JP2009050868A - 基板製造方法及び基板を用いた静電容量式タッチパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の静電容量式タッチパネルの加工方式は、紫外線吸収層を有する粘着層を用いて、予め貼り合わされた透明導電性フィルムの内部の導電層にレーザ光を照射し、二層の導電層を個別にパターニングすることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
この複数のコンデンサの電流変化をそれぞれ監視し、その最大変化がある位置を入力位置として検出する。これにより、パネル上の前記接触部分の座標を認識し、適切なインターフェイス機能が図られるようになっている。
現在、市場におけるLCD等のディスプレイの高精細化の動向に伴い、当該ディスプレイに装着されるタッチパネルについても同様に精密化・高精細化が要求されている。そのためには透明樹脂フィルム上にレーザーパターニングされる透明電極を高精細で形成し、且つ、各透明樹脂フィルム毎の透明電極を互いに精度良くアライメントする必要があるが、このようなアライメント工程はタッチパネルの製造効率を低下させるおそれがある。
本発明は以上の課題に鑑みてなされたものであって、微細な透明電極構造を有しつつ、精度よくアライメントが可能な静電容量式タッチパネルの製造方法と、当該方法により作製した透明電極付樹脂フィルムを用いることによって、良好な視認性及び入力性能を呈する静電容量式タッチパネルを提供することを目的とする。
なお、前記製造方法において、絶縁性透明基板としてPETフィルムを用いることができる。また、前記透明導電膜として酸化インジウム錫(以下ITOと略す)膜、スズ酸化膜、アルミニウム添加酸化亜鉛膜のうちの一種以上を用いることができる。
上記Qスイッチ駆動部は、YAGレーザ装置1に附属した制御システム(図示せず)から送り出されたレーザ制御信号に基づいてQスイッチを制御する。第三高調波(THG)発生器2との組合せで、上記Qスイッチを駆動する制御信号の繰り返し周波数は15〜300KHzの範囲で変化させることができる。
第三高調波(THG)発生器2は、レーザヘッドからの近赤外光(波長λ=1064nm)を3倍の振動数に変換する装置であり、変換された波長(λ=355nm)においては、透明導電膜であるITO膜の吸収率が高まるのでITO膜の除去を効率良く行うことができる。
また、透明樹脂基板(レーザ出射側)、透明導電膜(レーザ出射側)、粘着材料層、透明樹脂基板(レーザ入射側)、透明導電膜(レーザ入射側)を同順に積層してもよい。
YAGレーザの第三高調波(波長355nm)を用いれば、レーザ入射側PETフィルムに与える熱影響を低減でき、微細加工に好適である。また透明導電膜付樹脂基板としてITO膜付PETフィルムを用いる場合には、ITOとPETフィルムとの吸収率の差を利用して、専らITO膜のみを選択的に効率よく加工することができる。
しかしながら、紫外線吸収層を有しない粘着材料層の場合、該積層ITOフィルム5に入射したレーザビームのエネルギーはレーザ入射側のITO膜をアブレーションするだけでなく、レーザ出射側のITO膜までアブレーションを起こす可能性があり、不要なパターニング加工が行われる場合がある。
続いて、図1に示すYAGレーザ装置(Spectra-Physics社製、HIPPO High Power Q-SwitchedLaser)を用いてレーザ照射をおこなった。照射条件は、発振周波数160KHz、焦点レンズ50mm、駆動用LD電流61%、XYテーブル速度100mm/秒である。この時のパワー密度は20mW/平方cm であった。上下方向の焦点位置を調整し、約15μm幅の絶縁層で分離されたライン電極を作製した。さらに、積層ITOフィルムを裏返し、XYテーブル上で位置決めを行い、再度、同条件でレーザ照射を行い、ライン電極を作製した。上下のライン電極は直交する配置となっている。図3は実施例1の説明図で、3図左はレーザー加工時を、3図右はレーザ加工終了時の状況を示す。
続いて、実施例1と同様な方法を用いてライン電極を作製し、PETフィルム面を接触面とする静電容量式タッチパネルを作製した。
2 第三高調波(THG)発生器
3 伝送系
4 XYテーブル
5 積層ITOフィルム
10 透明樹脂基板
15 透明導電膜
20 粘着材
22 紫外線吸収剤を含有する粘着フィルム
24 レーザ光を吸収する樹脂フィルム
26 紫外線吸収剤を塗布した樹脂フィルム
28 紫外線吸収剤を含有した樹脂フィルム
Claims (7)
- 樹脂基板上に形成された導電膜に、レーザ加工装置を用いてレーザ光を照射し、該基板上に回路パターンを形成する基板製造方法において、導電膜を有する樹脂基板を粘着材料層を用いて二層に貼り合せた後、二層の樹脂基板の両面からレーザ光を照射し、回路パターンを形成することを特徴とする基板製造方法。
- 請求項1の基板製造方法において、該粘着材料層に該レーザ光を吸収する層を設けたことを特徴とする基板製造方法。
- 請求項1または2の基板製造方法において、上記該レーザ光を吸収する層が、紫外線吸収剤を含有する粘着フィルム、または、芯材に該レーザ光を吸収する樹脂フィルムを有する粘着フィルム、または、芯材に紫外線吸収剤を塗布した樹脂フィルムを有する粘着フィルム、または、芯材に紫外線吸収剤を含有した樹脂フィルムを有する粘着フィルムからなることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項1、2または3の基板製造方法において、上記レーザ加工装置の光源が、Qスイッチを有するYAGレーザ光源であり、かつ、上記レーザー光がYAG第三高調波であることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項1、2、3または4の基板製造方法において、上記樹脂基板が絶縁性透明基板であり、かつ、上記導電膜が透明導電膜であることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項3記載の該レーザ光を吸収する樹脂フィルムがポリエチレンナフタレートフィルムであることを特徴とする基板製造方法。
- 請求項1ないし請求項6のいづれか1項に記載の基板製造方法を用いて作製された静電容量式タッチパネル。
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