬送部材は搬送部材の表面に該表面からの仰角が90度未満で突出したアスペクト比が1以上の斜め柱状構造体の集合層を備え、該クリーニング搬送部材を清浄処理した後に用いる。
【選択図】図1
Description
(1+cosθ)rL=2√(rS drL d)+2√(rS vrL v)・・・(1)
ただし、式中の各記号は、それぞれ以下の通りである。
θ:接触角
rL:接触角測定液体の表面自由エネルギー
rL d:rLにおける分散力成分
rL v:rLにおける極性力成分
rS d:固体の表面自由エネルギーにおける分散力成分
rS v:固体の表面自由エネルギーにおける極性力成分
斜め柱状構造体の形成は、図5に示す巻き取り式電子ビーム(EB)真空蒸着装置を使用した。搬送部材として8インチ半導体ウェハ、蒸発源として二酸化シリコン(SiO2)を用い、チャンバー内到達真空度1×10−4torr、ライン速度0.22m/分、蒸着入射角60度の条件にて作製した。
支持体表面に対して水およびヨウ化メチレンを用いてそれぞれ接触角を測定し、上述の式(1)より表面自由エネルギーを算出した。
斜め柱状構造体のアスペクト比は、表面および断面SEM観察により、斜め柱状構造体表面直径と長さを測定し、長さ/直径として算出した。
斜め柱状構造体の高さは、断面SEM観察により測定した。
8インチシリコンウェハ上に平均粒子径0.5μmのシリコン粉末を粒子数およそ10000個となるように均一に付着させた。次に、斜め柱状構造体を有する粘着テープをシリコン粉末が付着した8インチシリコンウェハ上に貼り合せ、1分間接触させた。1分後、粘着テープを取り除き、パーティクルカウンター(KLA tencor製、SurfScan−6200)にて、0.5μmのシリコン粉末粒子の個数を測定し、除塵率を評価した。測定は三度行い、その平均を求めた。
EB出力(エミッション電流)を400mAとして蒸発源のSiO2を蒸発させ、斜め柱状構造体を搬送部材上に形成し、クリーニング搬送部材(1)を得た。
クリーニング搬送部材(1)のクリーニング層(集合層)の表面の水接触角、表面自由エネルギー、斜め柱状構造体の傾斜角度、長さ、直径、アスペクト比を表1に示す。
クリーニング搬送部材(1)を用いて1回目の除塵性評価を行った。さらに、1回目の除塵性評価後のクリーニング搬送部材(1)について、オゾン水洗浄(濃度:20ppm)、SC−1洗浄(NH4OH:H2O2:H2O=1:1:100)、純水洗浄を行い、クリーニング層の清浄処理を行った。その後、2回目の除塵性評価を行った。評価結果を表1に示す。
実施例1で得られたクリーニング搬送部材(1)について、1回目の除塵性評価後にクリーニング層の清浄処理を行わずに2回目の除塵性評価を行った。評価結果を表1に示す。
EB出力(エミッション電流)を200mAとした以外は実施例1と同様に行い、クリーニング搬送部材(C2)を得た。
クリーニング搬送部材(C2)のクリーニング層(集合層)の表面の水接触角、表面自由エネルギー、斜め柱状構造体の傾斜角度、長さ、直径、アスペクト比を表1に示す。
クリーニング搬送部材(C2)を用いて1回目の除塵性評価を行った。さらに、1回目の除塵性評価後のクリーニング搬送部材(C2)について、オゾン水洗浄(濃度:20ppm)、SC−1洗浄(NH4OH:H2O2:H2O=1:1:100)、純水洗浄を行い、クリーニング層の清浄処理を行った。その後、2回目の除塵性評価を行った。評価結果を表1に示す。
アクリル酸−2−エチルヘキシル75部、アクリル酸メチル20部、およびアクリル酸5部からなるモノマー混合液から得たアクリルポリマー(重量平均分子量:70万)100部に対して、ポリエチレングリコ―ル200ジメタクリレ―ト(新中村化学製、商品名:「NKエステル4G」)200部、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製、商品名:「コロネートL」)3部、エポキシ系化合物(三菱瓦斯化学製、商品名:「テトラッドC」)2部、および光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(チバ・スペシャリティケミカルズ製、商品名:「イルガキュアー651」)3部を均一に混合して、紫外線硬化型粘着剤溶液Aを調整した。
これとは別に、温度計、攪拌機、窒素導入管、および還流冷却管を備えた内容量が500mlの3つ口フラスコ型反応器内に、アクリル酸2−エチルへキシル73部、アクリル酸n−ブチル10部、N,N−ジメチルアクリルアミド15部、およびアクリル酸5部、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.15部、酢酸エチル100部を、全体が200gになるように配合して投入し、窒素ガスを約1時間導入しながら攪拌し、内部の空気を窒素で置換した。その後、内部の温度を58℃にし、この状態で約4時間保持して重合を行い、粘着剤ポリマー溶液を得た。粘着剤ポリマー溶液100部にポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製、商品名:「コロネートL」)3部を均一に混合し、粘着剤溶液Bを得た。
片面がシリコーン系離型剤にて処理された長尺ポリエステルフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム製、商品名:「MRF50N100」、厚み50μm、幅250mm)のシリコーン離型処理面に、上記粘着剤溶液Bを乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布し、その粘着剤層上に長尺ポリエステルフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム製、商品名:「N100D25」、厚さ25μm、幅250mm)を積層した。さらにそのフィルム上に紫外線硬化型粘着剤溶液Aを乾燥後の厚みが30μmとなるように塗布してクリーニング層としての粘着剤層を設け、その表面に片面がシリコーン系離型剤にて処理された長尺ポリエステルフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム製、商品名:「MRF25N100」、厚み25μm、幅250mm)のシリコーン離型処理面に貼り合わせて、積層シートを得た。この積層シートに中心波長365nmの紫外線を積算光量1000mJ/cm2で照射して、紫外線硬化したクリーニング層を有するクリーニングシートを得た。クリーニングシートの通常の粘着剤層側の保護フィルムを剥がし、8インチシリコンウェハのミラー面にハンドローラで貼り付け、クリーニング搬送部材を作製した。
作製したクリーニング搬送部材について1回目の除塵性評価を行った。その後、実施例1と同様の条件にて清浄処理を行ったが、洗浄中にクリーニングシートが搬送部材から剥離してしまったため、2回目の除塵性評価を中止した。
結果を表1に示す。
20 集合層
30 斜め柱状構造体
40 蒸着ロール
50 遮へい板
60 蒸着源
100 粘着テープ
Claims (6)
- クリーニング搬送部材を用いて基板処理装置をクリーニングする方法であって、該クリーニング搬送部材は搬送部材の表面に該表面からの仰角が90度未満で突出したアスペクト比が1以上の斜め柱状構造体の集合層を備え、該クリーニング搬送部材を清浄処理した後に用いる、基板処理装置のクリーニング方法。
- 前記斜め柱状構造体が無機系酸化物から形成されたものである、請求項1に記載のクリーニング方法。
- 前記搬送部材が半導体ウェハである、請求項1または2に記載のクリーニング方法。
- 前記斜め柱状構造体の長さが100nm以上である、請求項1から3までのいずれかに記載のクリーニング方法。
- 前記搬送部材の表面の単位面積当たりの前記斜め柱状構造体の本数が、1×108本/cm2以上である、請求項1から4までのいずれかに記載のクリーニング方法。
- 前記集合層の表面の水接触角が10度以下である、請求項1から5までのいずれかに記載のクリーニング方法。
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