JP2009058453A - アレイ製造方法、シンチレータアレイ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のシンチレータ結晶110を二次元状に配列してから、間隙に充填した混合液を凝固させるので、複数のシンチレータ結晶110の位置精度が良好である。また、外側面に反射材を塗布したり反射テープを貼着した複数のシンチレータ結晶110をアレイ状に配列するような必要がなく、複数のシンチレータ結晶110を収納容器に圧入するような必要もなく、大型のシンチレータ結晶110を切削してシンチレータアレイ100を形成するような必要もない。
【選択図】図1
Description
110 シンチレータ結晶
120 樹脂
210 下端保持治具
220 上端保持治具
230 樹脂型枠
Claims (13)
- 複数のシンチレータ結晶からなるシンチレータアレイを製造するためのアレイ製造方法であって、
放射線が入射すると内部で蛍光が発生する細長形状の複数の前記シンチレータ結晶を形成し、
複数の前記シンチレータ結晶を長手方向と直交する方向に二次元状に所定間隔で配列し、
配列された複数の前記シンチレータ結晶の間隙に樹脂と溶媒とを混合した混合液を充填し、
前記混合液から前記溶媒を減圧除去して前記樹脂を凝固させることを特徴とするアレイ製造方法。 - 前記混合液に反射材の粉末を混入させておくことを特徴とする請求項1に記載のアレイ製造方法。
- 前記反射材の粉末が、BaSO4,TiO2,Al2O3,MgO,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項2に記載のアレイ製造方法。
- 前記反射材の粉末の平均粒径が1μm以下であることを特徴とする請求項2または3に記載のアレイ製造方法。
- 前記混合液の組成比は、前記反射材の重量部100に対して前記樹脂の重量部が5以下であることを特徴とする請求項2ないし4の何れか一項に記載のアレイ製造方法。
- 前記樹脂は、アクリル樹脂,ポリビニルアルコール,シリコーン樹脂,エポキシ樹脂,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項1ないし5の何れか一項に記載のアレイ製造方法。
- 発光波長が400nm以下の前記蛍光を発生する前記シンチレータ結晶を形成することを特徴とする請求項1ないし6の何れか一項に記載のアレイ製造方法。
- 放射線が入射すると内部で蛍光が発生する複数のシンチレータ結晶からなるシンチレータアレイであって、
長手方向と直交する方向に二次元状に所定間隔で配列されている細長形状の複数の前記シンチレータ結晶と、
反射材の粉末が混入されていて複数の前記シンチレータ結晶の間隙に充填されている樹脂と、
を有することを特徴とするシンチレータアレイ。 - 前記反射材の粉末が、BaSO4,TiO2,Al2O3,MgO,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項8に記載のシンチレータアレイ。
- 前記反射材の粉末の平均粒径が1μm以下であることを特徴とする請求項8または9に記載のシンチレータアレイ。
- 前記樹脂は、アクリル樹脂,ポリビニルアルコール,シリコーン樹脂,エポキシ樹脂,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項8ないし10の何れか一項に記載のシンチレータアレイ。
- 前記シンチレータ結晶は、前記蛍光の発光波長が400nm以下であることを特徴とする請求項8ないし11の何れか一項に記載のシンチレータアレイ。
- 請求項1ないし7の何れか一項に記載のアレイ製造方法で製造されていることを特徴とする請求項8ないし12の何れか一項に記載のシンチレータアレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007227310A JP5080910B2 (ja) | 2007-09-03 | 2007-09-03 | アレイ製造方法、シンチレータアレイ |
Applications Claiming Priority (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5080910B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10007005B2 (en) | 2015-05-28 | 2018-06-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Radiation detector, radiation detection apparatus, and method of manufacturing radiation detector |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5080910B2 (ja) | 2012-11-21 |
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