JP2009042117A - 恒温槽および自動分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】容器を所定の温度に保持して回転する恒温槽の加熱を簡単な構成で効率よく行うこと。
【解決手段】複数のキュベットＣが載置される反応テーブル１９において、キュベットＣを保持して間欠的に回動するキュベットホイール１９３の下方に加熱装置２００を備える。加熱装置２００は、ヒータ２２０と、このヒータ２２０によって発生した熱をキュベットホイール１９３に伝達するヒータブロック２３０とが一体的に形成された加熱部材２１０と、ヒータ昇降駆動部２６０を備える。ヒータ昇降駆動部２６０は、キュベットホイール１９３の回転時には加熱部材２１０を下降させてヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部から離間させ、キュベットホイール１９３の回転停止時には加熱部材２１０を上昇させてヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部に接触させる。
【選択図】図２−２

Description

本発明は、恒温槽およびこの恒温槽を備えた自動分析装置に関する。

従来から、検体と試薬とを反応させた反応液を光学的に測定することによって検体の分析を行う自動分析装置が知られている。このような自動分析装置は、複数の反応容器（キュベット）を載置して回動する反応テーブルを備えており、この反応テーブル上のキュベットにそれぞれ検体と試薬とを分注し、検体と試薬とを反応させている。一般に、反応テーブルは、加熱手段を備えており、キュベットを例えば３７℃程度の温度に保持して反応温度を一定に保つための恒温槽を構成している。例えば、加熱手段としてヒータを用いたものが知られている（特許文献１参照）。

特公昭６４−５００２９５号公報

ところで、反応容器を恒温するためのヒータを反応テーブルと一体的に設ける場合、ヒータやヒータに設けられて発熱温度を検出する温度センサ等が反応テーブルとともに回転する。このため、ヒータを駆動する駆動部との接続にスリップリング等を介在させて、電力供給用の配線や信号伝送用の配線の捩れや断線を防止する必要があった。このため、反応テーブル周辺の構造が複雑化するという問題があった。

本発明は、上記に鑑みて為されたものであって、容器を所定の温度に保持して回転する恒温槽の加熱を簡単な構成で効率よく行うことができる恒温槽およびこの恒温槽を備えた自動分析装置を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明にかかる恒温槽は、液体を収容する容器を複数載置する回転可能な載置台と、前記載置台を間欠的に回動させる載置台回動制御手段と、熱を発生して前記容器を加熱する加熱手段と、前記載置台の回転停止時に前記加熱手段を前記載置台と接触させ、前記載置台の回転時に前記加熱手段を前記載置台から離間させるように前記加熱手段を移動させる移動駆動手段と、を備えることを特徴とする。

また、本発明にかかる恒温槽は、上記の発明において、前記加熱手段に設けられ、前記容器の加熱温度を検出する温度検知手段と、前記温度検知手段の検出結果をもとに前記加熱手段の加熱制御を行って、前記容器を所定温度に保持する加熱制御手段と、を備えることを特徴とする。

また、本発明にかかる恒温槽は、液体を収容する容器を複数載置する回転可能な載置台と、前記載置台を間欠的に回動させる載置台回動制御手段と、前記載置台と一体的に設けられ、熱を発生して前記容器を加熱する発熱体と、前記発熱体に電力を供給して駆動し、前記発熱体を発熱させる加熱駆動手段と、前記発熱体に設けられた被接触部に接触して前記加熱駆動手段と前記発熱体とを電気的に接続する接触部材と、前記載置台の回転停止時に前記接触部材を前記被接触部に接触させ、前記載置台の回転時に前記接触部材を前記被接触部から離間させるように前記接触部材を移動させる接続部材移動制御手段と、を備えることを特徴とする。

また、本発明にかかる恒温槽は、上記の発明において、前記容器の加熱温度を検出する温度検知手段と、前記温度検知手段の検出結果をもとに前記発熱体による加熱制御を行って、前記容器を所定温度に保持する加熱制御手段と、を備え、前記接触部材は、前記被接触部との接触によって、前記温度検知手段と前記加熱制御手段とを電気的に接続することを特徴とする。

また、本発明にかかる自動分析装置は、上記の構成の恒温槽を備えることを特徴とする。

本発明によれば、容器を載置する載置台の間欠的な回動に伴って、載置台と、この載置台に載置された容器を加熱する加熱手段とを離接させることができる。すなわち、載置台の回転停止時に加熱手段を載置台と接触させ、載置台の回転時に加熱手段を載置台から離間させるように加熱手段を移動させることができる。そして、載置台の回転停止時には、載置台と加熱手段とが接触して載置台を直接加熱することができるので、容器の加熱を簡単な構成で効率よく行うことができるという効果を奏する。

以下、図面を参照し、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。

（実施の形態１）
先ず、実施の形態１について説明する。実施の形態１の自動分析装置は、複数の検体の生化学的、免疫学的あるいは遺伝学的な分析を自動的に行う装置であり、分析対象の検体と試薬とを容器であるキュベットにそれぞれ分注し、キュベット内で生じた反応を光学的に測定する。図１は、実施の形態１の自動分析装置１の内部構成の一例を示す概略斜視図である。自動分析装置１は、検体テーブル１１、検体分注機構１３、２つの試薬テーブル１５（１５−１，１５−２）、２つの試薬分注機構１７（１７−１，１７−２）、反応テーブル１９、２つの攪拌装置２３（２３−１，２３−２）、測定光学系２５、洗浄装置２７等を備える。また、自動分析装置１は、図１に示すように、装置を構成する各部を制御し、各部への動作タイミングの指示やデータの転送等を行って装置全体の動作を統括的に制御する制御部４を備える。

検体テーブル１１には、複数の検体容器１１１が周方向に沿って等間隔で収納される。検体容器１１１には、血液や尿等の検体が収容される。この検体テーブル１１は、制御部４の制御のもと、不図示の駆動機構によってその中心を回転軸とした間欠的な回動が可能に構成されており、所望の検体容器１１１を所定の位置まで搬送する。そして、この所定位置に搬送された検体容器１１１内の検体が、検体分注機構１３によって反応テーブル１９上を配列して搬送されるキュベットＣに分注される。

検体分注機構１３は、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行うアーム１３１を備え、このアーム１３１に、検体の吸引および吐出を行うプローブが取り付けられて構成されている。検体分注機構１３は、制御部４の制御のもと、検体テーブル１１上の所定位置に搬送された検体容器１１１からプローブによって検体を吸引する。そして、アーム１３１を回動させ、反応テーブル１９上の検体分注位置に搬送されたキュベットＣ内に検体を吐出して分注を行う。検体分注機構１３のプローブは、分注終了後、その移動経路上に配設された図示しない洗浄槽で流水・洗浄される。

試薬テーブル１５（１５−１，１５−２）は、載置台回動制御手段として機能する制御部４の制御のもと、それぞれ図示しない駆動機構によってその中心を回転軸とした間欠的な回動が可能に構成されており、所望の試薬容器Ｂを所定の位置まで搬送する。各試薬容器Ｂには、それぞれ分析項目に応じた所定の試薬が収容され、例えば、一方の試薬テーブル１５−１には、第１試薬を収容した試薬容器Ｂが収納され、他方の試薬テーブル１５−２には、第２試薬を収容した試薬容器Ｂが収納される。なお、各試薬テーブル１５は、それぞれ図示しない円盤状の蓋によって覆われている。また、各試薬テーブル１５の下方にはそれぞれ図示しない恒温槽が設けられており、内部を覆う蓋とともに、各試薬容器Ｂに収容された試薬を保冷して恒温状態に保つ。これにより、試薬の蒸発や変性を抑制することができる。

試薬分注機構１７（１７−１，１７−２）は、検体分注機構１３と同様に、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行うアーム１７１を備え、このアーム１７１に、それぞれ試薬の吸引および吐出を行うプローブが取り付けられて構成されている。一方の試薬分注機構１７−１は、制御部４の制御のもと、試薬テーブル１５−１上の所定位置に搬送された試薬容器Ｂ１からプローブによって第１試薬を吸引する。そして、アーム１７１を回動させ、反応テーブル１９上の第１試薬分注位置に搬送されたキュベットＣ内に第１試薬を吐出して分注を行う。同様にして、他方の試薬分注機構１７−２は、制御部４の制御のもと、試薬テーブル１５−２上の所定位置に搬送された試薬容器Ｂ１からプローブによって第２試薬を吸引する。そして、アーム１７１を回動させ、反応テーブル１９上の第２試薬分注位置に搬送されたキュベットＣ内に第２試薬を吐出して分注を行う。各試薬分注機構１７のプローブは、分注終了後、その移動経路上に配設された図示しない洗浄槽で流水・洗浄される。

反応テーブル１９には、複数の収納室１９１が周方向に沿って等間隔で形成されており、各収納室１９１にキュベットＣが着脱自在に載置される。キュベットＣは、内部に液体を保持する四角筒状の容器であり、光学的に透明な素材で成形される。具体的には、測定光学系２５から出射された分析光（３４０〜８００ｎｍ）に含まれる光の８０％以上を透過する素材、例えば、耐熱ガラスを含むガラス，環状オレフィンやポリスチレン等の合成樹脂が使用される。

具体的には、反応テーブル１９は、この反応テーブル１９上を複数の収納室１９１に区画してキュベットＣを着脱自在に載置する載置台としてのキュベットホイール１９３を有している。キュベットホイール１９３は、制御部４の制御のもと、図示しない駆動機構によって反応テーブル１９の中心を回転軸とし、１／４周を一周期とした間欠的な回動が自在に構成されており、四周期で１反応容器分回転する。このキュベットホイール１９３の回転によって、キュベットＣは、反応テーブル１９上の検体分注位置、第１試薬分注位置、第２試薬分注位置、攪拌位置、測定位置、洗浄位置等の各位置に搬送される。

キュベットホイール１９３の下方には、加熱装置２００（図２−１，２参照）が設けられており、キュベットＣの温度を所定温度、具体的には３７℃程度の温度に加熱する。そして、キュベットホイール１９３の半径方向外側には、例えば樹脂等の断熱材料から成る保温部材１９５が配置されており、加熱装置２００および反応テーブル１９を覆う図示しない蓋とともに恒温槽を構成し、キュベットＣの温度を３７℃程度の温度に保温する。

攪拌装置２３（２３−１，２３−２）は、制御部４の制御のもと、図示しない駆動機構によってその中心を軸中心とした回転が可能に構成されており、その攪拌位置に搬送されたキュベットＣ内に分注された検体と試薬とを撹拌棒によって攪拌し、反応を促進させる。攪拌棒は、攪拌終了後、洗浄水が供給される図示しない洗浄槽で流水・洗浄される。

測定光学系２５は、制御部４の制御のもと、測定位置に搬送されたキュベットＣに分析光を照射し、キュベットＣ内の反応液を透過した光を受光して分光強度測定を行う。例えば、キュベットＣ内の反応液を分析するための分析光（３４０〜８００ｎｍ）を出射する光源２５１と、光源２５１から出射されてキュベットＣ内の反応液を透過した光量を測定するセンサ２５３とを備える。この測定光学系２５による測定結果は、制御部４に出力され、この制御部４と接続された分析部４１によって分析される。

洗浄装置２７は、測定光学系２５による測定が終了して装置下方の洗浄位置に搬送されたキュベットＣを洗浄対象として、このキュベットＣ内部の反応液を吸引して排出するとともに、キュベットＣ内に洗浄水等の洗浄液を吐出および吸引することによってその内部を洗浄・乾燥する。洗浄・乾燥されたキュベットＣは、再び分析に使用される。

制御部４は、分析結果の他、自動分析装置１の動作に必要な各種データを保持するメモリを内蔵したマイクロコンピュータ等で構成され、図１では便宜上装置外に示しているが、装置内の適所に収められるものである。この制御部４は、分析部４１と接続されており、測定光学系２５による測定結果が適宜出力されるようになっている。分析部４１は、測定光学系２５による測定結果に基づいて検体の成分濃度等を分析し、分析結果を制御部４に出力する。また、制御部４は、検体数や分析項目等、分析に必要な情報を入力するためのキーボードやマウス等の入力装置で構成される入力部４３や、分析結果の出力や警告表示等するためのディスプレイやプリンタ等の出力装置で構成される出力部４５と接続される。

上記構成の自動分析装置１では、順次搬送される複数のキュベットＣに対して、試薬分注機構１７が試薬容器Ｂ中の試薬（第１試薬）を分注し、検体分注機構１３が検体容器１１１中の検体を分注する。続いて、攪拌装置２３−１がキュベットＣ内の液体（第１試薬および検体）を撹拌して反応させた後、測定光学系２５が反応させた状態の試料の分光強度測定を行う。また、必要に応じて試薬分注機構１７が試薬容器Ｂ中の試薬（第２試薬）を分注する。続いて、攪拌装置２３−２がキュベットＣ内の液体（第１試薬、検体および第２試薬）を撹拌して反応させた後、測定光学系２５が反応させた状態の試料の分光強度測定を行う。そして、分析部４１が測定結果を分析し、検体の成分分析等を自動的に行う。また、洗浄装置２７が測定光学系２５による測定が終了したキュベットＣの洗浄・乾燥を行い、一連の分析動作が連続して繰り返し行われる。

次に、反応テーブル１９上のキュベットＣを加熱して所定温度に保持するための加熱装置２００について説明する。図２−１および図２−２は、実施の形態１の自動分析装置１を構成する反応テーブル１９の半径方向の一部縦断面図であり、反応テーブル１９の内部の構成を示している。

加熱装置２００は、熱を発生する発熱体であるヒータ２２０と、このヒータ２２０によって発生した熱をキュベットホイール１９３に伝達するヒータブロック２３０とが一体的に形成された加熱部材２１０を備える。この加熱部材２１０は、加熱手段に相当するものであり、キュベットホイール１９３の下方に設けられる。ヒータブロック２３０は、例えばアルミニウム等の熱伝導性を有する素材からなり、図２−２に示すように、キュベットホイール１９３の回転停止時にその接触面２３１がキュベットホイール１９３の底部と接触し、ヒータ２２０が発生した熱をキュベットホイール１９３に伝達する。これによれば、ヒータ２２０の発熱によってキュベットＣを効率よく加熱することができる。また、加熱装置２００は、ヒータ２２０を駆動して発熱させるヒータ駆動部２４０と、ヒータ２２０の発熱温度を検出する温度検知手段としての温度センサ２５０と、加熱部材２１０を昇降動作させてヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部と離接させる移動駆動手段としてのヒータ昇降駆動部２６０とを備える。

ヒータ駆動部２４０は、例えば加熱部材２１０の下方の適所に固定配置されており、ヒータ２２０に電力を供給する電力供給部２４１と、温度センサ２５０の検出値をもとに電力供給部２４１からヒータ２２０に供給される供給電力を調整して、キュベットＣの温度を所定温度に保持する加熱制御手段としての加熱制御部２４３とを備える。

ヒータ昇降駆動部２６０は、例えばアクチュエータと、その駆動制御回路等で構成され、キュベットホイール１９３の間欠的な回動と同期して加熱部材２１０を上下動させて、その位置を変位させる。具体的には、このヒータ昇降駆動部２６０には、制御部４からキュベットホイール１９３の回転タイミングおよび回転停止タイミングが入力される。この制御部４からの入力に基づき、ヒータ昇降駆動部２６０は、キュベットホイール１９３の回転時には、図２−１に示すように加熱部材２１０を下降させて退避位置に移動させ、ヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部から離間させる。そして、ヒータ昇降駆動部２６０は、キュベットホイール１９３の回転停止時には、図２−２に示すように加熱部材２１０を上昇させて加熱位置に移動させ、ヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部に接触させる。

以上説明した実施の形態１によれば、反応テーブル１９において、キュベットＣを保持するキュベットホイール１９３の下方に、ヒータ２２０と、ヒータ２２０から発生した熱をキュベットホイール１９３に伝達するヒータブロック２３０とで構成された加熱部材２１０を配置し、キュベットホイール１９３の間欠的な回動に伴ってヒータブロック２３０の接触面２３１とキュベットホイール１９３の底部とを離接させることができる。具体的には、キュベットホイール１９３の回転時には、ヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部から離間させ、キュベットホイール１９３の回転停止時には、ヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部に接触させることができる。これによれば、加熱部材２１０が回転しないため、加熱部材２１０とヒータ駆動部２４０との接続にスリップリング等を介在させる必要がない。また、キュベットホイール１９３の回転停止時に、ヒータブロック２３０の接触面２３１をキュベットホイール１９３の底部に接触させてキュベットホイール１９３を直接加熱することができる。したがって、容器の加熱を簡単な構成で効率よく行うことができる。

（実施の形態２）
次に、実施の形態２について説明する。実施の形態２の自動分析装置は、実施の形態１の自動分析装置１において、反応テーブル１９ｂのキュベットホイール１９３の下方に、図２−１，図２−２に示して説明した加熱装置２００にかえて、図３−１，３−２に示す加熱装置２００ｂを配置したものである。なお、実施の形態１と同様の部分については、同一の符号を付する。図３−１および図３−２は、実施の形態２における自動分析装置を構成する反応テーブル１９ｂの半径方向の一部縦断面図であり、反応テーブル１９ｂの内部の構成を示している。

本加熱装置２００ｂは、実施の形態１と同様に、発熱体であるヒータ２２０ｂと、このヒータ２２０ｂによって発生した熱をキュベットホイール１９３に伝達するヒータブロック２３０ｂとが一体的に形成された加熱部材２１０ｂを備える。実施の形態２では、この加熱部材２１０ｂは、キュベットホイール１９３と一体的に設けられ、キュベットホイール１９３の間欠的な回動とともに回動する。

また、加熱装置２００ｂは、ヒータ２２０ｂに設けられてヒータ２２０ｂの発熱温度を検出する温度検知手段としての温度センサ２５０ｂと、ヒータ２２０ｂを駆動して発熱させるヒータ駆動部２４０ｂとを備える。ヒータ駆動部２４０ｂは、実施の形態１と同様に、例えば加熱部材２１０ｂの下方の適所に固定配置されており、加熱部材２１０ｂの底部に設けられた被接触部であるコネクタ受け２７０と着脱自在な接触部材としてのコネクタ２８０によって、ヒータ２２０ｂおよび温度センサ２５０ｂと電気的に接続される。

図４は、加熱部材２１０ｂの底部を示す模式図である。図４に示すように、加熱部材２１０ｂの底部には、複数のコネクタ受け２７０が配設されている。具体的には、キュベットホイール１９３の回転が停止したときにコネクタ２８０と対向する加熱部材２１０ｂの各位置に、コネクタ受け２７０がそれぞれ配設される。そして、コネクタ２８０は、キュベットホイール１９３の回転が停止したときに対向位置に移動されたコネクタ受け２７０と嵌合するようになっている。

具体的には、コネクタ２８０は、接続部材移動制御手段としてのコネクタ駆動部２９０によってコネクタ受け２７０に着脱される。コネクタ駆動部２９０は、キュベットホイール１９３の間欠的な回動と同期してコネクタ２８０を上下動させて、その位置を変位させる。すなわち、このコネクタ駆動部２９０には、制御部４からキュベットホイール１９３の回転タイミングおよび回転停止タイミングが入力される。この制御部４からの入力に基づき、コネクタ駆動部２９０は、キュベットホイール１９３の回転時には、図３−１に示すようにコネクタ２８０を下降させてコネクタ受け２７０から離間させる。そして、コネクタ駆動部２９０は、キュベットホイール１９３の回転停止時には、図３−２に示すようにコネクタ２８０を上昇させてコネクタ受け２７０に嵌合させ、ヒータ２２０ｂおよび温度センサ２５０ｂとヒータ駆動部２４０ｂとを電気的に接続する。

より具体的には、ヒータ駆動部２４０ｂは、ヒータ２２０ｂに電力を供給する加熱駆動手段としての電力供給部２４１と、温度センサ２５０ｂの検出値をもとに電力供給部２４１からヒータ２２０ｂに供給される供給電力を調整して、キュベットＣの温度を所定温度に保持する加熱制御手段としての加熱制御部２４３とを備えており、コネクタ２８０とコネクタ受け２７０との嵌合によって、キュベットホイール１９３と一体に回動するヒータ２２０ｂと加熱部材２１０ｂの下方に固定配置されるヒータ駆動部２４０ｂの電力供給部２４１とを接続する電力供給用の配線が接続され、各部が電気的に接続されるとともに、ヒータ２２０ｂに設けられた温度センサ２５０ｂとヒータ駆動部２４０ｂの加熱制御部２４３とを接続する信号伝送用の配線が接続され、各部が電気的に接続される。

なお、加熱制御部２４３には、制御部４からキュベットホイール１９３の回転タイミングおよび回転停止タイミングが入力される。この制御部４からの入力に基づき、加熱制御部２４３は、電力供給部２４１による電力供給／遮断を制御する。すなわち、電力供給部２４１は、加熱制御部２４３の制御のもと、キュベットホイール１９３の回転が停止し、コネクタ２８０が上昇してコネクタ受け２７０に嵌合している間は電力供給を行い、キュベットホイール１９３が回転し、コネクタ２８０が下降してコネクタ受け２７０から離間している間は電力供給を行わない。

以上説明したように、実施の形態２によれば、反応テーブル１９ｂにおいて、キュベットＣを保持するキュベットホイール１９３の下方に、ヒータ２２０ｂと、ヒータ２２０ｂから発生した熱をキュベットホルダー１９３に伝達するヒータブロック２３０ｂとで構成された加熱部材２１０ｂをキュベットホイール１９３と一体的に設け、キュベットホイール１９３の間欠的な回動に伴って、加熱部材２１０ｂとヒータ駆動部２４０ｂとを電気的に接続するためのコネクタ２８０を加熱部材２１０ｂに設けられたコネクタ受け２７０から離接させることができる。具体的には、キュベットホイール１９３の回転時には、コネクタ２８０をコネクタ受け２７０と離間させ、キュベットホイール１９３の回転停止時には、コネクタ２８０をコネクタ受け２７０に嵌合させることができる。これによれば、加熱部材２１０ｂとヒータ駆動部２４０ｂとの接続にスリップリング等を介在させる必要がなく、電力供給用の配線や信号伝送用の配線の捩れを防止するために反応テーブル１９ｂを定期的に反転させるといった制御も必要ない。また、ヒータブロック２３０ｂがキュベットホイール１９３の底部と接触してキュベットホイール１９３を直接加熱することができる。したがって、容器の加熱を簡単な構成で効率よく行うことができる。

なお、実施の形態２では、図３−１等に例示したように、温度センサ２５０ｂをヒータ２２０ｂに設ける場合について説明したが、温度センサの設置位置は図示の例に限定されるものではない。例えば、キュベットＣが載置されるキュベットホイール１９３側の所定位置に設置し、キュベットＣの周辺温度を検出して加熱制御部２４３に出力する構成としてもよい。

自動分析装置の内部構成の一例を示す概略斜視図である。 実施の形態１における反応テーブルの半径方向の一部縦断面図である。 実施の形態１における反応テーブルの半径方向の一部縦断面図である。 実施の形態２における反応テーブルの半径方向の一部縦断面図である。 実施の形態２における反応テーブルの半径方向の一部縦断面図である。 実施の形態２における加熱部材の底部を示す模式図である。

符号の説明

１ 自動分析装置
１１ 検体テーブル
１３ 検体分注機構
１５（１５−１，２） 試薬テーブル
１７（１７−１，２） 試薬分注機構
１９ 反応テーブル
１９３ キュベットホイール
１９５ 保温部材
２００ 加熱装置
２１０ 加熱部材
２２０ ヒータ
２３０ ヒータブロック
２３１ 接触面
２４０ ヒータ駆動部
２４１ 電力供給部
２４３ 加熱制御部
２５０ 温度センサ
２６０ ヒータ昇降駆動部
２３（２３−１，２） 攪拌装置
２５ 測定光学系
２７ 洗浄装置
４ 制御部
４１ 分析部
４３ 入力部
４５ 出力部
Ｂ 試薬容器
Ｃ キュベット

Claims (5)

1. 液体を収容する容器を複数載置する回転可能な載置台と、
   前記載置台を間欠的に回動させる載置台回動制御手段と、
   熱を発生して前記容器を加熱する加熱手段と、
   前記載置台の回転停止時に前記加熱手段を前記載置台と接触させ、前記載置台の回転時に前記加熱手段を前記載置台から離間させるように前記加熱手段を移動させる移動駆動手段と、
   を備えることを特徴とする恒温槽。
2. 前記加熱手段に設けられ、前記容器の加熱温度を検出する温度検知手段と、
   前記温度検知手段の検出結果をもとに前記加熱手段の加熱制御を行って、前記容器を所定温度に保持する加熱制御手段と、
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の恒温槽。
3. 液体を収容する容器を複数載置する回転可能な載置台と、
   前記載置台を間欠的に回動させる載置台回動制御手段と、
   前記載置台と一体的に設けられ、熱を発生して前記容器を加熱する発熱体と、
   前記発熱体に電力を供給して駆動し、前記発熱体を発熱させる加熱駆動手段と、
   前記発熱体に設けられた被接触部に接触して前記加熱駆動手段と前記発熱体とを電気的に接続する接触部材と、
   前記載置台の回転停止時に前記接触部材を前記被接触部に接触させ、前記載置台の回転時に前記接触部材を前記被接触部から離間させるように前記接触部材を移動させる接続部材移動制御手段と、
   を備えることを特徴とする恒温槽。
4. 前記容器の加熱温度を検出する温度検知手段と、
   前記温度検知手段の検出結果をもとに前記発熱体による加熱制御を行って、前記容器を所定温度に保持する加熱制御手段と、
   を備え、
   前記接触部材は、前記被接触部との接触によって、前記温度検知手段と前記加熱制御手段とを電気的に接続することを特徴とする請求項３に記載の恒温槽。
5. 請求項１〜４のいずれか一つに記載の恒温槽を備えることを特徴とする自動分析装置。

Images