JP2009021468A - Heat conductive printed wiring board, heat conductive prepreg used therefor and method of manufacturing the same, and method of manufacturing the heat conductive printed wiring board - Google Patents

Heat conductive printed wiring board, heat conductive prepreg used therefor and method of manufacturing the same, and method of manufacturing the heat conductive printed wiring board Download PDF

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board which hardly cracks even when its heat conductivity is increased. <P>SOLUTION: At a center part of a heat conductive printed wiring board 10, a core layer 18 is formed by laminating one or more internal composite layers 12 including glass fiber 17 and one or more internal electrodes 14 respectively, and further an external layer composite layer 11 including no glass fiber 17 is formed on one or more surfaces of the core layer 18, thereby obtaining the heat conductive printed wiring board 10 which has high heat conductivity and hardly cracks. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、放熱が要求されるパワー系半導体、及び高機能半導体等の各種電子部品を高密度化に実装する際に用いられる伝熱プリント配線板と、これに用いる伝熱プリプレグ及びその製造方法と、伝熱プリント配線板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a heat transfer printed wiring board used for mounting various electronic components such as power semiconductors and high-performance semiconductors that require heat dissipation at high density, a heat transfer prepreg used therefor, and a method for manufacturing the same. And a method for manufacturing a heat transfer printed wiring board.

従来、電子部品実装用のプリント配線板としては、ガラスエポキシ樹脂からなるプリプレグと銅箔とからなる部材を、複数枚積層、一体化し、硬化したものが用いられている。更に機器の小型化、高性能化に伴い、電子部品の発熱が課題となることも多く、放熱性(あるいは伝熱性)を有するプリント配線板が求められる。次に伝熱プリント配線板について説明する。   2. Description of the Related Art Conventionally, printed wiring boards for mounting electronic components have been obtained by laminating, integrating, and curing a plurality of prepregs made of glass epoxy resin and copper foil. Furthermore, with the miniaturization and high performance of equipment, heat generation of electronic components often becomes a problem, and a printed wiring board having heat dissipation (or heat transfer) is required. Next, the heat transfer printed wiring board will be described.

例えば熱伝導性を高めた結晶性エポキシ樹脂を用いて、熱伝導性を高めるものが提案されている。図8を用いてその一例を説明する。すなわち図8(A)(B)は、共にメソゲン基を有する結晶性ポリマーを、磁場を用いて配向させ、熱伝導率を高くしようとする様子を説明する断面図である(例えば特許文献1参照)。   For example, using a crystalline epoxy resin with improved thermal conductivity, a material with improved thermal conductivity has been proposed. An example will be described with reference to FIG. That is, FIGS. 8A and 8B are cross-sectional views illustrating a state in which a crystalline polymer having both mesogenic groups is oriented using a magnetic field to increase the thermal conductivity (see, for example, Patent Document 1). ).

図8(A)(B)において、複数個の磁石1(例えば磁場発生手段としての永久磁石)の間には、矢印2で示した磁力線が発生している。そしてこの矢印2で示した磁力線の間に、金型3の中にセットした樹脂4(例えば硬化する前の液体状態の結晶性エポキシ樹脂)を置き、この磁場の中で樹脂4を熱硬化させる。図8(A)は樹脂4に対して垂直な方向に磁場をかける様子を、図8(B)は平行な方向の磁場をかける様子を示す。   8A and 8B, magnetic force lines indicated by arrows 2 are generated between a plurality of magnets 1 (for example, permanent magnets as magnetic field generating means). Then, a resin 4 (for example, a crystalline epoxy resin in a liquid state before being cured) placed in the mold 3 is placed between the magnetic field lines indicated by the arrows 2, and the resin 4 is thermally cured in this magnetic field. . FIG. 8A shows a state in which a magnetic field is applied in a direction perpendicular to the resin 4, and FIG. 8B shows a state in which a magnetic field in a parallel direction is applied.

しかし元々磁化されにくい結晶性エポキシを配向させるためには、磁束密度5〜10テラスの高磁場中で、温度150〜170℃に加熱した金型3の内部で、10分〜1時間硬化させる等の特殊な処理が必要になる。またこうして形成した結晶性エポキシ樹脂は、熱伝導性や物理強度(例えば曲げ強度)に異方性を有している可能性がある。その結果、こうした結晶性エポキシ樹脂を用いて作製したプリプレグやプリント配線板は、方向依存性(あるいは異方性)を有してしまうため、柔軟性が低下する(例えば耐折り曲げ性が低下する、あるいは曲げると割れやすい)という課題が発生しやすい。   However, in order to orient the crystalline epoxy which is originally hard to be magnetized, it is cured for 10 minutes to 1 hour in the mold 3 heated to a temperature of 150 to 170 ° C. in a high magnetic field with a magnetic flux density of 5 to 10 terraces. Special processing is required. The crystalline epoxy resin thus formed may have anisotropy in thermal conductivity and physical strength (for example, bending strength). As a result, the prepreg and printed wiring board produced using such a crystalline epoxy resin have direction dependency (or anisotropy), and thus flexibility is reduced (for example, bending resistance is reduced, Or, it is easy to break when bent.

一方、従来からプリプレグの熱伝導率を高めるために、無機質充填材を高密度に添加することが提案されていた。しかし無機質充填材を高密度に添加したシート状のプリプレグは、硬くて曲がりにくく、捲回しただけで割れることもある。また、熱伝導率の低いガラス繊維に対する無機質充填材の量を増やすためにはガラス織布を薄くする必要があり、強度が低下する。   On the other hand, in order to increase the thermal conductivity of the prepreg, it has been proposed to add an inorganic filler at a high density. However, a sheet-like prepreg to which an inorganic filler is added at a high density is hard and difficult to bend, and may be broken only by being wound. Moreover, in order to increase the quantity of the inorganic filler with respect to the glass fiber with low heat conductivity, it is necessary to make a glass woven fabric thin, and an intensity | strength falls.

そしてこのように硬くて曲がりにくいプリプレグを積層、硬化してなるプリント配線板自体も、曲げると折れやすくなる。そのため、こうしたプリント配線板に電子部品を機械実装する際あるいは実装後のプリント配線板の機器への装着時に、課題が発生する可能性がある。   And the printed wiring board itself obtained by laminating and curing the prepreg which is hard and difficult to bend easily breaks when bent. Therefore, a problem may occur when electronic components are mechanically mounted on such a printed wiring board or when the printed wiring board is mounted on a device after mounting.

こうした課題に対して、熱伝導性と取り扱い性(例えば、プリプレグシートの作業性、耐折り曲げ性)の両方を改善しようとする提案がなされていた。   In response to these problems, proposals have been made to improve both thermal conductivity and handleability (for example, workability of prepreg sheets and bending resistance).

図9は、折り曲げ性を改善した従来の伝熱プリプレグの一例を示す断面図であり、例えば特許文献2で提案されたものである。図9において、従来の伝熱プリプレグ5は、ガラス繊維6、熱硬化性樹脂層(内層部分)7、無機質充填材添加熱硬化性樹脂層(外層部分)8から構成されている。ここで無機質は、外層部分を構成する無機質充填材添加熱硬化性樹脂層8の熱伝導率を高めるために添加したものである。そして図9に示すように、無機質充填材添加熱硬化性樹脂層8は、従来の伝熱プリプレグ5の外層部分を構成し、ガラス繊維6を覆う部分(いわゆる内層部分)は、無機質充填材を含まない熱硬化性樹脂層7とする。無機質充填材が含浸しないガラス繊維6の層が存在することによって、ガラス繊維6の剛性が増加することなく(あるいはガラス繊維6の柔軟性を保つことで)、シート状の従来の伝熱プリプレグ5の折り曲げ性(あるいは柔軟性)を高めるものである。   FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of a conventional heat transfer prepreg with improved bendability, which is proposed in Patent Document 2, for example. In FIG. 9, a conventional heat transfer prepreg 5 includes glass fibers 6, a thermosetting resin layer (inner layer portion) 7, and an inorganic filler-added thermosetting resin layer (outer layer portion) 8. Here, the inorganic substance is added to increase the thermal conductivity of the inorganic filler-added thermosetting resin layer 8 constituting the outer layer portion. And as shown in FIG. 9, the inorganic filler addition thermosetting resin layer 8 comprises the outer layer part of the conventional heat-transfer prepreg 5, and the part (what is called inner layer part) which covers the glass fiber 6 is an inorganic filler. The thermosetting resin layer 7 is not included. Due to the presence of the glass fiber 6 layer that is not impregnated with the inorganic filler, the rigidity of the glass fiber 6 does not increase (or the flexibility of the glass fiber 6 is maintained), and the sheet-like conventional heat transfer prepreg 5 is provided. This improves the bendability (or flexibility).

しかし図9に示した構成では、従来のプリプレグ5の厚み方向での熱伝導性が阻害されてしまう可能性がある。これはガラス繊維6や熱硬化性樹脂層7の熱伝導率が、外層部分の無機質充填材添加熱硬化性樹脂層8に比べて、熱伝導率が低いためである。
特開2004−225054号公報 特開平3−17134号公報
However, in the configuration shown in FIG. 9, the thermal conductivity in the thickness direction of the conventional prepreg 5 may be hindered. This is because the thermal conductivity of the glass fiber 6 and the thermosetting resin layer 7 is lower than that of the inorganic filler-added thermosetting resin layer 8 in the outer layer portion.
JP 2004-225054 A Japanese Patent Laid-Open No. 3-17134

このように従来のプリント配線板の場合、プリント配線板の熱伝導率を高めようとすると、折り曲げると割れやすくなるという課題があった。   Thus, in the case of the conventional printed wiring board, when it was going to raise the thermal conductivity of a printed wiring board, there existed a subject that it would become easy to break when it bends.

そこで本発明は、プリント配線板の熱伝導率を高めながらも、その折り曲げても割れにくい伝熱プリント配線板と、これに用いる伝熱プリプレグ及びその製造方法を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a heat transfer printed wiring board that increases the thermal conductivity of the printed wiring board and is not easily broken even when bent, a heat transfer prepreg used therefor, and a method for manufacturing the same.

この目的を達成するために、本発明は、ガラス織布と、これを含浸するコンポジット層と、内部電極とが、積層されてなる熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となるコア層と、このコア層上に形成した外層コンポジット層と、この外層コンポジット層上に形成した表層配線パターンと、からなる伝熱プリント配線板とするものである。   In order to achieve this object, the present invention has a thermal conductivity of 0.5 W / (m · K) or higher and 20 W / laminated by laminating a glass woven fabric, a composite layer impregnating the glass woven fabric, and an internal electrode. The heat transfer printed wiring board includes a core layer of (m · K) or less, an outer composite layer formed on the core layer, and a surface wiring pattern formed on the outer composite layer.

本発明の伝熱プリント配線板と、これに用いる伝熱プリプレグ及びその製造方法と、伝熱プリント配線板の製造方法によれば、伝熱プリント配線板の中央部となるコア層を、硬化後の熱伝導率が3W/(m・K)以上20W/(m・K)以下とし、このコア層上に更に外層コンポジット層を介して表層配線パターンを形成することによって、表層配線パターン上に実装した電子部品に発生した熱は、外層コンポジット層を介して平面方向に、あるいは内層コンポジット層を介して厚み方向に拡散する。   According to the heat transfer printed wiring board of the present invention, the heat transfer prepreg used in the heat transfer printed wiring board and the method for manufacturing the heat transfer printed wiring board, and the method for manufacturing the heat transfer printed wiring board, the core layer serving as the central portion of the heat transfer printed wiring board is cured. It is mounted on the surface layer wiring pattern by forming a surface layer wiring pattern on the core layer through an outer composite layer on the core layer with a thermal conductivity of 3 W / (m · K) to 20 W / (m · K). The heat generated in the electronic component diffuses in the planar direction through the outer composite layer or in the thickness direction through the inner composite layer.

またコア層に、ガラス繊維を用いることで、伝熱プリント配線板を折り曲げても割れにくくできるため、伝熱性の優れた伝熱プリント配線板でありながらも、従来のガラスエポキシ樹脂を用いた一般のプリント配線板と同様に取り扱うことができる。   In addition, by using glass fiber for the core layer, it is difficult to break even if the heat transfer printed wiring board is bent, so it is common to use conventional glass epoxy resin even though it is a heat transfer printed wiring board with excellent heat transfer It can be handled in the same way as the printed wiring board.

その結果、伝熱プリント配線板に実装した半導体等の温度が低減し、熱対策が容易になる。また電子部品等を高密度実装することができ、液晶テレビやプラズマテレビ、各種電子機器の小型化、高性能化が可能となる。   As a result, the temperature of the semiconductor or the like mounted on the heat transfer printed wiring board is reduced, and heat countermeasures are facilitated. In addition, electronic components and the like can be mounted at high density, and miniaturization and high performance of liquid crystal televisions, plasma televisions, and various electronic devices can be achieved.

(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1における伝熱プリント配線板について説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the heat-transfer printed wiring board in Embodiment 1 of this invention is demonstrated.

図1は、実施の形態1における伝熱プリント配線板の断面図である。図1において、10は伝熱プリント配線板、11は外層コンポジット層、12は内層コンポジット層、13はビア部、14は内部電極、15は表層配線パターン、16はブラインドビア、17はガラス繊維、18はコア層である。   1 is a cross-sectional view of a heat transfer printed wiring board according to Embodiment 1. FIG. In FIG. 1, 10 is a heat transfer printed wiring board, 11 is an outer composite layer, 12 is an inner composite layer, 13 is a via portion, 14 is an internal electrode, 15 is a surface layer wiring pattern, 16 is a blind via, 17 is a glass fiber, Reference numeral 18 denotes a core layer.

まず図1を用いて説明する。図1に示すように、実施の形態1で説明する伝熱プリント配線板10は、その中央部に、ガラス繊維17と、これを含浸する内層コンポジット層12と、内部電極14とが、複数層積層されてなるコア層18を有している。そしてこのコア層18の上に外層コンポジット層11と、この外層コンポジット層11上に形成した表層配線パターン15を形成している。   First, a description will be given with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the heat transfer printed wiring board 10 described in the first embodiment includes a plurality of glass fibers 17, an inner composite layer 12 impregnated therein, and an internal electrode 14 in the center. It has the core layer 18 laminated | stacked. An outer composite layer 11 and a surface wiring pattern 15 formed on the outer composite layer 11 are formed on the core layer 18.

なお、図1において、コア層18に形成したビア部13は、複数層の内部電極14間を層間接続するものである。またガラス繊維17は、織布であっても不織布であっても良い。   In FIG. 1, the via portion 13 formed in the core layer 18 is an interlayer connection between a plurality of layers of internal electrodes 14. The glass fiber 17 may be a woven fabric or a non-woven fabric.

また図1に示すコア層18の熱伝導率は0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下、コア層18上に形成した、外層コンポジット層11の熱伝導率は3W/(m・K)以上20W/(m・K)以下とすることが望ましい。コア層18の熱伝導率が0.5W/(m・K)未満の場合、コア層18を介した伝熱効果が低下する場合がある。またコア層18の熱伝導率を20W/(m・K)以上とした場合、コア層18が高価なものとなる可能性がある。外層コンポジット層11を介した平面方向あるいは厚み方向への伝熱効果が低下する場合がある。また外層コンポジット層11の熱伝導率を20W/(m・K)より大きくすることは、技術的、材料的に難しい。なおコア層18を構成する内層コンポジット層12の熱伝導率より、外層コンポジット層11の熱伝導率の方を大きくすることが望ましい。外層コンポジット層11の熱伝導率を、内層コンポジット層12より大きくすることで、発熱を伴う電子部品(図示していない)に発生した熱を効果的に伝熱することができる。   Moreover, the thermal conductivity of the core layer 18 shown in FIG. 1 is 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less, and the thermal conductivity of the outer composite layer 11 formed on the core layer 18 is 3 W. / (M · K) or more and 20 W / (m · K) or less is desirable. When the thermal conductivity of the core layer 18 is less than 0.5 W / (m · K), the heat transfer effect through the core layer 18 may be reduced. Moreover, when the thermal conductivity of the core layer 18 is 20 W / (m · K) or more, the core layer 18 may become expensive. The heat transfer effect in the planar direction or thickness direction via the outer composite layer 11 may be reduced. Also, it is technically and materially difficult to make the thermal conductivity of the outer composite layer 11 larger than 20 W / (m · K). In addition, it is desirable to make the thermal conductivity of the outer composite layer 11 larger than the thermal conductivity of the inner composite layer 12 constituting the core layer 18. By making the thermal conductivity of the outer composite layer 11 larger than that of the inner composite layer 12, heat generated in an electronic component (not shown) that generates heat can be effectively transferred.

なおコア層18としては、ガラス繊維17を内蔵した内層コンポジット層12を用いることが望ましい。ガラス繊維17を内蔵することで、コア層18の耐力(折り曲げても割れにくいこと)を高める効果が得られる。   As the core layer 18, it is desirable to use the inner composite layer 12 containing the glass fiber 17. By incorporating the glass fiber 17, the effect of increasing the proof stress of the core layer 18 (being difficult to break even when bent) can be obtained.

なおコア層18に形成した内部電極14と、外層コンポジット層11に形成した表層配線パターン15とは、外層コンポジット層11に形成したブラインドビア16を介して接続することが望ましい。こうすることで表層配線パターン15のファインパターン化が可能となり、各種電子部品(発熱を伴う電子部品のみならず、一般の電子部品等も含む)を、高密度に表面実装することができる。   The internal electrode 14 formed on the core layer 18 and the surface wiring pattern 15 formed on the outer composite layer 11 are preferably connected via a blind via 16 formed on the outer composite layer 11. By doing so, the surface wiring pattern 15 can be made into a fine pattern, and various electronic components (including not only electronic components that generate heat but also general electronic components) can be surface-mounted at high density.

次に図2を用いて、図1に示した伝熱プリント配線板10の伝熱メカニズムについて説明する。図2は、伝熱プリント配線板10の伝熱メカニズムを説明する断面図である。図2において、19はパワー半導体等の発熱が課題となる電子部品である、20はハンダ部であり、電子部品19を表層配線パターン15に実装する部分に相当するが、実装方法は他にもバンプ実装、ワイヤー実装等であっても良い。21は矢印であり、図2において矢印21は熱が拡散する様子を示す。   Next, the heat transfer mechanism of the heat transfer printed wiring board 10 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the heat transfer mechanism of the heat transfer printed wiring board 10. In FIG. 2, 19 is an electronic component in which heat generation from a power semiconductor or the like is an issue, 20 is a solder portion, and corresponds to a portion where the electronic component 19 is mounted on the surface layer wiring pattern 15. Bump mounting, wire mounting, or the like may be used. Reference numeral 21 denotes an arrow. In FIG. 2, the arrow 21 indicates how heat is diffused.

図2において、電子部品19に発生した熱は、矢印21に示すようにハンダ部20を介して、表層配線パターン15や外層コンポジット層11に広がり、拡散・放熱される。   In FIG. 2, the heat generated in the electronic component 19 spreads to the surface wiring pattern 15 and the outer composite layer 11 through the solder portion 20 as indicated by an arrow 21 and is diffused and radiated.

ここで、表層配線パターン15として、銅等の熱伝導率の高い材料を用いることで、伝熱性を高めると共に配線抵抗を低くする効果が得られる。   Here, by using a material having high thermal conductivity such as copper as the surface layer wiring pattern 15, it is possible to obtain an effect of increasing the heat conductivity and reducing the wiring resistance.

(実施の形態2)
実施の形態2では、実施の形態1で説明した伝熱プリント配線板10の製造方法の一例について説明する。図3〜図6は、伝熱プリント配線板10の製造方法の一例を説明する断面図である。
(Embodiment 2)
In the second embodiment, an example of a method for manufacturing the heat transfer printed wiring board 10 described in the first embodiment will be described. 3-6 is sectional drawing explaining an example of the manufacturing method of the heat-transfer printed wiring board 10. FIG.

図3は、伝熱プリント配線板10の製造に用いる伝熱プリプレグの製造方法の一例について説明する断面図である。図3において、22は伝熱プリプレグ、23は設備、24は槽、25は部材である。   FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of a method for manufacturing a heat transfer prepreg used for manufacturing the heat transfer printed wiring board 10. In FIG. 3, 22 is a heat transfer prepreg, 23 is equipment, 24 is a tank, and 25 is a member.

まず図3に示すように、ガラス繊維17から形成されたガラス織布(あるいはガラス不織布)を、設備23にセットし、矢印21aに示すようにして送る。ここで設備23とは、伝熱プリプレグ22の製造装置の一部であり、例えばロール部分等に相当する。そして槽24にセットした部材25にガラス繊維17を浸漬する。そして、ガラス繊維17に部材25を含浸させた後、設備23によって余分な部材25を除去し、乾燥機等を介して、部材25を半硬化状態(あるいは後述する図4(A)で示す半硬化樹脂体26)とし、伝熱プリプレグ22とする。   First, as shown in FIG. 3, the glass woven fabric (or glass nonwoven fabric) formed from the glass fibers 17 is set in the equipment 23 and sent as shown by an arrow 21a. Here, the equipment 23 is a part of a manufacturing apparatus for the heat transfer prepreg 22 and corresponds to, for example, a roll portion. Then, the glass fiber 17 is immersed in the member 25 set in the tank 24. After impregnating the glass fiber 17 with the member 25, the excess member 25 is removed by the equipment 23, and the member 25 is semi-cured (or half-shown in FIG. 4A described later) through a dryer or the like. A cured resin body 26) and a heat transfer prepreg 22 are used.

なおガラス繊維17は、ガラス織布のみならずガラス不織布も含む。ガラス繊維17として、ガラス織布以外にガラス不織布を用いることで、その開口率を上げられるため、伝熱プリプレグ22の伝熱性を高められる。またガラス織布を用いた場合、伝熱プリプレグ22のXY方向での強度を上げる効果が得られるため、その寸法安定性、機械強度を高める効果が得られる。このようにガラス繊維17を伝熱プリプレグ22に内蔵することで、伝熱プリプレグ22をXY方向に縮みにくくすることで、伝熱プリプレグ22のZ方向(厚み方向)が伸びにくくすることができる。この結果、プリント配線板のZ方向の信頼性(例えば、スルーホール部分の接続信頼性)を高める効果が得られる。これはZ方向の熱膨張が抑えられるためである。   Glass fiber 17 includes not only glass woven fabric but also glass nonwoven fabric. Since the aperture ratio can be increased by using a glass nonwoven fabric as the glass fiber 17 in addition to the glass woven fabric, the heat transfer property of the heat transfer prepreg 22 can be increased. Further, when a glass woven fabric is used, an effect of increasing the strength in the XY direction of the heat transfer prepreg 22 can be obtained, so that an effect of increasing its dimensional stability and mechanical strength can be obtained. By incorporating the glass fiber 17 in the heat transfer prepreg 22 in this manner, the Z direction (thickness direction) of the heat transfer prepreg 22 can be made difficult to extend by making the heat transfer prepreg 22 difficult to shrink in the XY direction. As a result, the effect of improving the reliability of the printed wiring board in the Z direction (for example, the connection reliability of the through hole portion) can be obtained. This is because the thermal expansion in the Z direction is suppressed.

なお伝熱プリプレグ22の厚みは、20ミクロン以上500ミクロン未満が望ましい。伝熱プリプレグ22の厚みが20ミクロン未満の場合、伝熱プリプレグ22(あるいは伝熱プリプレグ22を硬化してなる伝熱プリント配線板10)の機械強度(例えば引張り強度等)に影響を与える可能性がある。また厚みが500ミクロンを超えた場合、取り扱い性(例えば、捲回しにくい等)に影響を与える場合がある。   The thickness of the heat transfer prepreg 22 is preferably 20 microns or more and less than 500 microns. When the thickness of the heat transfer prepreg 22 is less than 20 microns, the mechanical strength (for example, tensile strength) of the heat transfer prepreg 22 (or the heat transfer printed wiring board 10 formed by curing the heat transfer prepreg 22) may be affected. There is. In addition, when the thickness exceeds 500 microns, handling (for example, difficult to wind) may be affected.

なおガラス繊維17から構成した織布もしくは不織布の厚みより、伝熱プリプレグ22の厚みの方を厚くすることが望ましい。これは伝熱プリプレグ22の方を、ガラス繊維17からなるガラス織布もしくは不織布の厚みより厚くすることで、上付き樹脂(いわゆる、ガラス繊維17の表面を覆う余分な半硬化樹脂体)の厚みを確保できる。そしてこの上付き樹脂を一定量、確保することで、例えば後述する図4(A)(B)における内層パターンとなる銅箔27の厚みの吸収効果が得られる。   In addition, it is desirable to make the thickness of the heat transfer prepreg 22 thicker than the thickness of the woven or non-woven fabric composed of the glass fibers 17. This is because the heat transfer prepreg 22 is made thicker than the thickness of the glass woven fabric or non-woven fabric made of the glass fibers 17, so that the thickness of the superscript resin (so-called extra semi-cured resin body covering the surface of the glass fibers 17) is increased. Can be secured. Then, by securing a certain amount of this superscript resin, for example, an effect of absorbing the thickness of the copper foil 27 serving as an inner layer pattern in FIGS. 4A and 4B described later can be obtained.

まずガラス繊維17からなる織布として、厚み15ミクロンのものを作製した。そして図3に示すように、設備23にセットし、矢印21aに示す方向に送り、槽24にセットした部材25を含浸させる。そして設備23を、矢印21bに回しながら、部材25の含浸量を調整する。そして乾燥機等(図示していない)の中を矢印21cのように流して部材25から溶剤成分を除去する。更に加熱等により部材25に含まれる樹脂成分を半硬化状態(本硬化の前の状態、いわゆるBステージ状態)とし、これを、ガラス繊維17を内蔵する含浸させた半硬化樹脂体とする。ここで半硬化樹脂体とは、少なくとも半硬化状態の樹脂と、この樹脂中に分散した無機フィラーとからなる。こうして伝熱プリプレグ22を、連続的に作製する。なお伝熱プリプレグ22の製造方法はこれに限定されるものではない。   First, a woven fabric made of glass fibers 17 having a thickness of 15 microns was prepared. And as shown in FIG. 3, it sets to the installation 23, it sends to the direction shown by the arrow 21a, and the member 25 set to the tank 24 is impregnated. Then, the amount of impregnation of the member 25 is adjusted while turning the equipment 23 in the direction of the arrow 21b. Then, the solvent component is removed from the member 25 by flowing through a dryer or the like (not shown) as indicated by an arrow 21c. Further, the resin component contained in the member 25 is brought into a semi-cured state (state before main curing, so-called B-stage state) by heating or the like, and this is an impregnated semi-cured resin body containing the glass fiber 17 therein. Here, the semi-cured resin body comprises at least a semi-cured resin and an inorganic filler dispersed in the resin. In this way, the heat transfer prepreg 22 is continuously produced. In addition, the manufacturing method of the heat-transfer prepreg 22 is not limited to this.

次に槽24にセットする部材25について説明する。部材25は、伝熱プリプレグ22が硬化後に熱伝導率が0.5W/(m・K)以上、20W/(m・K)以下となる材料を選ぶことが望ましい。硬化後の熱伝導率が0.5W/(m・K)未満の場合、伝熱の効果が得られにくい場合がある。また熱伝導率が20W/(m・K)を越える材料は、高価であり、取り扱いが難しい場合がある。   Next, the member 25 set in the tank 24 will be described. As the member 25, it is desirable to select a material having a thermal conductivity of 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less after the heat transfer prepreg 22 is cured. When the thermal conductivity after curing is less than 0.5 W / (m · K), the effect of heat transfer may be difficult to obtain. A material having a thermal conductivity exceeding 20 W / (m · K) is expensive and may be difficult to handle.

ここで硬化後に0.5W/(m・K)以上、20W/(m・K)以下を実現するには、少なくとも部材25として、樹脂とこの樹脂中に分散した無機フィラーと、から構成することが望ましい。   Here, in order to realize 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less after curing, at least the member 25 is composed of a resin and an inorganic filler dispersed in the resin. Is desirable.

そしてこの樹脂としてはエポキシ樹脂を、無機フィラーとしてはアルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、炭素、酸化マグネシウム、ジルコン珪酸塩から選ばれた少なくとも1種類以上からなる無機フィラーとすることができる。   And this resin was selected from epoxy resin, and inorganic filler was selected from alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, silica, zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, carbon, magnesium oxide, zircon silicate. It can be set as the inorganic filler which consists of at least 1 or more types.

更には、樹脂をエポキシ樹脂とゴム樹脂の混合物、あるいはエポキシ樹脂と熱可塑性樹脂の混合物とすることもできる。なおエポキシ樹脂等を硬化させるための硬化剤等を必要に応じて添加することは言うまでもない。   Furthermore, the resin may be a mixture of an epoxy resin and a rubber resin, or a mixture of an epoxy resin and a thermoplastic resin. Needless to say, a curing agent for curing the epoxy resin or the like is added as necessary.

またこれらの部材25を溶剤(例えば、メチルエチルケトンやシクロペンタノン等)に溶解(あるいは分散)しておくことで、その塗工性、作業性を高められる。そしてこれら部材25を乾燥、半硬化状態とすることで、伝熱プリプレグ22となる。   Also, by dissolving (or dispersing) these members 25 in a solvent (for example, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, etc.), the coating property and workability can be improved. Then, the heat transfer prepreg 22 is obtained by making these members 25 dry and semi-cured.

次に伝熱プリプレグ22を用いて、熱伝導性の高いプリント配線板を作製する様子について説明する。   Next, how to produce a printed wiring board with high thermal conductivity using the heat transfer prepreg 22 will be described.

図4(A)(B)は、共に伝熱プリプレグ22の表面に銅箔を固定(あるいは一体化)する方法の一例を説明する断面図である。図4(A)(B)において、26は半硬化樹脂体、27は銅箔、28はプレスである。   4A and 4B are cross-sectional views illustrating an example of a method for fixing (or integrating) a copper foil on the surface of the heat transfer prepreg 22. 4A and 4B, 26 is a semi-cured resin body, 27 is a copper foil, and 28 is a press.

まず図4(A)に示すように、伝熱プリプレグ22は、ガラス繊維17と、これを含浸する半硬化樹脂体26とから構成している。そして、伝熱プリプレグ22の一面以上に銅箔27をセットする。そして、プレス28を、矢印21に示すように動かし、伝熱プリプレグ22の一面以上に銅箔27を貼り付ける。なお図4(A)(B)において、プレス28にセットする金型等は図示していない。そしてこれらシート状の材料を所定温度で加圧一体化する。その後、図4(B)に示すようにプレス28を矢印21の方向に引き離す。こうして銅箔27を内層コンポジット層12の一面以上に固定し、その高伝熱化を実現する。   First, as shown to FIG. 4 (A), the heat-transfer prepreg 22 is comprised from the glass fiber 17 and the semi-hardened resin body 26 which impregnates this. Then, the copper foil 27 is set on one surface or more of the heat transfer prepreg 22. Then, the press 28 is moved as indicated by the arrow 21, and the copper foil 27 is attached to one or more surfaces of the heat transfer prepreg 22. 4 (A) and 4 (B), a die set on the press 28 is not shown. And these sheet-like materials are pressure-integrated at a predetermined temperature. Thereafter, the press 28 is pulled away in the direction of the arrow 21 as shown in FIG. In this way, the copper foil 27 is fixed to one or more surfaces of the inner composite layer 12 to achieve higher heat transfer.

なお伝熱プリプレグ22に占める半硬化樹脂体26の割合は、伝熱プリプレグ22全体の30体積%以上50体積%以下が望ましい。30体積%未満の場合、伝熱プリプレグ22の伝熱性が低下する場合がある。また50体積%より高い場合、伝熱プリプレグ22の柔軟性に影響を与える場合があるためである。   The proportion of the semi-cured resin body 26 in the heat transfer prepreg 22 is preferably 30% by volume or more and 50% by volume or less of the entire heat transfer prepreg 22. If it is less than 30% by volume, the heat transfer property of the heat transfer prepreg 22 may be lowered. Further, if it is higher than 50% by volume, the flexibility of the heat transfer prepreg 22 may be affected.

次に内層コンポジット層12の一面以上に固定した銅箔27を所定形状にパターニングする。なおパターニングの工程(フォトレジストの塗布、露光、現像、銅箔27のエッチング、フォトレジストの除去工程等)は図示していない(省略している)。   Next, the copper foil 27 fixed to one or more surfaces of the inner composite layer 12 is patterned into a predetermined shape. Note that patterning steps (photoresist application, exposure, development, copper foil 27 etching, photoresist removal step, etc.) are not shown (not shown).

次に図5(A)〜(D)を用いて、コア層18を作製する様子を説明する。   Next, how the core layer 18 is produced will be described with reference to FIGS.

図5(A)〜(D)は、コア層18を作製する様子を断面で説明する模式図である。図5(A)〜(D)において、29は孔である。   FIGS. 5A to 5D are schematic views illustrating a state in which the core layer 18 is manufactured in cross section. 5A to 5D, 29 is a hole.

まず図5(A)に示すように、少なくともその一面以上に、銅箔27を所定パターン形状に加工した内層コンポジット層12を用意する。そしてこの内層コンポジット層12を挟むように、伝熱プリプレグ22をセットする。更に伝熱プリプレグ22の外側に、銅箔27をセットする。なお市販の銅箔27を用いる場合、その粗面側を伝熱プリプレグ22側にセットすることで、銅箔27と伝熱プリプレグ22との接着力(例えば、アンカー効果や投錨効果)を高められる。そしてこの状態でプレス装置(図示していない)を用いて、これらシート状の材料を加圧、加熱、一体化する。このプレス時に加熱することで、伝熱プリプレグ22に含まれる半硬化樹脂体26が軟化し、伝熱プリプレグ22上に固定した銅箔27のパターンの埋め込み(あるいはパターンによる段差の埋め込み)や、銅箔27との密着力を高める効果が得られる。また接着剤を用いることなく、銅箔27を固定する効果も得られる。こうして図5(B)に示す積層体を形成する。   First, as shown in FIG. 5A, an inner composite layer 12 in which a copper foil 27 is processed into a predetermined pattern shape is prepared on at least one surface thereof. Then, the heat transfer prepreg 22 is set so as to sandwich the inner composite layer 12. Further, a copper foil 27 is set on the outside of the heat transfer prepreg 22. In addition, when using the commercially available copper foil 27, the adhesive force (for example, anchor effect and anchoring effect) of the copper foil 27 and the heat-transfer prepreg 22 can be improved by setting the rough surface side to the heat-transfer prepreg 22 side. . In this state, using a press device (not shown), these sheet-like materials are pressed, heated, and integrated. By heating at the time of pressing, the semi-cured resin body 26 included in the heat transfer prepreg 22 is softened, and the pattern of the copper foil 27 fixed on the heat transfer prepreg 22 (or the embedding of the step by the pattern), the copper The effect of increasing the adhesion with the foil 27 is obtained. Moreover, the effect which fixes the copper foil 27 is also acquired, without using an adhesive agent. In this way, the stacked body shown in FIG. 5B is formed.

次にこの積層体の所定位置に孔29を形成し、図5(C)の状態とする。図5(C)において、孔29はドリルやレーザ等(共に図示していない)で形成したものである。   Next, the hole 29 is formed in the predetermined position of this laminated body, and it is set as the state of FIG.5 (C). In FIG. 5C, the hole 29 is formed by a drill, a laser or the like (both not shown).

その後、孔29の内壁等に銅メッキを行い、図5(D)の状態とする。図5(D)に示すようにして、ビア部13によって、異なる層に形成した銅箔27(あるいは表層配線パターン15)の間の層間接続を行う。次にソルダーレジスト(図示していない)等を形成することで、コア層18を形成する。   Thereafter, the inner wall of the hole 29 is plated with copper to obtain the state shown in FIG. As shown in FIG. 5D, interlayer connection between the copper foils 27 (or the surface layer wiring patterns 15) formed in different layers is performed by the via portions 13. Next, a core layer 18 is formed by forming a solder resist (not shown) or the like.

次に図6に示すようにして、コア層18の表面に、外層コンポジット層11や、表層配線パターン15を形成し、伝熱プリント配線板10とする。図6(A)〜(C)は、伝熱プリント配線板10の製造方法の一例を説明する断面図である。   Next, as shown in FIG. 6, the outer layer composite layer 11 and the surface layer wiring pattern 15 are formed on the surface of the core layer 18 to obtain the heat transfer printed wiring board 10. 6A to 6C are cross-sectional views illustrating an example of a method for manufacturing the heat transfer printed wiring board 10.

図6(A)に示すように、コア部18の上に、外層コンポジット層11を形成する。なお外層コンポジット層11とは、樹脂と、無機フィラーとからなる絶縁伝熱等である。なお外層コンポジット層11は、樹脂と無機フィラーとからなる部材25を、溶剤等に溶解したものを、コア部18の一面以上に塗布、乾燥、硬化することで形成できる。あるいは図3に示したように(あるいは図3に示すガラス繊維17の代わりに樹脂フィルムを用いる、あるいはドクターブレード等の塗工装置を用いて)、樹脂フィルム上に、半硬化状態の樹脂と無機フィラーとからなる半硬化樹脂体26として図4に示すようにして積層した後、硬化させ、これを外層コンポジット層11としても良い。   As shown in FIG. 6A, the outer composite layer 11 is formed on the core portion 18. The outer composite layer 11 is an insulating heat transfer made of a resin and an inorganic filler. The outer composite layer 11 can be formed by applying a member 25 made of a resin and an inorganic filler dissolved in a solvent or the like to one or more surfaces of the core 18, drying, and curing. Alternatively, as shown in FIG. 3 (or using a resin film instead of the glass fiber 17 shown in FIG. 3 or using a coating device such as a doctor blade), a semi-cured resin and an inorganic material are formed on the resin film. The semi-cured resin body 26 made of a filler may be laminated as shown in FIG. 4 and then cured to form the outer composite layer 11.

ここで外層コンポジット層11に占める樹脂の割合は、外層コンポジット層11全体の60体積%以上95体積%以下とすることが望ましい。樹脂の割合が60体積%未満の場合、外層コンポジット層11部分での伝熱性が低下する場合がある。また95体積%を超えた場合、外層コンポジット層11が脆くなり実装時にその一部に欠けや割れが発生する可能性がある。   Here, the ratio of the resin in the outer composite layer 11 is preferably 60% by volume or more and 95% by volume or less of the entire outer composite layer 11. When the ratio of resin is less than 60 volume%, the heat conductivity in the outer-layer composite layer 11 part may fall. On the other hand, if it exceeds 95% by volume, the outer composite layer 11 becomes brittle and a part thereof may be chipped or cracked during mounting.

次に、外層コンポジット層11に、レーザやドリル等を用いて、孔29を形成する。なお孔29は、図6(B)に示すように、外層コンポジット層11だけに形成しても良い(あるいは、貫通孔でない、いわゆる底のある孔29としても良い)。こうすることで、孔29の径を細くできる。   Next, the hole 29 is formed in the outer composite layer 11 using a laser, a drill, or the like. The hole 29 may be formed only in the outer composite layer 11 as shown in FIG. 6B (or may be a so-called bottomed hole 29 that is not a through hole). By doing so, the diameter of the hole 29 can be reduced.

なお外層コンポジット層11にはガラス繊維17は内蔵しないことが望ましい。ガラス繊維17は、伝熱性やレーザ等による孔29の微細化や、外層コンポジット層11の伝熱性に影響を与える可能性がある。   It is desirable that the glass fiber 17 is not built in the outer composite layer 11. The glass fiber 17 may affect the heat transfer, the miniaturization of the holes 29 by laser or the like, and the heat transfer of the outer composite layer 11.

次に、図6(C)に示すようにして、外層コンポジット層11の表面に、薄膜法(スパッタ等を含む蒸着法)やめっき法等によって銅膜を形成し、表層配線パターン15を形成する。ここで孔29において、表層配線パターン15と、内部電極14をブラインドビア16として接続する。   Next, as shown in FIG. 6C, a copper film is formed on the surface of the outer composite layer 11 by a thin film method (evaporation method including sputtering), a plating method, or the like, thereby forming a surface wiring pattern 15. . Here, in the hole 29, the surface layer wiring pattern 15 and the internal electrode 14 are connected as the blind via 16.

なお外層コンポジット層11、内層コンポジット層12共に、少なくとも樹脂と無機フィラーとから構成したものとすることが望ましい。無機フィラーを添加するのは、外層コンポジット層11や内層コンポジット層12の伝熱性を高めるためである。   The outer composite layer 11 and the inner composite layer 12 are preferably composed of at least a resin and an inorganic filler. The reason why the inorganic filler is added is to increase the heat conductivity of the outer composite layer 11 and the inner composite layer 12.

また外層コンポジット層11における無機フィラーの含有率は60体積%以上95体積%以下とすることが望ましい。60体積%未満の場合、外層コンポジット層11における伝熱性が低下する場合がある。また95体積%を超えた場合、外層コンポジット層11としての成形性に影響を与える場合がある。   Further, the content of the inorganic filler in the outer composite layer 11 is desirably 60% by volume or more and 95% by volume or less. If it is less than 60% by volume, the heat transfer property in the outer composite layer 11 may be lowered. Moreover, when it exceeds 95 volume%, the moldability as the outer-layer composite layer 11 may be affected.

なお外層コンポジット層11、内層コンポジット層12を構成する樹脂は、熱可塑性樹脂であっても熱硬化性樹脂であっても良い。こうして、図1等で説明した伝熱プリント配線板10とする。なお図1、図2、図6(C)等において、ソルダーレジスト等は図示していない。   The resin constituting the outer layer composite layer 11 and the inner layer composite layer 12 may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin. Thus, the heat transfer printed wiring board 10 described with reference to FIG. In FIG. 1, FIG. 2, FIG. 6C, etc., the solder resist and the like are not shown.

なお外層コンポジット層11の厚みは、10ミクロン以上200ミクロン以下(望ましくは100ミクロン以下)が望ましい。外層コンポジット層11の厚みを10ミクロン未満とした場合、外層コンポジット層11にピンホールが発生する可能性がある。またその厚みが100ミクロンを超えた場合、伝熱性に影響を与える可能性がある。   The outer composite layer 11 preferably has a thickness of 10 microns to 200 microns (desirably 100 microns or less). If the thickness of the outer composite layer 11 is less than 10 microns, pinholes may occur in the outer composite layer 11. Moreover, when the thickness exceeds 100 microns, there exists a possibility of affecting heat conductivity.

なお外層コンポジット層11を複数層(望ましくは2層以上5層未満。5層を超えると、工数増によるコストアップする場合がある)とすることもできる。外層コンポジット層11を複数層とすることで、外層コンポジット層11を薄層化した場合でも、ピンホールが発生しにくい。なお外層コンポジット層11を複数層とする場合、一層当たりの外層コンポジット層11の厚みは、5ミクロン以上が望ましい。5ミクロン未満の場合、添加する無機フィラーに硬化で分散の難しい微細な無機フィラーを選ぶ必要が有るためである。   The outer composite layer 11 may be a plurality of layers (desirably 2 or more and less than 5 layers. If 5 layers are exceeded, the cost may increase due to an increase in the number of man-hours). By forming the outer composite layer 11 into a plurality of layers, even when the outer composite layer 11 is thinned, pinholes are hardly generated. When the outer composite layer 11 has a plurality of layers, the thickness of the outer composite layer 11 per layer is desirably 5 microns or more. In the case of less than 5 microns, it is necessary to select a fine inorganic filler that is difficult to disperse by curing as the inorganic filler to be added.

なお外層コンポジット層11を複数層とした場合、各々の層に応じて外層コンポジット層11の組成(樹脂や無機フィラーの含有率等)を変化させる(あるいは各々の層に応じて最適化させる)ことで、歩留まりや特性を向上できる。   When the outer composite layer 11 has a plurality of layers, the composition of the outer composite layer 11 (content of resin or inorganic filler, etc.) is changed according to each layer (or optimized according to each layer). Thus, yield and characteristics can be improved.

(実施の形態3)
次に、伝熱プリント配線板10や、伝熱プリプレグ22、外層コンポジット層11等に用いる材料について説明する。ここに使う樹脂としては、例えばエポキシ樹脂を選ぶことができる。
(Embodiment 3)
Next, materials used for the heat transfer printed wiring board 10, the heat transfer prepreg 22, the outer composite layer 11, and the like will be described. As the resin used here, for example, an epoxy resin can be selected.

そしてエポキシ樹脂を、無機フィラーとしてはアルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、炭素、酸化マグネシウム、ジルコン珪酸塩、酸化マグネシウムから選ばれた少なくとも1種類以上からなる無機フィラーとすることができる。   And the epoxy resin, as the inorganic filler, at least selected from alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, silica, zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, carbon, magnesium oxide, zircon silicate, magnesium oxide It can be set as the inorganic filler which consists of 1 or more types.

なお無機フィラーの平均粒径は、0.01μm以上50μm以下の範囲が望ましい。平均粒径が小さいほど比表面積が増えるため、放熱面積が増え、放射効率が高まるが、平均粒径が0.01μm以下になると、比表面積が大きくなり、その分散や混練が難しくなる。また50μmを超えると、外層コンポジット層11や内層コンポジット層12が厚くなるため、伝熱プリント配線板10の伝熱性に影響を与える場合がある。   The average particle size of the inorganic filler is preferably in the range of 0.01 μm to 50 μm. Since the specific surface area increases as the average particle size becomes smaller, the heat radiation area increases and the radiation efficiency increases. However, when the average particle size becomes 0.01 μm or less, the specific surface area increases, and dispersion and kneading become difficult. On the other hand, when the thickness exceeds 50 μm, the outer composite layer 11 and the inner composite layer 12 become thick, which may affect the heat transfer properties of the heat transfer printed wiring board 10.

なお無機フィラーの充填率を増加するために、異なる粒度分布を有する複数種の無機フィラーを選び、これらを混合して使用しても良い。   In order to increase the filling rate of the inorganic filler, a plurality of types of inorganic fillers having different particle size distributions may be selected and used in combination.

なおエポキシ樹脂の内、60重量%以上100重量%以下を結晶性エポキシ樹脂とすることで、樹脂部分での熱伝導率を高めることができる。結晶性エポキシ樹脂の、エポキシ樹脂全体に占める割合が60重量%未満の場合、結晶性エポキシ樹脂の添加効果が得られない場合がある。またエポキシ樹脂全てを(あるいは100重量%を)結晶性エポキシとすることで、熱伝導を高められる。また硬化後の結晶性エポキシ樹脂は、場合によっては割れやすくなる場合があるが、ゴム樹脂や熱可塑性樹脂等を添加することで、割れにくくできる。なおこれらを微粒子として添加することで、熱伝導に対する影響を抑えられる。   In addition, the heat conductivity in a resin part can be raised by making 60 to 100 weight% of epoxy resins into crystalline epoxy resin. When the proportion of the crystalline epoxy resin in the entire epoxy resin is less than 60% by weight, the effect of adding the crystalline epoxy resin may not be obtained. Moreover, heat conduction can be improved by making all of the epoxy resin (or 100% by weight) crystalline epoxy. Moreover, although the crystalline epoxy resin after hardening may be easily broken in some cases, it can be made difficult to break by adding a rubber resin or a thermoplastic resin. By adding these as fine particles, the influence on heat conduction can be suppressed.

(化1)は、結晶性エポキシ樹脂の一例を示す構造図である。   (Chemical Formula 1) is a structural diagram showing an example of a crystalline epoxy resin.

Figure 2009021468
Figure 2009021468

(化1)において、結晶性エポキシ樹脂の構造図におけるXは、S(硫黄)もしくはO(酸素)、C(炭素)、なし(短結合)である。またR1、R2、R3、R4はCH、H、t−Bu等である。またR1〜R4は同じであっても良い。 In (Chemical Formula 1), X in the structural diagram of the crystalline epoxy resin is S (sulfur) or O (oxygen), C (carbon), or none (short bond). R1, R2, R3, and R4 are CH 3 , H, t-Bu, and the like. R1 to R4 may be the same.

(化2)は、結晶性エポキシ樹脂の硬化に用いる硬化剤の構造図である。   (Chemical Formula 2) is a structural diagram of a curing agent used for curing a crystalline epoxy resin.

Figure 2009021468
Figure 2009021468

(化2)の構造式においてXは、S(硫黄)、O(酸素)もしくは短結合である。(化1)の主剤と、(化2)の硬化剤を混合し、重合させたものも結晶性エポキシ樹脂と呼んでもよい。   In the structural formula of (Chemical Formula 2), X is S (sulfur), O (oxygen) or a short bond. A polymer obtained by mixing the main component of (Chemical Formula 1) and the curing agent of (Chemical Formula 2) and polymerizing may be called a crystalline epoxy resin.

なお主剤と硬化剤の割合は、エポキシ当量から計算する。また硬化剤として(化2)以外の硬化剤を使っても良い。なお結晶性エポキシ樹脂としては、以下の(化3)〜(化8)の構造のものも使うことができる。   The ratio between the main agent and the curing agent is calculated from the epoxy equivalent. A curing agent other than (Chemical Formula 2) may be used as the curing agent. In addition, as a crystalline epoxy resin, the thing of the structure of the following (Chemical Formula 3)-(Chemical Formula 8) can also be used.

Figure 2009021468
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Figure 2009021468
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Figure 2009021468
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Figure 2009021468
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(化3)〜(化8)は、共に結晶性エポキシ樹脂の一例を示す構造図である。このような結晶性エポキシ樹脂は、融点が50〜121℃程度で、更に溶解粘度も低い(例えば、150℃における粘度は6〜20mPa・s)ため、無機フィラーを混合、分散させやすい効果が得られる。なおこれら結晶性エポキシ樹脂の重合度は20以下(更に10以下、望ましくは5以下)が適当である。重合度が20より大きい場合、分子が大きくなりすぎて結晶化しにくくなる場合がある。   (Chemical Formula 3) to (Chemical Formula 8) are structural diagrams showing examples of crystalline epoxy resins. Such a crystalline epoxy resin has a melting point of about 50 to 121 ° C. and a low dissolution viscosity (for example, a viscosity at 150 ° C. of 6 to 20 mPa · s), so that it is easy to mix and disperse the inorganic filler. It is done. The degree of polymerization of these crystalline epoxy resins is suitably 20 or less (further 10 or less, desirably 5 or less). If the degree of polymerization is greater than 20, the molecule may be too large and difficult to crystallize.

なお結晶性エポキシ樹脂を用いた場合、ここに添加する熱可塑性樹脂にフェニル基を有したものを用いることで、その熱伝導率と機械的強度の両方を向上させることができる。次に、熱可塑性樹脂にフェニル基を有したものを添加する効果について説明する。   When a crystalline epoxy resin is used, both the thermal conductivity and the mechanical strength can be improved by using a thermoplastic resin having a phenyl group as the thermoplastic resin added here. Next, the effect of adding a thermoplastic resin having a phenyl group will be described.

結晶性エポキシ樹脂(フェニル基を有するものが望ましい)に、同じフェニル基を有した熱可塑性樹脂を添加することで、結晶性エポキシの結晶性を保持しながら、その柔軟性を高めることができる。ここでフェニル基を有した熱可塑性樹脂としては、PPE(ポリフェニレンエーテル)、PPS(ポリフェニレンスルフィド)、PES(ポリエーテルスルホン)等のフェニル基を主鎖に含んだ熱可塑性樹脂を用いることができる。こうした熱可塑性樹脂は、エポキシ樹脂に添加しても、熱伝導性に影響を与えにくい。またこうした熱可塑性樹脂を添加することで、出来上がった伝熱プリント配線板10の強度(例えば割れにくさ)を高める効果が得られる。   By adding a thermoplastic resin having the same phenyl group to a crystalline epoxy resin (preferably one having a phenyl group), the flexibility of the crystalline epoxy can be increased while maintaining the crystallinity of the crystalline epoxy. Here, as the thermoplastic resin having a phenyl group, a thermoplastic resin containing a phenyl group in the main chain such as PPE (polyphenylene ether), PPS (polyphenylene sulfide), PES (polyethersulfone), or the like can be used. Even if such a thermoplastic resin is added to the epoxy resin, it hardly affects the thermal conductivity. Moreover, the effect which raises the intensity | strength (for example, difficulty of a crack) of the completed heat-transfer printed wiring board 10 is acquired by adding such a thermoplastic resin.

(実施の形態4)
実施の形態4として、実施の形態1〜3で説明した伝熱プリント配線板10の曲げ強度について測定した結果を示す。
(Embodiment 4)
As Embodiment 4, the result of measuring the bending strength of the heat transfer printed wiring board 10 described in Embodiments 1 to 3 is shown.

図7は、曲げ強度の評価方法の一例を示す模式図である。図7において、30は治具である。図7において、治具30の間に伝熱プリント配線板10をセットし、矢印21で示す方向に治具30を用いて、伝熱プリント配線板10を曲げる。発明者らの実験では、図8〜図9で示す従来品では1〜2mm曲げた時点で折れた(割れた)。一方、本発明の伝熱プリント配線板10では、4〜5mm曲げても折れなかった。なお試料サイズ(伝熱プリント配線板)は、40mm×4mm×t2mmである。   FIG. 7 is a schematic diagram illustrating an example of a bending strength evaluation method. In FIG. 7, 30 is a jig. In FIG. 7, the heat transfer printed wiring board 10 is set between the jigs 30, and the heat transfer printed wiring board 10 is bent using the jig 30 in the direction indicated by the arrow 21. In the experiments by the inventors, the conventional product shown in FIGS. 8 to 9 was broken (broken) when bent by 1 to 2 mm. On the other hand, the heat transfer printed wiring board 10 of the present invention did not break even when bent by 4 to 5 mm. The sample size (heat transfer printed wiring board) is 40 mm × 4 mm × t2 mm.

以上のようにして、ガラス織布と、これを含浸する内層コンポジット層12と、内部電極14とが、各々単層以上で積層されてなる熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となるコア層18と、このコア層18上に形成した外層コンポジット層と、この外層コンポジット層上に形成した表層配線パターン15とからなる伝熱プリント配線板を提供することで、各種電子機器の小型化、高性能化が可能となる。   As described above, the thermal conductivity obtained by laminating the glass woven fabric, the inner composite layer 12 impregnating the glass woven fabric, and the internal electrode 14 in a single layer or more is 0.5 W / (m · K) or more. Provided is a heat transfer printed wiring board including a core layer 18 of 20 W / (m · K) or less, an outer composite layer formed on the core layer 18, and a surface wiring pattern 15 formed on the outer composite layer. This makes it possible to reduce the size and performance of various electronic devices.

ガラス織布と、これを含浸する内層コンポジット層12と、内部電極14とが、複数積層されてなる熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となるコア層18と、このコア層18上に形成した、熱伝導率が3W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる外層コンポジット層11と、この外層コンポジット層11の上に形成した表層配線パターン15と、前記外層コンポジット層11に形成した穴を介して前記内部電極14と表層配線パターン15とを接続するブラインドビア16と、からなる伝熱プリント配線板10を提供することで、各種電子機器の小型化、高性能化が可能となる。   The thermal conductivity obtained by laminating a plurality of glass woven fabric, the inner composite layer 12 impregnated with the glass fabric, and the internal electrode 14 is 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less. On the core layer 18, the outer composite layer 11 formed on the core layer 18 and having a thermal conductivity of 3 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less, and on the outer layer composite layer 11 Provided is a heat transfer printed wiring board 10 comprising a formed surface layer wiring pattern 15 and a blind via 16 for connecting the internal electrode 14 and the surface layer wiring pattern 15 through a hole formed in the outer layer composite layer 11. This makes it possible to reduce the size and performance of various electronic devices.

内層コンポジット層12に占める樹脂の割合は、前記内層コンポジット層12全体の30体積%以上50体積%以下である伝熱プリント配線板10を提供することで、各種電子機器の小型化、高性能化が可能となる。   The proportion of the resin in the inner composite layer 12 is 30% by volume or more and 50% by volume or less of the entire inner layer composite layer 12, thereby reducing the size and improving the performance of various electronic devices. Is possible.

外層コンポジット層11に占める樹脂の割合は、前記外層コンポジット層11全体の60体積%以上95体積%以下である伝熱プリント配線板10を提供することで、各種電子機器の小型化、高性能化が可能となる。   The proportion of the resin in the outer composite layer 11 is 60% by volume or more and 95% by volume or less of the entire outer layer composite layer 11, thereby reducing the size and improving the performance of various electronic devices. Is possible.

硬化後の熱伝導率が、0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる伝熱プリプレグ22であって、この伝熱プリプレグ22は、ガラス織布または不織布と、このガラス織布または不織布を含浸する半硬化樹脂体26とからなり、この半硬化樹脂体26は、半硬化状態の樹脂と、この樹脂中に分散した無機フィラーと、からなる伝熱プリプレグ22を提供することで、伝熱性が高く、曲げても割れにくい伝熱プリント配線板10を製造できる。   A heat transfer prepreg 22 having a heat conductivity after curing of 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less, the heat transfer prepreg 22 being a glass woven fabric or a non-woven fabric, The semi-cured resin body 26 impregnated with the glass woven fabric or the non-woven fabric. The semi-cured resin body 26 includes a heat transfer prepreg 22 composed of a semi-cured resin and an inorganic filler dispersed in the resin. By providing, the heat-transfer printed wiring board 10 which has high heat conductivity and is difficult to break even when bent can be manufactured.

半硬化樹脂体26は、少なくとも半硬化状態のエポキシ樹脂と、その中に分散されたアルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、酸化チタン、酸化錫、炭素、酸化マグネシウム、ジルコン珪酸塩から選ばれた少なくとも1種類以上からなる無機フィラーとからなる伝熱プリプレグ22を提供することで、伝熱性が高く、曲げても割れにくい伝熱プリント配線板10を製造できる。   The semi-cured resin body 26 includes at least a semi-cured epoxy resin and alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, silica, titanium oxide, tin oxide, carbon, magnesium oxide, zircon dispersed therein. By providing the heat transfer prepreg 22 composed of at least one kind of inorganic filler selected from silicates, the heat transfer printed wiring board 10 having high heat transfer and not easily cracked even when bent can be manufactured.

エポキシ樹脂の内、60重量%以上100重量%以下は、結晶性エポキシ樹脂である伝熱プリプレグ22を提供することで、伝熱プリプレグ22を用いて作製した伝熱プリント配線板10の伝熱性を高められる。   Among the epoxy resins, 60 wt% or more and 100 wt% or less provide the heat transfer prepreg 22 that is a crystalline epoxy resin, thereby improving the heat transfer performance of the heat transfer printed wiring board 10 produced using the heat transfer prepreg 22. Enhanced.

結晶性エポキシ樹脂の重合度は20以下である伝熱プリプレグ22を提供することで、伝熱プリプレグ22を用いて作製した伝熱プリント配線板10の伝熱性を高められる。   By providing the heat transfer prepreg 22 in which the degree of polymerization of the crystalline epoxy resin is 20 or less, the heat transfer property of the heat transfer printed wiring board 10 produced using the heat transfer prepreg 22 can be enhanced.

熱硬化後の熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる、少なくとも樹脂とその中に分散された無機フィラーとからなる伝熱体を用意する工程と、前記伝熱体を、ガラス織布または不織布に含浸させた後、前記伝熱体を半硬化状態にする工程と、を有する伝熱プリプレグ22の製造方法によって、伝熱プリプレグ22の安定した製造が可能となる。   A step of preparing a heat transfer body comprising at least a resin and an inorganic filler dispersed therein, wherein the thermal conductivity after thermosetting is 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less. And a step of impregnating the heat transfer body into a glass woven fabric or non-woven fabric, and then bringing the heat transfer body into a semi-cured state, by the method of manufacturing the heat transfer prepreg 22, the heat transfer prepreg 22 is stabilized. Manufacture is possible.

ガラス繊維17からなるガラス織布あるいはガラス不織布と、これを含浸する硬化後の熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となるコンポジット層とからなる、伝熱プリプレグ22と、銅箔とを積層し、積層体を形成する工程と、前記積層体の上に、硬化後の熱伝導率が3W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる外層コンポジット層11と、この外層コンポジット層11の上に形成した表層配線パターン15と、前記外層コンポジット層11に形成した穴を介して内部電極14となる銅箔と表層配線パターン15とを接続するブラインドビア16と、を形成する工程とを有する伝熱プリント配線板10の製造方法によって、伝熱プリント配線板10を安定して製造できるため、携帯電話、プラズマテレビ、電装品、産業用の放熱が要求される機器の小型化、高性能化を実現できる。   A glass woven fabric or glass nonwoven fabric composed of glass fibers 17 and a composite layer having a thermal conductivity of 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less after being impregnated with the glass fiber 17; The step of laminating heat transfer prepreg 22 and copper foil to form a laminate, and the thermal conductivity after curing is 3 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) on the laminate. The outer layer composite layer 11 to be described below, the surface layer wiring pattern 15 formed on the outer layer composite layer 11, the copper foil to be the internal electrode 14 through the hole formed in the outer layer composite layer 11, and the surface layer wiring pattern 15 Since the heat transfer printed wiring board 10 can be stably manufactured by the method of manufacturing the heat transfer printed wiring board 10 including the step of forming the blind via 16 for connecting the mobile phone, the plasma television, Instrumentation products, compact equipment where heat dissipation for industry is required, the performance can be realized.

以上のように、本発明にかかる伝熱プリント配線板と、これに用いる伝熱プリプレグ及びその製造方法と、伝熱プリント配線板の製造方法によって、携帯電話、プラズマテレビ、あるいは電装品、あるいは産業用等の放熱が要求される機器の小型化、高性能化が可能となる。   As described above, depending on the heat transfer printed wiring board according to the present invention, the heat transfer prepreg used in the heat transfer printed wiring board and the method for manufacturing the same, and the method for manufacturing the heat transfer printed wiring board, the mobile phone, the plasma television, the electrical equipment, or the industry This makes it possible to reduce the size and performance of equipment that requires heat dissipation.

実施の形態1における伝熱プリント配線板の断面図Sectional drawing of the heat-transfer printed wiring board in Embodiment 1 伝熱プリント配線板の伝熱メカニズムを説明する断面図Cross-sectional view explaining heat transfer mechanism of heat transfer printed wiring board 伝熱プリント配線板の製造に用いる伝熱プリプレグの製造方法の一例について説明する断面図Sectional drawing explaining an example of the manufacturing method of the heat-transfer prepreg used for manufacture of a heat-transfer printed wiring board (A)(B)は、共に伝熱プリプレグの表面に銅箔を固定(あるいは一体化)する方法の一例を説明する断面図(A) (B) is sectional drawing explaining an example of the method of fixing (or integrating) copper foil on the surface of a heat-transfer prepreg. (A)〜(D)は、コア層を作製する様子を断面で説明する模式図(A)-(D) are the schematic diagrams explaining a mode that a core layer is produced in a cross section. (A)〜(C)は、伝熱プリント配線板の製造方法の一例を説明する断面図(A)-(C) are sectional drawings explaining an example of the manufacturing method of a heat-transfer printed wiring board. 曲げ強度の評価方法の一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of bending strength evaluation method (A)(B)は、共にメソゲン基を有する結晶性ポリマーを、磁場を用いて配向させ、熱伝導率を高くしようとする様子を説明する断面図(A) and (B) are cross-sectional views illustrating a state in which a crystalline polymer having a mesogenic group is oriented using a magnetic field to increase the thermal conductivity. 折り曲げ性を改善した従来の伝熱プリプレグの一例を示す断面図Sectional drawing which shows an example of the conventional heat-transfer prepreg which improved the bendability

符号の説明Explanation of symbols

10 伝熱プリント配線板
11 外層コンポジット層
12 内層コンポジット層
13 ビア部
14 内部電極
15 表層配線パターン
16 ブラインドビア
17 ガラス繊維
18 コア層
19 電子部品
20 ハンダ部
21 矢印
22 プリプレグ
23 装置
24 槽
25 部材
26 半硬化樹脂体
27 銅箔
28 プレス
29 孔
30 治具
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Heat-transfer printed wiring board 11 Outer layer composite layer 12 Inner layer composite layer 13 Via part 14 Internal electrode 15 Surface layer wiring pattern 16 Blind via 17 Glass fiber 18 Core layer 19 Electronic component 20 Solder part 21 Arrow 22 Prepreg 23 Apparatus 24 Tank 25 Member 26 Semi-cured resin body 27 Copper foil 28 Press 29 Hole 30 Jig

Claims (11)

ガラス織布と、これを含浸する内層コンポジット層と、内部電極とが、各々単層以上積層されてなる熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となるコア層と、
このコア層上に形成した外層コンポジット層と、
この外層コンポジット層上に形成した表層配線パターンと、
からなる伝熱プリント配線基板。
A glass fabric, an inner composite layer impregnating the glass fabric, and an internal electrode, each having a thermal conductivity of 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less, each laminated with a single layer or more. A core layer,
An outer composite layer formed on the core layer;
Surface layer wiring pattern formed on this outer composite layer,
Heat transfer printed wiring board consisting of
ガラス織布と、これを含浸する内層コンポジット層と、内部電極とが、複数積層されてなる熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となるコア層と、
このコア層上に形成した、熱伝導率が3W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる外層コンポジット層と、
この外層コンポジット層の上に形成した表層配線パターンと、
前記外層コンポジット層に形成した穴を介して前記内部電極と表層配線パターンとを接続するブラインドビアと、
からなる伝熱プリント配線板。
A core layer having a thermal conductivity of 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less formed by laminating a plurality of glass woven fabrics, an inner composite layer impregnated therewith, and internal electrodes. When,
An outer composite layer having a thermal conductivity of 3 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less formed on the core layer;
Surface layer wiring pattern formed on this outer composite layer,
A blind via connecting the internal electrode and the surface wiring pattern through a hole formed in the outer composite layer;
Heat transfer printed wiring board consisting of
内層コンポジット層に占める樹脂の割合は、前記内層コンポジット層全体の30体積%以上50体積%以下である請求項1もしくは2のいずれか一つに記載の伝熱プリント配線板。 3. The heat transfer printed wiring board according to claim 1, wherein a ratio of the resin in the inner composite layer is 30% by volume or more and 50% by volume or less of the entire inner composite layer. 外層コンポジット層に占める樹脂の割合は、前記外層コンポジット層全体の60体積%以上95体積%以下である請求項1もしくは2のいずれか一つに記載の伝熱プリント配線板。 The heat transfer printed wiring board according to claim 1, wherein a ratio of the resin in the outer composite layer is 60% by volume or more and 95% by volume or less of the entire outer composite layer. 硬化後の熱伝導率が、0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる伝熱プリプレグであって、この伝熱プリプレグは、ガラス織布または不織布と、このガラス織布または不織布を含浸する半硬化樹脂体とからなり、
この半硬化樹脂体は、半硬化状態の樹脂と、この樹脂中に分散した無機フィラーと、からなる伝熱プリプレグ。
A heat transfer prepreg having a heat conductivity after curing of 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less, the heat transfer prepreg comprising a glass woven fabric or a nonwoven fabric and the glass It consists of a semi-cured resin body impregnated with woven or non-woven fabric,
This semi-cured resin body is a heat transfer prepreg composed of a semi-cured resin and an inorganic filler dispersed in the resin.
半硬化樹脂体は、少なくとも半硬化状態のエポキシ樹脂と、
その中に分散されたアルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、酸化チタン、酸化錫、炭素、酸化マグネシウム、ジルコン珪酸塩から選ばれた少なくとも1種類以上からなる無機フィラーと、からなる請求項5記載の伝熱プリプレグ。
The semi-cured resin body is at least a semi-cured epoxy resin,
An inorganic filler made of at least one selected from alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, silica, titanium oxide, tin oxide, carbon, magnesium oxide, and zircon silicate dispersed therein; The heat transfer prepreg according to claim 5, comprising:
エポキシ樹脂の内、60重量%以上100重量%以下は、結晶性エポキシ樹脂である請求項6記載の伝熱プリプレグ。 The heat transfer prepreg according to claim 6, wherein 60 wt% or more and 100 wt% or less of the epoxy resin is a crystalline epoxy resin. 結晶性エポキシ樹脂が、以下の構造式である請求項7に記載の伝熱プリプレグ。
Figure 2009021468
The heat transfer prepreg according to claim 7, wherein the crystalline epoxy resin has the following structural formula.
Figure 2009021468
結晶性エポキシ樹脂の重合度は20以下である請求項7または8のいずれか一つに記載の伝熱プリプレグ。 The heat transfer prepreg according to any one of claims 7 and 8, wherein the degree of polymerization of the crystalline epoxy resin is 20 or less. 熱硬化後の熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる、少なくとも樹脂とその中に分散された無機フィラーとからなる伝熱体を用意する工程と、
前記伝熱体を、ガラス織布または不織布に含浸させた後、前記伝熱体を半硬化状態にする工程と、
を有する伝熱プリプレグの製造方法。
A step of preparing a heat transfer body comprising at least a resin and an inorganic filler dispersed therein, wherein the thermal conductivity after thermosetting is 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less. When,
A step of impregnating the heat transfer body into a glass woven fabric or non-woven fabric and then setting the heat transfer body in a semi-cured state;
A method for producing a heat transfer prepreg having:
ガラス織布と、これを含浸する硬化後の熱伝導率が0.5W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となるコンポジット層とからなる、伝熱プリプレグと、
銅箔と、を積層し、積層体を形成する工程と、
前記積層体の上に、硬化後の熱伝導率が3W/(m・K)以上20W/(m・K)以下となる外層コンポジット層と、この外層コンポジット層の上に形成した表層配線パターンと、前記外層コンポジット層に形成した穴を介して前記銅箔と表層配線パターンとを接続するブラインドビアと、を形成する工程とを、
有する伝熱プリント配線板の製造方法。
A heat transfer prepreg comprising a glass woven fabric and a composite layer having a thermal conductivity of 0.5 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less after being impregnated with the glass woven fabric;
A step of laminating copper foil and forming a laminate;
An outer layer composite layer having a thermal conductivity of 3 W / (m · K) or more and 20 W / (m · K) or less on the laminate, and a surface layer wiring pattern formed on the outer layer composite layer; A step of forming a blind via for connecting the copper foil and the surface wiring pattern through a hole formed in the outer composite layer,
The manufacturing method of the heat-transfer printed wiring board which has.
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