JP2009053431A - 液晶パネルおよび液晶表示装置 - Google Patents

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Junichi Inagaki
淳一 稲垣
Yoshinori Okamoto
美紀 岡本
Hironori Yaginuma
寛教 柳沼
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Abstract

【課題】斜め方向のコントラスト比が高い液晶パネルを提供すること。
【解決手段】本発明の液晶パネルは、液晶セルと、該液晶セルの一方の側に配置された第1の偏光子と、該液晶セルの他方の側に配置された第2の偏光子と、該液晶セルと該第1の偏光子との間に該第1の偏光子側から順に配置された、ネガティブCプレートと第1のOプレートと第1のポジティブAプレートと、該液晶セルと該第2の偏光子との間に該第2の偏光子側から順に配置された、第2のOプレートと第2のポジティブAプレートとを備え、該Oプレートがハイブリッド配列に配向された棒状液晶化合物の固化層または硬化層である。
【選択図】図1

Description

本発明は、液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。より詳細には、本発明は、液晶セルの一方の側に少なくとも3つの位相差層を有し、液晶セルの他方の側に少なくとも2つの位相差層を有する液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。
液晶表示装置(LCD)は、液晶分子の電気光学特性を利用して、文字や画像を表示する素子である。LCDの駆動モードの1つとして、ツイスティッド・ネマチック(TN)モードがある。TNモードは、安価で製造が容易であることから広く採用されている。TNモードは、視野角による階調反転や視野角が狭いという欠点があり、TNモードのLCDには位相差層が用いられている(例えば、特許文献1参照)。しかし、これらの欠点は十分に改善されていない。
特開2001−100031号公報
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、斜め方向のコントラスト比が高い液晶パネルおよび液晶表示装置を提供することである。
本発明の液晶パネルは、液晶セルと、該液晶セルの一方の側に配置された第1の偏光子と、該液晶セルの他方の側に配置された第2の偏光子と、該液晶セルと該第1の偏光子との間に該第1の偏光子側から順に配置された、ネガティブCプレートと第1のOプレートと第1のポジティブAプレートと、該液晶セルと該第2の偏光子との間に該第2の偏光子側から順に配置された、第2のOプレートと第2のポジティブAプレートとを備え、該Oプレートがハイブリッド配列に配向された棒状液晶化合物の固化層または硬化層である。
好ましい実施形態においては、上記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)が液晶セル側のチルト角(θ)よりも大きい。
好ましい実施形態においては、上記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)と液晶セル側のチルト角(θ)との差(Δθ=θ−θ)が20°〜90°である。
好ましい実施形態においては、上記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)が20〜90°である。
好ましい実施形態においては、上記第1のOプレートおよび/または上記第2のOプレートの波長590nmにおける面内の位相差値(Re[590])が50〜200nmである。
好ましい実施形態においては、上記第1のポジティブAプレートおよび/または上記第2のポジティブAプレートの波長590nmにおける面内の位相差値(Re[590])が50〜200nmである。
好ましい実施形態においては、上記第1のポジティブAプレートおよび/または上記第2のポジティブAプレートがノルボルネン系樹脂で形成されたフィルムである。
好ましい実施形態においては、上記ネガティブCプレートの厚み方向の位相差値(Rth[590])が20〜200nmである。
好ましい実施形態においては、上記液晶セルが、電界が存在しない状態で、ツイスト配列に配向した液晶分子を含む。
好ましい実施形態においては、上記第1の偏光子の吸収軸と、上記液晶セルの第1の偏光子側の基板の配向処理方向とが、実質的に平行となるように配置され、上記第2の偏光子の吸収軸と、上記液晶セルの第2の偏光子側の基板の配向処理方向とが、実質的に平行となるように配置されている。
好ましい実施形態においては、上記第1の偏光子の吸収軸と上記第2の偏光子の吸収軸とが実質的に直交するように配置されている。
好ましい実施形態においては、上記第1の偏光子の吸収軸と上記第1のOプレートの遅相軸とが実質的に平行となるように配置され、上記第2の偏光子の吸収軸と上記第2のOプレートの遅相軸とが実質的に平行となるように配置されている。
好ましい実施形態においては、上記Oプレートの棒状液晶化合物のディレクタ方向を上記液晶セル面に投影した方向が、該液晶セル面の配向処理方向と実質的に平行である。
好ましい実施形態においては、上記第1の偏光子の吸収軸と上記第1のポジティブAプレートの遅相軸とが実質的に直交するように配置され、上記第2の偏光子の吸収軸と上記第2のポジティブAプレートの遅相軸とが実質的に直交するように配置されている。
好ましい実施形態においては、上記第2の偏光子と上記第2のOプレートとの間に配置された第1の保護層をさらに備え、該第1の保護層の厚み方向の位相差値Rth[590]が−10nm〜+10nmである。
好ましい実施形態においては、上記第1の保護層が上記第2のOプレートと隣接して配置されている。
本発明の別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。この液晶表示装置は、上記液晶パネルを備える。
本発明によれば、液晶セルの一方の側に少なくとも3つの位相差層を配置し、液晶セルの他方の側に少なくとも2つの位相差層を配置することにより、斜め方向のコントラスト比が高い液晶パネルおよび液晶表示装置が得られ得る。
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大となる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内の位相差値
面内の位相差値(Re[λ])は、23℃、波長λ(nm)におけるフィルムの面内の位相差値をいう。Re[λ]は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、Re[λ]=(nx−ny)×dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差値
厚み方向の位相差値(Rth[λ])は、23℃、波長λ(nm)におけるフィルムの厚み方向の位相差値をいう。Rth[λ]は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、Rth[λ]=(nx−nz)×dによって求められる。
(4)Nz係数
Nz係数は、Rth[λ]/Re[λ]によって求められる。
A.液晶パネルの全体構成
図1は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。液晶パネル100は、液晶セル10と、液晶セル10の一方の側に配置された第1の偏光子21と、液晶セル10の他方の側に配置された第2の偏光子22と、液晶セルと10と第1の偏光子21との間に第1の偏光子21側から順に配置されたネガティブCプレート30と第1のOプレート41と第1のポジティブAプレート51と、液晶セル10と第2の偏光子22との間に第2の偏光子22側から順に配置された、第2のOプレート42と第2のポジティブAプレート52とを備える。
図示しないが、必要に応じて、第2の偏光子22と第2のOプレート42との間に第1の保護層が設けられ、第2の偏光子22の第2のOプレート42の反対側に第2の保護層が設けられる。また、必要に応じて、第1の偏光子21とネガティブCプレート30との間に第3の保護層が設けられ、第1の偏光子21のネガティブCプレート30の反対側に第4の保護層が設けられる。好ましくは、第1の保護層は、第2のOプレート42と隣接して配置されている。このような構成を採用することにより、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。また、実用的には、本発明の液晶パネルを構成する各部材間には、任意の適切な接着層が設けられる。
A−1.液晶セル
上記液晶セル10は、代表的には、一対の基板11,12と、一対の基板11,12に挟持された表示媒体としての液晶層13とを有する。一方の基板(アクティブマトリクス基板)には、好ましくは、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子(代表的にはTFT)と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線とが設けられている。他方の基板(カラーフィルター基板)には、カラーフィルターが設けられている。カラーフィルターは、前記アクティブマトリクス基板に設けられていてもよい。あるいは、フィールドシーケンシャル方式のように液晶表示装置の照明手段にRGB3色光源が用いられる場合は、前記カラーフィルターは省略され得る。一対の基板11,12の間隔(セルギャップ)は、スペーサー14によって制御される。
好ましくは、上記一対の基板11,12は、それぞれ液晶層13に接する側に、配向処理された配向膜を有する。配向処理は、基板表面において液晶分子を一定の配列状態にさせる処理であれば、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、基板表面にポリイミド等の高分子膜を形成し、それをナイロンやポリエステル等の繊維で一方向に擦るラビング法が用いられる。配向処理方向は、例えば、配向処理としてラビング法が用いられる場合は、ラビング方向である。
上記液晶層13は、好ましくは、電界が存在しない状態で、ツイスト配列に配向した液晶分子を含む。上記ツイスト配列は、一般には、液晶層中の液晶分子が、両方の基板面に対して略平行に配列し、その配列方位が両基板面で所定の角度(例えば、90°または270°)捩れているものをいう。このような配列状態の液晶層を備える液晶セルは、代表的には、ツイスティッド・ネマチック(TN)モードまたはスーパー・ツイスティッド・ネマチック(STN)モードの液晶セルである。上記液晶セル10の駆動モードとしては、好ましくは、TNモードである。本発明の液晶パネルを構成する各部材の特性が相乗効果的に発揮され、非常に優れた光学補償が実現され得るからである。
図2は、TNモードにおける液晶分子の配向状態を説明する概略斜視図である。基板11の配向処理方向と基板12の配向処理方向とは、実質的に直交となるように配置される。基板11および12の配向処理方向が実質的に直交しているため、電圧無印加時には、図2(a)に示すように、液晶層13の液晶分子は実質的に90°ねじれ構造を有する配向状態となっている。すなわち、液晶層の中心から離れるに従って対向する基板表面の配向処理方向とほぼ平行になるように漸次連続的に変化している。このような配向状態は、所定の配向規制力を有する配向膜の間に、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶を配することにより実現され得る。このような状態で、一方の基板11の面から光を入射させると、第1の偏光子21を通過して液晶層13に入射した直線偏光の光に対して液晶分子は複屈折性を示し、入射光の偏光状態は液晶分子のねじれに応じて変化する。電圧無印加時に液晶層を通過する光は、例えばその偏光方位が90°回転させられた直線偏光となるので、第2の偏光子22を透過して明状態の表示が得られる(ノーマリーホワイトモード)。
上述のように、液晶層13の液晶分子は正の誘電率異方性を有する。したがって、電極間に電圧が印加されると、図2(b)に示すように、液晶層13の液晶分子は基板11および12面に垂直に配向する。このような状態で、一方の基板11の面から光を入射させると、第1の偏光子21を通過して液晶層13に入射した直線偏光の光は、垂直に配向している液晶分子の長軸の方向に沿って進む。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じないため入射光は偏光方位を変えずに進み、第1の偏光子21と直交する吸収軸を有する第2の偏光子22で吸収される。これにより電圧印加時において暗状態の表示が得られる。再び電圧無印加状態にすると配向規制力により明状態の表示に戻すことができる。また、印加電圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して第2の偏光子22からの透過光強度を変化させることにより階調表示が可能となる。なお、TNモードの液晶セルとして、市販の液晶表示装置に搭載されるものをそのまま用いることができる。TNモードを採用した市販の液晶表示装置としては、例えば、BENQ社製 17型液晶モニター 商品名「FP71E+」、デル社製 15型液晶モニター 商品名「1503FP」等が挙げられる。
A−2.偏光子
本明細書において「偏光子」とは、自然光または偏光を任意の偏光に変換し得る素子をいう。好ましくは、自然光または偏光を直線偏光に変換するものである。このような偏光子は、入射する光を直交する2つの偏光成分に分離し、一方の偏光成分を透過させ、他方の偏光成分を吸収、反射および/または散乱させる機能を有する。
上記第1の偏光子および第2の偏光子は、任意の適切なものを採用し得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の3〜7倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。各偏光子の厚みは、代表的には、1〜80μm程度である。
上記第1の偏光子および第2の偏光子の波長590nmにおける透過率(単体透過率ともいう)は、好ましくは41%以上である。また、上記第1の偏光子および第2の偏光子の波長590nmにおける偏光度は、好ましくは99.8%以上である。なお、理論上の上限は、単体透過率は50%であり、偏光度は100%である。単体透過率および偏光度を上記の条件とすることによって、正面方向のコントラスト比が高い液晶表示装置が得られ得る。
A−3.ネガティブCプレート
本明細書において「ネガティブCプレート」とは、屈折率楕円体がnx=ny>nzを満足する負の一軸性光学素子をいう。「nx=ny」は、nxとnyが厳密に等しい場合のみならず、nxとnyが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、Re[590]が10nm未満であることをいう。
上記ネガティブCプレート30の厚み方向の位相差値Rth[590]は、任意の適切な値に設定され得る。厚み方向の位相差値Rth[590]は、好ましくは20〜200nm、さらに好ましくは30〜160nm、特に好ましくは30〜120nmである。このような範囲に設定することにより、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。
ネガティブCプレートは、上記の光学特性が得られる限り、任意の適切な材料で形成され得る。ネガティブCプレートの具体例としては、コレステリック配向固化層が挙げられる。「コレステリック配向固化層」とは、当該層の構成分子がらせん構造をとり、そのらせん軸が面方向にほぼ垂直に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。したがって、「コレステリック配向固化層」は、液晶化合物がコレステリック液晶相を呈している場合のみならず、非液晶化合物がコレステリック液晶相のような擬似的構造を有する場合を包含する。例えば、「コレステリック配向固化層」は、液晶材料が液晶相を示す状態でカイラル剤によってねじりを付与してコレステリック構造(らせん構造)に配向させ、その状態で重合処理または架橋処理を施すことにより、当該液晶材料の配向(コレステリック構造)を固定することにより形成され得る。
上記コレステリック配向固化層の具体例としては、特開2003−287623号公報に記載のコレステリック層が挙げられる。
ネガティブCプレートの厚みは、上記所望の光学特性が得られる限り、任意の適切な値に設定され得る。ネガティブCプレートがコレステリック配向固化層である場合、好ましくは0.5〜10μm、さらに好ましくは0.5〜8μm、特に好ましくは0.5〜5μmである。
ネガティブCプレートを形成する材料の別の具体例としては、非液晶性材料が挙げられる。特に好ましくは、非液晶性ポリマーである。このような非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、基板の配向性に関係なく、それ自身の性質によりnx=ny>nzという光学的一軸性を示す膜を形成し得る。非液晶性材料としては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ2種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
上記ポリイミドの具体例および当該ネガティブCプレートの形成方法の具体例としては、特開2004−46065号公報に記載のポリマーおよび光学補償フィルムの製造方法が挙げられる。
ネガティブCプレートの厚みは、上記所望の光学特性が得られる限り、任意の適切な値に設定され得る。ネガティブCプレートが非液晶性材料で形成される場合、好ましくは0.5〜10μm、さらに好ましくは0.5〜8μm、特に好ましくは0.5〜5μmである。
ネガティブCプレートを形成する材料のさらに別の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等で形成された高分子フィルムが挙げられる。当該ネガティブCプレートとしては、市販のフィルムをそのまま用い得る。さらに、市販のフィルムに延伸処理および/または収縮処理などの2次的加工を施したものを用い得る。市販のフィルムとしては、例えば、富士写真フイルム(株)製 フジタックシリーズ(商品名;ZRF80S,TD80UF,TDY−80UL,T80UZ)、コニカミノルタオプト(株)製 商品名「KC8UX2M」、日本ゼオン(株)製 商品名「Zeonor」、JSR(株)製 商品名「Arton」等が挙げられる。ノルボルネン系樹脂を構成するノルボルネン系モノマーついてはA−5−1項で後述する。上記光学特性を満足し得るための延伸方法としては、例えば、二軸延伸(縦横等倍率延伸)が挙げられる。
ネガティブCプレートの厚みは、上記所望の光学特性が得られる限り、任意の適切な値に設定され得る。ネガティブCプレートがセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等で形成された高分子フィルムである場合、好ましくは45〜105μm、さらに好ましくは55〜95μm、特に好ましくは50〜90μmである。
ネガティブCプレートのさらに別の具体例としては、上記コレステリック配向固化層とプラスチックフィルム層とを有する積層体が挙げられる。当該プラスチックフィルム層を形成する樹脂としては、例えば、セルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂については、本項で上述したとおりである。
上記コレステリック配向固化層と上記プラスチックフィルム層との積層方法は、任意の適切な方法を採用し得る。具体的には、プラスチック層に上記コレステリック配向固化層を転写する方法、予め基材に形成されたコレステリック配向固化層とプラスチックフィルム層とを接着剤層を介して貼り合わる方法等が挙げられる。当該接着剤層の厚みは、好ましくは1μm〜10μm、さらに好ましくは1μm〜5μmである。
A−4−1.第1のOプレート
本明細書において「Oプレート」とは、分子が傾斜配向した位相差層をいう。1つの実施形態においては、Oプレートは、ハイブリッド配列に配向された棒状液晶化合物の固化層または硬化層である。Oプレートの厚みは、通常、0.1〜10μmであり、好ましくは0.5〜5μmである。本明細書において「ハイブリッド配列」とは、棒状液晶化合物の傾斜角度(チルト角)が、厚み方向で連続的または間欠的に、増加または減少している状態をいう。具体的には、上記偏光子側のチルト角(θ)と上記液晶セル10側のチルト角(θ)とが異なるものである。ここで、チルト角(θ)とは、隣接する層面と棒状液晶化合物分子とのなす角度を表し、当該分子が面内に平行に配列されている場合を0°とする。
図3に、ハイブリッド配列における棒状液晶化合物分子の代表的な配列状態を模式的に示す。第1のOプレートにおいて、好ましくは、図示するように、棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)は、液晶セル側のチルト角(θ)よりも大きい。この場合、棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)と液晶セル側のチルト角(θ)との差(Δθ=θ−θ)は、好ましくは20°〜90°、さらに好ましくは30°〜85°である。このような範囲に設定することにより、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。
上記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)は、好ましくは20°〜90°であり、さらに好ましくは30°〜85°でありである。上記棒状液晶化合物の液晶セル側のチルト角(θ)は、好ましくは0°〜10°であり、特に好ましくは0°〜5°である。このような範囲に設定することにより、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。
なお、隣接する界面に対する液晶化合物チルト角は、下記式(I)および(II)に示すように、Journal of Applied Phisics Vol.38(1999年)P.748に記載のWitteの式に、予め測定したn、n、および位相差値(遅相軸と平行方向に、極角−40°〜+40°(法線方向を0°とする)に5°きざみで測定したそれぞれの値)を代入して求めることができる。ここで、θairは液晶化合物の一方の側(例えば、空気界面)のチルト角を表し、θALは他方の側(例えば、基板または配向膜)界面のチルト角を表す。dはハイブリッド配列に配向させた液晶化合物の固化層または硬化層の厚みを表す。nは液晶化合物の異常光屈折率を表し、nは液晶化合物の常光屈折率を表す。
第1のOプレートの平均傾斜角度θave.(θave.=(θ+θ)/2)は、好ましくは10°〜45°であり、さらに好ましくは15°〜42°である。平均傾斜角度をこのような範囲とすることによって、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。
第1のOプレートの波長590nmにおける透過率(T[590])は、好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上である。
第1のOプレートの波長590nmにおける面内の位相差値(Re[590])は、上記液晶セルの表示モードがノーマリーホワイトモードである場合、好ましくは、黒表示時(電圧印加時)の液晶セルの位相差値と実質的に等しくなるように設定される。本発明では、第1のOプレートのRe[590]は、好ましくは50〜200nm、さらに好ましくは70〜180nm、特に好ましくは90〜160nmである。面内の位相差値をこのような範囲とすることによって、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置を得られ得る。
本明細書において、「棒状液晶化合物」とは、分子構造中にメソゲン基を有し、当該メソゲン基の長軸方向の屈折率が短軸方向に比べて大きいものであり、加熱、冷却などの温度変化、またはある量の溶媒の作用により液晶相を示す化合物をいう。「固化層」とは、軟化、溶融または溶液状態の液晶性組成物を冷却して固まった状態のものをいう。「硬化層」とは、液晶性組成物の一部または全部が、熱、触媒、光および/または放射線により架橋されて、不溶不融または難溶難融状態になったものをいう。
上記棒状液晶化合物は、任意の適切なものを採用し得る。好ましくは、室温では結晶またはガラス状態を示し、高温にするとネマチック液晶相を発現するものである。このような棒状液晶化合物を用いれば、例えば、液晶相を示す状態でハイブリッド配列を形成した後、その配列状態を冷却または架橋により固定することができる。なお、棒状液晶化合物は、成膜前は液晶性を示すが、成膜後は、例えば、架橋反応によって網目構造を形成し、液晶性を示さなくなるものであってもよい。
上記メソゲン基は、液晶相を形成するために必要な構成部分であり、通常、環状単位を含む。環状単位の具体例としては、ビフェニル基、フェニルベンゾエート基、フェニルシクロヘキサン基、アゾキシベンゼン基、アゾメチン基、アゾベンゼン基、フェニルピリミジン基、ジフェニルアセチレン基、ジフェニルベンゾエート基、ビシクロヘキサン基、シクロヘキシルベンゼン基、ターフェニル基等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ビフェニル基、フェニルベンゾエート基である。また、これらの環状単位は、その末端に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基等が挙げられる。
上記棒状液晶化合物は、メソゲン基を主鎖および/または側鎖に有する高分子物質(高分子液晶)であってもよいし、分子構造の一部分にメソゲン基を有する低分子物質(低分子液晶)であってもよい。高分子液晶は、液晶状態から冷却して分子の配向状態が固定化できるため、フィルム成形の生産性が高いという特徴を有する。低分子液晶は、配向性に優れるため、透明性の高い位相差層が得られやすいという特徴を有する。
上記棒状液晶化合物は、好ましくは、分子構造の一部分に少なくとも1つの架橋性官能基を有する。架橋反応によって、機械的強度が増し、耐久性に優れた位相差層が得られるからである。架橋性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタアクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基等が挙げられる。上記棒状液晶化合物として、市販品をそのまま用いることもできる。市販の、架橋性官能基を有する棒状液晶化合物としては、例えば、BASF社製商品名「Paliocolor LC242」、HUNTSMAN社製商品名「CB483」等が挙げられる。上記液晶性組成物は、当該市販品または合成された棒状液晶化合物に加えて、他の液晶化合物や、重合開始剤やレベリング剤等の任意の添加剤を含み得る。
上記Oプレートの形成方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。1つの実施形態として、下記の工程A〜Eを含む方法が挙げられる。
(A)2枚の基板を準備し、一方の基板の片面に第1の配向処理を施し、他方の基板の片面に第2に配向処理を施す工程(ただし、第1の配向処理と第2の配向処理は同一ではない。);
(B)棒状液晶化合物と溶剤とを含む塗工液を調製する工程;
(C)前記2枚の基板の配向処理面が対向する状態で、前記塗工液を2枚の基板に挟持させて積層体を形成する工程;
(D)前記積層体を液晶温度範囲に加熱する工程;
(E)前記積層体を液晶温度範囲以下に冷却する工程。
ここで、第1の配向処理および第2の配向処理は、それぞれ独立して、垂直配向処理、水平配向処理または傾斜配向処理である。
上記Oプレートの形成方法の別の実施形態として、下記の工程A〜Eを含む方法が挙げられる。
(A)基板に配向処理を施す工程;
(B)棒状液晶化合物と溶剤とを含む塗工液を調製する工程;
(C)上記塗工液を、上記基板の配向処理された表面に塗工して、積層体を形成する工程;
(D)上記塗工液の基板側とは反対側の界面を空気に接触した状態にして、該積層体を液晶温度範囲に加熱する工程;
(E)該積層体を液晶温度範囲以下に冷却する工程。
ここで、配向処理は、垂直配向処理または傾斜配向処理である。いずれを選択するかは、用いる棒状液晶化合物の種類や化学的性質に応じて、適宜決定され得る。
上記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)および液晶セル側のチルト角(θ)は、例えば、上記工程A〜Eまたは工程A〜Eの条件や、棒状液晶化合物または液晶性組成物の種類を適宜選択することにより調整し得る。
上記配向処理方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、基板の表面に配向剤を吸着させて、配向剤層(配向膜)を形成する方法;基板または基板上に形成された配向膜の表面を形状的に変化させる方法;基板または基板上に形成された配向膜の表面に光を照射する方法(光配向法)等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、光配向法である。光配向法は、静電気、塵、挨などの発生が非常に少ないプロセスであるため、品質に優れた位相差層を作製することができる。さらに、光を照射する方向・方位を適宜選択することによって、位相差層中の棒状液晶化合物のチルト角や、位相差層面内の遅相軸方向を制御することができる。
上記垂直配向処理用の配向剤としては、例えば、レシチン、バーサミド100、オクタデシルマロン酸、有機シラン、テトラフルオロエチレン、ポリイミド、ステアリン酸等が挙げられる。上記水平配向処理用の配向剤としては、例えば、カーボン、ポリオキシエチレン、バーサミド125、ポリビニルアルコール、ポリイミド、二塩基性カルボン酸クロム錯体、有機シラン、アセチレン、二塩基性脂肪酸、クラウンエーテル等が挙げられる。
上記光配向法用の配向剤(形成された膜は、光配向膜ともいう)は、好ましくは、分子構造中に少なくとも1つ以上の光反応性官能基を有する化合物を含む。当該光反応としては、例えば、光異性化反応、光開環反応、光二量化反応、光分解反応、光フリース転移反応等が挙げられる。光異性化反応を生じる光反応性官能基としては、例えば、アゾベンゼン基、スチルベンゼン基、α−ヒドラゾノ−β−ケトエステル基、シンナメート基、ベンジリデンフタルイミジン基、レチノイン酸等が挙げられる。光二量化反応を生じる光反応性官能基としては、例えば、シンナメート基、ベンジリデンフタルイミジン基、カルコン基、クマリン基、スチルピリジン基、アントラセン基等が挙げられる。
上記配向膜(光配向膜)の表面に光を照射する条件は、例えば、上記光化学反応の種類に応じて、任意の適切な方法を採用し得る。光照射用光源としては、例えば、超高圧水銀ランプ、フラッシュUVランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、ディープUVランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。光源の波長は、好ましくは、210〜380nmである。なお、100〜200nmの波長領域をフィルタ等でカットして照射することが好ましい。光配向膜の光分解反応を抑制し得るからである。光の照射光量は、波長365nmで測定した値が、好ましくは、5〜500mJ/cmである。このような条件であれば、棒状液晶化合物を均一にハイブリッド配列に配向させることができる。
上記棒状液晶化合物と溶剤とを含む塗工液を調製する方法は、任意の適切な方法を採用し得る。ここで「塗工液」とは、溶液または分散液をいう。溶剤は、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルセロソルブ等が挙げられる。これらは、単独でまたは2種類以上を混合して用い得る。棒状液晶化合物の濃度は、好ましくは5〜40重量%である。なお、塗工液は、重合開始剤やレベリング剤等の添加物を含み得る。
上記塗工液の塗工方法は、任意の適切なコータを用いた塗工方式を採用し得る。コータとしては、例えば、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ナイフコータ、ロッドコータ、スロットダイコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、エアドクタコータ、キスコータ、ディップコータ、ビードコータ、ブレードコータ、キャストコータ、スプレイコータ、スピンコータ、押出コータ、ホットメルトコータ等が挙げられる。好ましくは、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ロッドコータ、スロットダイコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータおよびファウンテンコータである。厚みバラツキの小さい固化層が得られ得るからである。コータは、塗工液の濃度変化を防ぐために、クローズドアプリケーターを利用したコータヘッドを用いることが好ましい。
上記固化層を形成する方法は、任意の適切な方法を採用し得る。上記固化層の形成方法としては、例えば、上記工程A〜Eを含む方法や、上記工程A〜Eを含む方法が挙げられる。上記工程Dまたは工程Dにおける加熱温度は、好ましくは30℃以上、液晶相−等方相転移温度(Ti)以下である。加熱手段としては、例えば、熱風または冷風が循環する空気循環式乾燥オーブン、マイクロ波もしくは遠赤外線などを利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール又は金属ベルトなどを用いた加熱方法や温度制御方法が挙げられる。加熱乾燥時間(乾燥時間)は、通常、1〜20分である。なお、等方相転移温度(Ti)は、液晶化合物または液晶性組成物のサンプルを偏光顕微鏡で観察することによって求めることができる。
上記硬化層を形成する方法は、任意の適切な方法を採用し得る。好ましくは、分子構造の一部分に少なくとも1つ以上の架橋性官能基を有する棒状液晶化合物(架橋性棒状液晶化合物ともいう)を用いるか、または架橋性化合物と棒状液晶化合物とを含む組成物(架橋性組成物ともいう)を用いて、架橋させる方法である。架橋方法の具体例としては、熱による方法、エネルギー線(例えば、可視光、紫外線、放射線)を照射する方法が挙げられる。好ましくは、紫外線を照射する方法である。配向状態に優れた硬化層が得られるからである。この場合、紫外線照射は、上記固化層が形成された後または固化が進行する過程で行うことが好ましい。紫外線照射条件は、例えば、架橋性棒状液晶化合物または架橋性組成物の光化学反応の種類に応じて、任意の適切な条件を選択し得る。光照射用光源としては、上記光配向法において例示した光源と同様の光源を採用し得る。光源の波長は、好ましくは、210〜380nmである。なお、100〜200nmの波長領域をフィルタ等でカットして照射することが好ましい。配向膜や棒状液晶化合物の光分解反応を抑制し得るからである。光の照射光量は、波長365nmで測定した値が、好ましくは、30〜1000mJ/cmである。さらに、光照射される架橋性棒状液晶化合物または架橋性組成物の周囲の雰囲気を、窒素などの不活性ガスで置換することが好ましい。このような条件であれば、厚み均一性に優れた硬化層を形成することができる。
A−4−2.第2のOプレート
上記第2のOプレートとしては、上記第1のOプレートと同様のものを採用し得る。
A−5−1.第1のポジティブAプレート
本明細書において「ポジティブAプレート」とは、屈折率楕円体がnx>ny=nzを満足する正の一軸性光学素子をいう。ここで、「ny=nz」は、nyとnzが厳密に等しい場合のみならず、nyとnzが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、Nz係数(Rth[590]/Re[590])が、0.9を超え1.1未満であることをいう。
上記第1のポジティブAプレート51の波長590nmにおける面内の位相差値Re[590]は、好ましくは50〜200nm、さらに好ましくは70〜180nm、特に好ましくは90〜160nmである。このような範囲に設定することにより、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。
第1のポジティブAプレートは、上記の光学特性を満足し得る限り、任意の適切な材料で形成される。例えば、第1のポジティブAプレートは、高分子フィルムを延伸処理することによって形成される。すなわち、高分子フィルムの延伸フィルムであり得る。この場合、高分子フィルムを形成する樹脂の種類、延伸方法、延伸条件(例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向)等を適切に選択することにより、上記所望の光学特性(例えば、屈折率楕円体、面内の位相差値、厚み方向の位相差値)を満足し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくは110〜170℃、さらに好ましくは130〜150℃である。延伸倍率は、好ましくは1.3〜3倍、さらに好ましくは2〜2.9倍である。延伸方法としては、例えば、縦一軸延伸が挙げられる。延伸フィルムの厚みは、代表的には5〜55μm、好ましくは10〜50μm、さらに好ましくは15〜45μmである。
上記高分子フィルムの形成材としては、任意の適切な樹脂を採用し得る。具体例としては、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスルホン系樹脂等の正の複屈折フィルムを構成する樹脂が挙げられる。中でも、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。
上記ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン系モノマーを重合単位として重合される樹脂である。当該ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体、例えば、5−メチル−2−ノルボルネン、5−ジメチル−2−ノルボルネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン等、これらのハロゲン等の極性基置換体;ジシクロペンタジエン、2,3−ジヒドロジシクロペンタジエン等;ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、例えば、6−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチリデン−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−クロロ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−シアノ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−ピリジル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−メトキシカルボニル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン等;シクロペンタジエンの3〜4量体、例えば、4,9:5,8−ジメタノ−3a,4,4a,5,8,8a,9,9a−オクタヒドロ−1H−ベンゾインデン、4,11:5,10:6,9−トリメタノ−3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a−ドデカヒドロ−1H−シクロペンタアントラセン等が挙げられる。上記ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン系モノマーと他のモノマーとの共重合体であってもよい。
上記ポリカーボネート系樹脂としては、好ましくは、芳香族ポリカーボネートが用いられる。芳香族ポリカーボネートは、代表的には、カーボネート前駆物質と芳香族2価フェノール化合物との反応によって得ることができる。カーボネート前駆物質の具体例としては、ホスゲン、2価フェノール類のビスクロロホーメート、ジフェニルカーボネート、ジ−p−トリルカーボネート、フェニル−p−トリルカーボネート、ジ−p−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、ホスゲン、ジフェニルカーボネートが好ましい。芳香族2価フェノール化合物の具体例としては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジプロピルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等が挙げられる。これらは単独で、または2種以上組み合わせて用いてもよい。好ましくは、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンが用いられる。特に、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンと1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンとを共に使用することが好ましい。
A−5−2.第2のポジティブAプレート
上記第2のポジティブAプレート52の波長590nmにおける面内の位相差値Re[590]は、好ましくは50〜200nm、さらに好ましくは70〜180nm、特に好ましくは90〜160nmである。このような範囲に設定することにより、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。第2のポジティブAプレートは、任意の適切な材料で形成され得る。具体的には、上記第1のポジティブAプレートと同様のものを採用し得る。
A−6.光軸関係
図4は、液晶パネル100の光軸関係を示す分解概略図である。第1の偏光子21と液晶セル10とは、代表的には、第1の偏光子の吸収軸21Aと、第1の偏光子側の基板11の配向処理方向11Aとが、実質的に平行となるように配置される。第2の偏光子22と液晶セル10とは、代表的には、第2の偏光子の吸収軸22Aと、第2の偏光子側の基板12の配向処理方向12Aとが、実質的に平行となるように配置される。また、第1の偏光子21と第2の偏光子22とは、代表的には、第1の偏光子の吸収軸21Aと第2の偏光子の吸収軸22Aとが実質的に直交するように配置される。この場合、ノーマリーホワイトモードとなり得る。本明細書において「実質的に平行」とは、0°±3.0°である場合を包含し、好ましくは0°±1.0°、さらに好ましくは0°±0.5°である。本明細書において「実質的に直交」とは、90°±3.0°である場合を包含し、好ましくは90°±1.0°、さらに好ましくは90°±0.5°である。
第1の偏光子21と第1のOプレート41とは、その吸収軸21Aと遅相軸41Sとが任意の適切な角度を規定するように配置される。好ましくは、第1の偏光子21と第1のOプレート41とは、その吸収軸21Aと遅相軸41Sとが実質的に平行となるように配置される。このような位置関係を構成することにより、斜め方向から視認した際の画面コントラストがさらに向上し得る。なお、第1の偏光子の吸収軸と第1のOプレートの遅相軸との関係は、第2の偏光子の吸収軸22Aと第2のOプレートの遅相軸42Sとの関係と同様であり得る。
Oプレート41,42の棒状液晶化合物のディレクタ方向を液晶セル10面に投影した方向は、好ましくは、液晶セル10面の配向処理方向と実質的に平行である。具体的には、第1のOプレート41の棒状液晶化合物のディレクタ方向を液晶セル10面に投影した方向(配向方向)は、好ましくは、液晶セル10の第1の偏光子21側の基板11の配向処理方向と実質的に平行である。また、第2のOプレート42の棒状液晶化合物のディレクタ方向を液晶セル10面に投影した方向は、好ましくは、液晶セル10の第2の偏光子22側の基板12の配向処理方向と実質的に平行である。本明細書において「ディレクタ方向」とは、統計的に見た液晶分子全体の配列方位を意味し、上記平均傾斜角度θave.の方向ともいう。なお、θave.を面内に投影した方向は、当該Oプレートの遅相軸と実質的に平行である。
第1の偏光子21と第1のポジティブAプレート51とは、その吸収軸21Aと遅相軸51Sとが任意の適切な角度を規定するように配置される。好ましくは、第1の偏光子21と第1のポジティブAプレート51とは、その吸収軸21Aと遅相軸51Sとが実質的に直交するように配置される。このような位置関係を構成することにより、斜め方向から視認した際の画面コントラストがさらに向上し得る。なお、第1の偏光子の吸収軸と第1のポジティブAプレートの遅相軸との関係は、第2の偏光子の吸収軸22Aと第2のポジティブAプレートの遅相軸52Sとの関係と同様であり得る。
第1のOプレート41と第1のポジティブAプレート51とは、その遅相軸41S,51Sが任意の適切な角度を規定するように配置される。好ましくは、第1のOプレート41と第1のポジティブAプレート51とは、その遅相軸41S,51Sが実質的に直交するように配置される。このような位置関係を構成することにより、斜め方向から視認した際の画面コントラストがさらに向上し得る。なお、第1のOプレートの遅相軸と第1のポジティブAプレートの遅相軸との関係は、第2のOプレートの遅相軸42Sと第2のポジティブAプレートの遅相軸52Sとの関係と同様であり得る。
A−7.保護層
上記保護層(第1の保護層、第2の保護層、第3の保護層および第4の保護層)は、偏光板の保護フィルムとして使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、(メタ)アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
上記(メタ)アクリル系樹脂としては、Tg(ガラス転移温度)が、好ましくは115℃以上、より好ましくは120℃以上、さらに好ましくは125℃以上、特に好ましくは130℃以上である。耐久性に優れ得るからである。上記(メタ)アクリル系樹脂のTgの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは170℃以下である。
上記(メタ)アクリル系樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な(メタ)アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ(メタ)アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体(MS樹脂など)、脂環族炭化水素基を有する重合体(例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体など)が挙げられる。好ましくは、ポリ(メタ)アクリル酸メチルなどのポリ(メタ)アクリル酸C1−6アルキルが挙げられる。より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分(50〜100重量%、好ましくは70〜100重量%)とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。
上記(メタ)アクリル系樹脂の具体例としては、例えば、三菱レイヨン社製のアクリペットVHやアクリペットVRL20A、特開2004−70296号公報に記載の分子内に環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Tg(メタ)アクリル系樹脂が挙げられる。
上記(メタ)アクリル系樹脂として、高い耐熱性、高い透明性、高い機械的強度を有する点で、ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂が特に好ましい。
上記ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂としては、特開2000−230016号公報、特開2001−151814号公報、特開2002−120326号公報、特開2002−254544号公報、特開2005−146084号公報などに記載の、ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂が挙げられる。
上記ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は、質量平均分子量(重量平均分子量と称することもある)が、好ましくは1000〜2000000、より好ましくは5000〜1000000、さらに好ましくは10000〜500000、特に好ましくは50000〜500000である。
上記ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は、Tg(ガラス転移温度)が、好ましくは115℃以上、より好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上、特に好ましくは135℃、最も好ましくは140℃以上である。耐久性に優れ得るからである。上記ラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂のTgの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは170℃以下である。
なお、本明細書において「(メタ)アクリル系」とは、アクリル系および/またはメタクリル系をいう。
上記第1〜第4の保護層は、透明で、色付きが無いことが好ましい。第1〜第4の保護層の厚み方向の位相差値Rth[590]は、好ましくは−90nm〜+90nm、より好ましくは−80nm〜+80nm、さらに好ましくは−70nm〜+70nmである。
上記第1〜第4の保護層の厚みは、上記の好ましい厚み方向の位相差値Rth[590]が得られ得る限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。第2および第4の保護層の厚みは、代表的には5mm以下であり、好ましくは1mm以下、より好ましくは1〜500μm、さらに好ましくは5〜150μmである。
上記第2および第4の保護層の偏光子と反対側には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等が施され得る。
第1の偏光子とネガティブCプレートとの間に設けられる上記第3の保護層および第2の偏光子と第2のOプレートとの間に設けられる上記第1の保護層の厚み方向の位相差値は、上記好ましい値よりもさらに小さいことが好ましい。このような構成とすることで、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。上述のように、一般的に偏光板の保護フィルムとして用いられているセルロース系フィルムは、例えば、トリアセチルセルロースフィルムの場合、厚さ80μmにおいて厚み方向の位相差値Rth[590]は60nm程度である。そこで、厚み方向の位相差値(Rth)の大きいセルロース系フィルムについて、厚み方向の位相差値(Rth)を小さくするための適当な処理を施すことにより、好適に第1および第3の保護層を得ることができる。
厚み方向の位相差値(Rth)を小さくするための上記処理としては、任意の適切な処理方法を採用できる。例えば、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤を塗布したポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ステンレス等の基材を、一般的なセルロース系フィルムに貼り合わせ、加熱乾燥(例えば、80〜150℃程度で3〜10分程度)した後、基材フィルムを剥離する方法;ノルボルネン系樹脂、アクリル系樹脂等をシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤に溶解した溶液を、一般的なセルロース系フィルムに塗布し、加熱乾燥(例えば、80〜150℃程度で3〜10分程度)した後、塗布フィルムを剥離する方法などが挙げられる。
上記セルロース系フィルムを構成する材料としては、好ましくは、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等の脂肪酸置換セルロース系ポリマーが挙げられる。一般的に用いられているトリアセチルセルロースでは、酢酸置換度が2.8程度であるが、好ましくは酢酸置換度を1.8〜2.7、より好ましくはプロピオン酸置換度を0.1〜1に制御することによって、厚み方向の位相差値(Rth)を小さく制御することができる。
上記脂肪酸置換セルロース系ポリマーに、ジブチルフタレート、p−トルエンスルホンアニリド、クエン酸アセチルトリエチル等の可塑剤を添加することにより、厚み方向の位相差値(Rth)を小さく制御することができる。可塑剤の添加量は、脂肪酸置換セルロース系ポリマー100重量部に対して、好ましくは40重量部以下、より好ましくは1〜20重量部、さらに好ましくは1〜15重量部である。
上記厚み方向の位相差値(Rth)を小さくするための処理は、適宜組み合わせて用いてもよい。このような処理を施して得られる第1および第3の保護層の厚み方向の位相差値Rth[590]は、好ましくは−20nm〜+20nm、より好ましくは−10nm〜+10nm、さらに好ましくは−6nm〜+6nm、特に好ましくは−3nm〜+3nmである。第1および第3の保護層の面内の位相差値Re[590]は、好ましくは0nm以上10nm以下、より好ましくは0nm以上5nm以下、さらに好ましくは0nm以上1nm以下である。本発明においては、特に第1の保護層の厚み方向の位相差値をこのような範囲に設定することで、より適切な光学補償が行われ、斜め方向のコントラスト比の高い液晶表示装置が得られ得る。
上記第1および第3の保護層の厚みは、上記の好ましい厚み方向の位相差値Rthが得られ得る限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。上記第1および第3の保護層の厚みは、好ましくは20〜200μm、より好ましくは30〜100μm、さらに好ましくは35〜95μmである。
A−8.液晶パネルの作製方法
上記液晶パネルは、任意の適切な方法で作製し得る。具体例として、上記液晶セルに上記の位相差層(第1〜第2のポジティブAプレート、第1および第2のOプレート、ネガティブCプレート等)、第1および第2の偏光子等を順次積層する方法が挙げられる。別の具体例としては、予め、第1の偏光子とネガティブCプレートと第1のOプレートと第1のポジティブAプレートとを積層して第1の位相差層付偏光板を作製し、第2の偏光子と第2のOプレートと第2のポジティブAプレートとを積層して第2の位相差層付偏光板を作製し、当該第1の位相差層付偏光板および第2の位相差層付偏光板を液晶セルに貼り合せる方法が挙げられる。
上記の液晶パネルの各構成要素の積層方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。代表的には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層を介して積層される。粘着剤層としては、代表的には、アクリル系粘着剤層が挙げられる。アクリル系粘着剤層の厚みは、好ましくは1〜100μm、より好ましくは1〜50μm、さらに好ましくは3〜30μmである。
B.液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、上記液晶パネルを備える。図5は、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。液晶表示装置200は、液晶パネル100と、液晶パネルの一方の側に配置されたバックライトユニット80とを備える。液晶パネル100は、その第1の偏光子が視認側となるように配置されていてもよし、バックライト側となるように配置されていてもよい。なお、図示例では、バックライトユニット80は直下方式を採用した場合を示しているが、例えば、サイドライト方式を採用してもよい。
図示例のように、直下方式を採用する場合、バックライトユニット80は、光源81と、反射フィルム82と、拡散板83と、プリズムシート84と、輝度向上フィルム85とを備える。サイドライト方式を採用する場合、好ましくは、バックライトユニットは、上記の構成に加え、導光板と、ライトリフレクターとを備える。なお、図5に例示した各光学部材は、液晶表示装置の照明方式や液晶セルの駆動モードなど、用途に応じてその一部が省略され得るか、または、他の光学部材に代替され得る。
上記液晶表示装置は、液晶パネルの背面から光を照射して画面を見る、透過型であっても良いし、液晶パネルの視認側から光を照射して画面を見る、反射型であっても良い。あるいは、上記液晶表示装置は、透過型と反射型の両方の性質を併せ持つ、半透過型であっても良い。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、実施例で用いた各分析方法は、以下の通りである。
(1)棒状液晶化合物の、界面のチルト角の測定方法:
Journal of Applied Phisics Vol.38(1999年)P.748に記載のWitteの式に、n、n、及び位相差値(遅相軸と平行に、極角−40°〜+40°(法線方向を0°とする)に5°きざみで測定したそれぞれの値)を代入して求めた。なお、位相差値は、分光エリプソメーター[日本分光(株)製 製品名「M−220」]を用いて、波長590nm、23℃で測定した値を用いた。また、ne及びnoは、アッベ屈折率計[アタゴ(株)製 製品名「DR−M4」]を用いて測定した値を用いた。
(2)偏光子の単体透過率の測定:
分光光度計[村上色彩技術研究所(株)製 製品名「DOT−3」]を用いて、JlS Z 8701−1982の2度視野(C光源)により、視感度補正を行ったY値を測定した。
(3)偏光子の偏光度の測定:
分光光度計[村上色彩技術研究所(株)製 製品名「DOT−3」]を用いて、偏光子の平行透過率(H)及び直交透過率(H90)を測定し、式:偏光度(%)={(H−H90)/(H+H90)}1/2×100より求めた。上記平行透過率(H)は、同じ種類の2枚の偏光子を、互いの吸収軸が平行となるように重ね合わせて作製した平行型積層偏光子の透過率の値である。また、上記直交透過率(H90)は、同じ種類の2枚の偏光子を互いの吸収軸が直交するように重ね合わせて作製した直交型積層偏光子の透過率の値である。なお、これらの透過率は、JlS Z 8701−1982の2度視野(C光源)により、視感度補正を行ったY値である。
(4)位相差値(Re[λ]、Rth[λ])、Nz係数、T[590]の測定方法:
王子計測機器(株)製 商品名「KOBRA21−ADH」を用いて、23℃で測定した。なお、平均屈折率は、アッベ屈折率計[アタゴ(株)製 製品名「DR−M4」]を用いて測定した値を用いた。
(5)厚みの測定方法:
厚みが10μm未満の場合、薄膜用分光光度計[大塚電子(株)製 製品名「瞬間マルチ測光システム MCPD−2000」]を用いて測定した。厚みが10μm以上の場合、アンリツ製デジタルマイクロメーター「KC−351C型」を使用して測定した。
(6)コントラスト比の測定方法:
23℃の暗室でバックライトを点灯させてから30分経過した後、ELDIM社製 製品名「EZ Contrast160D」を用いて、白画像及び黒画像を表示した場合のXYZ表示系のY値を測定した。白画像におけるY値(YW)と、黒画像におけるY値(YB)とから、斜め方向のコントラスト比「YW/YB」を算出した。なお、液晶パネルの長辺を方位角0°とし、法線方向を極角0°とした。
[実施例1]
(液晶セル)
TNモードの液晶セルを含む液晶表示装置[BENQ(株)製 17型液晶モニター(型番:FP71+)」]から、液晶パネルを取り出し、液晶セルの上下に配置されていた光学フィルムを全て取り除いた。この液晶セルの上下のガラス板の表面を洗浄し液晶セルを得た。
(偏光板)
保護層/偏光子/保護層の構成を有する、市販の偏光板[日東電工株式会社製、商品名「SIG1423DU」]を用いた。偏光子の両側に設けられた保護層のRe[590]は0.5nmであり、Rth[590]は1.0nmであった。この偏光板の単体透過率は42.6%であり、偏光度は99.99%であった。
(ネガティブCプレート1の作製)
下記化学式(1)に示されるネマチック液晶性化合物90重量部、下記化学式(2)に示されるカイラル剤10重量部、光重合開始剤(イルガキュア907:チバスペシャリティーケミカルズ社製)5重量部、およびメチルエチルケトン300重量部を均一となるように混合し、液晶塗工液を調製した。次に、この液晶塗工液を基板(二軸延伸PETフィルム)上にコーティングし、80℃で3分間熱処理し、次いで紫外線を照射して重合処理し、基板上にネガティブCプレート1(便宜上NC1と略称することがある)となるコレステリック配向固化層を形成した。当該コレステリック配向固化層の厚みは1μm、厚み方向の位相差値Rth[590]は60nmであり、面内位相差値Re[590]は0.5nmであった。
(Oプレート1の作製)
厚み80μmの、ハードコート処理されたトリアセチルセルロースを主成分とする高分子フィルム[日東電工(株)製]の表面に、光配向膜用の配向剤[Rolic社製 商品名「ROF103」]をスピンコータにて塗工(条件;3000rpmで1分間)し、100℃の空気循環式恒温オーブンで10分間乾燥させて、厚み70nmの光配向膜を形成した。次に、この光配向膜に、基板平面に対して斜め方向40°から偏光紫外光を照射(照射量:100mJ/cm:於365nm)し、傾斜配向処理を施した。次に、分子構造中に2つの架橋性官能基を有する棒状液晶化合物と重合開始剤とを含む液晶性組成物[Rolic社製 商品名「ROP5101」(液晶温度範囲30℃〜57℃)]と、シクロペンタノンとを含む塗工液(濃度;20重量%)を調製した。次に、この塗工液をスピンコータにて(条件;1000rpmで1分間)上記光配向膜の表面に塗工し、該塗工液の基板側とは反対側の界面を空気に接触した状態にして、50℃に加熱し、その温度で2分間保持して、ハイブリッド配列に配向させた棒状液晶化合物の固化層を形成した。さらに、この固化層に、窒素雰囲気下で、紫外線を照射(照射量:500mJ/cm:於365nm)して、基材上に、Oプレート1となる厚み1.1μmの硬化層を形成した。上記硬化層は、T[590]=90%、Re[590]=110nm、空気界面のチルト角(θair)=0°、基材界面のチルト角(θAL)=70°、平均傾斜角=35°であった。なお、便宜上、Oプレート1をO1と略称することがある。
(ポジティブAプレート1の作製)
長尺のノルボルネン系樹脂フィルム(日本ゼオン社製、商品名Zeonor、厚み60μm、光弾性係数3.10×10−12/N)を145℃で2.7倍に一軸延伸することによって、長尺のフィルムを作製した。このフィルムの厚みは37μm、面内の位相差値Re[590]は140nm、厚み方向の位相差値Rth[590]は140nmであった。得られたフィルムを上記液晶セルに対応するサイズに打ち抜いてポジティブAプレート1(便宜上PA1と略称することがある)とした。
(液晶パネルの作製)
上記液晶セルの視認側に、上記ポジティブAプレート1、Oプレート1、ネガティブCプレート1および偏光板を、この順に、アクリル系粘着剤(厚み:20μm)を介して積層した。このとき、Oプレート1およびCプレートは、それぞれ基材、基板を除去しながら転写して積層した。また、Oプレート1は、界面のチルト角が大きい方の表面が偏光板側となるように積層した。よって、偏光子側のチルト角(θ)は70°であり、液晶セル側のチルト角(θ)は0°であった。また、Oプレート1の棒状液晶化合物の配向方向は、視認側の液晶セルの配向処理(ラビング)方向と実質的に同一であった。
また、液晶セルの長辺方向に対して、ポジティブAプレート1の遅相軸、Oプレート1の遅相軸および偏光子の吸収軸が、それぞれ、反時計回りに135°、45°、45°となるように積層した。よって、ポジティブAプレート1の遅相軸は偏光子の吸収軸と実質的に直交であり、Oプレート1の遅相軸は偏光子の吸収軸と実質的に平行であった。
上記液晶セルのバックライト側に、上記ポジティブAプレート1、Oプレート1および偏光板を、この順に、アクリル系粘着剤(厚み:20μm)を介して積層した。このとき、Oプレート1は、基材を除去しながら転写して積層した。また、Oプレート1は、界面のチルト角が大きい方の表面が偏光板側となるように積層した。よって、偏光子側のチルト角(θ)は70°であり、液晶セル側のチルト角(θ)は0°であった。また、上記棒状液晶化合物の配向方向は、バックライト側の液晶セルの配向処理(ラビング)方向と実質的に同一であった。
また、液晶セルの長辺方向に対して、ポジティブAプレート1の遅相軸、Oプレート1の遅相軸および偏光子の吸収軸が、それぞれ、反時計回りに45°、135°、135°となるように積層した。よって、ポジティブAプレート1の遅相軸は偏光子の吸収軸と実質的に直交であり、Oプレート1の遅相軸は偏光子の吸収軸と実質的に平行であり、液晶セルの両側に配置された偏光子は互いに実質的に直交であった。
このようにして液晶パネルを作製した。
(液晶表示装置の作製)
上記で得られた液晶パネルを元の液晶表示装置のバックライトユニットと結合し、液晶表示装置を作製した。バックライトユニットの光源を点灯して30分経過後、コントラスト比(白表示時の輝度/黒表示時の輝度)を測定した。結果を図6に示す。なお、各実施例および比較例の液晶パネルの構成を表1に示す。
(比較例1)
(液晶パネル、液晶表示装置の作製)
液晶セルのバックライト側のOプレート1とバックライト側の偏光板との間に、上記ネガティブCプレート1をさらに積層したこと以外は実施例1と同様にして、液晶パネルおよび液晶表示装置を作製した。
得られた液晶表示装置についてのコントラスト比の測定結果を図7に示す。
(比較例2)
(液晶パネル、液晶表示装置の作製)
ネガティブCプレート1のかわりに下記のネガティブCプレート2を積層したこと、および、液晶セルのバックライト側のOプレート1とバックライト側の偏光板との間に、下記のネガティブCプレート2をさらに積層したこと以外は実施例1と同様にして、液晶パネルおよび液晶表示装置を作製した。
得られた液晶表示装置についてのコントラスト比の測定結果を図8に示す。
(ネガティブCプレート2)
上記ネガティブCプレート1と同様の方法で、基板上にネガティブCプレート2(便宜上NC2と略称することがある)となるコレステリック配向固化層を形成した。当該コレステリック配向固化層の厚みは1.8μm、厚み方向の位相差値Rth[590]は110nmであり、面内位相差値Re[590]は0.8nmであった。
図6〜8から明らかなように、本発明の実施例1の液晶表示装置は、比較例1および2の液晶表示装置に比べて、コントラストが優れていた。特に、上方向のコントラストが格段に優れていた。このことから、実施例1は、全方位においてコントラストが優れているといえる。その結果、実施例1は、画面が見やすく、商品価値の高い液晶表示装置であるといえる。なお、図6〜8では、コントラスト(白表示時の輝度/黒表示時の輝度)100以上の領域をピンクで表し、コントラスト10以下の領域を青で表し、コントラストが高くなるに従い、青からピンクに階調表示する。
本発明の液晶表示装置は、任意の適切な用途に使用される。その用途は、例えば、パソコンモニター,ノートパソコン,コピー機などのOA機器、携帯電話,時計,デジタルカメラ,携帯情報端末(PDA),携帯ゲーム機などの携帯機器、ビデオカメラ,テレビ,電子レンジなどの家庭用電気機器、バックモニター,カーナビゲーションシステム用モニター,カーオーディオなどの車載用機器、商業店舗用インフォメーション用モニターなどの展示機器、監視用モニターなどの警備機器、介護用モニター,医療用モニターなどの介護・医療機器等である。
好ましくは、本発明の液晶表示装置の用途は、テレビである。上記テレビの画面サイズは、好ましくはワイド17型(373mm×224mm)以上であり、さらに好ましくはワイド23型(499mm×300mm)以上であり、特に好ましくはワイド32型(687mm×412mm)以上である。
本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。 TNモードにおける液晶分子の配向状態を説明する概略斜視図である。 ハイブリッド配列における棒状液晶化合物分子の代表的な配列状態を説明する模式図である。 本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの光軸関係を示す分解概略図である。 本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。 本発明の実施例1の液晶表示装置のコントラスト等高線図である。 比較例1の液晶表示装置のコントラスト等高線図である。 比較例2の液晶表示装置のコントラスト等高線図である。
符号の説明
10 液晶セル
21 第1の偏光子
22 第2の偏光子
30 ネガティブCプレート
41 第1のOプレート
42 第2のOプレート
51 第1のポジティブAプレート
52 第2のポジティブAプレート
100 液晶パネル

Claims (17)

  1. 液晶セルと、
    該液晶セルの一方の側に配置された第1の偏光子と、
    該液晶セルの他方の側に配置された第2の偏光子と、
    該液晶セルと該第1の偏光子との間に該第1の偏光子側から順に配置された、ネガティブCプレートと第1のOプレートと第1のポジティブAプレートと、
    該液晶セルと該第2の偏光子との間に該第2の偏光子側から順に配置された、第2のOプレートと第2のポジティブAプレートとを備え、
    該Oプレートがハイブリッド配列に配向された棒状液晶化合物の固化層または硬化層である、液晶パネル。
  2. 前記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)が液晶セル側のチルト角(θ)よりも大きい、請求項1に記載の液晶パネル。
  3. 前記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)と液晶セル側のチルト角(θ)との差(Δθ=θ−θ)が20°〜90°である、請求項1または2に記載の液晶パネル。
  4. 前記棒状液晶化合物の偏光子側のチルト角(θ)が20〜90°である、請求項1から3のいずれかに記載の液晶パネル。
  5. 前記第1のOプレートおよび/または前記第2のOプレートの波長590nmにおける面内の位相差値(Re[590])が50〜200nmである、請求項1から4のいずれかに記載の液晶パネル。
  6. 前記第1のポジティブAプレートおよび/または前記第2のポジティブAプレートの波長590nmにおける面内の位相差値(Re[590])が50〜200nmである、請求項1から5のいずれかに記載の液晶パネル。
  7. 前記第1のポジティブAプレートおよび/または前記第2のポジティブAプレートがノルボルネン系樹脂で形成されたフィルムである、請求項1から6のいずれかに記載の液晶パネル。
  8. 前記ネガティブCプレートの厚み方向の位相差値(Rth[590])が20〜200nmである、請求項1から7のいずれかに記載の液晶パネル。
  9. 前記液晶セルが、電界が存在しない状態で、ツイスト配列に配向した液晶分子を含む、請求項1から8のいずれかに記載の液晶パネル。
  10. 前記第1の偏光子の吸収軸と、前記液晶セルの第1の偏光子側の基板の配向処理方向とが、実質的に平行となるように配置され、
    前記第2の偏光子の吸収軸と、前記液晶セルの第2の偏光子側の基板の配向処理方向とが、実質的に平行となるように配置されている、請求項1から9のいずれかに記載の液晶パネル。
  11. 前記第1の偏光子の吸収軸と前記第2の偏光子の吸収軸とが実質的に直交するように配置されている、請求項1から10のいずれかに記載の液晶パネル。
  12. 前記第1の偏光子の吸収軸と前記第1のOプレートの遅相軸とが実質的に平行となるように配置され、
    前記第2の偏光子の吸収軸と前記第2のOプレートの遅相軸とが実質的に平行となるように配置されている、請求項1から11のいずれかに記載の液晶パネル。
  13. 前記Oプレートの棒状液晶化合物のディレクタ方向を前記液晶セル面に投影した方向が、該液晶セル面の配向処理方向と実質的に平行である、請求項1から12のいずれかに記載の液晶パネル。
  14. 前記第1の偏光子の吸収軸と前記第1のポジティブAプレートの遅相軸とが実質的に直交するように配置され、
    前記第2の偏光子の吸収軸と前記第2のポジティブAプレートの遅相軸とが実質的に直交するように配置されている、請求項1から13のいずれかに記載の液晶パネル。
  15. 前記第2の偏光子と前記第2のOプレートとの間に配置された第1の保護層をさらに備え、
    該第1の保護層の厚み方向の位相差値Rth[590]が−10nm〜+10nmである、請求項1から14のいずれかに記載の液晶パネル。
  16. 前記第1の保護層が前記第2のOプレートと隣接して配置されている、請求項15に記載の液晶パネル。
  17. 請求項1から16のいずれかに記載の液晶パネルを備える、液晶表示装置。
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