JP2009021773A - 圧電振動子の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、真空度の低下を抑えることができる圧電振動子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】光透過性部８４を有し、内部空間に圧電振動片１０が配置され、貫通孔７０のみによって内部空間と外部が連通するパッケージ６０を用意する。内部空間を、酸素プラズマ及び紫外線の少なくとも一方で洗浄する。洗浄を行った後に内部空間を真空にする。貫通孔７０を塞いで内部空間を真空封止する。真空封止した後に、圧電振動片１０の振動腕１４に形成された第２の金属膜５８に光透過性部８４を通してレーザービームを照射して、第２の金属膜５８の一部を除去することで、圧電振動片１０の駆動周波数を調整する。
【選択図】図６

Description

本発明は、圧電振動子の製造方法に関する。

特許文献１には、圧電振動片が取り付けられたパッケージをガラスリッドで塞ぎ、パッケージ空間を真空封止した圧電振動子が開示されており、真空封止後に、ガラスリッドを通してレーザービームによって振動腕の金属膜の一部を除去して周波数を調整する工程も開示されている。圧電振動子は、リフロー工程によって回路基板に実装すると、高温下にさらされるため、封止されたパッケージ空間でガスが発生し、真空度が低下し、ＣＩ値が上昇してしまうという問題があった。このＣＩ値上昇の問題は、特に真空封止後に、レーザービームをガラスリッド越しに照射して金属膜を除去することで、駆動周波数を調整した圧電振片において顕著であった。
特許第３５４１６８２号公報

本発明は、真空度の低下を抑えることができる圧電振動子の製造方法を提供することを目的とする。

（１）本発明に係る圧電振動子の製造方法は、
（ａ）光透過性部を有し、内部空間に圧電振動片が配置され、貫通孔によって前記内部空間と外部が連通するパッケージを用意する工程と、
（ｂ）前記内部空間を、酸素プラズマ及び紫外線の少なくとも一方で洗浄する工程と、
（ｃ）前記洗浄を行った後に前記内部空間を真空にする工程と、
（ｄ）前記貫通孔を塞いで前記内部空間を真空封止する工程と、
（ｅ）前記真空封止した後に、前記圧電振動片の振動腕に形成された金属膜に前記光透過性部を通してレーザービームを照射して、前記金属膜の一部を除去することで、前記圧電振動片の駆動周波数を調整する工程と、
を含む。真空封止後に、レーザービームをガラスリッド越しに照射して金属膜を除去することで、駆動周波数を調整した圧電振子を、リフロー工程などで高温下にさらすと、ＣＩ値が上昇することが、発明者の実験で明らかになった。本発明によれば、酸素プラズマ及び紫外線の少なくとも一方でパッケージの内部空間を洗浄するので、この洗浄を行わない場合と比べて、リフロー工程などで高温下にさらされてもＣＩ値の上昇が小さいことが発明者の実験により明らかになった。酸素プラズマによれば有機物をアッシングし、紫外線によれば有機物の分子結合を切断するので、内部空間で露出する有機物を減らすことができる。有機物が減少すれば、熱によって発生するガスが減少するので真空度の低下を避けられる。また、酸素プラズマ又は紫外線によって無機物も減らすことができる。
（２）この圧電振動子の製造方法において、
前記酸素プラズマを、前記貫通孔から前記内部空間に導入してもよい。
（３）この圧電振動子の製造方法において、
前記紫外線を、前記光透過性部を通して前記内部空間に照射してもよい。
（４）この圧電振動子の製造方法において、
前記紫外線を前記内部空間に照射した後に、前記酸素プラズマを前記内部空間に導入してもよい。
（５）この圧電振動子の製造方法において、
酸素を含む雰囲気ガスを前記貫通孔から前記内部空間に導入し、前記内部空間の前記雰囲気ガスに前記紫外線を照射してもよい。
（６）この圧電振動子の製造方法において、
前記（ｃ）工程を、前記パッケージを加熱しながら行ってもよい。

（圧電振動片）
図１は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法で使用する圧電振動片（音叉型圧電振動片）を示す平面図である。なお、圧電振動片１０の底面図は平面図と対称に表れる。圧電振動片１０は、水晶、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電材料からなる。圧電振動片１０は、基部１２と、基部１２から延びる一対の振動腕１４と、を含む。

図２は、図１に示す圧電振動片１０のII−II線断面拡大図である。振動腕１４は、相互に反対を向く表裏面１６と、表裏面１６を両側で接続する第１及び第２の側面２０，２２とを有する。

一方（図１で左側）の振動腕１４の第１の側面２０と、他方（図１で右側）の振動腕１４の第２の側面２２が対向するように並列している。第１の側面２０は、表裏面１６の間隔によって定義される振動腕１４の厚みの中央方向に高くなる山型となるように形成されている（図２参照）。第１の側面２０が描く山型の高さは、第１及び第２の側面２０，２２の間隔によって定義される振動腕１４の幅の、０％超１２．５％以下である。

振動腕１４は、基部１２に接続される根本部２４において、基部１２側に向けて幅を拡げてあり、広い幅で基部１２に接続するので剛性が高くなっている。振動腕１４は、第１及び第２の側面２０，２２の間隔によって定義される幅が、基部１２から先端に向けて細くなる第１のテーパ部２６を含む。第１のテーパ部２６を形成することにより、振動腕１４は振動しやすくなっている。振動腕１４は、第１のテーパ部２６よりも先端に近い位置に、幅が第１のテーパ部２６から先端に向けて太くなる第２のテーパ部２８を含む。第２のテーパ部２８は、錘の機能を果たすので、振動周波数を低くすることができる。振動腕１４は、第１及び第２のテーパ部２６，２８が接続される幅変更点が溝３０よりも先端近くに位置するように形成されている。

振動腕１４には、表裏面１６に、長手方向に延びる溝３０がそれぞれ形成されている。溝３０によって振動腕１４が動きやすくなって効率的に振動するのでＣＩ値を下げることができる。溝３０は、振動腕１４の長さの５０〜７０％の長さを有する。また、溝３０は、振動腕１４の幅の６０〜９０％の幅を有する。

溝３０は、第１の側面２０と背中合わせに延びる第１の内面３２と、第２の側面２２と背中合わせに延びる第２の内面３４と、を含む。第１の内面３２は第２の内面３４よりも、表裏面１６に対する角度が垂直に近くなっている。第１の内面３２は平坦面であってもよい。第２の内面３４も平坦面であってもよいが、図２に示す例では、異なる角度の面が接続されてなる。第１及び第２の側面２０，２２は、第２の内面３４よりも表裏面１６に対する角度（表裏面１６と接続する部分の角度）が垂直に近くなっている。

圧電振動片１０は、一対の支持腕３６を含む。一対の支持腕３６は、基部１２から一対の振動腕１４が延びる方向とは交差方向であってそれぞれ相互に反対方向に延び、一対の振動腕１４の延びる方向に屈曲してさらに延びる。屈曲することで、支持腕３６は小型化される。支持腕３６は、パッケージ６０に取り付けられる部分であり、支持腕３６での取り付けによって、振動腕１４及び基部１２は浮いた状態になる。

基部１２には、振動腕１４の表裏面１６と同じ側の面に括れた形状が表れるように、相互に対向方向に一対の切り込み３８が形成されている。一対の切り込み３８は、それぞれ、一対の支持腕３６が基部１２から延びて屈曲する方向の側で一対の支持腕３６に隣接して基部１２に形成されている。切り込み３８によって、振動腕１４の振動の伝達が遮断されるので、振動が基部１２や支持腕３６を介して外部に伝わること（振動漏れ）を抑制し、ＣＩ値の上昇を防止することができる。切り込み３８の長さ（深さ）は、基部１２の強度を確保できる範囲で長い（深い）ほど、振動漏れ抑制効果は大きい。一対の切り込み３８の間の幅（一対の切り込み３８に挟まれた部分の幅）は、一対の振動腕１４の対向する第１及び第２の側面２０，２２の間隔よりも小さくしてもよいし大きくしてもよいし、一対の振動腕１４の相互に反対を向く第１及び第２の側面２０，２２の距離よりも小さくしてもよいし大きくしてもよい。

振動腕１４には、励振電極膜が形成されている。励振電極膜は、１００Å以上３００Å以下の厚みを有する下地のＣｒ膜と、Ｃｒ膜上に形成された２００Å以上５００Å以下の厚みを有するＡｕ膜と、を含む多層構造であってもよい。Ｃｒ膜は水晶との密着性が高く、Ａｕ膜は電気抵抗が低く酸化し難い。励振電極膜は、第１及び第２の側面２０，２２にそれぞれ形成された第１及び第２の側面電極膜４２，４４と、第１及び第２の内面３２，３４にそれぞれ形成された第１及び第２の内面電極膜４６，４８と、を含む。励振電極膜によって、第１及び第２の励振電極５０，５２が構成される。

第１の励振電極５０は、溝３０に形成された第１及び第２の内面電極膜４６，４８を含む。１つの溝３０に形成された第１及び第２の内面電極膜４６，４８は、相互に連続的に形成されて電気的に接続されている。表裏面１６の一方（例えば表面）の溝３０に形成された第１及び第２の内面電極膜４６，４８と、表裏面１６の他方（例えば裏面）の溝３０に形成された第１及び第２の内面電極膜４６，４８と、は電気的に接続されている。すなわち、表裏面１６それぞれに形成された一対の第１の励振電極５０は電気的に接続されている。また、一方の振動腕１４に形成された一対の第１の励振電極５０は、基部１２上の表裏面１６それぞれに形成された引き出し電極５３に接続され、これらの引き出し電極５３が、他方の振動腕１４の第１又は第２の側面電極膜４２，４４に接続されることで電気的に接続される。

第２の励振電極５２は、第１及び第２の側面電極膜４２，４４を含む。また、第１及び第２の側面電極膜４２，４４は電気的に接続されている。その電気的接続は、振動腕１４の溝３０が形成されていない部分において、表裏面１６の少なくとも一方（あるいは両方）上に形成された接続電極５４によってなされている。

一方の振動腕１４に形成された第１の励振電極５０と、他方の振動腕１４に形成された第２の励振電極５２と、は基部１２上の引き出し電極５３で電気的に接続されている。引き出し電極５３は、第２の励振電極５２が形成される振動腕１４の隣に並ぶ支持腕３６上に至るまで形成されている。引き出し電極５３は、支持腕３６の表裏面１６（あるいはさらに側面）に形成されている。支持腕３６上で、引き出し電極５３を外部との電気的接続部にすることができる。

振動腕１４には、表裏面１６の少なくとも一方上に、第１及び第２の金属膜５６，５８が形成されている。表裏面１６は振動腕１４を構成する材料の面を指し、第１及び第２の金属膜５６，５８は、表裏面１６に直接形成されており、励振電極膜は、第１及び第２の金属膜５６，５８を避けて形成されている。第１の金属膜５６は、第２の金属膜５８よりも振動腕１４の先端近くに形成されている。また、第１の金属膜５６は、第２の金属膜５８よりも厚く形成されている。

第１及び第２の金属膜５６，５８は、振動腕１４の錘の役割を果たしており、その一部を除去することで錘の重さを調整することができる。振動腕１４の先端部の重さが重いほど振動腕１４の振動周波数が小さくなり、軽いほど振動腕１４の振動周波数が大きくなる。これを利用して周波数調整を行うことができる。第１の金属膜５６には、孔５７が形成されている。孔５７の一部は貫通しており、振動腕１４の表裏面１６が露出している。

また、図示しない圧電振動片の変形例として、接続電極５４を振動腕１４の先端まで形成し、さらに、振動腕１４の先端近傍において、接続電極５４に１層以上の金属膜を追加して積層する構成にしても良い。ここで、接続電極５４に金属膜が追加されていない領域を微調整領域とし、金属膜が追加されている領域を粗調整領域とする。

（圧電振動片の動作）
本実施の形態では、第１の側面電極膜４２と第１の内面電極膜４６との間に電圧を印加し、第２の側面電極膜４４と第２の内面電極膜４８との間に電圧を印加することで、振動腕１４の一方の側端を伸ばし、他方の側端を縮ませて振動腕１４を屈曲させて振動させる。言い換えると、１つの振動腕１４において、第１及び第２の励振電極５０，５２間に電圧を印加して、振動腕１４の第１及び第２の側面２０，２２を伸縮させることで振動腕１４を振動させる。なお、第１及び第２の励振電極５０，５２は、振動腕１４の７０％までは、長いほどＣＩ値が下がることが分かっている。

図２は、本実施の形態に係る圧電振動片１０の動作を説明する図である。図２に示すように、一方の振動腕１４の第１及び第２の励振電極５０，５２に電圧が印加され、他方の振動腕１４の第１及び第２の励振電極５０，５２に電圧が印加される。ここで、一方（左側）の振動腕１４の第１の励振電極５０と他方（右側）の振動腕１４の第２の励振電極５２が同じ電位（図２の例では＋電位）となり、一方（左側）の振動腕１４の第２の励振電極５２と他方（右側）の振動腕１４の第１の励振電極５０が同じ電位（図２の例では−電位）となるように、第１の励振電極５０及び第２の励振電極５２は、クロス配線によって交流電源に接続され、駆動電圧としての交番電圧が印加されるようになっている。印加電圧によって、図２に矢印で示すように電界が発生し、これにより、振動腕１４は、互いに逆相振動となるように（振動腕１４の先端側が互いに接近・離間するように）励振されて屈曲振動する。また、基本モードで振動するように交番電圧が調整されている。

（圧電振動子の製造方法）
圧電振動子の製造方法は、圧電振動片１０の形成を含む。圧電振動片１０を水晶から構成する場合、水晶ウエハは、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸からなる直交座標系において、Ｚ軸を中心に時計回りに０度ないし５度の範囲で回転して切り出した水晶Ｚ板であって所定の厚みに切断研磨して得られるものを用いる。１つの水晶ウエハから複数の圧電振動片１０を連結された状態で切り出し、最終的に個々の圧電振動片１０に切断する。圧電振動片１０には、励振電極膜及び第１及び第２の金属膜５６，５８を形成する。

第１の金属膜５６の一部を除去する工程を、圧電振動片１０をパッケージ６０に固定する工程前に行う。つまり、圧電振動子に組み込む前（水晶ウエハから連結された状態で切り出された複数の圧電振動片１０を個々に切断する前であっても後でもよい。）に、第１の金属膜５６の一部を除去する（孔５７を形成する）ことで周波数調整を行う。第１の金属膜５６の一部の除去は、レーザービームや電子ビームによって行ってもよい。第１の金属膜５６は、第２の金属膜５８よりも振動腕１４の先端に近いので、振動腕１４を振動しやすくする（周波数を上げる）効果が大きい。しかも、第１の金属膜５６は、第２の金属膜５８よりも厚く形成されているので、同じ面積で一部を除去した場合に、除去する部分の体積が大きくなるので、この効果は一層大きい。第１の金属膜５６に対して行う周波数調整プロセスは、おおまかな調整を目的としたもので粗調整ということができる。

図３は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法でのパッケージを用意する工程を説明する図である。図４は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法で用意されるパッケージを示す図である。本実施の形態は、パッケージ６０を用意する工程を含む。パッケージ６０は、ベース６２及び蓋６４を含む。

ベース６２は、底部６６と、底部６６の中央部を囲むように底部６６の周端部上に位置する枠壁部６８と、を含む。底部６６には、貫通孔７０が形成されている。ベース６２は、主としてセラミックス等の非金属で形成されており、例えばセラミックグリーンシートを積層し焼結して形成することができる。底部６６の、枠壁部６８にて囲まれる面（以下、内面７２という。）には接続端子７４が形成されている。底部６６の、枠壁部６８が配置されている面とは反対の面（以下、外面７６という。）には外部電極７８が形成され、接続端子７４と外部電極７８は電気的に接続されている。また、底部６６の内面７２は、段が形成されており、高面８０と低面８２を含む。高面８０に接続端子７４が形成されている。蓋６４は、光透過性部８４を有しており、図３の例では、蓋６４の全体が光透過性部８４である。光透過性部８４（蓋６４の全体）は、ガラス又は樹脂から形成されている。

パッケージ６０を用意する工程では、ベース６２の底部６６に圧電振動片１０を配置する。詳しくは、振動腕１４の少なくとも先端を低面８２に対向させて、底部６６の内面７２と振動腕１４の間隔を大きくして、振動腕１４が曲がっても底部６６に接触しにくいようにする。また、支持腕３６の少なくとも一部を高面８０に対向させる。振動腕１４が底部６６から浮いた状態（非接触の状態）になるように支持腕３６を底部６６（高面８０）に固定する。固定に導電性接着剤８６を使用することで、支持腕３６上の引き出し電極５３（図１参照）と接続端子７４を電気的に接続する。なお、圧電振動片１０は、底部６６の貫通孔７０とオーバーラップしないように（例えば図４に示すように一対の振動腕１４の間に貫通孔７０が位置するように）配置する。

次に、ベース６２の底部６６の内面７２上方の空間を塞ぐ。詳しくは、蓋６４をベース６２に取り付ける。例えば、ガラス製の蓋６４を、低融点ガラス６５を使用して、ベース６２（枠壁部６８）に接合する。変形例として、金属製の枠体及び枠体に設けられた光透過性部を含む蓋をシーム溶接によってベース６２に接合してもよい。こうして、光透過性部８４を有し、内部空間に圧電振動片１０が配置され、貫通孔７０のみによって内部空間と外部が連通するパッケージ６０を用意する。

図５及び図６は、洗浄工程を説明する図である。洗浄工程では、パッケージ６０の内部空間を、酸素プラズマ及び紫外線の少なくとも一方で洗浄する。例えば、図５に示すように、紫外線を、光透過性部８４を通して内部空間に照射する。図５では、光透過性部８４が上を向くようにパッケージ６０を配置して上から下に紫外線を照射しているが、光透過性部８４が下を向くようにパッケージ６０を配置し、下から上に紫外線を照射してもよい。紫外線の照射工程は、真空チャンバ内で真空状態で行ってもよい。また、図６に示すように、酸素プラズマをパッケージ６０の内部空間に導入する。酸素プラズマは、貫通孔７０からパッケージ６０の内部空間に導入する。酸素プラズマは、酸素を含む雰囲気ガスをチャンバーに充満させて、対向電極間に高周波電圧を印加して発生させることができる。図６では、貫通孔７０が上を向くようにパッケージ６０を配置してあるが、貫通孔７０は、塞がれなければ下を向けてもよい。酸素プラズマの導入工程も、真空チャンバ内で真空引きをしながら行ってもよい。紫外線の照射を行ってから酸素プラズマを導入してもよいし、その逆であってもよいし、いずれか一方のみでもよい。

本実施の形態によれば、酸素プラズマ及び紫外線の少なくとも一方でパッケージ６０の内部空間を洗浄するので、この洗浄を行わない場合と比べて、リフロー工程などで高温下にさらされてもＣＩ値の上昇が小さいことが発明者の実験により明らかになった。酸素プラズマによれば有機物をアッシングし、紫外線によれば有機物の分子結合を切断するので、内部空間で露出する有機物を減らすことができる。有機物が減少すれば、熱によって発生するガスが減少するので真空度の低下を避けられる。また、酸素プラズマ又は紫外線によって無機物（水、水素を含む。）も減らすことができる。

図７は、洗浄工程の変形例を説明する図である。この変形例では、酸素を含む雰囲気ガスを貫通孔７０からパッケージ６０の内部空間に導入し、内部空間の雰囲気ガスに紫外線を照射する。これにより、酸素ラジカルが生成され、有機物汚染に対する洗浄を行うことができる。図７では、貫通孔７０が上を向くようにパッケージ６０を配置してあるが、貫通孔７０は、塞がれなければ下を向けてもよい。また、紫外線を光透過性部８４に対して照射すれば、酸素ラジカルの生成とともに、内部空間に紫外線を照射して洗浄することもできる。

そして、洗浄を行った後に内部空間を真空にする。この工程は、パッケージ６０を加熱しながら行ってもよく、その場合これをアニール工程ということもできる。なお、洗浄工程を真空中で行う場合には、その状態を維持すれば足りる。

図８は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法での真空封止工程を説明する図である。真空封止工程では、貫通孔７０を塞いで内部空間を真空封止する。例えば、貫通孔７０上に、ロウ材８８（ＡｕＧｅ等）を配置し、これをレーザービームで溶融して貫通孔７０を塞ぐようにシール部９０（図９参照）を形成する。なお、圧電振動片１０を貫通孔７０とオーバーラップしないように配置することで、レーザービームが貫通孔７０を通過しても圧電振動片１０に影響を与えないようになっている。

図９及び図１０は、圧電振動片の駆動周波数を調整する工程を説明する図である。詳しくは、真空封止した後に、圧電振動片１０の振動腕１４に形成された第２の金属膜５８に光透過性部８４を通してレーザービームを照射して、第２の金属膜５８の一部を除去することで、圧電振動片１０の駆動周波数を調整する。第２の金属膜５８は、第１の金属膜５６よりも振動腕１４の先端から離れているので、振動腕１４を振動しやすくする（周波数を上げる）効果は小さいが、このことから逆に微調整が可能であると言える。しかも、第２の金属膜５８は、第１の金属膜５６よりも薄く形成されているので、同じ面積で除去した場合に体積が小さいので微調整の効果は一層大きい。完成品としての圧電振動子に組み込まれた圧電振動片１０では、第２の金属膜５８に孔５９が形成されている。孔５９から振動腕１４の表裏面が露出している。本実施の形態に係る方法により製造された圧電振動子は、上述した製造方法から自明の構成を含む。

（圧電振動子の応用例）
上述した圧電振動子を使用して、発振器又はセンサを構成することができる。圧電振動子を含む発振回路で発振器を構成すると、周波数精度の高い交流信号を得ることができる。また、圧電振動子を使用したセンサは、物理量に応じて圧電振動片１０の周波数が変動することを利用してその物理量を検出するセンサである。例えば、温度、加速度によって発生する応力、角速度によって発生するコリオリ力などを検出するセンサが例に挙げられる。

本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。

図１は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子に使用される圧電振動片（音叉型圧電振動片）を示す平面図である。 図２は、図１に示す圧電振動片のII−II線断面拡大図である。 図３は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法でのパッケージを用意する工程を説明する図である。 図４は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法で用意されるパッケージを示す図である。 図５は、洗浄工程を説明する図である。 図６は、洗浄工程を説明する図である。 図７は、洗浄工程の変形例を説明する図である。 図８は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法での真空封止工程を説明する図である。 図９は、圧電振動片の駆動周波数を調整する工程を説明する図である。 図１０は、圧電振動片の駆動周波数を調整する工程を説明する図である。

符号の説明

１０…圧電振動片、 １２…基部、 １４…振動腕、 １６…表裏面、 ２０…第１の側面、 ２２…第２の側面、 ２４…根本部、 ２６…第１のテーパ部、 ２８…第２のテーパ部、 ３０…溝、 ３２…第１の内面、 ３４…第２の内面、 ３６…支持腕、 ３８…切り込み、 ４２…第１の側面電極膜、 ４４…第２の側面電極膜、 ４６…第１の内面電極膜、 ４８…第２の内面電極膜、 ５０…第１の励振電極、 ５２…第２の励振電極、 ５３…引き出し電極、 ５４…接続電極、 ５６…第１の金属膜、 ５７…孔、 ５８…第２の金属膜、 ５９…孔、 ６０…パッケージ、 ６２…ベース、 ６４…蓋、 ６６…底部、 ６８…枠壁部、 ７０…貫通孔、 ７２…内面、 ７４…接続端子、 ７６…外面、 ７８…外部電極、 ８０…高面、 ８２…低面、 ８４…光透過性部、 ８６…導電性接着剤、 ８８…ロウ材、 ９０…シール部

Claims (6)

1. （ａ）光透過性部を有し、内部空間に圧電振動片が配置され、貫通孔によって前記内部空間と外部が連通するパッケージを用意する工程と、
   （ｂ）前記内部空間を、酸素プラズマ及び紫外線の少なくとも一方で洗浄する工程と、
   （ｃ）前記洗浄を行った後に前記内部空間を真空にする工程と、
   （ｄ）前記貫通孔を塞いで前記内部空間を真空封止する工程と、
   （ｅ）前記真空封止した後に、前記圧電振動片の振動腕に形成された金属膜に前記光透過性部を通してレーザービームを照射して、前記金属膜の一部を除去することで、前記圧電振動片の駆動周波数を調整する工程と、
   を含む圧電振動子の製造方法。
2. 請求項１に記載された圧電振動子の製造方法において、
   前記酸素プラズマを、前記貫通孔から前記内部空間に導入する圧電振動子の製造方法。
3. 請求項１又は２に記載された圧電振動子の製造方法において、
   前記紫外線を、前記光透過性部を通して前記内部空間に照射する圧電振動子の製造方法。
4. 請求項１から３のいずれか１項に記載された圧電振動子の製造方法において、
   前記紫外線を前記内部空間に照射した後に、前記酸素プラズマを前記内部空間に導入する圧電振動子の製造方法。
5. 請求項１に記載された圧電振動子の製造方法において、
   酸素を含む雰囲気ガスを前記貫通孔から前記内部空間に導入し、前記内部空間の前記雰囲気ガスに前記紫外線を照射する圧電振動子の製造方法。
6. 請求項１から５のいずれか１項に記載された圧電振動子の製造方法において、
   前記（ｃ）工程を、前記パッケージを加熱しながら行う圧電振動子の製造方法。

Images