JP2009063607A - Electro-optical device, method for controlling electro-optical device, and electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、発光素子などの電気光学素子を制御する技術に関する。 The present invention relates to a technique for controlling an electro-optical element such as a light-emitting element.
電気光学素子に供給される駆動電流をトランジスタ(以下「駆動トランジスタ」という)のゲートの電位に応じて制御する電気光学装置においては、駆動トランジスタの閾値電圧のバラツキに起因した各電気光学素子の階調のムラが問題となる。特許文献1には、各画素回路の駆動トランジスタをダイオード接続してゲートを自身の閾値電圧に応じた電位に収束させてからゲートの電位をデータに応じて変化させることで、駆動トランジスタの閾値電圧のバラツキを補償する技術が開示されている。
しかし、特許文献1の技術においては、各電気光学素子について多数のトランジスタと多数の配線とが必要であるから、電気光学素子の構成が複雑化するという問題がある。また、特許文献1の技術においては、画素回路を制御するための手順が複雑であるから、各画素回路を駆動する周辺回路の規模が肥大化するという問題もある。以上の事情を背景として、本発明は、駆動トランジスタの閾値電圧のバラツキの影響を簡易な構成によって補償するという課題の解決をひとつの目的としている。
However, the technique of
以上の課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置は、データ信号に応じて電位が設定されるゲートと当該ゲートの電位に応じて形成されるチャネルを制御する特性制御電極とを含む駆動トランジスタ、および、駆動トランジスタに流れる駆動電流に応じて階調が変化する電気光学素子を各々が含む複数の単位回路と、各駆動トランジスタのゲートを所定の電位に設定するとともに各駆動トランジスタの特性制御電極に特性制御電位を供給したときの電気光学素子の階調が複数の単位回路にわたって均一化されるように単位回路毎に設定された当該特性制御電位を、各単位回路の駆動トランジスタの特性制御電極に供給する電位制御回路とを具備する。なお、電気光学素子とは、電気エネルギの供給(電圧の印加や電流の供給)によって階調(輝度や透過率)が変化する素子である。 In order to solve the above problems, an electro-optical device according to the invention includes a gate whose potential is set according to a data signal and a characteristic control electrode that controls a channel formed according to the potential of the gate. A plurality of unit circuits each including a drive transistor and an electro-optical element whose gradation changes according to a drive current flowing through the drive transistor, and the gate of each drive transistor is set to a predetermined potential and the characteristics of each drive transistor The characteristic control potential set for each unit circuit is set so that the gradation of the electro-optic element is uniform over a plurality of unit circuits when the characteristic control potential is supplied to the control electrode. And a potential control circuit to be supplied to the control electrode. Note that an electro-optical element is an element whose gradation (brightness and transmittance) changes with the supply of electric energy (application of voltage or supply of current).
以上の構成によれば、各単位回路における駆動トランジスタの特性制御電極に供給される特性制御電位が単位回路毎に設定されるから、特許文献1と比較して簡易な構成で、各駆動トランジスタの閾値電圧のバラツキ(電気光学素子の階調のムラ)を補償することが可能である。なお、特性制御電極は、半導体層を挟んでゲートに対向するバックゲート(例えば図3のバックゲートB)や、半導体層のチャネルコンタクト領域に導通するチャネル電極(例えば図10のチャネル電極26)である。
According to the above configuration, since the characteristic control potential supplied to the characteristic control electrode of the driving transistor in each unit circuit is set for each unit circuit, the configuration of each driving transistor is simpler than that in
本発明の好適な態様において、複数の単位回路の各々は、特性制御電極の電位を保持する容量素子を含む。以上の構成によれば、駆動トランジスタの動作中に電位制御回路が特性制御電位を保持する必要がないという利点がある。 In a preferred aspect of the present invention, each of the plurality of unit circuits includes a capacitive element that holds the potential of the characteristic control electrode. According to the above configuration, there is an advantage that the potential control circuit does not need to hold the characteristic control potential during the operation of the drive transistor.
本発明の好適な態様において、複数の単位回路の各々は、駆動トランジスタの特性制御電極と電位供給線との電気的な接続を制御する第1スイッチング素子(例えば図2や図7や図9におけるスイッチング素子SW1)を具備し、電位制御回路は、各単位回路の第1スイッチング素子がオン状態にある期間内に、当該単位回路に対応した電位供給線に特性制御電位を供給する。以上の構成によれば、各駆動トランジスタの特性制御電極に対する特性制御電位の供給の可否が第1スイッチング素子によって制御されるから、例えば、複数の単位回路の駆動トランジスタに対して時分割で特性制御電位を供給することが可能となる。 In a preferred aspect of the present invention, each of the plurality of unit circuits includes a first switching element (for example, in FIGS. 2, 7, and 9) that controls electrical connection between the characteristic control electrode of the driving transistor and the potential supply line. The potential control circuit supplies the characteristic control potential to the potential supply line corresponding to the unit circuit within a period in which the first switching element of each unit circuit is in the ON state. According to the above configuration, whether or not the characteristic control potential can be supplied to the characteristic control electrode of each driving transistor is controlled by the first switching element. For example, the characteristic control is performed in a time division manner for the driving transistors of a plurality of unit circuits. A potential can be supplied.
本発明の好適な態様において、複数の単位回路の各々は、駆動トランジスタのゲートとデータ信号が供給される信号線との電気的な接続を制御する第2スイッチング素子を含み、各単位回路における第1スイッチング素子と第2スイッチング素子とは、共通の制御線に供給される信号に応じて制御される。以上の構成によれば、第1スイッチング素子および第2スイッチング素子の制御に共通の信号が共用されるから、第1スイッチング素子と第2スイッチング素子とが別個の信号によって制御される構成と比較して各単位回路の構成が簡素化されるという利点がある。 In a preferred aspect of the present invention, each of the plurality of unit circuits includes a second switching element that controls electrical connection between the gate of the driving transistor and a signal line to which a data signal is supplied. The 1 switching element and the 2nd switching element are controlled according to the signal supplied to a common control line. According to the above configuration, since a common signal is shared for control of the first switching element and the second switching element, the first switching element and the second switching element are compared with the configuration controlled by separate signals. This has the advantage that the configuration of each unit circuit is simplified.
本発明の好適な態様に係る電気光学装置は、複数の単位回路の各々について、ゲートが所定の電位に設定されたときに駆動トランジスタに流れる検出電流を検出する検出手段と、検出手段が検出した検出電流に応じて各単位回路の特性制御電位を設定する設定手段とを具備する。以上の態様によれば、実際に駆動トランジスタに流れる検出電流に応じて各特性制御電位が設定されるから、例えば電気光学素子の階調を測定するための装置は不要である。また、駆動トランジスタの特性の経時的な変化が補償されるように各特性制御電位を設定することも可能である。 In the electro-optical device according to a preferred aspect of the present invention, for each of the plurality of unit circuits, a detection unit that detects a detection current that flows through the driving transistor when the gate is set to a predetermined potential, and the detection unit detects Setting means for setting the characteristic control potential of each unit circuit according to the detected current. According to the above aspect, since each characteristic control potential is set according to the detection current that actually flows through the drive transistor, for example, an apparatus for measuring the gradation of the electro-optic element is not necessary. It is also possible to set each characteristic control potential so that a change with time of the characteristics of the driving transistor is compensated.
本発明に係る電気光学装置は各種の電子機器に利用される。電子機器の典型例は、電気光学装置を表示装置として利用した機器である。本発明に係る電子機器としてはパーソナルコンピュータや携帯電話機が例示される。もっとも、本発明に係る電気光学装置の用途は画像の表示に限定されない。例えば、光線の照射によって感光体ドラムなどの像担持体に潜像を形成するための露光装置(露光ヘッド)としても本発明の電気光学装置を適用することができる。 The electro-optical device according to the invention is used in various electronic apparatuses. A typical example of an electronic device is a device that uses an electro-optical device as a display device. Examples of the electronic apparatus according to the present invention include a personal computer and a mobile phone. However, the use of the electro-optical device according to the present invention is not limited to image display. For example, the electro-optical device of the present invention can also be applied as an exposure device (exposure head) for forming a latent image on an image carrier such as a photosensitive drum by irradiation of light.
本発明は、以上の各態様に係る複数の単位回路を具備する電気光学装置を制御する方法としても特定される。本発明に係る電気光学装置の駆動方法は、各駆動トランジスタのゲートを所定の電位に設定するとともに各駆動トランジスタの特性制御電極に特性制御電位を供給したときの電気光学素子の階調が複数の単位回路にわたって均一化されるように単位回路毎に設定された当該特性制御電位を、各単位回路の駆動トランジスタの特性制御電極に供給する。以上の方法によれば、本発明の電気光学装置と同様の作用および効果が奏される。さらに好適な方法においては、複数の単位回路の各々について、ゲートが所定の電位に設定されたときに駆動トランジスタに流れる検出電流を検出し、検出電流に応じて各単位回路の特性制御電位を設定する。 The present invention is also specified as a method for controlling an electro-optical device including a plurality of unit circuits according to each of the above aspects. In the electro-optical device driving method according to the present invention, the gate of each driving transistor is set to a predetermined potential, and the gradation of the electro-optical element has a plurality of gradations when the characteristic control potential is supplied to the characteristic control electrode of each driving transistor. The characteristic control potential set for each unit circuit so as to be uniform over the unit circuits is supplied to the characteristic control electrode of the drive transistor of each unit circuit. According to the above method, the same operation and effect as the electro-optical device of the present invention are exhibited. In a more preferable method, for each of the plurality of unit circuits, a detection current flowing through the driving transistor when the gate is set to a predetermined potential is detected, and a characteristic control potential of each unit circuit is set according to the detection current. To do.
<A:第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る電気光学装置(表示装置)の構成を示すブロック図である。同図に示すように、電気光学装置100は、複数の単位回路(画素回路)Uが配列された素子アレイ部10と、各単位回路Uを駆動するための周辺回路(制御線駆動回路32,信号供給回路34,電位制御回路36,制御回路40)とを具備する。
<A: First Embodiment>
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an electro-optical device (display device) according to a first embodiment of the present invention. As shown in the figure, the electro-
素子アレイ部10には、X方向に延在するm組の制御線群12と、X方向に交差するY方向に延在するn本の信号線14と、各信号線14に対をなしてY方向に延在するn本の電位供給線16とが形成される(mおよびnの各々は2以上の自然数)。各単位回路Uは、制御線群12と信号線14との各交差に対応して配置される。したがって、素子アレイ部10の全体では、X方向およびY方向にわたって縦m行×横n列の行列状に単位回路Uが配列する。
The
図2は、各単位回路Uの具体的な構成を示す回路図である。なお、同図においては、第i行(i=1〜m)に属する第j列目(j=1〜n)のひとつの単位回路Uのみが代表的に図示されている。図2に示すように、図1における各制御線群12は3本の制御線(LSL,LBG,LDR)で構成される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of each unit circuit U. In the drawing, only one unit circuit U in the j-th column (j = 1 to n) belonging to the i-th row (i = 1 to m) is representatively shown. As shown in FIG. 2, each
単位回路Uは電気光学素子Eを含む。本形態の電気光学素子Eは、相互に対向する陽極と陰極との間に有機EL(Electroluminescence)材料の発光層が介在する有機EL素子である。電気光学素子Eは、発光層に供給される駆動電流IDRの電流量に応じた階調(輝度)に駆動される。電気光学素子Eの陰極は低位側電源GNDに接続される。 The unit circuit U includes an electro-optic element E. The electro-optical element E of this embodiment is an organic EL element in which a light emitting layer of an organic EL (Electroluminescence) material is interposed between an anode and a cathode that face each other. The electro-optical element E is driven at a gradation (luminance) corresponding to the amount of drive current IDR supplied to the light emitting layer. The cathode of the electro-optic element E is connected to the lower power supply GND.
駆動電流IDRの経路上(高位側電源VELと電気光学素子Eの陽極との間)にはNチャネル型の駆動トランジスタTDRが配置される。駆動トランジスタTDRは、自身のゲートGの電位VG(ゲート−ソース間の電圧)に応じて駆動電流IDRの電流量を制御する手段である。駆動トランジスタTDRのゲートGと低位側電源GNDとの間には容量素子C1が介在する。なお、容量素子C1は、低位側電源GND以外の定電位の配線とゲートGとの間に介在してもよい。 An N-channel type drive transistor TDR is arranged on the path of the drive current IDR (between the high-potential power supply VEL and the anode of the electro-optic element E). The drive transistor TDR is means for controlling the amount of drive current IDR according to the potential VG (gate-source voltage) of its gate G. A capacitive element C1 is interposed between the gate G of the driving transistor TDR and the lower power supply GND. The capacitive element C1 may be interposed between the gate G and a constant potential wiring other than the low-potential power supply GND.
図3は、駆動トランジスタTDRの具体的な構造を例示する断面図である。図2および図3に示すように、駆動トランジスタTDRは、ゲートGとソースSとドレインDとに加えてバックゲートBを有する4端子型の薄膜トランジスタである。駆動トランジスタTDRは、絶縁性の基板20の表面に各電気光学素子Eとともに形成される。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a specific structure of the drive transistor TDR. As shown in FIGS. 2 and 3, the driving transistor TDR is a four-terminal thin film transistor having a back gate B in addition to a gate G, a source S, and a drain D. The drive transistor TDR is formed together with each electro-optic element E on the surface of the
図3に示すように、基板20の表面にバックゲートBが形成される。バックゲートBはゲート絶縁膜21で覆われ、ゲート絶縁膜21の表面に半導体層(例えばポリシリコンの膜体)22が形成される。半導体層22の表面上のゲート絶縁膜23を挟んで半導体層22のチャネル領域と対向するようにゲートGが形成される。すなわち、バックゲートBは、半導体層22を挟んでゲートGとは反対側に形成される。半導体層22のソース領域には層間絶縁層24の貫通孔を介してソースSが接続され、半導体層22のドレイン領域には層間絶縁層24の貫通孔を介してドレインDが接続される。
As shown in FIG. 3, the back gate B is formed on the surface of the
図4は、駆動トランジスタTDRのゲート−ソース間の電圧VG(横軸)とソース−ドレイン間に流れる駆動電流IDR(縦軸)との関係を図示したグラフである。ゲートGの電位VGに応じて半導体層22に形成されたチャネルの厚さは、バックゲートBの電位VB(バックゲート−ソース間の電圧)に応じて変化する。したがって、駆動電流IDRの電流量はバックゲートBの電位VBに応じて増減する。すなわち、図4に示すように、バックゲートBの電位VBが上昇するほど駆動トランジスタTDRの閾値電圧VTHが低下するから、ゲートGの電位VGに対する駆動電流IDRの電流量は増大する。また、バックゲートBの電位VBが低下するほど駆動トランジスタTDRの閾値電圧VTHが上昇するから、ゲートGの電位VGに対する駆動電流IDRの電流量は減少する。以上のように、バックゲートBは、駆動トランジスタTDRの電気的な特性を制御するための電極(特性制御電極)として機能する。
FIG. 4 is a graph illustrating the relationship between the gate-source voltage VG (horizontal axis) of the drive transistor TDR and the drive current IDR (vertical axis) flowing between the source and drain. The thickness of the channel formed in the
図2に示すように、単位回路Uは3個のスイッチング素子SW(SW1,SW2,SW3)を含む。各スイッチング素子SWは、駆動トランジスタTDRとともに基板20の表面に形成されたNチャネル型の薄膜トランジスタである。
As shown in FIG. 2, the unit circuit U includes three switching elements SW (SW1, SW2, SW3). Each switching element SW is an N-channel thin film transistor formed on the surface of the
スイッチング素子SW1は、駆動トランジスタTDRのバックゲートBと第j列目の電位供給線16との間に介在して両者の電気的な接続(導通/非導通)を制御する。第i行に属するn個の単位回路Uの各々におけるスイッチング素子SW1のゲートは第i行目の制御線LBGに対して共通に接続される。また、駆動トランジスタTDRのバックゲートBと低位側電源GNDとの間には、バックゲートBの電位VBを保持するための容量素子C2が介在する。なお、容量素子C2は、低位側電源GND以外の定電位の配線とバックゲートBとの間に介在してもよい。
The switching element SW1 is interposed between the back gate B of the driving transistor TDR and the
スイッチング素子SW2は、駆動トランジスタTDRのゲートGと第j列目の信号線14との間に介在して両者の電気的な接続を制御する。第i行に属するn個の単位回路Uの各々におけるスイッチング素子SW2のゲートは第i行目の制御線LSLに対して共通に接続される。
The switching element SW2 is interposed between the gate G of the drive transistor TDR and the
スイッチング素子SW3は、駆動トランジスタTDRのソースSと電気光学素子Eの陽極との間(すなわち駆動電流IDRの経路上)に介在して両者の電気的な接続を制御する。第i行に属するn個の単位回路Uの各々におけるスイッチング素子SW3のゲートは第i行目の制御線LDRに対して共通に接続される。スイッチング素子SW3が導通することで駆動電流IDRの経路が確立するから、スイッチング素子SW3は、電気光学素子Eに対する駆動電流IDRの供給の可否を制御する手段として機能する。 The switching element SW3 is interposed between the source S of the driving transistor TDR and the anode of the electro-optical element E (that is, on the path of the driving current IDR) and controls the electrical connection between them. The gate of the switching element SW3 in each of the n unit circuits U belonging to the i-th row is commonly connected to the i-th row control line LDR. Since the path of the drive current IDR is established by the conduction of the switching element SW3, the switching element SW3 functions as a means for controlling whether or not the drive current IDR can be supplied to the electro-optical element E.
次に、図5を参照しながら周辺回路の機能を説明する。制御線駆動回路32は、m組の制御線群12の各々の各制御線(LSL,LBG,LDR)を駆動する回路である。第1に、制御線駆動回路32は、各単位回路Uを行単位で順番に選択するための制御信号GSL[1]〜GSL[m]を生成して各制御線LSLに出力する。図5に示すように、第i行の制御線LSLに供給される制御信号GSL[i]は、フレーム期間F内に設定されたm個の期間(以下「書込期間」という)PWRのうち第i番目の書込期間PWRにてハイレベルに設定され、当該書込期間PWR以外の期間にてローレベルを維持する。
Next, the function of the peripheral circuit will be described with reference to FIG. The control
第2に、制御線駆動回路32は、制御信号GBG[1]〜GBG[m]を生成して各制御線LBGに出力する。図5に示すように、第i行の制御線LBGに供給される制御信号GBG[i]は、制御信号GSL[i]と同じ波形である。第3に、制御線駆動回路32は、制御信号GDR[1]〜GDR[m]を生成して各制御線LDRに出力する。図5に示すように、第i行の制御線LDRに供給される制御信号GDR[i]は、制御信号GSL[i]がハイレベルとなる書込期間PWRの経過後から次に制御信号GSL[i]がハイレベルとなる書込期間PWRの開始前までの所定の期間(以下「駆動期間」という)PDRにてハイレベルに設定され、駆動期間PDR以外の期間(書込期間PWRを含む)にてローレベルを維持する。なお、制御信号GSL[1]〜GSL[m]と制御信号GBG[1]〜GBG[m]と制御信号GDR[1]〜GDR[m]とが別個の回路で生成される構成も採用される。
Second, the control
図1の信号供給回路34は、各単位回路Uの階調を指定するデータ信号D[1]〜D[n]を生成して各信号線14に出力する。第j列目の信号線14に供給されるデータ信号D[j]は、制御信号GSL[i]がハイレベルとなる書込期間PWRにおいて、第i行に属する第j列目の単位回路Uに指定された階調に応じた電位VDATAに設定される。
The
図1の制御回路40は、同期信号など各種の信号を出力することで制御線駆動回路32と信号供給回路34と電位制御回路36とを制御する。図1に示すように制御回路40は記憶回路42を具備する。記憶回路42は、素子アレイ部10を構成する各単位回路U(m×n個)について個別に補正データA[1,1]〜A[m,n]を記憶する。補正データA[i,j]は、第i行に属する第j列目の単位回路Uにおける駆動トランジスタTDRの閾値電圧VTHのバラツキを補償するためのデータである。なお、補正データA[i,j]の詳細については後述する。
The
電位制御回路36は、特性制御電位V[1]〜V[n]を生成して各電位供給線16に出力する。第j列目の電位供給線16に供給される特性制御電位V[j]は、制御信号GBG[i]がハイレベルとなる書込期間PWRにおいて、記憶回路42に格納された補正データA[i,j]に応じた電位に設定される。
The
次に、第i行に属する第j列目の単位回路Uの動作を説明する。書込期間PWRにて制御信号GSL[i]がハイレベルに変化すると(すなわち第i行が選択されると)、スイッチング素子SW2がオン状態に遷移する。したがって、データ信号D[j]の電位VDATAが第j列目の信号線14からスイッチング素子SW2を介して駆動トランジスタTDRのゲートGに供給されるとともに当該電位VDATAに応じた電荷が容量素子C1に蓄積される。すなわち、駆動トランジスタTDRのゲートGの電位VGはデータ信号D[j]の電位VDATAに設定および保持される。
Next, the operation of the unit circuit U in the j-th column belonging to the i-th row will be described. When the control signal GSL [i] changes to a high level in the writing period PWR (that is, when the i-th row is selected), the switching element SW2 is turned on. Therefore, the potential VDATA of the data signal D [j] is supplied from the
また、書込期間PWRでは制御信号GBG[i]が制御信号GSL[i]とともにハイレベルに設定されるから、スイッチング素子SW1がオン状態に遷移して駆動トランジスタTDRのバックゲートBと第j列目の電位供給線16とが電気的に接続される。したがって、補正データA[i,j]に応じた特性制御電位V[j]が電位制御回路36から駆動トランジスタTDRのバックゲートBに供給されるとともに、当該特性制御電位V[j]に応じた電荷が容量素子C2に蓄積される。すなわち、第i行に属する第j列目の単位回路Uにおける駆動トランジスタTDRのバックゲートBの電位VBは補正データA[i,j]に応じた特性制御電位V[j]に設定および保持される。換言すると、駆動トランジスタTDRの電気的な特性(ゲートGの電位VGと駆動電流IDRの電流量との関係)が特性制御電位V[j](補正データA[i,j])に応じて補正される。
Further, in the writing period PWR, the control signal GBG [i] is set to a high level together with the control signal GSL [i], so that the switching element SW1 is turned on and the back gate B of the driving transistor TDR and the jth column The eye
書込期間PWRの経過後の駆動期間PDRにて制御信号GDR[i]がハイレベルに遷移すると、スイッチング素子SW3がオン状態に遷移して駆動電流IDRの経路が確立する。駆動期間PDRにおいても、駆動トランジスタTDRのゲートGの電位VGおよびバックゲートBの電位VBは直前の書込期間PWRにて設定された電位に維持される。したがって、駆動トランジスタTDRのゲートGの電位VGに応じた電流量を特性制御電位V[j](補正データA[i,j])に応じて補正した駆動電流IDRが、高位側電源VELから駆動トランジスタTDRとスイッチング素子SW3とを経由して電気光学素子Eに供給される。電気光学素子Eは、駆動電流IDRの電流量に応じた強度(すなわちデータ信号D[j]の電位VDATAと特性制御電位V[j]とに応じた強度)で発光する。以上の手順で各電気光学素子Eの階調が制御されることで素子アレイ部10には所望の画像が表示される。
When the control signal GDR [i] transitions to a high level in the driving period PDR after the writing period PWR has elapsed, the switching element SW3 transitions to the on state and the path of the driving current IDR is established. Also in the driving period PDR, the potential VG of the gate G and the potential VB of the back gate B of the driving transistor TDR are maintained at the potential set in the immediately preceding writing period PWR. Therefore, the drive current IDR obtained by correcting the amount of current according to the potential VG of the gate G of the drive transistor TDR according to the characteristic control potential V [j] (correction data A [i, j]) is driven from the high-order power supply VEL. It is supplied to the electro-optical element E through the transistor TDR and the switching element SW3. The electro-optical element E emits light with an intensity corresponding to the amount of the drive current IDR (that is, an intensity corresponding to the potential VDATA and the characteristic control potential V [j] of the data signal D [j]). A desired image is displayed on the
補正データA[1,1]〜A[m,n](特性制御電位V[1]〜V[n])は、各単位回路Uにおける駆動トランジスタTDRのゲートGの電位VGを所定値に設定したときの各電気光学素子Eの階調が素子アレイ部10の総ての単位回路Uにわたって均一化されるように設定される。例えば、同じ電位VDATAのデータ信号D[1]〜D[n]を各単位回路Uに供給して電気光学素子Eを駆動した場合(すなわち総ての単位回路Uに同階調を指示した場合)の素子アレイ部10を撮像装置によって撮像し、各電気光学素子Eの実際の輝度(階調)を測定する。そして、各電気光学素子Eの階調が均一化されるように、各単位回路Uの輝度の実測値に基づいて補正データA[1,1]〜A[m,n]が選定される。
The correction data A [1,1] to A [m, n] (characteristic control potential V [1] to V [n]) sets the potential VG of the gate G of the driving transistor TDR in each unit circuit U to a predetermined value. In this case, the gradation of each electro-optical element E is set to be uniform over all the unit circuits U of the
図4に例示したように、Nチャネル型の駆動トランジスタTDRにおいては、バックゲートBの電位VBが低下するほどゲートGの電位VGに対する駆動電流IDRの電流量(駆動能力)は減少する。したがって、輝度の実測値が目標値に合致する単位回路Uの特性制御電位V[j]を基準値VREF1とすると、輝度の実測値が目標値よりも低い単位回路Uに供給される特性制御電位V[j]が基準値VREF1よりも高位となり、輝度の実測値が目標値よりも高い単位回路Uに供給される特性制御電位V[j]が基準値VREF1よりも低位となるように、補正データA[1,1]〜A[m,n]が設定される。 As illustrated in FIG. 4, in the N-channel type drive transistor TDR, the amount of drive current IDR (drive capability) with respect to the potential VG of the gate G decreases as the potential VB of the back gate B decreases. Therefore, when the characteristic control potential V [j] of the unit circuit U whose measured luminance value matches the target value is the reference value VREF1, the characteristic control potential supplied to the unit circuit U whose measured luminance value is lower than the target value. Correction is made so that the characteristic control potential V [j] supplied to the unit circuit U where the V [j] is higher than the reference value VREF1 and the measured luminance value is higher than the target value is lower than the reference value VREF1. Data A [1,1] to A [m, n] are set.
いま、各電気光学素子Eの電気的および光学的な特性が各単位回路Uについて同等であると仮定すると、補正データA[1,1]〜A[m,n]は、各駆動トランジスタTDRの閾値電圧VTHが所定値に均一化されるように設定されると言うこともできる。図4に例示したように、Nチャネル型の駆動トランジスタTDRにおいては、バックゲートBの電位VBが上昇するほど閾値電圧VTHが低下する。したがって、閾値電圧VTHが目標値に合致する駆動トランジスタTDRに供給される特性制御電位V[j]を基準値VREF2とすると、閾値電圧VTHが目標値よりも低い駆動トランジスタTDRに供給される特性制御電位V[j]が基準値VREF2よりも低位となり、閾値電圧VTHが目標値よりも高い駆動トランジスタTDRに供給される特性制御電位V[j]が基準値VREF2よりも高位となるように、補正データA[1,1]〜A[m,n]が設定される。 Assuming that the electrical and optical characteristics of each electro-optical element E are the same for each unit circuit U, the correction data A [1,1] to A [m, n] are stored in each drive transistor TDR. It can also be said that the threshold voltage VTH is set to be equalized to a predetermined value. As illustrated in FIG. 4, in the N-channel type drive transistor TDR, the threshold voltage VTH decreases as the potential VB of the back gate B increases. Therefore, if the characteristic control potential V [j] supplied to the drive transistor TDR whose threshold voltage VTH matches the target value is the reference value VREF2, the characteristic control supplied to the drive transistor TDR whose threshold voltage VTH is lower than the target value. Correction is made so that the potential V [j] is lower than the reference value VREF2, and the characteristic control potential V [j] supplied to the drive transistor TDR whose threshold voltage VTH is higher than the target value is higher than the reference value VREF2. Data A [1,1] to A [m, n] are set.
以上に説明したように、本形態においては、単位回路U毎に設定された特性制御電位V[j]が各単位回路Uの駆動トランジスタTDRのバックゲートBに供給されるから、駆動トランジスタTDRの電気的な特性のバラツキ(各単位回路U間での特性の相違や経時的な劣化に起因した設計値からのズレ)が補償される。したがって、素子アレイ部10における階調のムラを抑制することが可能である。また、特許文献1の技術のような多数のトランジスタや多数の配線は各単位回路Uに不要であるから、多数の単位回路Uが高精細に配列された電気光学装置100にも容易に適用される。また、各単位回路Uの駆動の手順も極めて簡便であるから、特許文献1の構成と比較して周辺回路の規模の肥大化が抑制されるという利点もある。
As described above, in this embodiment, since the characteristic control potential V [j] set for each unit circuit U is supplied to the back gate B of the drive transistor TDR of each unit circuit U, the drive transistor TDR Variations in electrical characteristics (deviations from design values due to differences in characteristics between unit circuits U and deterioration over time) are compensated. Therefore, gradation unevenness in the
<B:第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第1実施形態においては、各単位回路Uを駆動したときの各電気光学素子Eの輝度の実測値に基づいて補正データA[1,1]〜A[m,n](特性制御電位V[1]〜V[j])を選定した。第2実施形態においては、各単位回路Uの駆動トランジスタTDRの電気的な特性を検出する機能と検出の結果に基づいて補正データA[1,1]〜A[m,n]を設定する機能とを電気光学装置100が具備する。なお、以下の各形態において作用や機能が第1実施形態と共通する要素については以上と同じ符号を付して、各々の詳細な説明を適宜に省略する。
<B: Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the first embodiment, the correction data A [1,1] to A [m, n] (characteristic control potential V [] is based on the measured luminance value of each electro-optical element E when each unit circuit U is driven. 1] to V [j]) were selected. In the second embodiment, the function of detecting the electrical characteristics of the drive transistor TDR of each unit circuit U and the function of setting the correction data A [1,1] to A [m, n] based on the detection result Are provided in the electro-
図6は、電気光学装置100の構成を示すブロック図である。同図に示すように、電気光学装置100の素子アレイ部10の内部には、各信号線14に対をなしてY方向に延在するn本の検出線18が形成される。第j列目の検出線18には、第j列目の各単位回路Uにおける駆動トランジスタTDRの電気的な特性を反映した検出電流IDT[j]が出力される。図6の検出回路52は、各検出線18に流れる検出電流IDT[1]〜IDT[n]を取得して設定回路54に順次に出力する。設定回路54は、検出電流IDT[1]〜IDT[n]に基づいて記憶回路42の補正データA[1,1]〜A[m,n]を生成および更新する。
FIG. 6 is a block diagram illustrating a configuration of the electro-
図7は、第i行に属する第j列目の単位回路Uの構成を示す回路図である。同図に示すように、制御線群12は、第1実施形態の3本の制御線(LSL,LBG,LDR)に加えて制御線LDTを含む。制御線駆動回路32は、制御信号GDT[1]〜GDT[m]を生成して各制御線LDTに出力する。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of the unit circuit U in the j-th column belonging to the i-th row. As shown in the figure, the
図7に示すように、単位回路Uは、第1実施形態の単位回路Uにスイッチング素子SW4を追加した構成である。スイッチング素子SW4は、駆動トランジスタTDRとともに基板20の表面に形成されたNチャネル型の薄膜トランジスタである。スイッチング素子SW4は、駆動電流IDRの経路(具体的には駆動トランジスタTDRのソースS)と第j列目の検出線18との間に介在して両者の電気的な接続を制御する。第i行に属するn個の単位回路Uの各々におけるスイッチング素子SW4のゲートは第i行目の制御線LDTに対して共通に接続される。なお、駆動トランジスタTDRのドレインDと第j列目の検出線18との間にスイッチング素子SW4を介在させた構成も採用される。
As shown in FIG. 7, the unit circuit U has a configuration in which a switching element SW4 is added to the unit circuit U of the first embodiment. The switching element SW4 is an N-channel type thin film transistor formed on the surface of the
図8は、第i行に属する第j列目の単位回路Uに供給される各信号の波形を示すタイミングチャートである。図8に示すように、制御信号GSL[i]は、書込期間PWRと当該書込期間PWRの直前の検出期間PDTにてハイレベルに設定される。制御信号GBG[i]は、制御信号GSL[i]と同様に、検出期間PDTおよび書込期間PWRにてハイレベルに設定される。制御信号GDR[i]は、制御信号GSL[i]がハイレベルとなる書込期間PWRの経過後から次に制御信号GSL[i]がハイレベルとなる検出期間PDTの開始前までの駆動期間PDRにてハイレベルに設定される。また、第i行目の制御線LDTに供給される制御信号GDT[i]は、制御信号GSL[i]がハイレベルとなる検出期間PDTにてハイレベルに設定され、検出期間PDT以外の期間(書込期間PWRおよび駆動期間PDRを含む)にてローレベルを維持する。 FIG. 8 is a timing chart showing waveforms of signals supplied to the unit circuit U in the j-th column belonging to the i-th row. As shown in FIG. 8, the control signal GSL [i] is set to the high level in the writing period PWR and the detection period PDT immediately before the writing period PWR. Similar to the control signal GSL [i], the control signal GBG [i] is set to a high level in the detection period PDT and the writing period PWR. The control signal GDR [i] is a driving period from the elapse of the writing period PWR in which the control signal GSL [i] is at the high level to the next start of the detection period PDT in which the control signal GSL [i] is at the high level. High level is set by PDR. Further, the control signal GDT [i] supplied to the control line LDT in the i-th row is set to the high level in the detection period PDT in which the control signal GSL [i] is at the high level, and is a period other than the detection period PDT. The low level is maintained (including the writing period PWR and the driving period PDR).
信号供給回路34は、制御信号GDT[1]〜GDT[m]の各々がハイレベルとなる検出期間PDTにてデータ信号D[1]〜D[n]を所定の電位VDTに設定し、書込期間PWRにおいては第1実施形態と同様にデータ信号D[1]〜D[n]を電位VDATAに設定する。電位VDTは、ゲートGに供給された場合に駆動トランジスタTDRが導通するように設定される。また、電位制御回路36は、制御信号GSL[i]や制御信号GBG[i]がハイレベルとなる期間のうち、検出期間PDTにおいて、n本の電位供給線16に対して所定の初期化電位VRSを供給するとともに、当該検出期間PDTに続く書込期間PWRにおいて、補正データA[i,j]に応じた特性制御電位V[j]を第j列目の電位供給線16に供給する。
The
次に、第i行の第j列に着目して単位回路Uの具体的な動作を説明する。検出期間PDTにて制御信号GSL[i]がハイレベルに変化してスイッチング素子SW2がオン状態に遷移すると、第j列目の信号線14に供給されているデータ信号D[j]の電位VDTがスイッチング素子SW2を介して駆動トランジスタTDRのゲートGに供給される。また、制御信号GSL[i]とともに制御信号GBG[i]がハイレベルに変化することでスイッチング素子SW1がオン状態に遷移するから、検出期間PDTにおいては、初期化電位VRSが電位供給線16からスイッチング素子SW1を介して駆動トランジスタTDRのバックゲートBに供給される。
Next, a specific operation of the unit circuit U will be described by focusing on the i-th row and the j-th column. When the control signal GSL [i] changes to a high level during the detection period PDT and the switching element SW2 is turned on, the potential VDT of the data signal D [j] supplied to the
さらに、検出期間PDTでは制御信号GDT[i]がハイレベルに設定されるから、スイッチング素子SW4がオン状態に遷移することで駆動トランジスタTDRのソースSと第j列目の検出線18とが電気的に接続される。制御信号GDR[i]がローレベルに設定されることでスイッチング素子SW3はオフ状態を維持するから、検出期間PDTにおいては、駆動トランジスタTDRのゲートGの電位VG(VDT)とバックゲートBの電位VB(VRS)とに応じた検出電流IDT[j]が、高位側電源VELから駆動トランジスタTDRとスイッチング素子SW4と第j列目の検出線18とを経由して検出回路52に供給される。検出回路52は、検出電流IDT[1]〜IDT[n]を順番に設定回路54に出力する。
Further, since the control signal GDT [i] is set to a high level in the detection period PDT, the source S of the driving transistor TDR and the
設定回路54は、駆動期間PDRにおける各電気光学素子Eの階調(各駆動トランジスタTDRに流れる駆動電流IDRの電流量)が均一化されるように、各検出電流IDT[1]〜IDT[n]に応じて第i行目の補正データA[i,1]〜A[i,n]を生成して記憶回路42に格納する。例えば、検出電流IDT[j]の電流量が目標値に合致する場合の特性制御電位V[j]を基準値VREF3とすると、目標値を下回る電流量の検出電流IDT[j]が検出された単位回路Uに供給される特性制御電位V[j]が基準値VREF3よりも高位となり、目標値を上回る電流量の検出電流IDT[j]が検出された単位回路Uに供給される特性制御電位V[j]が基準値VREF3よりも低位となるように、設定回路54は補正データA[i,1]〜A[i,n](換言すると特性制御電位V[1]〜V[n])を設定する。
The setting
書込期間PWRにおいては、直前の検出期間PDTにて設定回路54が設定した補正データA[i,1]〜A[i,n]に応じた特性制御電位V[1]〜V[n]が電位制御回路36から各電位供給線16に出力され、ハイレベルの制御信号GBG[i]によってオン状態となったスイッチング素子SW1を介して駆動トランジスタTDRのバックゲートBに供給される。書込期間PWRにおいて駆動トランジスタTDRのゲートGにデータ信号D[j]の電位VDATAが供給される動作や、駆動期間PDRにおいて駆動電流IDRが電気光学素子Eに供給される動作は第1実施形態と同様である。
In the writing period PWR, characteristic control potentials V [1] to V [n] corresponding to the correction data A [i, 1] to A [i, n] set by the setting
以上に説明したように、単位回路U毎に設定された特性制御電位V[j]が駆動トランジスタTDRのバックゲートBに供給されるから、第1実施形態と同様に、駆動トランジスタTDRの電気的な特性のバラツキが補償される。また、各駆動トランジスタTDRに実際に流れる検出電流IDT[1]〜IDT[n]に基づいて補正データA[1,1]〜A[m,n](特性制御電位V[1]〜V[n])が更新されるから、補正データA[1,1]〜A[m,n]の設定に際して、素子アレイ部10を観察するための撮像装置は不要である。また、撮像装置が不要であるから、電気光学装置100の出荷後の任意の時点にて補正データA[1,1]〜A[m,n]を容易に更新することが可能である。したがって、各駆動トランジスタTDRの電気的な特性が経時的に変化した場合であっても、変化後の特性のバラツキが補償されるように補正データA[1,1]〜A[m,n](特性制御電位V[1]〜V[n])を更新することで各電気光学素子Eの階調を均一化できるという利点がある。さらに、書込期間PWRにて特性制御電位V[j]に設定されたバックゲートBの電位VBは、駆動期間PDRの経過後の検出期間PDTにて初期化電位VRSに初期化されるから、駆動トランジスタTDRの電気的な特性を正確に反映した検出電流IDT[1]〜IDT[n]が出力される。したがって、駆動トランジスタTDRの特性のバラツキを高精度に補償し得る補正データA[1,1]〜A[m,n](特性制御電位V[1]〜V[n])を設定することができる。
As described above, since the characteristic control potential V [j] set for each unit circuit U is supplied to the back gate B of the drive transistor TDR, the electrical characteristics of the drive transistor TDR are the same as in the first embodiment. Variation in various characteristics is compensated. In addition, correction data A [1,1] to A [m, n] (characteristic control potentials V [1] to V [V] are calculated based on the detection currents IDT [1] to IDT [n] that actually flow through the drive transistors TDR. n]) is updated, an imaging device for observing the
<C:第3実施形態>
図9は、本発明の第3実施形態に係る電気光学装置100の単位回路Uの構成を示す回路図である。図9に示すように、本形態の制御線群12は制御線LSLと制御線LDRとで構成され、制御線LBGを含まない。制御線LSLには、スイッチング素子SW1およびスイッチング素子SW2の双方のゲートが接続される。したがって、スイッチング素子SW1とスイッチング素子SW2とは、制御線駆動回路32が制御線LSLに供給する共通の制御信号GSL[i]に応じて制御される。すなわち、書込期間PWRにおいては制御信号GSL[i]がハイレベルに遷移することでスイッチング素子SW1とスイッチング素子SW2とが導通するから、第1実施形態と同様に、駆動トランジスタTDRのゲートGの電位VGがデータ信号D[j]の電位VDATAに設定されるとともに駆動トランジスタTDRのバックゲートBの電位VBが特性制御電位V[j]に設定される。したがって、第1実施形態と同様の効果が奏される。
<C: Third Embodiment>
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of the unit circuit U of the electro-
本形態によれば、制御信号GSL[i]がスイッチング素子SW1およびスイッチング素子SW2の双方の制御に兼用されるから、各々が別個の信号で制御される第1実施形態と比較して、素子アレイ部10内の配線数が削減されるとともに制御線駆動回路32の構成が簡素化されるという利点がある。なお、図9においては、第1実施形態の単位回路Uの変形を例示したが、第2実施形態の単位回路Uも同様に変形される。すなわち、図7のスイッチング素子SW1およびスイッチング素子SW2が共通の制御線LSLに接続される。
According to the present embodiment, since the control signal GSL [i] is used for both the switching element SW1 and the switching element SW2, the element array is compared with the first embodiment in which each is controlled by a separate signal. There are advantages that the number of wirings in the
<D:変形例>
以上の各形態には様々な変形が加えられる。具体的な変形の態様を例示すれば以下の通りである。なお、以下の例示から2以上の態様を任意に選択して組合わせてもよい。
<D: Modification>
Various modifications are added to the above embodiments. An example of a specific modification is as follows. Two or more aspects may be arbitrarily selected from the following examples and combined.
(1)変形例1
以上の各形態においては駆動トランジスタTDRのバックゲートBの電位VBを制御したが、駆動トランジスタTDRの電気的な特性を調整(補正)するための構成としては、例えば以下に例示するチャネルコンタクト(ボディコンタクト)構造も好適に採用される。
(1)
In each of the above embodiments, the potential VB of the back gate B of the drive transistor TDR is controlled. As a configuration for adjusting (correcting) the electrical characteristics of the drive transistor TDR, for example, a channel contact (body described below) A contact structure is also preferably employed.
図10は、チャネルコンタクト構造を採用したNチャネル型の駆動トランジスタTDRの構成を示す平面図である。駆動トランジスタTDRは、基板20(図10では図示略)の表面に形成された半導体層25を有する。半導体層25を覆うゲート絶縁膜(図示略)を挟んで半導体層25と対向するようにゲートGが形成される。半導体層25にはソース領域25sとドレイン領域25dとチャネルコンタクト領域25cとがゲートGの作成後に形成される。ソース領域25sおよびドレイン領域25dは、N型の不純物が導入された領域である。チャネルコンタクト領域25cは、駆動トランジスタTDRのチャネルと同じ導電型であるN型の不純物が導入された領域である。
FIG. 10 is a plan view showing the configuration of an N-channel type drive transistor TDR employing a channel contact structure. The drive transistor TDR has a
半導体層25およびゲートGを被覆するように層間絶縁層(図示略)が形成される。層間絶縁層には複数の貫通孔(H1,H2,H3)が形成される。半導体層25のソース領域25sには貫通孔H1を介してソースSが接続され、ドレイン領域25dには貫通孔H2を介してドレインDが接続される。また、半導体層25のチャネルコンタクト領域25cには貫通孔H3を介してチャネル電極26が接続される。
An interlayer insulating layer (not shown) is formed so as to cover the
単位回路Uの構成は以上の各形態と同様である。図10に示すように、駆動トランジスタTDRのチャネル電極26がスイッチング素子SW1を介して電位供給線16に接続される。したがって、制御信号GBG[i](第3実施形態では制御信号GSL[i])がハイレベルに遷移すると、電位制御回路36の出力した特性制御電位V[j]が電位供給線16とスイッチング素子SW1とチャネル電極26とを介して駆動トランジスタTDRのチャネルコンタクト領域25cに供給される。駆動トランジスタTDRの電気的な特性(ゲートGの電位VGと駆動電流IDRの電流量との関係)はチャネルコンタクト領域25cの電位に応じて変化する。したがって、チャネルコンタクト構造を採用した構成においても、補正データA[1,1]〜A[m,n](特性制御電位V[1]〜V[n])を適宜に制御することで、第1実施形態と同様に各電気光学素子Eの階調のムラを抑制することが可能である。
The configuration of the unit circuit U is the same as that of the above embodiments. As shown in FIG. 10, the
以上に説明したように、ゲートGの電位VGに応じて半導体層に形成されるチャネルを制御する特性制御電極(バックゲートBやチャネル電極26)が駆動トランジスタTDRに形成され、単位回路U毎に設定された特性制御電位V[j]が特性制御電極に供給される構成が好適に採用される。 As described above, the characteristic control electrode (back gate B or channel electrode 26) for controlling the channel formed in the semiconductor layer in accordance with the potential VG of the gate G is formed in the drive transistor TDR, and for each unit circuit U. A configuration in which the set characteristic control potential V [j] is supplied to the characteristic control electrode is preferably employed.
(2)変形例2
以上の各形態においては、各フレーム期間Fの書込期間PWRにて特性制御電位V[j]をバックゲートB(図10ではチャネル電極26)に供給したが、特性制御電位V[j]を単位回路Uに供給する時期や回数は任意である。例えば、所定数毎のフレーム期間Fのみで書込期間PWR内に特性制御電位V[j]を供給する構成や、書込期間PWRや駆動期間PDRとは別個に設定された期間にて特性制御電位V[j]を供給する構成も採用される。また、電気光学装置100の電源が投入された直後に特性制御電位V[j]を供給する構成や、フレーム期間Fとは無関係に設定された所定の時間毎に特性制御電位V[j]を供給する構成も好適である。図2や図7のように単位回路Uの容量素子C2に特性制御電位V[j]が保持される構成においては、容量素子C2の電圧が電荷のリークによって顕著に低下する前に特性制御電位V[j]を新たに供給する(容量素子C2の電圧をリフレッシュする)ことが望ましい。
(2)
In each of the above embodiments, the characteristic control potential V [j] is supplied to the back gate B (the
(3)変形例3
第2実施形態においては、各書込期間PWRの直前に検出電流IDT[1]〜IDT[n]を検出する構成を例示したが、検出電流IDT[1]〜IDT[n]の検出(補正データA[i,1]〜A[i,n]の更新)の時期や回数は任意である。例えば、所定数毎のフレーム期間Fにて検出電流IDT[1]〜IDT[n]を検出する構成や、電気光学装置100の電源が投入された直後または所定の時間毎に検出電流IDT[1]〜IDT[n]を検出する構成も採用される。また、ひとつのフレーム期間Fの検出期間PDTにおける検出電流IDT[1]〜IDT[n]から設定された補正データA[i,1]〜A[i,n]を、次回以降のフレーム期間Fの書込期間PWRにおいて電位制御回路36が特性制御電位V[1]〜V[n]の生成に利用する構成も好適である。以上の構成によれば、検出期間PDTにおける検出電流IDT[1]〜IDT[n]を直後の書込期間PWRでの特性制御電位V[1]〜V[n]に反映させる必要がないから、検出回路52や設定回路54に要求される動作の速度が緩和されるという利点がある。
(3)
In the second embodiment, the configuration in which the detection currents IDT [1] to IDT [n] are detected immediately before each writing period PWR is exemplified. However, the detection (correction) of the detection currents IDT [1] to IDT [n] is exemplified. The timing and frequency of data A [i, 1] to A [i, n] are arbitrary. For example, a configuration in which the detection currents IDT [1] to IDT [n] are detected in a predetermined number of frame periods F, or a detection current IDT [1] immediately after the electro-
(4)変形例4
単位回路Uの構成は適宜に変更される。例えば、各駆動トランジスタTDRのバックゲートB(図10ではチャネル電極26)を単位回路U毎に個別に電位制御回路36に接続した構成(電位制御回路36が駆動トランジスタTDRに特性制御電位V[j]を供給し続ける構成)を採用すれば、容量素子C2やスイッチング素子SW1を省略することも可能である。また、単位回路Uが単列に配列する電気光学装置100(例えば電子写真方式の画像形成装置に採用される露光装置)においては各単位回路Uを行単位で選択するという動作が不要であるから、スイッチング素子SW2が省略されるとともに駆動トランジスタTDRのゲートGが直接的に信号線14に接続される。さらに、書込期間PWRにおける電気光学素子Eの発光が特段の問題とならない場合には、スイッチング素子SW3を省略した構成(書込期間PWRにおいても駆動電流IDRが電気光学素子Eに供給される構成)も採用される。
(4) Modification 4
The configuration of the unit circuit U is changed as appropriate. For example, the back gate B (
また、単位回路Uを構成する各トランジスタの導電型は任意である。例えば、Pチャネル型の薄膜トランジスタが駆動トランジスタTDRとして採用される。Pチャネル型の駆動トランジスタTDRにおいては、バックゲートB(または図10のチャネル電極26)の電位VBが上昇するほどゲートGの電位VGに対する駆動電流IDRの電流量は減少する。したがって、電気光学素子Eの階調が低い(駆動トランジスタTDRの閾値電圧VTHが低く駆動電流IDRの電流量が小さい)単位回路Uの特性制御電位V[j]は、電気光学素子Eの階調が高い(駆動トランジスタTDRの閾値電圧VTHが高く駆動電流IDRの電流量が大きい)単位回路Uの特性制御電位V[j]と比較して低位に設定される。
The conductivity type of each transistor constituting the unit circuit U is arbitrary. For example, a P-channel type thin film transistor is employed as the drive transistor TDR. In the P-channel type drive transistor TDR, the amount of drive current IDR with respect to the potential VG of the gate G decreases as the potential VB of the back gate B (or the
(5)変形例5
有機EL素子は電気光学素子Eの例示に過ぎない。例えば、無機EL素子やLED(Light Emitting Diode)素子などの発光素子も電気光学素子Eとして採用される。以上の各形態における電気光学素子Eは、駆動電流IDRの供給によって光学的な特性(輝度)が変化する素子である。
(5) Modification 5
The organic EL element is only an example of the electro-optical element E. For example, light-emitting elements such as inorganic EL elements and LED (Light Emitting Diode) elements are also used as the electro-optical element E. The electro-optical element E in each of the above embodiments is an element whose optical characteristics (luminance) are changed by supplying the drive current IDR.
<E:応用例>
次に、本発明に係る電気光学装置を利用した電子機器について説明する。図11ないし図13には、以上に説明した何れかの形態に係る電気光学装置100を表示装置として採用した電子機器の形態が図示されている。
<E: Application example>
Next, electronic equipment using the electro-optical device according to the invention will be described. FIGS. 11 to 13 show a form of an electronic apparatus that employs the electro-
図11は、電気光学装置100を採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ2000は、各種の画像を表示する電気光学装置100と、電源スイッチ2001やキーボード2002が設置された本体部2010とを具備する。電気光学装置100は有機発光ダイオード素子を電気光学素子Eとして使用しているので、視野角が広く見易い画面を表示できる。
FIG. 11 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile personal computer that employs the electro-
図12は、電気光学装置100を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001およびスクロールボタン3002と、各種の画像を表示する電気光学装置100とを備える。スクロールボタン3002を操作することによって、電気光学装置100に表示される画面がスクロールされる。
FIG. 12 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile phone to which the electro-
図13は、電気光学装置100を適用した携帯情報端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す斜視図である。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001および電源スイッチ4002と、各種の画像を表示する電気光学装置100とを備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった様々な情報が電気光学装置100に表示される。
FIG. 13 is a perspective view illustrating a configuration of a personal digital assistant (PDA) to which the electro-
なお、本発明に係る電気光学装置が適用される電子機器としては、図11から図13に例示した機器のほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、プリンタ、スキャナ、複写機、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。また、本発明に係る電気光学装置の用途は画像の表示に限定されない。例えば、電子写真方式の画像形成装置において露光により感光体ドラムに潜像を形成する露光装置としても本発明の電気光学装置は利用される。 The electronic apparatus to which the electro-optical device according to the present invention is applied includes the digital still camera, the television, the video camera, the car navigation device, the pager, the electronic notebook, and the electronic paper in addition to the apparatuses illustrated in FIGS. Calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, printers, scanners, copiers, video players, devices with touch panels, and the like. The use of the electro-optical device according to the invention is not limited to image display. For example, the electro-optical device of the present invention is also used as an exposure device that forms a latent image on a photosensitive drum by exposure in an electrophotographic image forming device.
100……電気光学装置、U……単位回路、10……素子アレイ部、12……制御線群、LSL,LBG,LDR……制御線、14……信号線、16……電位供給線、18……検出線、32……制御線駆動回路、34……信号供給回路、36……電位制御回路、40……制御回路、42……記憶回路、52……検出回路、54……設定回路、E……電気光学素子、TDR……駆動トランジスタ、SW1〜SW4……スイッチング素子、C1,C2……容量素子、GSL[i](GSL[1]〜GSL[m]),GBG[i](GBG[1]〜GBG[m]),GDR[i](GDR[1]〜GDR[m]),GDT[i](GDT[1]〜GDT[m])……制御信号、D[j](D[1]〜D[n])……データ信号、V[j](V[1]〜V[n])……特性制御電位、IDT[j](IDT[1]〜IDT[n])……検出電流、A[1,1]〜A[m,n]……補正データ。
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記各駆動トランジスタのゲートを所定の電位に設定するとともに前記各駆動トランジスタの特性制御電極に特性制御電位を供給したときの前記電気光学素子の階調が前記複数の単位回路にわたって均一化されるように前記単位回路毎に設定された当該特性制御電位を、前記各単位回路の駆動トランジスタの特性制御電極に供給する電位制御回路と
を具備する電気光学装置。 A driving transistor including a gate whose potential is set in accordance with a data signal and a characteristic control electrode for controlling a channel formed in accordance with the potential of the gate, and a gray scale level in accordance with a driving current flowing in the driving transistor A plurality of unit circuits each including a varying electro-optic element;
The gate of each driving transistor is set to a predetermined potential, and the gradation of the electro-optic element when the characteristic control potential is supplied to the characteristic control electrode of each driving transistor is made uniform over the plurality of unit circuits. And an electric potential control circuit for supplying the characteristic control potential set for each unit circuit to the characteristic control electrode of the drive transistor of each unit circuit.
請求項1の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein each of the plurality of unit circuits includes a capacitive element that holds a potential of the characteristic control electrode.
前記電位制御回路は、前記各単位回路の前記第1スイッチング素子がオン状態にある期間内に、当該単位回路に対応した電位供給線に前記特性制御電位を供給する
請求項1または請求項2の電気光学装置。 Each of the plurality of unit circuits includes a first switching element that controls electrical connection between a characteristic control electrode of the driving transistor and a potential supply line,
3. The potential control circuit supplies the characteristic control potential to a potential supply line corresponding to the unit circuit within a period in which the first switching element of each unit circuit is in an ON state. Electro-optic device.
前記各単位回路における前記第1スイッチング素子と前記第2スイッチング素子とは、共通の制御線に供給される信号に応じて制御される
請求項3の電気光学装置。 Each of the plurality of unit circuits includes a second switching element that controls electrical connection between a gate of the driving transistor and a signal line to which the data signal is supplied,
The electro-optical device according to claim 3, wherein the first switching element and the second switching element in each unit circuit are controlled according to a signal supplied to a common control line.
前記検出手段が検出した検出電流に応じて前記各単位回路の特性制御電位を設定する設定手段と
を具備する請求項1から請求項4の何れかの電気光学装置。 For each of the plurality of unit circuits, detection means for detecting a detection current flowing through the drive transistor when the gate is set to a predetermined potential;
5. The electro-optical device according to claim 1, further comprising: a setting unit that sets a characteristic control potential of each unit circuit in accordance with a detection current detected by the detection unit.
前記駆動トランジスタは、データ信号に応じて電位が設定されるゲートと、当該ゲートの電位に応じて形成されるチャネルを制御する特性制御電極とを含み、
前記各駆動トランジスタのゲートを所定の電位に設定するとともに前記各駆動トランジスタの特性制御電極に特性制御電位を供給したときの前記電気光学素子の階調が前記複数の単位回路にわたって均一化されるように前記単位回路毎に設定された当該特性制御電位を、前記各単位回路の駆動トランジスタの特性制御電極に供給する
電気光学装置の制御方法。 A method of controlling an electro-optical device including a plurality of unit circuits each including an electro-optical element whose gradation changes according to a driving current flowing in a driving transistor,
The drive transistor includes a gate whose potential is set according to a data signal, and a characteristic control electrode that controls a channel formed according to the potential of the gate,
The gate of each driving transistor is set to a predetermined potential, and the gradation of the electro-optical element when the characteristic control potential is supplied to the characteristic control electrode of each driving transistor is made uniform over the plurality of unit circuits. A control method for an electro-optical device, wherein the characteristic control potential set for each unit circuit is supplied to a characteristic control electrode of a drive transistor of each unit circuit.
前記検出電流に応じて前記各単位回路の特性制御電位を設定する
請求項7の電気光学装置の制御方法。
For each of the plurality of unit circuits, a detection current flowing through the drive transistor when the gate is set to a predetermined potential is detected,
The method of controlling an electro-optical device according to claim 7, wherein a characteristic control potential of each unit circuit is set according to the detection current.
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